JP3027249U - 真空圧発生装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】付加的な真空圧調整装置を用いず、空気エネル
ギー効率を犠牲にせずに、任意の一定した真空圧を容易
に発生できる真空圧発生装置を提供する。 【解決手段】本考案の真空圧発生装置は、第１減圧室へ
の吐出口を有する第１管体と、その吐出気流を受けて第
１減圧室の気体を吸込む受気口と第２減圧室への吐出口
とを前後に有する第２管体と、その吐出気流を受けて第
２減圧室の気体を吸込む受気口と第３減圧室への吐出口
とを前後に有する第３管体と、その吐出気流を受けて第
３減圧室の気体を吸込む受気口と排気室への排気口とを
前後に有する第４管体と、第１減圧室から第２減圧室へ
流入を許容する第１逆止弁と、第１減圧室から第３減圧
室へ流入を許容する第２逆止弁とに加え、第１減圧室と
第２減圧室との間に設けた第１絞り通路と、第１減圧室
又は第２減圧室と第３減圧室との間に設けた第２絞り通
路とを、単一の筐体内に備えてなる。

Description

【考案の詳細な説明】

【０００１】

【考案の属する技術分野】

本考案は真空圧発生装置に関し、特に工業的に利用することができる真空圧を 気体エジェクタを用いて効率よく発生するための装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】

従来から工業的に真空圧を発生させる装置として、回転式や往復動式のポンプ などの機械的に空気を排除する真空ポンプが用いられている。しかし、吸引する 空気がガスや塵などで汚染されているときは、機械的な真空ポンプは種々の障害 を受けやすいという欠点がある。そのため、吸引空気が汚染されても障害を受け にくい流体ジェット式の真空圧発生装置が用いられることが多い。

【０００３】 流体ジェットを利用した真空圧発生装置としては、液体を作動流体とするもの や気体を作動流体とするものがあるが、電気配線を使用することなく比較的簡単 に設置できる、環境雰囲気を汚染することが少ない、小型で比較的に大流量の空 気を吸引することができる、などの利点があるため、圧力空気を使用する気体エ ジェクタが採用されることが多い。そして、ガラス板や鉄板等の板材の真空吸着 搬送、装置組み立て時の部品等の真空吸着搬送、プラスチックスの真空成形、密 閉容器内の排気などの各種の用途に対して、空気エジェクタを直列で多段に組み 合わせて真空度を高めた真空圧発生装置も多く利用されている。

【０００４】 このような多段空気エジェクタ式の従来の真空圧発生装置は、図２のように、 筐体１内に、第１管体２と第２管体３と第３管体４と第４管体５とが、順次に設 けてあり、第１管体２とその吐出気流を受けて第１減圧室１２内の気体を吸込む 第２管体３とで、第１段目のエジェクタが構成され、また第２管体３と第３管体 ４とで上記と同様に構成される第２段目エジェクタ、更に第３管体４と第４管体 ５とで上記と同様に構成される第３段目エジェクタが設けられている。そして、 加圧気体供給口１０から導入された加圧空気は、第１管体２、第２管体３、第３ 管体４、第４管体５と順次に通過し、それぞれ第１減圧室１２、第２減圧室１３ 、第３減圧室１４内の気体を吸引して、排気室１５を経て排気口１６から排出さ れる。

【０００５】 このような従来の真空圧発生装置において、第１段目のエジェクタでは高い真 空圧が発生するが空気の吸引容量が小さく、後段になるに従って到達真空度は低 くなるが、空気の吸引容量は大きくなるものであった。そのため従来は、例えば 、搬送対象の部品を吸着するためのパッド等の排気空間の、真空度が低い間には 大量の空気を吸引することができ、しかも最終的な到達真空度を高くするために 、例えば図２のように、排気空間の接続する真空吸引口１７は、第１減圧室１２ と直接に接続し、また第２減圧室１３と第３減圧室１４とは、それぞれ逆止弁８ １、８２を介して接続するようにしていた。

【０００６】 この真空圧発生装置は、加圧気体供給口１０から加圧気体室１１に加圧空気を 導入すると、第１減圧室１２、第２減圧室１３、第３減圧室１４は、同時に減圧 が開始され、吸引された気体は空気と共に排気室１５を経て排気口１６から排出 される。そのため、真空吸引口１７はこれらの３個の減圧室からの空気吸引によ り急速に減圧される。そして真空吸引口１７の真空度が第３減圧室１４の真空度 に達すると、逆止弁８２が閉じて第１減圧室１２と第２減圧室１３からの空気吸 引に切り替わる。その後、真空吸引口１７の真空度が第２減圧室１３の真空度に 達すると、今度は逆止弁８１も閉じて第１減圧室１２のみからの空気吸引に切り 替わる。こうして最終的に真空吸引口１７の真空度が第１減圧室１２の真空度に 到達するまで、空気が吸引されることになる。

【０００７】 ところで、真空吸着による搬送などを行うに際しては、搬送の対象によって高 真空度が必要とされる場合もあるが、低真空度で充分な場合もあり、それぞれ異 なった真空度が要求される。しかし、従来の多段エジェクタ式真空圧発生装置は 、高い真空度にまで比較的に短時間で到達することができる利点があるが、低真 空度が必要とされる用途には必ずしも適していない。そこで低真空用の真空圧発 生装置を設置する代わりに、高真空用の真空圧発生装置に供給する加圧空気の圧 力をレギュレータなどにより加減して、発生する真空圧を調整する、或いは発生 した真空圧を真空レギュレータで空気の漏入量を加減して低下させる、などの方 法で到達真空度を調整するようにしていた。

【０００８】

【考案が解決しようとする課題】

しかし、このような手段による真空圧の調整は付加的調整装置の導入が前提で あって、余分な設備費用や設置場所を必要とするものであり、また同時に真空圧 発生装置の性能と空気エネルギー効率を犠牲にするものであった。 そこで本考案は、付加的な真空圧調整装置を用いることなく、また空気エネル ギー効率を犠牲にせずに、任意の一定の真空圧を発生することができる真空圧調 整機能付きの真空圧発生装置を提供することを目的とする。

【０００９】

【課題を解決するための手段】

本考案の真空圧発生装置は、上記の目的を達成するために、第１減圧室への吐 出口を有する第１管体と、第１管体の吐出気流を受けて第１減圧室内の気体を吸 込む受気口と第２減圧室への吐出口とを前後に有する第２管体と、第２管体の吐 出気流を受けて第２減圧室内の気体を吸込む受気口と第３減圧室への吐出口とを 前後に有する第３管体と、第３管体の吐出気流を受けて第３減圧室内の気体を吸 込む受気口と排気室への排出口とを前後に有する第４管体と、第１減圧室から第 ２減圧室への流入を許容する第１逆止弁と、第１減圧室から第３減圧室への流入 を許容する第２逆止弁とに加え、第１減圧室と第２減圧室との間に設けた第１絞 り通路と、第１減圧室又は第２減圧室と第３減圧室との間に設けた第２絞り通路 とを、単一の筐体内に備えたことを特徴とする。

【００１０】

【考案の実施の形態】

本考案の真空圧発生装置の構成を、図１に示す例によって説明する。 １は装置の筐体であり、その内部に加圧気体室１１、第１減圧室１２、第２減 圧室１３、第３減圧室１４、及び排気室１５が順次に隔壁を介して隣接するよう に設けられている。そして加圧気体室１１が加圧気体供給口１０に、第１減圧室 １２が真空吸引口１７に、また排気室１５が排気口１６に、それぞれ通じている 。また、加圧気体室１１と第１減圧室１２の隔壁には第１管体２が、第１減圧室 １２と第２減圧室１３の隔壁には第２管体３が、第２減圧室１３と第３減圧室１ ４の隔壁には第３管体４が、更に第３減圧室１４と排気室１５の隔壁には第４管 体５が、同軸上に順次直列となって並ぶように設けられている。

【００１１】 このように構成された真空圧発生装置において、第１管体２と第２管体３とで 第１段目のエジェクタが構成されており、第１管体２は加圧気体室１１内の空気 を第１減圧室１２側の吐出口から吹き出し、この吐出気流を第２管体３の第１減 圧室１２側の受気口で受けて、第１減圧室１２内の気体を第２管体３に吸込むよ うになっている。そして、第２管体３と第３管体４とで上記と同様に構成される 第２段目エジェクタと、第３管体４と第４管体５とで上記と同様に構成される第 ３段目エジェクタとが順次に並んでおり、加圧気体供給口１０から加圧気体室１ １に供給された加圧空気は、第１管体２と第２管体３と第３管体４と第４管体５ とを順次に通過すると共に、第１減圧室１２と第２減圧室１３と第３減圧室１４ とからそれぞれ空気を吸引し、排気室１５を経て排気口１６から排出される。こ うして減圧された第１減圧室１２と第２減圧室１３と第３減圧室１４へは、真空 吸引口１７から吸引された空気等が流入する。

【００１２】 更に、本考案の真空圧発生装置における第１減圧室１２と真空吸引口１７とを 連絡する通路には、第２減圧室１３に向かう空気の流入のみを許容する第１逆止 弁８１と、第１減圧室から第３減圧室に向かう空気の流入のみを許容する第２逆 止弁８２とが開口している。従って、真空吸引口１７の真空度が低い場合には、 第１減圧室１２と第２減圧室１３と第３減圧室１４とへの空気の吸引が行われる 。そして真空吸引口１７の真空度が高くなるにつれて、先ず第３減圧室１４への 空気の吸引が止まって第２逆止弁８２が閉じ、次いで第２減圧室１３への空気の 吸引も止まって第１逆止弁８１が閉じるので、最後には第１減圧室１２からの空 気の吸引だけとなる。

【００１３】 更に本考案の真空圧発生装置では、第１減圧室１２と第２減圧室１３との間に 、その途中に第１絞り７１を有する第１絞り通路６１が設けられている。そして また、第１減圧室１２と第３減圧室１４との間に、その途中に第２絞り７２を有 する第２絞り通路６２が設けられている。しかしこの第２絞り通路６２は、第１ 減圧室１２と第３減圧室１４との間に設ける代わりに、第２減圧室１３と第３減 圧室１４との間に設けてあってもよい。更に、第１絞り通路６１や第２絞り通路 ６２を設ける位置は、特に図１に示された位置に限定されず、各減圧室の間の隔 壁や、真空吸引口１７と第１減圧室１２の間を連絡する通路と第２減圧室１３又 は第３減圧室１４との間、或いは第１逆止弁８１又は第２逆止弁８２に隣接させ 又はこれらの逆止弁に組み込んで設けることもできる。

【００１４】 これらの第１絞り通路６１又は第２絞り通路６２に設けられている第１絞り７ １又は第２絞り７２は、可変絞りであることが好ましいが、固定絞りであっても よく、また半固定絞りであってもよい。また好ましい絞りとしては図１に示すよ うなニードル弁があるが、特にこれに限定されるものではなく、単なるオリフィ スなどであってもよい。なお、図１における７０は、Ｏリングである。

【００１５】 このような本考案の真空圧発生装置において、第１絞り７１又は第２絞り７２ を少し緩めておくと、第２減圧室１３又は第３減圧室１４内の空気は、第１絞り 通路６１又は第２絞り通路６２を経て第１減圧室１２に戻ることになるので、第 １減圧室１２の真空度は少し低下すると同時に、第２減圧室１３又は第３減圧室 １４の真空度は少し高くなる。従って、第１段目のエジェクタ、又は第２段目の エジェクタの効率を余り低下させることなく、到達真空度を低下させることがで きる。そして、第１絞り７１と第２絞り７２を大きく開くことによって、到達真 空度を大幅に低下させ、また第１絞り７１と第２絞り７２を完全に絞って閉止す ると、到達真空度を第１段目のエジェクタの最大能力まで高めることができ、従 って、真空吸引口１７の到達真空度を、広い範囲内で任意に調整することができ る。

【００１６】

【考案の効果】

本考案の真空圧発生装置は、第１〜第４管体を順次直列に配置して多段エジェ クタを形成し、最も到達真空度の高い第１減圧室とより到達真空度の低い他の減 圧室との間に逆止弁を設けると共に、これらの減圧室の間に空気を漏洩させる絞 りを設けたものであるので、これらの絞りを適宜調整することによって、使用す る加圧空気のエネルギー効率を損なうことなく、到達真空度を広い範囲で調整す ることができ、しかも所望の到達真空度まで迅速且つ効率的に排気することがで きる。そして、全ての調整機能を単一の筐体内に集約して備えてあるので、付加 的な調節手段を必要とせず、小型であってコンパクトに設置でき、しかも多量の 空気を迅速に吸引することができて、経済的であるという効果がある。

【図面の簡単な説明】

【図１】本考案の真空圧発生装置の例の構造を示す断面
図である。

【図２】従来の多段エジェクタ式真空圧発生装置の構成
図である。

【符号の説明】

１ 筐体 ２ 第１管体 ３ 第２管体 ４ 第３管体 ５ 第４管体 １０ 加圧気体供給口 １１ 加圧気体室 １２ 第１減圧室 １３ 第２減圧室 １４ 第３減圧室 １５ 排気室 １６ 排気口 １７ 真空吸引口 ６１ 第１絞り通路 ６２ 第２絞り通路 ７０ Ｏリング ７１ 第１絞り ７２ 第２絞り ８１ 第１逆止弁 ８２ 第２逆止弁

Claims (4)

【実用新案登録請求の範囲】
1. 【請求項１】 第１減圧室への吐出口を有する第１管体
   と、第１管体の吐出気流を受けて第１減圧室内の気体を
   吸込む受気口と第２減圧室への吐出口とを前後に有する
   第２管体と、第２管体の吐出気流を受けて第２減圧室内
   の気体を吸込む受気口と第３減圧室への吐出口とを前後
   に有する第３管体と、第３管体の吐出気流を受けて第３
   減圧室内の気体を吸込む受気口と排気室への排出口とを
   前後に有する第４管体と、第１減圧室から第２減圧室へ
   の流入を許容する第１逆止弁と、第１減圧室から第３減
   圧室への流入を許容する第２逆止弁とに加え、第１減圧
   室と第２減圧室との間に設けた第１絞り通路と、第１減
   圧室又は第２減圧室と第３減圧室との間に設けた第２絞
   り通路とを、単一の筐体内に備えたことを特徴とする真
   空圧発生装置。
2. 【請求項２】 第１管体と第２管体と第３管体と第４管
   体とが順次に直列に並んで設けられている請求項１に記
   載の真空圧発生装置。
3. 【請求項３】 第１絞り通路又は第２絞り通路が半固定
   式絞り弁を備えている請求項１又は２に記載の真空圧発
   生装置。
4. 【請求項４】 第１絞り通路又は第２絞り通路がニード
   ル弁を備えている請求項１乃至３のいずれかに記載の真
   空圧発生装置。