JPH0247832Y2 - - Google Patents

Description

【考案の詳細な説明】 （産業上の利用分野） 本考案は、イオンインプランタ、スパツタ、蒸
着装置等の真空プロセス装置用ゲートバルブに関
するものである。

（従来の技術） 従来、イオンインプランタ、スパツタ、蒸着装
置等の真空プロセス装置用ゲートバルブとしては
種々の形式のものが知られているが、それらの基
本構造は、例えばイオンビームの通路中に挿置さ
れたバルブ本体と、このバルブ本体内のシール面
と共働するシール用Ｏリングを備えた弁板とを有
し、弁板をバルブ本体内のシール面で囲まれた開
口部を閉じる位置と開く位置との間で動かすこと
によつて開閉動作を行なうように構成されてい
る。

（考案が解決しようとする問題点） ところで、従来公知のこの種の真空プロセス装
置用ゲートバルブにおいては、開放時には弁板は
バルブ本体内のシール面からはずれ、シール面お
よび弁板に装着されたシール用Ｏリングは露出し
た状態となる。そのためにイオンビームのような
プロセス媒体がこのような露出したシール面やシ
ール用Ｏリングに当り、汚染させることになる。
その結果、バルブのシール効果が損なわれること
になる。これによりゲートバルブ自体を繋に清浄
したり交換する必要があり、メンテナンスや信頼
性の点で重大な問題となつている。

そこで、本考案の目的は、このような従来の真
空プロセス装置用ゲートバルブのもつ問題を解決
して、長期間安定して高い信頼性をもつて使用で
きる真空プロセス装置用ゲートバルブを提供する
ことにある。

（問題点を解決するための手段） 上記の目的を達成するために、本考案によれ
ば、イオンビームのようなプロセス媒体を通過さ
せたり止めたりするために開閉できるようにされ
た真空プロセス装置用ゲートバルブにおいて、開
口を備えた弁室を形成するバルブ本体内に弁体を
設け、バルブ本体の開口に対して設けられた弁体
の盲部と開口部とにそれぞれバルブ本体の開口の
周囲にのびるシール面に対して密封的に接触する
シール用Ｏリングとバルブ本体のシール面保護用
Ｏリングとを設け、開弁時にバルブ本体のシール
面を弁体の開口部に設けたシール面保護用Ｏリン
グで覆うと同時に弁体の盲部に設けたシール用Ｏ
リングもバルブ本体のシール面に密封的に接触す
るように構成したことを特徴としている。

（作用） このように構成した本考案による真空プロセス
装置用ゲートバルブにおいては、バルブの閉成時
に弁体がバルブ本体のシール面に密封的に接触保
持されるだけでなく、バルブの開放時にも弁体と
シール面との密封接触が保持され、弁体とシール
面との接触部分は切換動作時の僅かな時間を除い
て実質的に露出しない。

（実施例） 以下、図面を参照して本考案の一実施例につい
て説明する。

第１〜３図には本考案によるゲートバルブを異
なつた状態で示し、１はバルブ本体で、その入口
側１ａから出口側１ｂへイオンビームを通す通路
１ｃを備え、出口側１ｂには取付管２が連結され
ている。バルブ本体１内には弁室１ｄが形成され
その一側にシール面１ｅが設けられている。バル
ブ本体１の弁室１ｄ内には作動子３によつて作動
される弁体４が設けられ、長方形の板状のもので
ある。この弁体４は、バルブ本体１内に形成され
た通路１ｃの径とほぼ等しい径の開口部４ａ、こ
の開口部４ａの周囲でバルブ本体１のシール面１
ｅと当接する側に環状溝４ｂおよびこの環状溝４
ｂに隣接した位置すなわち盲部に別の環状溝４ｃ
を備えている。これらの環状溝４ｂ，４ｃには、
それぞれ開放時（第２図の状態）にシール面１ｅ
がイオンビームにさらされるのを防ぐシール面保
護用Ｏリング５および閉成時（第１図の状態）お
いて弁体４とバルブ本体１内のシール面１ｅとを
密封するシール用Ｏリング６とが装着されてい
る。弁体４はシール面１ｅに当接する側と反対の
側においてベローズ７を介して作動子３に結合さ
れ、作動子３はバルブの外部から適当な手段によ
つて駆動され、弁体４を第１図に示す閉成状態か
ら第３図に示す切換移動状態をへて第２図の開放
状態まで作動させる。

このように構成された図示装置の動作におい
て、弁体４は作動子３によつて図面の上下に直線
状に動かされ、閉成位置（第１図）と開放位置
（第２図）とを取ることができる。この場合、い
ずれの位置においても弁体４はバルブ本体１内の
シール面１ｅと当接し、シール用Ｏリング５およ
びシール面保護用Ｏリング６によつてシール面に
対するシール機能および保護機能が十分に維持さ
れ得る。従つてシール面１ｅは、図面の左方から
右方へ向つて進むイオンビームに実質的にさらさ
れることがなく、シール面の汚染が防止され得
る。

なお図示実施例ではシール部材としてＯリング
を用いているが、当然他のシール部材を用いても
よい。また弁体４を円板または円弧状板の形に
し、図示実施例の場合の直線作動に代えて、回転
または回動作動するように構成してもよい。

（考案の効果） 以上説明してきたように、本考案による真空プ
ロセス装置用ゲートバルブにおいては、弁体を閉
成時だけでなく開放時にもバルブ本体のシール面
に対して密封的に接触させるように構成している
ので、弁体とバルブ本体のシール面との接触部分
は実質的にスパツタ粒子のようなプロセス媒体に
さらされず、それによる汚染を防止でき、従つて
長期間にわたつて安定して信頼性の高いシール効
果が保証され得る。

【図面の簡単な説明】

第１〜３図は本考案の一実施例をそれぞれ異な
つた状態において示す概略断面図である。 図中、１……バルブ本体、１ｅ……シール面、
４……弁体、５……シール面保護用Ｏリング、６
……シール用Ｏリング。

Claims (1)

【実用新案登録請求の範囲】
1. イオンビームのようなプロセス媒体を通過させ
   たり止めたりするために開閉できるようにされた
   真空プロセス装置用ゲートバルブにおいて、開口
   を備えた弁室を形成するバルブ本体内に弁体を設
   け、バルブ本体の開口に対して設けられた弁体の
   盲部と開口部とにそれぞれバルブ本体の開口の周
   囲にのびるシール面に対して密封的に接触するシ
   ール用Ｏリングとバルブ本体のシール面保護用Ｏ
   リングとを設け、開弁時にバルブ本体のシール面
   を弁体の開口部に設けたシール面保護用Ｏリング
   で覆うと同時に弁体の盲部に設けたシール用Ｏリ
   ングもバルブ本体のシール面に密封的に接触する
   ように構成したことを特徴とする真空プロセス装
   置用ゲートバルブ。