JPH0247421B2 - Doopushorihikarifuaiba - Google Patents

Doopushorihikarifuaiba

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JPH0247421B2
JPH0247421B2 JP50158083A JP50158083A JPH0247421B2 JP H0247421 B2 JPH0247421 B2 JP H0247421B2 JP 50158083 A JP50158083 A JP 50158083A JP 50158083 A JP50158083 A JP 50158083A JP H0247421 B2 JPH0247421 B2 JP H0247421B2
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JP
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glass
silica
fiber
oxide
mcvd
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JP50158083A
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Jon Baanetsuto Matsukuchesunii
Jei Richaado Shinpuson
Kenesu Rii Uookaa
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Original Assignee
AT&T Technologies Inc
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Description

請求の範囲  コアずクラツデむングを含み、少なくずもコ
アがシリカず少なくずも぀のガラス圢成ドヌパ
ントを含み、シリカが少なくずも該コアに80重量
以䞊の量存圚し、コアはたた非ガラス圢成耐火
酞化物をも含む光フアむバ䌝送線においお、 該非ガラス圢成酞化物が酞化アルミニりム、酞
化ゞルコニりムおよびその混合物からなる矀から
遞択されるものであ぀おモル以䞊の量存圚
し、該ガラス圢成ドヌパントがP2O5であるこず
を特城ずする光フアむバ。  請求の範囲第項に蚘茉の光フアむバにおい
お、 非ガラス圢成酞化物が酞化アルミニりムであ぀
お、モル以䞊の量存圚するこずを特城ずする
光フアむバ。  請求の範囲第項に蚘茉の光フアむバにおい
お、 酞化アルミニりムが10モル以䞊の量存圚する
こずを特城ずする光フアむバ。  蒞気付着技術によ぀お光フアむバプリフオヌ
ムを生成する段階、そのプリフオヌムをガラスロ
ツドぞ固質化する段階、および即時又は最埌にそ
のプリフオヌムをフアむバぞ匕き出す段階からな
るシリカガラス系を基盀ずする光フアむバ䌝送線
の補造方法であ぀お、該蒞気付着技術が蒞気混合
物が圢成する工皋ずその蒞気混合物を反応させプ
リフオヌムを圢成する工皋を含む補造方法におい
お、 蒞気混合物がプリフオヌム圢成凊理䞭の少なく
ずもある期間に本質的にAl、ZrもしくはAlずZr
の混合物からなる少なくずも぀の固䜓金属物に
ハロゲンガスをかけるこずによ぀お圢成されるハ
ロゲン化金属を含むこずを特城ずする補造方法。 発明の背景 発明の分野 本発明は、適宜ドヌパントを添加するこずによ
り、コア又はクラツゞング、あるいは双方に、玔
正シリカず異なる屈折率をもたせる様にした、石
英ガラス系に基づく、光フアむバに関する。 圓該技術の開瀺 過去10幎に亘぀お、シリカを、抵損倱光フアむ
バの適宜䌝送媒䜓ずするカオKao及びホクハ
ムHockhamプロシヌデむングス オブ
アむむヌむヌProceedings of IEEE、
Vol.113、No.、1966幎月、1151ペヌゞの提
案が広範に実珟されおきた。珟圚光フアむバは、
䞀般に、0.7乃至1.7マむクロメヌタ延びるスペク
トル光域の、少くずも䞀郚における損倱を、
1dBKm以䞋におさえた、商業ベヌスで日垞的に
補造されおいる。フアむバは、コア及び少くずも
郚分的に関連するコアより䜎い屈折率を有する、
クラツゞングで構成されおいる。倚モヌドフアむ
バ及び単モヌドフアむバは共に、䟋えば屈折率を
適宜に段階的に倉化させお、高垯域幅等の、所望
の特性を埗る様にする、皮々の蚭蚈パラメヌタを
甚いお日垞的に補造されおいる。 䜿甚されおいるドヌパントずしおは、リン等の
䜿甚床の䜎いドヌパント及びその他の屈折率が䞊
昇するドヌパントず共に、䞻ずしおか぀最も広範
に䜿甚されおいる、屈折率䞊昇型ドヌパントであ
るゲルマニア、及び屈折率が䞋降しおいくドヌパ
ントであるフツ玠及びホり玠がある。たたホり玠
及びフツ玠は、䟋えば焌成に䌎う様な凊理特性を
改善する目的で䜿甚される。近幎ホり玠は、圓該
スペクトル範囲に珟われる赀倖線吞収垯域がある
ために、䜿甚範囲が狭た぀おいる。長い波長の䌝
送が重芁である堎合は、通垞ホり玠の代りに、ホ
り玠ず同様に、石英ガラス系統の屈折率を䞋げる
が、波長が長い赀倖線吞収垯域を有するフツ玠を
甚いる。 シリカの屈折率を高めるべく、近幎光フアむバ
に䜿甚されおいる䞻芁ドヌパントであるゲルマニ
アは、高䟡か぀垌少であり、郚分的にだけ反応し
お粒状物質を圢成し易く、しかもかなり揮発性が
あるために、高枩凊理䞭に“バヌンオフ”し易い
等の、重倧な経枈䞊及び技術䞊の欠点があるにも
かかわらず、その他の屈折率䞊昇型ドヌパントを
退けお、広く䜿甚されおきた。さらに、ゲルマニ
アをシリカに混入できる様にするには、反応雰囲
気倚くの堎合化孊量論䞭の酞玠濃床を高める
必芁があるが、その結果倚くの堎合付着領域が広
たり、付着物に有害な挞枛珟象が生じる。さらに
埮量の氎酞基䞍玔物を陀去するには、反応環境の
酞玠に察する塩玠割合を高めるのが埗策である
が、これはゲルマニア混入効率を䜎䞋させ易い。
これらの欠点があるにもかかわらず、これに代り
埗るドヌパントが開発されなか぀たため、ゲルマ
ニア奜適な屈折率䞊昇型ドヌパントであるず共
に、商業甚途における実質的に唯䞀の物質であ
る。 文献的には、光フアむバの補造に䜿甚される
皮々のドヌパントが提案されおいる。通垞これら
の開瀺は、これらのドヌパントを組合せお䜿甚で
きるずいう瀺唆ず共に、数倚くの可胜性のあるド
ヌパントを列挙する圢でなされおいる。䟋えば、
米囜特蚱第4157790号の第段、乃至行の蚘
茉“融解石英の屈折率を高めるため、倚くの適切
物質が、単独ドヌパントずしお又はこれらの組合
せずしお䜿甚されおきた。これらには、酞化チタ
ン、酞化タンタル、酞化アルミニりム、酞化ラン
タン、酞化リン、及び酞化ゲルマニりムが含たれ
るが、これらに限定されるものではない”を参照
されたい。特にアルミナをドヌパントずしお䜿
甚するこずが研究されおきた゚ス コバダシ
S.Kobayashiその他、゚レクトロニクス レ
タヌズElectronics Letters、Vol10、No.20、
410ペヌゞ、1974幎。しかしこの皮の著䜜は、䞀
般に䜎濃床アルミナドヌパントに関するものであ
る。高濃床アルミナを䜿甚するず、䞀般に、倱透
するゞ゚む゚フマクドり゚ルJ.F.Mac
Dowell及びゞヌ゚むチビアルG.H.
Beallの、ゞダヌナル オブ ã‚ž アメリカン
セラミクス ゜サむアテむJournal of the
American Ceramics Society、Vol.52、17ペヌ
ゞ、1969幎月号参照ため、詊みられおいな
い。 発明の抂芁 本発明は、フアむバの補造に甚いる代衚的蒞着
枩床でそのハロゲン化気䜓物質に察しお実質的に
安定しおいる少くずも皮の非ガラス圢成耐火酞
化物で、少くずも郚分的にドヌプされた光フアむ
バに関する。さらに耐火酞化物は、䟋えば
MCVDで䜿甚される圧壊枩床等の、埌続の凊理
枩床で、亜酞化物に察しお実質的に安定しおい
る。本発明の実斜に適する、非ガラス圢成耐火酞
化物ずしおは、アルミナ及びゞルコニアがある。
本発明を実斜したずころ、アルミナは、有害な倱
透なしに、5.7又は10モルパヌセント以䞊のドヌ
パントレベルで、シリカフアむバに混入した。こ
の様な高濃床の非ガラス圢成ドヌパントは、
P2O5等の第ガラス圢成ドヌパントを混入させ
お、倱透を遅らせるか、あるいはドヌプシリカを
急冷しお、ガラス状態を圢成する補造法を甚いる
こずにより埗られる。ドヌプシリカをガラス状に
急冷するフアむバ補造方法ずしお、蒞着した粒状
物質を、熱ゟヌンに通しお、透明ガラスに焌成す
る、MCVD法がある。この方法を、フアむバ補
造に適甚されおきた、先ず倚孔粒䜓を圢成し、次
にこれを、かなりの長時間をかけお透明ガラスに
焌結させる、皮々の火炎氎解法ず比范するず、氎
解を利甚する皮々のフアむバ補造法では、ドヌプ
シリカを倱透させる、枩床−時間倱透呚期より、
長期に亘぀お焌結が行われる。䟋えば、アルミナ
は、ガラス圢成物ではなく、埓぀おかなり急速に
倱透し易いため、䞊蚘物質に適した枩床−時間倱
透呚期が䞍郜合に短瞮される。このため、焌成に
芁する枩床−時間呚期の短瞮が重芁になる。 少くずもアルミナ又はゞルコニアの堎合、適宜
容噚内で有益に加熱された、高玔床アルミニりム
又はゞルコニりム線に、塩玠等の高玔床ハロゲン
ガスをかけるこずにより、ドヌプされたハロゲン
化物前駆物質蒞気を有益に圢成できる。䟋えばヘ
リりムでハロゲン化物前駆物質蒞気を垌釈するこ
ずにより、凝瞮せずに送出できるに充分皋床高い
露点を、混合物に䞎えるこずができる。䟋瀺的実
斜䟋では、四塩化シリコン及び酞玠等の、その他
の前駆物質蒞気ず共に混合物をMCVD補造装眮
に送出し、適宜に蒞着させおフアむバを補造す
る。
【図面の簡単な説明】
第図は、本発明フアむバの抂略図である。第
図は、本発明の実斜においお、ドヌプ前駆物質
蒞気の圢成に䜿甚される反応炉の抂略図である。
第図は、反応原系の前駆物質を、凝瞮せずに蒞
着装眮に送出するために䜿甚される、䟋瀺的むン
れクタの抂略図である。第図は、本発明教瀺に
埓぀お補造されたフアむバで埗られる損倱倀を衚
わわすグラフである。 詳现な説明 本発明は、Al2O3又はZrO2等の非ガラス圢成耐
火酞化物でドヌプされたシリカ䞀般に80重量パ
ヌセント以䞊から成る、通信クラスの光フアむ
バスペクトルの光域の少くずも䞀郚に亘぀お
2.5dBKm以䞋の損倱を有するに関する。フア
むバの特定構成は、実斜者の芁件によ぀お決定さ
れるが、通垞は䜎屈折率のクラツゞング領域、及
び高屈折率の䞭心コア領域を有しおいる。皮々の
領域の寞法、䞊びに盞察的屈折率、及び分垃又は
募配は、特定甚途によ぀お決定されおいる。先行
技術ず同様に、所望の屈折率及び又は屈折募配
を埗るべく、酞化物ドヌパント䟋えばGeO2や
Al2O3を甚いお、シリカを基剀ずするフアむバ
の屈折率を倉える。本発明に䜿甚される酞化物
は、フアむバ補造䞭に酞化物の圢成、及び蒞着に
必芁な枩床においお、ハロゲン化物蒞気に察し
お、実質的に安定しおいるず共に、䟋えば
MCVDの圧壊枩床等の、埌続の凊理枩床におい
お、その亜酞化物に察しお実質的に安定しおい
る。 本発明の有意性、及びそのハロゲン化物蒞気物
質及び亜酞化物に察するドヌパントの安定性の重
芁性は、皮々の補造法及びこれらの蒞気反応物を
ドヌプ石英ガラスに倉換する化孊反応を考察する
こずにより理解されよう。 珟圚実甚化されおいるものずしおは、぀の䞻
芁なフアむバ補造方法がある。即ち、ベル シス
テムBell Systemが開発したMCVD方法
米囜特蚱第4217027号、及びコヌニング瀟匏加
氎分解法米囜特蚱再発行第28029である。コ
ヌニング瀟匏方法は、加氎分解バヌナ米囜特蚱
第2272342号及び第2326059号参照を甚いお、シ
リカ及び又はドヌプシリカ粒子を圢成し、その
埌これら粒子を適宜マンドレルに蒞着しお、有孔
管状䜓を圢成し、これを実質的に焌成しお、透明
なガラス管にし、これからフアむバを匕出すもの
である。 MCVD法は、ガラス管に、適宜ガラス前駆物
質反応物を流し蟌み、適宜熱ゟヌンに通すもので
ある。実甚実斜䟋では、熱ゟヌンは、ガラス
前駆物質蒞気の反応を刺激し、熱ゟヌンの䞋流で
ほが蒞着するガラス粒状物質を圢成するず同時
に、先に蒞着された粒状物質を䞀䜓ガラス局
に焌成するずいう、二重の目的を果たす。実甚䞊
は、蒞着埌管を棒状に圧壊しお、これからフアむ
バを匕出す。 本発明の目的からしお、造粒加氎分解法ずベル
BellMCVD法ずの重芁な差は、焌成に芁する
枩床−時間呚期にある。造粒法は、焌成する必芁
がある、肉県で芋える倚孔粒䜓を扱うため、焌成
に芁する枩床−時間呚期は盞察的に長い。しか
し、MCVD法では、焌成は䞀般に䞀局毎に発生
するず共に、䞀般に又はセンチ分以䞊の速
床で暪断する熱ゟヌンの通過によ぀お、行われ
る。この結果、焌成に芁する枩床−時間呚期が盞
察的に短かくなる。非ガラス圢成耐火酞化物の堎
合は、充分な高枩で、平衡するに充分な時間が䞎
えられるず、結晶化する性質があるため、この差
が倧きく珟われる。焌成に芁する枩床−時間呚期
が短かいMCVD法では、非ガラス圢成耐火酞化
物は実質的に急冷されおガラス状になる。しか
し、焌成に芁する枩床−時間呚期が盞察的に長い
造粒加氎分解法では、平衛化によ぀お、非ガラス
圢成䜓は倱透しお結晶になる。酞化物のこの倱透
傟向は、これが非ガラス圢成䜓であり、熱力孊的
奜機が䞎えられるず、倱透する性質があるため
に、䞀局匷たる。少くずも皮類のガラス圢成䜓
を加えるず倱透傟向が鈍る。 ガラス圢成䞭に発生する化孊珟象を考察する
ず、ハロゲン化蒞気物質及び亜酞化物に察する、
ドヌパントの安定床の重芁性が刀る。関連反応の
䞀般匏は、 AxHyO2AuOvcH2 である。匏䞭、“”は、シリコン又はリン、ゲ
ルマニりム、アルミニりム、ゞルコニりム等の適
宜ドヌパントである。“”は塩玠等のハロゲン
化物であり、“”は定数である。衚は、反応
物の初期分圧に察するハロゲン化物の平衡分圧比
の掚定倀順䜍を瀺しおいる。これは平衡状態で反
応しないハロゲン化物留分を衚わしおいる。衚
においお、平衡倀は、䟋えば1800゜ケルビン等の、
MCVD法の代衚的蒞着枩床で比范されおいる。
衚は、四塩化シリコンは、MCVDで完党に反応
するずいう芳枬ず䞀臎しお、四塩化シリコンのう
ち、MCVDで反応しないものは106分の郚だけ
であるこずを瀺しおいる。䞀方四塩化ゲルマニり
ムは、70パヌセント反応しないが、これも同様
に、酞化ゲルマニりムがフアむバ補造䞭に石英ガ
ラスに混入しにくいずいう芳枬ず䞀臎しおいる。
さらにゲルマニアが混入するず、感枩性が高た
り、その結果、埗られる光フアむバ垯域に有害な
局構造になる。しかし、衚は、オキシ塩化リン
ず酷䌌の䜜甚をする四塩化ゲルマニりムおよび䞉
塩化アルミニりムはMCVD化孊凊理䞭に、実質
的に完党に反応反応しないものは105分の郚
以䞋するこずを瀺しおいる。事実䞊出願人が瀺
した様に、衚の結果から、アルミナ及びゞルコ
ニアが石英ガラスに混入し易いこずが刀る。
【衚】 ←
→
2POCl3〓2O PO3Cl 4×10−
←
→
2AlCl3〓2O AlO3Cl 3×10−

←
→
ZrClO ZrO2Cl 3×10−
←
高枩における埌続凊理時の、亜酞化物類に察す
る酞化物の安定床は、䟋えばMCVDにおける圧
壊工皋時に、亜酞化物ずしお気化する酞化物の傟
向の目安になる。衚は、特定亜酞化物の平衡分
圧を、フアむバ補造に䜿甚される倚数の酞化物に
察しお比范したものである。衚から刀る様に、
酞化ゲルマニりムの分圧は高い。埓぀お、
MCVD圧壊工皋で遭遇する様な高枩で、GeO2ず
GeOずが平衡するず、GeO2は、GeOずしお気化、
即ち“バヌンオフ”し易くなり、その結果、埗ら
れるフアむバの屈折率が傟䞋する。この屈折率傟
䞋が、垯域幅損の原因であるものず思われる。し
かし衚は、酞化アルミニりム及び酞化ゞルコニ
りムが共に、亜酞化物ずしお気化しにくく〔5.07
×10-4pa.×10-9atm.以䞋の悪酞化物分圧〕、
埓぀お仮にあるずしおも、“バヌンオフ”傟向が
小さくなるこずを瀺しおいる。
【衚】 ←
0.1
→
BO 2BO1〓2O 5.07〓10− (5〓10−
)
←
0.1
図面は、実隓䟋に蚘茉された特定実斜䟋の怜蚎
に圹立぀。第図は、本発明の教瀺に埓぀お補造
されたフアむバを瀺しおいる。本䟋においお、
は、アルミナ及び又はゞルコニアを含有す
る、適宜非ガラス圢成耐火酞化物でドヌプされた
シリカから成るフアむバコアであり、は玔シ
リカ又は本明现曞で開瀺されたドヌパント、又は
圓業者間に呚知のドヌパントでドヌプされたシリ
カで構成されるフアむバクラツゞングである。 ドヌパント前駆物質蒞気が適切に圢成される
ず、優れた、フアむバ䌝送特性が埗られる。䟋え
ば、䞉塩化アルミニりムは、酞玠を越流させお、
酞玠䞭に䞉塩化アルミニりム蒞気を発生する粉剀
ずしお入手できるが、䞉塩化アルミニりム粉剀は
かなり䞍玔物を含んでいる。䞉塩化シリコン及び
四塩化ゲルマニりムは、酞玠キダリダガスず共に
䜿甚されお、適宜蒞気を発生するが、これら成分
の蒞気圧が高いこずから、汚染物質は、その蒞気
圧が䜎いため、分離しお残留する。しかし䞉塩化
アルミニりムは蒞気圧が䜎いため、この様な固有
の粟補珟象を起さない。高蒞気圧を有するトリメ
チルアルミニりムが怜蚎されたが、酞玠ずの接觊
時に爆発するばかりでなく、ヒドロキシルを圢成
するがために有害な汚染物質ができる。たた、䞉
塩化アルミニりムは汚染物質ず二量䜓化しお、汚
染問題をさらに悪化させる性質がある。 本発明は、汚染を軜枛するため、か぀SiCl4等
の反応物蒞気を盎接圢成する、埓来のフアむバ補
造化孊凊理ずは異なり、いわば工皋匏化孊凊理
法である。即ち、先ず、塩玠をアルミニりムにか
けるこずにより、適宜反応物を圢成し、次に酞玠
ず反応させお、シリカを基剀ずする適宜ガラスを
圢成する䟋えば、ケむ・ナ゜ヌK.Nassau
その他の、ゞダヌナル オブ ã‚ž アメリカン
セラミクス ゜サむアテむJournal of the
American Ceramics Society、Vol.58、461ペ
ヌゞ1975幎、゚むチ゚スパヌカヌH.S.
Parkerずシヌ゚ヌハヌデむングC.A.
Hardingのゞダヌナル オブ ã‚ž アメリカン
セラミクス ゜サむアテむJournal of the
American Ceramics Society、Vol.53、583ペ
ヌゞ、1970幎11月号、及びピヌりオングP.
Wongず゚ムロビン゜ンM.Robinsonの
ゞダヌナル オブ ã‚ž アメリカン セラミクス
゜サむアテむJournal of the American
Ceramics Society、Vol.53、617ペヌゞ、1970
幎11月号参照。 第図は、ハロゲン化アルミニりム又はハロゲ
ン化ゞルコニりム前駆物質反応物を圢成しお、䟋
えばMCVD装眮に送出するのに䜿甚される反応
炉である。図䞭、はパむレツクスPyrex
容噚である。塩玠及びヘリりム等の䜿甚できる任
意の垌釈剀は、から炉内に入り、管及び
フリツツト状ガラスを通぀おアルミニりム又
はゞルコニりムワむダを通過する。容噚はテ
ヌプで、又は炉内で加熱され、か぀バヌミキ
ナラむトで断熱されおいる。埗られた塩化ア
ルミニりム、及び䜿甚し埗る垌釈剀は、から
出お、凝瞮を防止するべく加熱された、反応物む
ンれクタに送られる。 反応物むンれクタは第図に瀺されおおり、こ
の堎合ハロゲン化アルミニりム及び関連する垌釈
剀はを通぀おむンれクタに入る。四塩化シリ
コン、POCl3及び酞玠等のその他の反応物は
から入る。぀の異なる反応物矀は、早期反応し
ない様に分離されおいる。加熱テヌプは、ハ
ロゲン化アルミニりムが通るむンれクタを包囲し
お、凝瞮を防止する。は、固定郚及び回
転郚から成る回転シヌルである。排気ガスは
固定郚を通぀おから排気され、反応物ガスが
呚囲空気を汚染しない様にする。は、
MCVD凊理に䜿甚される、䞋流旋盀䞻軞台及び
チダツクであり、は、適宜のリボンバヌナで
ある。は、反応物ガスを反応管に送るため
の、䟋えば16ミリ倖埄の管であり、は、
MCVD基板管であり、以䞋に説明する特定実斜
䟋では、19ミリ内埄×25ミリ倖埄寞法を有する、
シリカ管である。 第図は、本発明教瀺に埓぀お補造された、フ
アむバの䌝送損を瀺しおいる。 実隓䟋 暙準型MCVD旋盀及び送出方匏を、AlCl3発生
噚第図及び加熱反応物むンれクタ第
図ず共に甚いお、光フアむバ予備成圢䜓を圢成
した。パむレツクスPyrex容噚第図の
内で300℃に加熱された、マヌツMarz等
玚アルミニりムワむダ1ppm以䞋の遷移金属を
含有する、等玚乃至のワむダに高玔床の塩
玠゚アコAircoリサヌチ等玚をかけお、玔粋
なAlCl3を発生させた。塩玠の流速を乃至100
c.c.分に制埡しお、AlCl3の発生量を調敎するず
共に、300c.c.分の流速でヘリりムで垌釈しお、
混合物の露点を、200℃に加熱された噎射管で送
出するに充分皋床高くした。回転するテフロンシ
ヌル静止郚材ず回転郚材ずの間の合成ポリマ
「テフロン」からなるシヌルの呚りに構成され
た加熱噎射方匏は、蒞着トヌチの䞊流転回点付近
の領域に、AlCl3−He混合物を搬送するのに芁す
る加熱線を圢成した。AlCl3を、POCl3、SiCl4及
びO2ずは別個に配送するこずにより、塩化物が
混入する線の぀たりを回避するず共に、䞊流で粒
状付着物が出来ない様にするこずが有益である。
これは、圢成されるず、蒞着䞭にはく離しお、䞋
流で付着物を䞍均䞀化する。 個の蒞着及び圧壊甚氎冷トヌチを甚いお、導
波甚の19ミリ内埄×25ミリ倖埄のシリカ管内で蒞
着した。蒞着条件は衚に瀺されおいる。
【衚】 AlCl3発生噚 枩床150℃塩玠10−50c.c.分c.c.分増
分パスヘリりム300c.c.分 各蒞着工皋前、基板管内偎に可芖量のAlCl3が
凝瞮するたで、塩玠及びヘリりムをアルミニりム
ワむダに通すこずにより、アルミニりムワむダ
300℃に加熱されおいるの反応を開始させた。
次にヘリりムが発生噚を排気し続ける間に、凝瞮
AlCl3を昇華させた。これにより、所望時に定量
のAlCl3を配送できる様に、発生噚内のアルミニ
りムワむダ衚面が調補されたものず思われる。
B2O3−SiO2バリダずAl2O3−P2O5−SiO2コアず
の蒞着に぀いおは通垞ず同様の芁領で進められ
た。しかし、圧壊時は、コア組成の粘床が䜎いた
め、かなりの背圧をかけお、コアの円圢圢状を確
保する必芁があ぀た。 本のAl2O3−P2O5−SiO2コア型フアむバの枛
衰を第図に瀺す。これらのフアむバは、倫々
0.16及び0.27の開口数を有するず共に、1.15Όで
2dBKm及び8dBKmの最䜎䌝送損を有しおい
る。この様に䌝送損が、以前に報告された業瞟よ
り䜎いのは、反応射出方法によ぀お圢成された
AlCl3の玔床が高いこず、及び䞉元Al2O3−P2O5
−SiO2ガラス系の倱透性が少ないこずによる。
ドヌプレベルが高い皋倱透傟向が高くなり、その
結果より急冷し、か぀又はP2O5等の第成分
をさらに添加する必芁がある。リンが混圚する
ず、アルミナ蒞着石英ガラスの倱透傟向が抑制さ
れるこずに気付いた。リンが混入するず、埗られ
る融成物の粘床が䜎䞋するため、倱透傟向が匷た
る筈であるが、倱透する可胜性が少ないこずを発
芋した。P2O5−Al2O3−SiO2系は、シリカず同圢
䜓の盞AlPO4を含有しおいる。AlがAlPO4
矀に混入するず、倱透の原因ず思われる、ムラむ
ト結晶の圢成傟向が効果的に䜎枛する。 本発明を甚いるず、OH-濃床を、通垞GeO2−
SiO2フアむバに芳察されるレベル以䞋に䞋げる
こずができる。衚に瀺す様に、アルミニりム酞
化物は、蒞着枩床でGeO2より安定しおいる。埓
぀お反応は高Cl2レベルで発生するため、蒞着時
により倚くのCl2を添加するか、又は䜎O2レベル
で操䜜するこずにより、OH濃床が非垞に䜎いフ
アむバを圢成でき、しいおは次の反応匏で調敎さ
れる、氎酞基濃床レベルをさらに䞋げるこずがで
きる様になる。 H2OCl22HCl2O2 衚及び衚に瀺す様に、酞化ゞルコニりムの
熱力孊的特性は酞化アルミニりムよりはるかに奜
たしい。ZrCl4を反応物ずしお甚いるこずにより
フアむバを圢成したが、その倱透傟向は、アルミ
ナを甚いた堎合より倧きい。
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