JPH0246935B2 - - Google Patents
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- JPH0246935B2 JPH0246935B2 JP54044688A JP4468879A JPH0246935B2 JP H0246935 B2 JPH0246935 B2 JP H0246935B2 JP 54044688 A JP54044688 A JP 54044688A JP 4468879 A JP4468879 A JP 4468879A JP H0246935 B2 JPH0246935 B2 JP H0246935B2
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- JP
- Japan
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- light
- wavelength
- plate
- minutes
- irradiated
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-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/20—Exposure; Apparatus therefor
- G03F7/2022—Multi-step exposure, e.g. hybrid; backside exposure; blanket exposure, e.g. for image reversal; edge exposure, e.g. for edge bead removal; corrective exposure
- G03F7/2024—Multi-step exposure, e.g. hybrid; backside exposure; blanket exposure, e.g. for image reversal; edge exposure, e.g. for edge bead removal; corrective exposure of the already developed image
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- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、感光性エラストマー印刷版の表面粘
着性を除去するための処理方法に関するものであ
る。
着性を除去するための処理方法に関するものであ
る。
一般に、感光性樹脂組成物を用いる製版は、画
像焼付け工程、未硬化部分の洗出し工程、乾燥工
程を経てなされるが、このようにして得られる印
刷版は通常表面が粘着性をもち、取扱い上不便で
あるばかりでなく、版面へのゴミの付着、印刷中
においては版面への紙粉の付着や紙ムケの発生の
原因となるので、この粘着性を除去するための後
処理が必要とされる。
像焼付け工程、未硬化部分の洗出し工程、乾燥工
程を経てなされるが、このようにして得られる印
刷版は通常表面が粘着性をもち、取扱い上不便で
あるばかりでなく、版面へのゴミの付着、印刷中
においては版面への紙粉の付着や紙ムケの発生の
原因となるので、この粘着性を除去するための後
処理が必要とされる。
これまで、感光性樹脂組成物を用いて製造した
印刷版の表面粘着性を除去するための方法として
は、360nｍ付近に中心波長をもつ紫外線けい光
灯や高圧水銀灯により、大気中、不活性ガス中又
は液体中で後露光し、その表面の重合硬化をさら
に進める方法、各種ゴムラテツクス、ポリ塩化ビ
ニリデンラテツクスなどでコーテイングする方
法、タルクのような無機物粉末を版面に付着させ
る方法、酸化剤、還元剤、塩素化剤などの薬品で
版表面を化学処理する方法、水素引抜き剤を含浸
させたのち、300nｍ以下の波長の光を照射し、
水素引抜き反応を起させて架橋を形成させる方法
等が提案されている。
印刷版の表面粘着性を除去するための方法として
は、360nｍ付近に中心波長をもつ紫外線けい光
灯や高圧水銀灯により、大気中、不活性ガス中又
は液体中で後露光し、その表面の重合硬化をさら
に進める方法、各種ゴムラテツクス、ポリ塩化ビ
ニリデンラテツクスなどでコーテイングする方
法、タルクのような無機物粉末を版面に付着させ
る方法、酸化剤、還元剤、塩素化剤などの薬品で
版表面を化学処理する方法、水素引抜き剤を含浸
させたのち、300nｍ以下の波長の光を照射し、
水素引抜き反応を起させて架橋を形成させる方法
等が提案されている。
これらの方法のうち、無機物粉末を版面に付着
させる方法は、単に一時的な効果を与えるもの
で、恒久的効果は期待できないため、実用上利用
することはできない。
させる方法は、単に一時的な効果を与えるもの
で、恒久的効果は期待できないため、実用上利用
することはできない。
ところで、感光性樹脂組成物は、可溶性ポリマ
ー、エチレン性不飽和化合物、光重合開始剤を必
須成分として成つているが、ポリブタジエンやポ
リイソプレンのような共役ジエン系モノマーの重
合体セグメントを主鎖中に有する可溶性ポリマー
を用いる感光性エラストマー組成物の場合は、そ
の反応性が低いため液体中又は不活性ガス中で、
300〜400nｍの波長の光を照射しても表面の粘着
性を除去することができない。したがつて、この
ような感光性エラストマー印刷版の表面の粘着性
を除去するには、次亜鉛素酸ナトリウムの塩酸酸
性水溶液を用いる塩素化処理がもつぱら行われて
いた。
ー、エチレン性不飽和化合物、光重合開始剤を必
須成分として成つているが、ポリブタジエンやポ
リイソプレンのような共役ジエン系モノマーの重
合体セグメントを主鎖中に有する可溶性ポリマー
を用いる感光性エラストマー組成物の場合は、そ
の反応性が低いため液体中又は不活性ガス中で、
300〜400nｍの波長の光を照射しても表面の粘着
性を除去することができない。したがつて、この
ような感光性エラストマー印刷版の表面の粘着性
を除去するには、次亜鉛素酸ナトリウムの塩酸酸
性水溶液を用いる塩素化処理がもつぱら行われて
いた。
しかしながら、この方法は刺激性の強い薬品を
用いなければならず、しかも有毒な塩素ガスの発
生を伴うなど健康管理上好ましくない問題がある
ため、早急な改善が要望されていた。
用いなければならず、しかも有毒な塩素ガスの発
生を伴うなど健康管理上好ましくない問題がある
ため、早急な改善が要望されていた。
他方、前記したように、水素引抜き剤を版面に
含浸させ、300nｍ以下の波長の光を照射して表
面の粘着性を除去する方法（特開昭53−143669号
公報）によつても、その目的を達成することがで
きるが、含浸工程、光照射工程の２工程を必要と
する上に、含浸工程では、衛生上好ましくない有
機溶剤を使用しなければならないという欠点があ
る。さらに、この有機溶剤により版面が膨潤され
たり、水素引抜き剤により架橋化されるため、印
刷版の特性が劣化し、引張強度、破断伸度の低下
など好ましくない結果を招来する。
含浸させ、300nｍ以下の波長の光を照射して表
面の粘着性を除去する方法（特開昭53−143669号
公報）によつても、その目的を達成することがで
きるが、含浸工程、光照射工程の２工程を必要と
する上に、含浸工程では、衛生上好ましくない有
機溶剤を使用しなければならないという欠点があ
る。さらに、この有機溶剤により版面が膨潤され
たり、水素引抜き剤により架橋化されるため、印
刷版の特性が劣化し、引張強度、破断伸度の低下
など好ましくない結果を招来する。
本発明者らは、感光性エラストマー組成物を用
いて製造した印刷版表面の粘着性を除去するため
の、従来方法の欠点を克服した、簡単でかつ効果
的な方法を開発すべく種々研究を重ねた結果、共
役ジエン系モノマーを重合して得られるポリマー
中の二重結合の特異な反応性に着目し、製版の際
の、画像の焼付け、未硬化部分の洗出し、乾燥の
工程に引き続いて、波長300nｍ以下の光を照射
することによつて簡単に、かつ完全に粘着性を除
去しうることを見出し、この知見に基づいて本発
明をなすに至つた。
いて製造した印刷版表面の粘着性を除去するため
の、従来方法の欠点を克服した、簡単でかつ効果
的な方法を開発すべく種々研究を重ねた結果、共
役ジエン系モノマーを重合して得られるポリマー
中の二重結合の特異な反応性に着目し、製版の際
の、画像の焼付け、未硬化部分の洗出し、乾燥の
工程に引き続いて、波長300nｍ以下の光を照射
することによつて簡単に、かつ完全に粘着性を除
去しうることを見出し、この知見に基づいて本発
明をなすに至つた。
すなわち、本発明は、
(イ)共役ジエン系モノマーのポリマーセグメント
と主鎖中に有する可溶性ポリマーと、(ロ)エチレン
性不飽和化合物と、(ハ)光重合開始剤とを必須成分
とする感光性エラストマー組成物を用いて印刷版
を製造するに当り、画像焼付け、未硬化部分の洗
出し及び乾燥の各工程に引き続いて、水素引抜き
剤を版面に含浸させることなく、その表面に波長
300nｍ以下の光を粘着性が実質上消失するまで
照射し、かつ必要に応じ波長300nｍよりも大き
い光で後露光をすることを特徴とする感光性エラ
ストマー印刷版の表面処理方法を提供するもので
ある。
と主鎖中に有する可溶性ポリマーと、(ロ)エチレン
性不飽和化合物と、(ハ)光重合開始剤とを必須成分
とする感光性エラストマー組成物を用いて印刷版
を製造するに当り、画像焼付け、未硬化部分の洗
出し及び乾燥の各工程に引き続いて、水素引抜き
剤を版面に含浸させることなく、その表面に波長
300nｍ以下の光を粘着性が実質上消失するまで
照射し、かつ必要に応じ波長300nｍよりも大き
い光で後露光をすることを特徴とする感光性エラ
ストマー印刷版の表面処理方法を提供するもので
ある。
本発明方法で処理可能な印刷版は、前記したよ
うに、(イ)共役ジエン系モノマーのポリマーセグメ
ントと主鎖中に有する可溶性ポリマーと、(ロ)エチ
レン性不飽和化合物と、(ハ)光重合開始剤とを必須
成分とする感光性エラストマー組成物から製造さ
れるものである。
うに、(イ)共役ジエン系モノマーのポリマーセグメ
ントと主鎖中に有する可溶性ポリマーと、(ロ)エチ
レン性不飽和化合物と、(ハ)光重合開始剤とを必須
成分とする感光性エラストマー組成物から製造さ
れるものである。
この(イ)成分として用いられる共役ジエン系モノ
マーのポリマーセグメントを主鎖中に有する可溶
性ポリマーの例には、ブタジエン、イソプレン、
クロロプレンなどの共役ジエン系モノマーの単独
重合体、あるいはこれらの共役ジエン系モノマー
とスチレン、アクリロニトリル、α−メチルスチ
レン、ビニルトルエン、アクリル酸の低級アルキ
ルエステル、メタクリル酸の低級アルキルエステ
ル、塩化ビニル、酢酸ビニルなどのモノエン系モ
ノマーとの共重合体で、未加硫のものをあげるこ
とができる。このほか、これらの単独重合体や共
重合体をエステル結合又はウレタン結合などを介
して線状に連結したポリマーを用いることもでき
る。
マーのポリマーセグメントを主鎖中に有する可溶
性ポリマーの例には、ブタジエン、イソプレン、
クロロプレンなどの共役ジエン系モノマーの単独
重合体、あるいはこれらの共役ジエン系モノマー
とスチレン、アクリロニトリル、α−メチルスチ
レン、ビニルトルエン、アクリル酸の低級アルキ
ルエステル、メタクリル酸の低級アルキルエステ
ル、塩化ビニル、酢酸ビニルなどのモノエン系モ
ノマーとの共重合体で、未加硫のものをあげるこ
とができる。このほか、これらの単独重合体や共
重合体をエステル結合又はウレタン結合などを介
して線状に連結したポリマーを用いることもでき
る。
また、(ロ)成分のエチレン性不飽和化合物、(ハ)成
分の光重合開始剤は、この種の感光性エラストマ
ー組成物に慣用されているものの中から任意に選
ぶことができる。
分の光重合開始剤は、この種の感光性エラストマ
ー組成物に慣用されているものの中から任意に選
ぶことができる。
このような感光性エラストマー組成物は、例え
ば特公昭51−43374号公報、特公昭53−37762号公
報、特開昭52−64301号公報、特開昭52−503号公
報、特開昭53−127004号公報、特開昭51−74703
号公報に記載されている。特に、特開昭53−
127004号公報に記載されているような、エチレン
性不飽和化合物としてフマレートやマレートを用
いた感光性エラストマー組成物から得られる印刷
版の場合に、本発明方法が有効である。
ば特公昭51−43374号公報、特公昭53−37762号公
報、特開昭52−64301号公報、特開昭52−503号公
報、特開昭53−127004号公報、特開昭51−74703
号公報に記載されている。特に、特開昭53−
127004号公報に記載されているような、エチレン
性不飽和化合物としてフマレートやマレートを用
いた感光性エラストマー組成物から得られる印刷
版の場合に、本発明方法が有効である。
本発明方法において、表面処理のために照射さ
れる光は、波長300nｍ以下のものであることが
必要であるが、200nｍ以下の短波長の光が含ま
れていると、空気中で照射した際オゾンを発生し
好ましくない事態をもたらす場合があるので、通
常は200〜300nｍの範囲の波長が望ましい。波長
300nｍ以下の光を全く含まない波長300〜460nｍ
の光を照射しても、版表面の粘着性が改善されな
いばかりでなく、感光性エラストマー組成物の組
成によつては、むしろ表面粘着性の増加をもたら
す。例えば、ポリイソプレンセグメントを含む可
溶性ポリマーとエチレン性不飽和化合物を共重合
開始剤からなる感光性エラストマー組成物から得
られる版の場合に、後処理として波長300nｍ以
下の光を含まない波長300〜460nｍの光照射を行
うと、粘着性の分解物が版面に生成し、かえつて
粘着性は増加する。しかし、波長300nｍ以下の
光を照射すると粘着性分解物を生成することがな
く、版面の粘着性を完全に除去することができ
る。
れる光は、波長300nｍ以下のものであることが
必要であるが、200nｍ以下の短波長の光が含ま
れていると、空気中で照射した際オゾンを発生し
好ましくない事態をもたらす場合があるので、通
常は200〜300nｍの範囲の波長が望ましい。波長
300nｍ以下の光を全く含まない波長300〜460nｍ
の光を照射しても、版表面の粘着性が改善されな
いばかりでなく、感光性エラストマー組成物の組
成によつては、むしろ表面粘着性の増加をもたら
す。例えば、ポリイソプレンセグメントを含む可
溶性ポリマーとエチレン性不飽和化合物を共重合
開始剤からなる感光性エラストマー組成物から得
られる版の場合に、後処理として波長300nｍ以
下の光を含まない波長300〜460nｍの光照射を行
うと、粘着性の分解物が版面に生成し、かえつて
粘着性は増加する。しかし、波長300nｍ以下の
光を照射すると粘着性分解物を生成することがな
く、版面の粘着性を完全に除去することができ
る。
このように、共役ジエン系モノマーを重合させ
て得られるポリマーセグメントを主鎖中にもつ可
溶性ポリマーを、エチレン性不飽和化合物、光重
合開始剤とともに用いて得られる印刷版の表面粘
着性を除去するために照射する光は、波長300n
ｍ以下でければならない。そして、このような波
長300nｍ以下の光を発生する光源としては、殺
菌灯、重水素ランプ、低圧水銀灯などがある。
て得られるポリマーセグメントを主鎖中にもつ可
溶性ポリマーを、エチレン性不飽和化合物、光重
合開始剤とともに用いて得られる印刷版の表面粘
着性を除去するために照射する光は、波長300n
ｍ以下でければならない。そして、このような波
長300nｍ以下の光を発生する光源としては、殺
菌灯、重水素ランプ、低圧水銀灯などがある。
本発明方法における光照射は、表面の粘着性が
実質上消失されるまで行うことが必要であり、こ
れに要する時間は、感光性エラストマー組成物の
組成及び光源の強度によつて異なるが、通常は１
分以上である。しかし、あまり長時間照射するの
は、経済的に不利であるばかりでなく、得られる
版面に悪い影響を与えることになるので、30分以
内にするのが望ましい。この光照射は、所望によ
り不活性ガス中又は液体中で行うこともできる
が、効果上、特に変わりがないため大気中で行う
のが有利である。そして、大気中で光照射する場
合には、前記したように波長200nｍ以下の光を
含まない光源を用いるのが望ましい。
実質上消失されるまで行うことが必要であり、こ
れに要する時間は、感光性エラストマー組成物の
組成及び光源の強度によつて異なるが、通常は１
分以上である。しかし、あまり長時間照射するの
は、経済的に不利であるばかりでなく、得られる
版面に悪い影響を与えることになるので、30分以
内にするのが望ましい。この光照射は、所望によ
り不活性ガス中又は液体中で行うこともできる
が、効果上、特に変わりがないため大気中で行う
のが有利である。そして、大気中で光照射する場
合には、前記したように波長200nｍ以下の光を
含まない光源を用いるのが望ましい。
また、印刷版の物性を調整する目的で、本発明
方法の光照射工程に加え、必要に応じ、波長300
〜460nｍの光による後露光工程を行うこともで
きる。この場合、波長300nｍ以下の光を照射す
る前に、波長300〜460nｍの光を照射すると、感
光性エラストマー組成物の組成によつては、粘着
性の分解物を生じ、版面を汚染し、その後で波長
300nｍ以下の光を照射しても表面粘着性を除去
できないことがあるので、波長300〜460nｍの光
の照射は、波長300nｍ以下の光の照射と同時か、
その後で行う方がよい。ただし、波長300nｍ以
下の光を含まない波長300〜460nｍの光を照射し
ても粘着性分解物を生成しないことが知られてい
る感光性エラストマー組成物の場合には、波長
300〜460nｍの光の照射を、波長300nｍ以下の光
の照射前に行つてもさしつかえない。
方法の光照射工程に加え、必要に応じ、波長300
〜460nｍの光による後露光工程を行うこともで
きる。この場合、波長300nｍ以下の光を照射す
る前に、波長300〜460nｍの光を照射すると、感
光性エラストマー組成物の組成によつては、粘着
性の分解物を生じ、版面を汚染し、その後で波長
300nｍ以下の光を照射しても表面粘着性を除去
できないことがあるので、波長300〜460nｍの光
の照射は、波長300nｍ以下の光の照射と同時か、
その後で行う方がよい。ただし、波長300nｍ以
下の光を含まない波長300〜460nｍの光を照射し
ても粘着性分解物を生成しないことが知られてい
る感光性エラストマー組成物の場合には、波長
300〜460nｍの光の照射を、波長300nｍ以下の光
の照射前に行つてもさしつかえない。
本発明方法によれば、簡単な操作で、効果的に
印刷版表面の粘着性を除去しうるので、感光性エ
ラストマー組成物から印刷版を製造する場合の後
処理として有用である。
印刷版表面の粘着性を除去しうるので、感光性エ
ラストマー組成物から印刷版を製造する場合の後
処理として有用である。
次に実施例により本発明をさらに詳細に説明す
る。
る。
実施例 １
米国特許3265765号明細書に記載された方法に
よつて製造したポリスチレン−ポリイソプレン−
ポリスチレンブロツク共重合体（スチレン含量14
％、ポリスチレンを標準とするGPC測定による
数平均分子量は225000）４Kg、ジエチレングリコ
ールジメタクリレート１Kg、２，２−ジメトキシ
フエニルアセトフエノン100ｇ、２，６−ジ第三
ブチル−ｐ−クレゾール10ｇをニーダーで混練し
た。この混練物の一部を厚さ100μのポリエステ
ルフイルム２枚の間にはさみ、２mmの厚さのスペ
ーサの内側に置き、110℃でプレスして感光性エ
ラストマー組成物のシートを得た。このシートを
2.0ｍＷ／cm2の強度をもつ紫外線けい光灯を用い
て片側から５分間光照射した。次いで光照射した
側からみて反対側のポリエステルフイルムをはぎ
とり、ネガフイルムを密着させて上記光源を用い
て15分間画像焼付けを行つた。次に、１，１，１
−トリクロロエタン／イソプロパノール（２／
１）の混合液でブラシを用いて未硬化部の洗出し
を行つたのち、60℃で30分間乾燥した。室温に冷
却した後の版の表面は粘着性を有していた。この
版を中心波長254nｍの20W殺菌灯３本を並べた
光源から10cmの位置に置き５分間光照射したとこ
ろ、表面粘着性の全くない版が得られた。この版
をさらに2.0ｍＷ／cm2の強度の紫外線けい光灯
（中心波長360nｍ）を用いて10分間後露光した
が、版面に粘着性を生じることはなかつた。
よつて製造したポリスチレン−ポリイソプレン−
ポリスチレンブロツク共重合体（スチレン含量14
％、ポリスチレンを標準とするGPC測定による
数平均分子量は225000）４Kg、ジエチレングリコ
ールジメタクリレート１Kg、２，２−ジメトキシ
フエニルアセトフエノン100ｇ、２，６−ジ第三
ブチル−ｐ−クレゾール10ｇをニーダーで混練し
た。この混練物の一部を厚さ100μのポリエステ
ルフイルム２枚の間にはさみ、２mmの厚さのスペ
ーサの内側に置き、110℃でプレスして感光性エ
ラストマー組成物のシートを得た。このシートを
2.0ｍＷ／cm2の強度をもつ紫外線けい光灯を用い
て片側から５分間光照射した。次いで光照射した
側からみて反対側のポリエステルフイルムをはぎ
とり、ネガフイルムを密着させて上記光源を用い
て15分間画像焼付けを行つた。次に、１，１，１
−トリクロロエタン／イソプロパノール（２／
１）の混合液でブラシを用いて未硬化部の洗出し
を行つたのち、60℃で30分間乾燥した。室温に冷
却した後の版の表面は粘着性を有していた。この
版を中心波長254nｍの20W殺菌灯３本を並べた
光源から10cmの位置に置き５分間光照射したとこ
ろ、表面粘着性の全くない版が得られた。この版
をさらに2.0ｍＷ／cm2の強度の紫外線けい光灯
（中心波長360nｍ）を用いて10分間後露光した
が、版面に粘着性を生じることはなかつた。
この版を用いてフレキソ印刷を行つたところ版
面粘着性に起因する問題はなんら起らず良好な印
刷物を与えた。また、印刷中にレリーフのかけは
起こらず耐刷性も良好であつた。
面粘着性に起因する問題はなんら起らず良好な印
刷物を与えた。また、印刷中にレリーフのかけは
起こらず耐刷性も良好であつた。
比較例 １
実施例１と同じ組成の感光性エラストマー組成
物のシートを実施例１と同じ方法で製造した。こ
のシートを用いて実施例１と同じ方法及び条件で
画像焼付け、未硬化部分の洗出し、乾燥を行つ
た。得られた版を2.0ｍＷ／cm2の強度の紫外線け
い光灯（中心波長360nｍ）下で10分間後露光し
たところ、粘着性の分解物が版表面に生成し、版
面粘着性は増した。次いで、中心波長254nｍの
20W殺菌灯３本を並べた光源から10cmの位置にこ
の後露光後の版を置き15分間光照射したが版面粘
着性を除去することができなかつた。
物のシートを実施例１と同じ方法で製造した。こ
のシートを用いて実施例１と同じ方法及び条件で
画像焼付け、未硬化部分の洗出し、乾燥を行つ
た。得られた版を2.0ｍＷ／cm2の強度の紫外線け
い光灯（中心波長360nｍ）下で10分間後露光し
たところ、粘着性の分解物が版表面に生成し、版
面粘着性は増した。次いで、中心波長254nｍの
20W殺菌灯３本を並べた光源から10cmの位置にこ
の後露光後の版を置き15分間光照射したが版面粘
着性を除去することができなかつた。
この結果と実施例１の結果とを対比すれば明ら
かなように、共役ジエン系モノマーのポリマーセ
グメントを主鎖中に有する可溶性ポリマーを用い
た場合、最初に波長300nｍ以下の光を照射した
後、波長300nｍよりも大きい光を照射したとき
には粘着性を除去することができるが、その順序
を変えて最初に波長300nｍよりも大きい光を照
射した後、波長300nｍ以下の光を照射しても粘
着性を除去することはできない。
かなように、共役ジエン系モノマーのポリマーセ
グメントを主鎖中に有する可溶性ポリマーを用い
た場合、最初に波長300nｍ以下の光を照射した
後、波長300nｍよりも大きい光を照射したとき
には粘着性を除去することができるが、その順序
を変えて最初に波長300nｍよりも大きい光を照
射した後、波長300nｍ以下の光を照射しても粘
着性を除去することはできない。
実施例 ２
米国特許3265765号明細書に記載された方法に
よつて製造したポリスチレン−ポリブタジエン−
ポリスチレンブロツク共重合体（スチレン含量30
％、ポリスチレンを標準とするGPC測定による
数平均分子量は220000）３Kg、液状１，２−ポリ
ブタジエン（ポリスチレンを標準とするGPC測
定による数平均分子量3000）１Kg、液状１，４−
ポリブタジエン（ポリステレンを標準とする
GPC測定による数平均分子量3000）１Kg、ジオ
クチルフマレート500ｇ、ベンゾインイソブチル
エーテル100ｇ、２，６−ジ第三ブチル−ｐ−ク
レゾール５ｇとから実施例１と同じ方法で感光性
エラストマー組成物のシートを得た。実施例１と
同じ方法で画像焼付け、未硬化部分の洗出し、乾
燥を行つた。このようにして得られた版の表面は
粘着性を有していた。この版を、中心波長254n
ｍの20W殺菌灯３本を並べた光源から10cmの位置
に置き10分間光照射したところ、表面粘着性の全
く認められない版が得られた。この版をさらに中
心波長360nｍをもつ紫外線けい光灯からの2.0ｍ
Ｗ／cm2の強度の光で10分間後露光したが、版面に
粘着性の生じることはなかつた。
よつて製造したポリスチレン−ポリブタジエン−
ポリスチレンブロツク共重合体（スチレン含量30
％、ポリスチレンを標準とするGPC測定による
数平均分子量は220000）３Kg、液状１，２−ポリ
ブタジエン（ポリスチレンを標準とするGPC測
定による数平均分子量3000）１Kg、液状１，４−
ポリブタジエン（ポリステレンを標準とする
GPC測定による数平均分子量3000）１Kg、ジオ
クチルフマレート500ｇ、ベンゾインイソブチル
エーテル100ｇ、２，６−ジ第三ブチル−ｐ−ク
レゾール５ｇとから実施例１と同じ方法で感光性
エラストマー組成物のシートを得た。実施例１と
同じ方法で画像焼付け、未硬化部分の洗出し、乾
燥を行つた。このようにして得られた版の表面は
粘着性を有していた。この版を、中心波長254n
ｍの20W殺菌灯３本を並べた光源から10cmの位置
に置き10分間光照射したところ、表面粘着性の全
く認められない版が得られた。この版をさらに中
心波長360nｍをもつ紫外線けい光灯からの2.0ｍ
Ｗ／cm2の強度の光で10分間後露光したが、版面に
粘着性の生じることはなかつた。
比較例 ２
実施例２と同じ組成の感光性エラストマー組成
物のシートを用いて、実施例１と同じ方法で画像
焼付け、未硬化部分の洗出し、乾燥を行つた。こ
の版を、360nｍの中心波長をもつ20W紫外線け
い光灯３本を並べた光源から10cmの位置に置いて
10分間後露光を行つたが、版面粘着性はほとんど
除去できなかつた。
物のシートを用いて、実施例１と同じ方法で画像
焼付け、未硬化部分の洗出し、乾燥を行つた。こ
の版を、360nｍの中心波長をもつ20W紫外線け
い光灯３本を並べた光源から10cmの位置に置いて
10分間後露光を行つたが、版面粘着性はほとんど
除去できなかつた。
このことから、共役ジエン系モノマーのポリマ
ーセグメントを主鎖中に有する可溶性ポリマーを
用いた場合、水素引抜き剤を含浸させずに単に波
長300nｍ以上の光を照射しただけでは、版面粘
着性の除去ができないことが分る。
ーセグメントを主鎖中に有する可溶性ポリマーを
用いた場合、水素引抜き剤を含浸させずに単に波
長300nｍ以上の光を照射しただけでは、版面粘
着性の除去ができないことが分る。
比較例 ３
実施例２と同じ組成の感光性エラストマー組成
物のシートを、厚さ１mmのスペーサを用いてプレ
スする他は実施例１と同様にして製造した。これ
を360nｍに中心波長をもつ紫外線けい光灯から
の2.0ｍＷ／cm2の強度の光の下に置いて片側から
10分、次いで反対側から10分間の露光を行つた。
片側のポリエステルフイルムを剥ぎ取り、表面を
１，１，１−トリクロロエタン／イソプロパノー
ル（２／１）の混合液で洗つた後、60℃で15分間
乾燥した。このシートを２枚に切断し、１枚のシ
ートは、そのまま中心波長254nｍの20W殺菌灯
を３本並べた光源から10cmの位置に置き10分間光
照射し、もう１枚のシートは、アントラキノンの
0.5重量パーセントエタノール溶液に５分間浸せ
きし、60℃で５分間乾燥した後、中心波長254n
ｍの20W殺菌灯を３本並べた光源から10cmの位置
におき10分間光照射した。
物のシートを、厚さ１mmのスペーサを用いてプレ
スする他は実施例１と同様にして製造した。これ
を360nｍに中心波長をもつ紫外線けい光灯から
の2.0ｍＷ／cm2の強度の光の下に置いて片側から
10分、次いで反対側から10分間の露光を行つた。
片側のポリエステルフイルムを剥ぎ取り、表面を
１，１，１−トリクロロエタン／イソプロパノー
ル（２／１）の混合液で洗つた後、60℃で15分間
乾燥した。このシートを２枚に切断し、１枚のシ
ートは、そのまま中心波長254nｍの20W殺菌灯
を３本並べた光源から10cmの位置に置き10分間光
照射し、もう１枚のシートは、アントラキノンの
0.5重量パーセントエタノール溶液に５分間浸せ
きし、60℃で５分間乾燥した後、中心波長254n
ｍの20W殺菌灯を３本並べた光源から10cmの位置
におき10分間光照射した。
この２枚のシートのポリエステルフイルムを剥
ぎ取り、JIS4号のダンベルで打ち抜いた後、引張
強度を測定したところ、殺菌灯照射だけのシート
の破断伸度は500％であつたのに対して、水素引
抜き剤であるアントラキノンのエタノール溶液で
処理した後、殺菌灯照射したシートの破断伸度は
300％と低下していた。
ぎ取り、JIS4号のダンベルで打ち抜いた後、引張
強度を測定したところ、殺菌灯照射だけのシート
の破断伸度は500％であつたのに対して、水素引
抜き剤であるアントラキノンのエタノール溶液で
処理した後、殺菌灯照射したシートの破断伸度は
300％と低下していた。
これらの結果から、共役ジエン系モノマーのポ
リマーセグメントを主鎖中に有する可溶性ポリマ
ーを用いた場合、水素引抜き剤を含浸させて光照
射処理すれば、破断強度の低下を招くことが分
る。
リマーセグメントを主鎖中に有する可溶性ポリマ
ーを用いた場合、水素引抜き剤を含浸させて光照
射処理すれば、破断強度の低下を招くことが分
る。
比較例 ４
実施例２と同じ感光性エラストマー組成物のシ
ートから、殺菌灯照射の前に、アントラキノンの
0.5重量％エタノール溶液に５分間浸せした後、
60℃で５分間乾燥する工程を入れる他は実施例２
と同じ方法及び条件で印刷版を製造した。この版
及び実施例２で得た版を用いてフレキソ印刷を行
つたところ、実施例２で得た版は耐刷性、印刷品
質とも良好であつたのに対して、水素引抜き剤で
あるアントラキノンで処理する工程を加えて上記
の版は、印刷中レルーフの表面に亀裂を生じ印刷
品質が低下したので、途中で印刷を打ち切らざる
を得なかつた。
ートから、殺菌灯照射の前に、アントラキノンの
0.5重量％エタノール溶液に５分間浸せした後、
60℃で５分間乾燥する工程を入れる他は実施例２
と同じ方法及び条件で印刷版を製造した。この版
及び実施例２で得た版を用いてフレキソ印刷を行
つたところ、実施例２で得た版は耐刷性、印刷品
質とも良好であつたのに対して、水素引抜き剤で
あるアントラキノンで処理する工程を加えて上記
の版は、印刷中レルーフの表面に亀裂を生じ印刷
品質が低下したので、途中で印刷を打ち切らざる
を得なかつた。
このように共役ジエン系モノマーのポリマーセ
グメントを主鎖中に有する可溶性ポリマーを用い
た場合、水素引抜き剤を含浸させたのち、波長
300nｍ光を照射し、引き続き波長300nｍよりも
大きい光照射すると印刷中にレリーフ表面に亀裂
を生じ使用に耐えないものとなる。
グメントを主鎖中に有する可溶性ポリマーを用い
た場合、水素引抜き剤を含浸させたのち、波長
300nｍ光を照射し、引き続き波長300nｍよりも
大きい光照射すると印刷中にレリーフ表面に亀裂
を生じ使用に耐えないものとなる。
実施例 ３
結晶１，２−ポリブタジエン（結晶化度15％、
ポリスチレンを標準とするGPC測定による数平
均分子量200000）２Kg、液状１，２−ポリブタジ
エン（ポリスチレンを標準とするGPC測定によ
る数平均分子量2000）１Kg、テトラエチレングリ
コールジアクリレート200ｇ、ベンゾインイソブ
チルエテール15ｇ、ｐ−メトキシフエノール１ｇ
とから実施例１と同じ方法で感光性エラストマー
組成物のシートを得た。実施例１と同じ方法で、
画像焼付け、未硬化部分の洗出し、乾燥を行つ
た。ここで得られた版は表面に粘着性を有してい
た。この版を中心波長245nｍの低圧水銀灯（ウ
シオ電機製、ULO−6DQ型）から15cmの位置に
置いて10分間照射したところ、表面粘着性は全く
認められなくなつた。
ポリスチレンを標準とするGPC測定による数平
均分子量200000）２Kg、液状１，２−ポリブタジ
エン（ポリスチレンを標準とするGPC測定によ
る数平均分子量2000）１Kg、テトラエチレングリ
コールジアクリレート200ｇ、ベンゾインイソブ
チルエテール15ｇ、ｐ−メトキシフエノール１ｇ
とから実施例１と同じ方法で感光性エラストマー
組成物のシートを得た。実施例１と同じ方法で、
画像焼付け、未硬化部分の洗出し、乾燥を行つ
た。ここで得られた版は表面に粘着性を有してい
た。この版を中心波長245nｍの低圧水銀灯（ウ
シオ電機製、ULO−6DQ型）から15cmの位置に
置いて10分間照射したところ、表面粘着性は全く
認められなくなつた。
比較例 ５
実施例３と同様にして画像焼付け、未硬化部分
の洗出し、乾燥まで行つて得た表面粘着性を有す
る版の一部を切り取り、370nｍに中心波長をも
つ紫外線けい光灯からの2.2ｍＷ／cm2の強度の光
で10分間後露光したが、表面粘着性は除去されな
かつた。
の洗出し、乾燥まで行つて得た表面粘着性を有す
る版の一部を切り取り、370nｍに中心波長をも
つ紫外線けい光灯からの2.2ｍＷ／cm2の強度の光
で10分間後露光したが、表面粘着性は除去されな
かつた。
この結果と実施例３の結果とを対比すれば明ら
かなように、共役ジエン系モノマーのポリマーセ
グメントを主鎖とする可溶性ポリマーを用いた場
合、波長300nｍ以下の光を照射すれば版面の粘
着性を除去できるが、波長300nｍよりも大きい
光を照射したときには粘着性を除去することがで
きない。
かなように、共役ジエン系モノマーのポリマーセ
グメントを主鎖とする可溶性ポリマーを用いた場
合、波長300nｍ以下の光を照射すれば版面の粘
着性を除去できるが、波長300nｍよりも大きい
光を照射したときには粘着性を除去することがで
きない。
実施例 ４
ニトリル含量41％のアクリロニトリルブタジエ
ンコポリマー（ムーニー粘度55）2.5Kg、ジブチ
ルフマレート１Kg、トリメチロールプロパントリ
メタクリレート500ｇ、２，２−ジメトキシ−２
−フエニルアセトフエノン50ｇ、２，６−ジ第三
ブチル−ｐ−クレゾール10ｇからプレス温度を
150℃にする他は実施例１と同じ方法で感光性エ
ラストマー組成物のシートを得た。実施例１と同
じ方法で画像焼付けを行つた後、１，１，１−ト
リクロロエタンでブラシを用いて未硬化部分を除
去した。60℃で15分間乾燥してから室温に冷却し
た版の表面は粘着性を有していた。この版を
254nｍに中心波長をもつ20W殺菌灯３本を並べ
た光源から10cmの位置に置き、15分間光照射した
ところ表面の粘着性は全く認められなくなつた。
ンコポリマー（ムーニー粘度55）2.5Kg、ジブチ
ルフマレート１Kg、トリメチロールプロパントリ
メタクリレート500ｇ、２，２−ジメトキシ−２
−フエニルアセトフエノン50ｇ、２，６−ジ第三
ブチル−ｐ−クレゾール10ｇからプレス温度を
150℃にする他は実施例１と同じ方法で感光性エ
ラストマー組成物のシートを得た。実施例１と同
じ方法で画像焼付けを行つた後、１，１，１−ト
リクロロエタンでブラシを用いて未硬化部分を除
去した。60℃で15分間乾燥してから室温に冷却し
た版の表面は粘着性を有していた。この版を
254nｍに中心波長をもつ20W殺菌灯３本を並べ
た光源から10cmの位置に置き、15分間光照射した
ところ表面の粘着性は全く認められなくなつた。
比較例 ６
実施例４と同様にして、画像焼付け、未硬化部
分の洗出し、乾燥まで終了した表面に粘着性を有
する版の一部を切り取り、360nｍに中心波長を
もつ紫外線けい光灯からの2.0ｍＷ／cm2の強度の
光で15分間露光したが、表面粘着性を除去するこ
とはできなかつた。
分の洗出し、乾燥まで終了した表面に粘着性を有
する版の一部を切り取り、360nｍに中心波長を
もつ紫外線けい光灯からの2.0ｍＷ／cm2の強度の
光で15分間露光したが、表面粘着性を除去するこ
とはできなかつた。
この結果と実施例４の結果を対比すれば明らか
なように、共役ジエン系モノマーのポリマーセグ
メントを主鎖中に有する可溶性ポリマーを用いた
場合、波長300nｍ以下の光を照射すれば版面の
粘着性を除去できるが、波長300nｍよりも大き
い光を照射したときには粘着性を除去することが
できない。
なように、共役ジエン系モノマーのポリマーセグ
メントを主鎖中に有する可溶性ポリマーを用いた
場合、波長300nｍ以下の光を照射すれば版面の
粘着性を除去できるが、波長300nｍよりも大き
い光を照射したときには粘着性を除去することが
できない。
実施例 ５
ポリクロロプレン（ポリスチレンを標準とする
GPC測定による数平均分子量150000）２Kg、ト
リエチレングリコールジメタクリレート500ｇ、
ジブチルフマレート500ｇ、ベンゾインエチルエ
ーテル30ｇ、ｐ−メトキシフエノール５ｇから、
実施例１と同じ方法で感光性エラストマー組成物
のシートを得た。実施例１と同じ方法及び条件で
画像の焼付けを行い、トリクロロエチレンでブラ
シを用いて未硬化部分を洗い出した。60℃で15分
間乾燥し、室温に冷却した後の版の表面は粘着性
を有していた。これに実施例１と同じ条件で殺菌
灯照射を15分行つたところ表面の粘着性は全く認
められなくなつた。
GPC測定による数平均分子量150000）２Kg、ト
リエチレングリコールジメタクリレート500ｇ、
ジブチルフマレート500ｇ、ベンゾインエチルエ
ーテル30ｇ、ｐ−メトキシフエノール５ｇから、
実施例１と同じ方法で感光性エラストマー組成物
のシートを得た。実施例１と同じ方法及び条件で
画像の焼付けを行い、トリクロロエチレンでブラ
シを用いて未硬化部分を洗い出した。60℃で15分
間乾燥し、室温に冷却した後の版の表面は粘着性
を有していた。これに実施例１と同じ条件で殺菌
灯照射を15分行つたところ表面の粘着性は全く認
められなくなつた。
比較例 ７
実施例５における殺菌灯照射の代わりに、
360nｍの中心波長を有する紫外線けい光灯から
の2.0ｍＷ／cm2の光で15分間後露光したが、表面
の粘着性は除去できなかつた。
360nｍの中心波長を有する紫外線けい光灯から
の2.0ｍＷ／cm2の光で15分間後露光したが、表面
の粘着性は除去できなかつた。
この結果と実施例５の結果とを対比すれば明ら
かなように、共役ジエン系モノマーのポリマーセ
グメントを主鎖とする可溶性ポリマーを用いた場
合、波長300nｍ以下の光を照射すれば版面の粘
着性を除去できるが、波長300nｍよりも大きい
光を照射したときには粘着性を除去することがで
きない。
かなように、共役ジエン系モノマーのポリマーセ
グメントを主鎖とする可溶性ポリマーを用いた場
合、波長300nｍ以下の光を照射すれば版面の粘
着性を除去できるが、波長300nｍよりも大きい
光を照射したときには粘着性を除去することがで
きない。
比較例 ８
イソプロパノール850mlを三つ口フラスコに入
れ、窒素をバブリングしながら80℃に加温し、こ
の中にヒドロキシプロピルメタクリレート280ｇ、
ブチルクリレート46ｇ、アクリロニトリル46ｇ、
アクリル酸280ｇ、アゾビスイソブチロニトリル
18ｇをイソプロパノール850mlに溶解させた溶液
を２時間にわたつて滴下した。さらに、アゾビス
イソブチロニトリル５ｇをイソプロパノール110
mlに溶解させた溶液を加え、80〜86℃で5.5時間
反応させてカルボキシル基を有するアクリルポリ
マーを得た。50℃に冷却後、このポリマー溶液に
トリメチルベンジルアンモニウムヒドロキシド23
ｇを加え、次いで、２，６−ジ−ｔ−ブチル−ｐ
−クレゾール３ｇをグリシジルメタクリレート
280ｇに溶解させた溶液を１時間にわたつて滴下
し、さらにトリメチルベンジルアンモニウムヒド
ロキシド23ｇを加えて、80℃で５時間反応させて
メタクリル基を有するアクリルポリマー溶液を得
た。
れ、窒素をバブリングしながら80℃に加温し、こ
の中にヒドロキシプロピルメタクリレート280ｇ、
ブチルクリレート46ｇ、アクリロニトリル46ｇ、
アクリル酸280ｇ、アゾビスイソブチロニトリル
18ｇをイソプロパノール850mlに溶解させた溶液
を２時間にわたつて滴下した。さらに、アゾビス
イソブチロニトリル５ｇをイソプロパノール110
mlに溶解させた溶液を加え、80〜86℃で5.5時間
反応させてカルボキシル基を有するアクリルポリ
マーを得た。50℃に冷却後、このポリマー溶液に
トリメチルベンジルアンモニウムヒドロキシド23
ｇを加え、次いで、２，６−ジ−ｔ−ブチル−ｐ
−クレゾール３ｇをグリシジルメタクリレート
280ｇに溶解させた溶液を１時間にわたつて滴下
し、さらにトリメチルベンジルアンモニウムヒド
ロキシド23ｇを加えて、80℃で５時間反応させて
メタクリル基を有するアクリルポリマー溶液を得
た。
このようにして得たアクリルポリマー溶液にラ
ウリルメタクリレート300ｇ、テトラエチレング
リコールジメタクリレート300ｇ、ベンゾインイ
ソブチルエーテル30ｇ、２，６−ジ−ｔ−ブチル
−ｐ−クレゾール６ｇを加え、溶解させて感光性
組成物溶液を調整した。
ウリルメタクリレート300ｇ、テトラエチレング
リコールジメタクリレート300ｇ、ベンゾインイ
ソブチルエーテル30ｇ、２，６−ジ−ｔ−ブチル
−ｐ−クレゾール６ｇを加え、溶解させて感光性
組成物溶液を調整した。
次に、ウレタン接着剤層を設けたポリエステル
フイルム上に、この感光性組成物をキヤステイン
グし、厚さ１mmの感光性組成物を設けた。
フイルム上に、この感光性組成物をキヤステイン
グし、厚さ１mmの感光性組成物を設けた。
画像を有するネガフイルムを通して20W紫外線
蛍光灯よりの２ｍＷ／cm2の強さの光を５分間照射
したのち、リン酸三ナトリウム１重量％、メタノ
ール10重量％を含有するアルカリ水溶液をスプレ
ーして現像後、60℃で20分間乾燥させたが、得ら
れたレリーフ表面は粘着性を有していた。
蛍光灯よりの２ｍＷ／cm2の強さの光を５分間照射
したのち、リン酸三ナトリウム１重量％、メタノ
ール10重量％を含有するアルカリ水溶液をスプレ
ーして現像後、60℃で20分間乾燥させたが、得ら
れたレリーフ表面は粘着性を有していた。
このシートを1/2に切断し、一片は0.5重量％ベ
ンゾフエノンのエタノール溶液に５分間浸せき
し、10分間風乾したのち、中心波長254nｍの殺
菌灯で10間照射したところ粘着性は除去された。
ンゾフエノンのエタノール溶液に５分間浸せき
し、10分間風乾したのち、中心波長254nｍの殺
菌灯で10間照射したところ粘着性は除去された。
他の一片はベンゾフエノンエタノール溶液に含
浸させることなく254nｍに中心波長を有する殺
菌灯を10分間照射したが、粘着性を除去すること
はできなかつた。
浸させることなく254nｍに中心波長を有する殺
菌灯を10分間照射したが、粘着性を除去すること
はできなかつた。
比較例 ９
数平均分子量1800のポリエチレングリコールの
両末端にアクリロニトリルを付加し、これを水素
還元して得たα，ω−ジアミノポリオキシエチレ
ンとアジピン酸の等モル塩225重量部、ε−カプ
ロラクタム20重量部及びヘキサメチレジアミンと
アジピン酸の等モル塩５重量部を溶融重合した。
両末端にアクリロニトリルを付加し、これを水素
還元して得たα，ω−ジアミノポリオキシエチレ
ンとアジピン酸の等モル塩225重量部、ε−カプ
ロラクタム20重量部及びヘキサメチレジアミンと
アジピン酸の等モル塩５重量部を溶融重合した。
このようにして得られた共重合ポリアミド300
重量部を80℃に加温したエタノール／水（重量比
70／30）に溶解させ、窒素気流下、２，６−ジ−
ｔ−ブチル−ｐ−クレゾール0.1重量部とグリシ
ジルメタクリレート２重量部を加え、80℃で１時
間反応させ、ポリアミドの末端にメタクリレート
基を有する不飽和ポリアミドを得た。
重量部を80℃に加温したエタノール／水（重量比
70／30）に溶解させ、窒素気流下、２，６−ジ−
ｔ−ブチル−ｐ−クレゾール0.1重量部とグリシ
ジルメタクリレート２重量部を加え、80℃で１時
間反応させ、ポリアミドの末端にメタクリレート
基を有する不飽和ポリアミドを得た。
この不飽和ポリアミド溶液に、β−ヒドロキシ
β′−メタクリロイルオキシエチルフタレート50重
量部、テトラエチレングリコールジメタクリレー
ト30重量部、Ｎ−ブチルベンゼンスルホンアミド
20重量部、２，２−ジメトキシ−２−フエニルア
セトフエノン２重量部、ヒドロキノンモノメチル
エーテル0.2重量部を添加してかきまぜた。
β′−メタクリロイルオキシエチルフタレート50重
量部、テトラエチレングリコールジメタクリレー
ト30重量部、Ｎ−ブチルベンゼンスルホンアミド
20重量部、２，２−ジメトキシ−２−フエニルア
セトフエノン２重量部、ヒドロキノンモノメチル
エーテル0.2重量部を添加してかきまぜた。
厚さ100μのポリエステルフイルム上に設けた
３mm厚のスペーサー中に上記溶液を流しこみ、40
℃で１日、さらに５mmHgの減圧下90℃で８時間
乾燥して感光性組成物シートを得た。
３mm厚のスペーサー中に上記溶液を流しこみ、40
℃で１日、さらに５mmHgの減圧下90℃で８時間
乾燥して感光性組成物シートを得た。
次に、これに対し、画像を有するネガフイルム
を通して20W紫外線蛍光灯よりの２ｍＷ／cm2の強
さの光を５分間照射したのち、30℃の水でブラツ
シングすることで末露光部を洗い出し、60℃で１
時間乾燥した。
を通して20W紫外線蛍光灯よりの２ｍＷ／cm2の強
さの光を５分間照射したのち、30℃の水でブラツ
シングすることで末露光部を洗い出し、60℃で１
時間乾燥した。
このようにして得られたレリーフ表面は粘着性
を有していた。
を有していた。
このシートを1/2に切断し、一片は0.5重量％ベ
ンゾフエノンのエタノール溶液に５分間浸せき
し、20分間風乾したのち、中心波長245nｍの殺
菌灯で10分間照射したところ、粘着性は除去され
た。
ンゾフエノンのエタノール溶液に５分間浸せき
し、20分間風乾したのち、中心波長245nｍの殺
菌灯で10分間照射したところ、粘着性は除去され
た。
他の一片はベンゾフエノンのエタノール溶液に
浸せきすることなしに254nｍに中心波長を有す
る殺菌灯を10分間照射したが、粘着性を除去する
ことはできなかつた。
浸せきすることなしに254nｍに中心波長を有す
る殺菌灯を10分間照射したが、粘着性を除去する
ことはできなかつた。
参考例 １
１分子当り平均1.6個の水酸基を有する末端水
酸基型の水添化１，２−ポリブタジエン（ポリス
チレンを標準とするGPC測定によつて得た数平
均分子量は3000、水添化率95％）300ｇとトルイ
レンジイソシアネート（２，４一体／２，６一体
＝３／２）17.4ｇを混合し、乾燥空気雰囲気中で
かきまぜながら60℃で３時間反応させたのち、２
−ヒドロキシプロピルメタクリレート8.6ｇ、ヒ
ドロキノン0.1ｇ、ジブチルスズジラウレート0.1
ｇの混合液を加え、80℃で反応させた。赤外線吸
収スペクトルで、イソシアネート基の特性吸収
（2260cm-1付近）がほとんど認められなくなるま
で反応させてプレポリマーを得た。このプレポリ
マー100ｇ、ラウリルメタクリレート40ｇ、数平
均分子量400のポリプロピレングリコールのジメ
タクリレート10ｇ、ベンゾインイソブチルエーテ
ル３ｇ、ｐ−メトキシフエノール0.1ｇをかきま
ぜて混合して感光性樹脂組成物を得た。
酸基型の水添化１，２−ポリブタジエン（ポリス
チレンを標準とするGPC測定によつて得た数平
均分子量は3000、水添化率95％）300ｇとトルイ
レンジイソシアネート（２，４一体／２，６一体
＝３／２）17.4ｇを混合し、乾燥空気雰囲気中で
かきまぜながら60℃で３時間反応させたのち、２
−ヒドロキシプロピルメタクリレート8.6ｇ、ヒ
ドロキノン0.1ｇ、ジブチルスズジラウレート0.1
ｇの混合液を加え、80℃で反応させた。赤外線吸
収スペクトルで、イソシアネート基の特性吸収
（2260cm-1付近）がほとんど認められなくなるま
で反応させてプレポリマーを得た。このプレポリ
マー100ｇ、ラウリルメタクリレート40ｇ、数平
均分子量400のポリプロピレングリコールのジメ
タクリレート10ｇ、ベンゾインイソブチルエーテ
ル３ｇ、ｐ−メトキシフエノール0.1ｇをかきま
ぜて混合して感光性樹脂組成物を得た。
ガラス板の上にネガフイルムを置き、その上に
厚さ12μのポリエステルフイルムで覆い密着させ
た。この上に上記感光性樹脂組成膜を２mmの厚さ
で塗布し、その上を厚さ100μのポリエステルフ
イルムでカバーしたのち、360nｍに中心波長を
もつ紫外線けい光灯からの1.5ｍＷ／cm2の強度の
光で100μポリエステルフイルム側から１分間露
光し、次いで、3KW高圧水銀灯から30cmの位置
にガラス板ごと配置し、ガラス及びネガフイルム
を通しての画像焼付け３分間行つた。次いでノニ
オン系界面活性剤水溶液で未硬化樹脂を洗出し、
50℃で15分間乾燥した。得られた版は表面に粘着
性を有するものであつた。これを254nｍに中心
波長をもつ20W殺菌灯３本を並べた光源から10cm
の位置に置いて20分間光照射したが、表面の粘着
性は除去できなかつた。
厚さ12μのポリエステルフイルムで覆い密着させ
た。この上に上記感光性樹脂組成膜を２mmの厚さ
で塗布し、その上を厚さ100μのポリエステルフ
イルムでカバーしたのち、360nｍに中心波長を
もつ紫外線けい光灯からの1.5ｍＷ／cm2の強度の
光で100μポリエステルフイルム側から１分間露
光し、次いで、3KW高圧水銀灯から30cmの位置
にガラス板ごと配置し、ガラス及びネガフイルム
を通しての画像焼付け３分間行つた。次いでノニ
オン系界面活性剤水溶液で未硬化樹脂を洗出し、
50℃で15分間乾燥した。得られた版は表面に粘着
性を有するものであつた。これを254nｍに中心
波長をもつ20W殺菌灯３本を並べた光源から10cm
の位置に置いて20分間光照射したが、表面の粘着
性は除去できなかつた。
参考例 ２
ポリエチレンアジペート（ジオールタイプ、ポ
リスチレンを標準とするGPC測定による数平均
分子量2000）200ｇに、トルイレンジイソシアネ
ート（２，４一体／２，６一体＝３／２）34.8
ｇ、ジブチルスズジラウレート0.5ｇを加えて、
50℃で４時間反応させ、両末端にイソシアネート
基を有するポリエチレンアジペートを得た。これ
に、ポリプロピレングリコール（ジオールタイ
プ、ポリスチレンを標準とするGPC測定による
数平均分子量2000）100ｇを加え、ポリエステル
−ポリエーテルブロツク体（両末端イソシアネー
ト型）を得た。この両末端イソシアネート型ポリ
エステル−ポリエーテルブロツク体300ｇに、２
−ヒドロキシエチルメタクリレート25ｇと、ヒド
ロキノン0.1ｇを添加し、70℃で２時間反応させ
てプレポリマーを得た。このプレポリマー100ｇ
に対し、２−ヒドロキシプロピルメタクリレート
20ｇ、スチレン10ｇ、ステアリルメタクリレート
10ｇ、ベンゾインイソプロピルエーテル1.5ｇ、
ヒドロキノン0.2ｇを添加混合して感光性樹脂組
成物を得た。
リスチレンを標準とするGPC測定による数平均
分子量2000）200ｇに、トルイレンジイソシアネ
ート（２，４一体／２，６一体＝３／２）34.8
ｇ、ジブチルスズジラウレート0.5ｇを加えて、
50℃で４時間反応させ、両末端にイソシアネート
基を有するポリエチレンアジペートを得た。これ
に、ポリプロピレングリコール（ジオールタイ
プ、ポリスチレンを標準とするGPC測定による
数平均分子量2000）100ｇを加え、ポリエステル
−ポリエーテルブロツク体（両末端イソシアネー
ト型）を得た。この両末端イソシアネート型ポリ
エステル−ポリエーテルブロツク体300ｇに、２
−ヒドロキシエチルメタクリレート25ｇと、ヒド
ロキノン0.1ｇを添加し、70℃で２時間反応させ
てプレポリマーを得た。このプレポリマー100ｇ
に対し、２−ヒドロキシプロピルメタクリレート
20ｇ、スチレン10ｇ、ステアリルメタクリレート
10ｇ、ベンゾインイソプロピルエーテル1.5ｇ、
ヒドロキノン0.2ｇを添加混合して感光性樹脂組
成物を得た。
この感光性樹脂組成物を用いて参考例１と同じ
方法及び条件で画像焼付けを行つた。ノニオン型
界面活性剤水溶液を用いて未硬化部分を洗い出
し、50℃で15分間乾燥した。得られた版は表面に
粘着性を有するものであつた。これを254nｍに
中心波長をもつ20W殺菌灯３本を並べた光源から
10cmの位置において20分間光照射したが、表面の
粘着性は除去できなかつた。
方法及び条件で画像焼付けを行つた。ノニオン型
界面活性剤水溶液を用いて未硬化部分を洗い出
し、50℃で15分間乾燥した。得られた版は表面に
粘着性を有するものであつた。これを254nｍに
中心波長をもつ20W殺菌灯３本を並べた光源から
10cmの位置において20分間光照射したが、表面の
粘着性は除去できなかつた。
これらの参考例から明らかなように、共役ジエ
ン系モノマーのポリマーセグメントを主鎖中に有
しない可溶性ポリマーを用いた場合においては、
水素引抜き剤を含浸せずに波長300nｍ以下の光
の照射しただけでは版面粘着性を除去することが
できない。
ン系モノマーのポリマーセグメントを主鎖中に有
しない可溶性ポリマーを用いた場合においては、
水素引抜き剤を含浸せずに波長300nｍ以下の光
の照射しただけでは版面粘着性を除去することが
できない。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ (イ)共役ジエン系モノマーのポリマーセグメン
トと主鎖中に有する可溶性ポリマーと、(ロ)エチレ
ン性不飽和化合物と、(ハ)光重合開始剤とを必須成
分とする感光性エラストマー組成物を用いて印刷
版を製造するに当り、画像焼付け、未硬化部分の
洗出し及び乾燥の各工程に引き続いて、水素引抜
き剤を版面に含浸させることなく、その表面に波
長300nｍ以下の光を粘着性が実質上消失するま
で照射し、かつ必要に応じ波長300nｍよりも大
きい光で通常の後露光することを特徴とする感光
性エラストマー印刷版の表面処理方法。 ２ (イ)成分の共役ジエン系モノマーがイソプレン
である特許請求の範囲第１項記載の方法。 ３ (ロ)成分がフマル酸エステル及びマレイン酸エ
ステルの中から選ばれた少なくとも１種である特
許請求の範囲第１項記載の方法。 ４ 粘着性を消失させるための光照射を大気中で
行う特許請求の範囲第１項記載の方法。 ５ 照射する光の波長が200〜300nｍである特許
請求の範囲第４項記載の方法。
Priority Applications (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4468879A JPS55135838A (en) | 1979-04-12 | 1979-04-12 | Surface treating method for photosensitive elastomer printing plate |
| DE8080101945T DE3069203D1 (en) | 1979-04-12 | 1980-04-10 | Process for preparing photopolymerized elastomeric printing plates not displaying surface stickiness |
| EP19800101945 EP0017927B1 (en) | 1979-04-12 | 1980-04-10 | Process for preparing photopolymerized elastomeric printing plates not displaying surface stickiness |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4468879A JPS55135838A (en) | 1979-04-12 | 1979-04-12 | Surface treating method for photosensitive elastomer printing plate |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS55135838A JPS55135838A (en) | 1980-10-23 |
| JPH0246935B2 true JPH0246935B2 (ja) | 1990-10-17 |
Family
ID=12698359
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4468879A Granted JPS55135838A (en) | 1979-04-12 | 1979-04-12 | Surface treating method for photosensitive elastomer printing plate |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| EP (1) | EP0017927B1 (ja) |
| JP (1) | JPS55135838A (ja) |
| DE (1) | DE3069203D1 (ja) |
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|---|---|---|---|---|
| US4794816A (en) * | 1985-10-15 | 1989-01-03 | Tokai Rubber Industries, Ltd. | Dual-type damper device |
| JPS62187848A (ja) * | 1986-02-10 | 1987-08-17 | Fuotopori Ouka Kk | 感光性樹脂表面の粘着防止方法 |
| US4806506A (en) * | 1987-09-14 | 1989-02-21 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Process for detackifying photopolymer flexographic printing plates |
| DE3825062A1 (de) * | 1988-07-23 | 1990-01-25 | Freudenberg Carl Fa | Torsionsschwingungsdaempfer |
| DE3908059A1 (de) * | 1989-03-13 | 1990-09-27 | Basf Ag | Verfahren zur herstellung einer reliefdruckplatte mit klebfreier druckender oberflaeche |
| US5085976A (en) * | 1990-06-11 | 1992-02-04 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Process for dimensionally stabilizing photopolymer flexographic printing plates |
| US6150076A (en) | 1991-02-21 | 2000-11-21 | Toyo Boseki Kabushiki Kaisha | Process for treating periphery of unexposed photosensitive resin plate |
| GB9112295D0 (en) * | 1991-06-07 | 1991-07-24 | Dantex Graphics Ltd | Preparation of photopolymerised elastomeric printing plates |
| DE4300856A1 (de) * | 1993-01-15 | 1994-07-21 | Basf Lacke & Farben | Lichtempfindliches Aufzeichnungselement und Verfahren zur Herstellung einer Reliefdruckplatte |
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| EP2085820B1 (en) | 2008-01-30 | 2015-02-25 | E. I. du Pont de Nemours and Company | Apparatus and method for preparing relief printing form |
| US8241835B2 (en) | 2008-01-30 | 2012-08-14 | E I Du Pont De Nemours And Company | Device and method for preparing relief printing form |
| US8359975B2 (en) | 2008-05-23 | 2013-01-29 | E.I. Du Pont De Nemours And Company | Process and apparatus having an adjustable heater |
| US8129091B2 (en) | 2008-05-28 | 2012-03-06 | E.I. Du Pont De Nemours And Company | Method for preparing a composite printing form using a template |
| US8465904B2 (en) | 2008-10-31 | 2013-06-18 | E I Du Pont De Nemours And Company | Method for preparing a printing form from a photopolymerizable element |
| US8468940B2 (en) | 2009-06-19 | 2013-06-25 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Apparatus and process for exposing a printing form having a cylindrical support |
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| US8198013B2 (en) | 2010-05-05 | 2012-06-12 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Method for preparing a printing form |
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| US9134612B2 (en) | 2012-03-27 | 2015-09-15 | E I Du Pont De Nemours And Company | Printing form precursor having elastomeric cap layer and a method of preparing a printing form from the precursor |
| US9097974B2 (en) | 2012-08-23 | 2015-08-04 | E I Du Pont De Nemours And Company | Method for preparing a relief printing form |
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| CN114937680B (zh) * | 2022-04-26 | 2026-03-17 | 京东方晶芯科技有限公司 | 显示面板及制备方法、显示装置 |
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| NL6914613A (ja) * | 1968-10-25 | 1970-04-28 | ||
| US3942259A (en) * | 1972-10-02 | 1976-03-09 | Basf Aktiengesellschaft | Apparatus for drying photosensitive sheets for the production of printing plates |
| DE2456439A1 (de) * | 1974-11-29 | 1976-08-12 | Basf Ag | Mehrschichtenverbundplatten fuer die herstellung von flexodruckformen |
| US4045231A (en) * | 1975-03-15 | 1977-08-30 | Tokyo Ohka Kogyo Kabushiki Kaisha | Photosensitive resin composition for flexographic printing plates |
| FR2318441A1 (fr) * | 1975-07-17 | 1977-02-11 | Nippon Paint Co Ltd | Composition |
| JPS53143669A (en) * | 1977-05-23 | 1978-12-14 | Asahi Chem Ind Co Ltd | Elimination of surface tuckiness of radically-polymerizable resin cured product |
-
1979
- 1979-04-12 JP JP4468879A patent/JPS55135838A/ja active Granted
-
1980
- 1980-04-10 EP EP19800101945 patent/EP0017927B1/en not_active Expired
- 1980-04-10 DE DE8080101945T patent/DE3069203D1/de not_active Expired
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
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| DE3069203D1 (en) | 1984-10-25 |
| EP0017927B1 (en) | 1984-09-19 |
| EP0017927A2 (en) | 1980-10-29 |
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