JPH0244327B2 - Shinkushorisochi - Google Patents
ShinkushorisochiInfo
- Publication number
- JPH0244327B2 JPH0244327B2 JP6398583A JP6398583A JPH0244327B2 JP H0244327 B2 JPH0244327 B2 JP H0244327B2 JP 6398583 A JP6398583 A JP 6398583A JP 6398583 A JP6398583 A JP 6398583A JP H0244327 B2 JPH0244327 B2 JP H0244327B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- processing chamber
- electrodes
- vacuum processing
- chamber
- vacuum
- Prior art date
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- Expired - Lifetime
Links
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Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
- B29C—SHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
- B29C59/00—Surface shaping of articles, e.g. embossing; Apparatus therefor
- B29C59/14—Surface shaping of articles, e.g. embossing; Apparatus therefor by plasma treatment
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- Treatments Of Macromolecular Shaped Articles (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
この発明はプラスチツク成形品、例えばフツ化
オレフイン重合体のフイルムの表裏両面に対し、
同時にプラズマ処理を施す真空処理装置に関する
ものである。
オレフイン重合体のフイルムの表裏両面に対し、
同時にプラズマ処理を施す真空処理装置に関する
ものである。
上記のプラスチツク成形品とは、プラスチツク
フイルム、プラスチツクシートあるいはプラスチ
ツク被覆電線などである。
フイルム、プラスチツクシートあるいはプラスチ
ツク被覆電線などである。
一つの真空処理室において、被処理物の表裏両
面を処理する装置として特開昭57−195742号公報
により開示されたものがある。
面を処理する装置として特開昭57−195742号公報
により開示されたものがある。
この公知の処理装置は一つの真空処理室内に２
個の陰電極を配列し、このそれぞれの陰電極と周
囲に数本の陽電極を配列し、一方の陰電極と陽電
極により、被処理物の一方の面を処理したのち、
他方の陰電極により他方の面を処理するようにし
たものである。
個の陰電極を配列し、このそれぞれの陰電極と周
囲に数本の陽電極を配列し、一方の陰電極と陽電
極により、被処理物の一方の面を処理したのち、
他方の陰電極により他方の面を処理するようにし
たものである。
この公知の処理装置は、表裏を同時に、かつ均
一に処理することができず、また、真空処理室内
に２組の電極を配置してあるため、真空処理室が
大型となり、２個の高周波電源あるいは容量の大
きい高周波電源が必要である。また真空処理室が
大型であるため、容量の大きい真空ポンプが必要
であるなどの種々の問題があつた。
一に処理することができず、また、真空処理室内
に２組の電極を配置してあるため、真空処理室が
大型となり、２個の高周波電源あるいは容量の大
きい高周波電源が必要である。また真空処理室が
大型であるため、容量の大きい真空ポンプが必要
であるなどの種々の問題があつた。
この発明は上記のような従来の真空処理装置の
問題点を解消するためになされたもので、１個の
真空処理室内に１組の電極を設けるだけで被処理
物の表裏両面を同時に処理することができる真空
処理装置を提供することを目的とするものであ
る。
問題点を解消するためになされたもので、１個の
真空処理室内に１組の電極を設けるだけで被処理
物の表裏両面を同時に処理することができる真空
処理装置を提供することを目的とするものであ
る。
すなわち、この発明の特徴とするところは真空
処理室内に１組の陰電極と陽電極を間隔をあけて
配置し、この両電極の間に被処理物をその幅方向
を電極面に対して垂直方向に保持された状態で走
行させる手段を設けることにより、被処理物の表
裏両面に同時に均一な、処理を施せるようにした
もので、陰電極および陽電極が、それぞれ一個で
よいので真空処理室を小型にでき真空ポンプも容
量の小さいものでよい等の効果が得られる。
処理室内に１組の陰電極と陽電極を間隔をあけて
配置し、この両電極の間に被処理物をその幅方向
を電極面に対して垂直方向に保持された状態で走
行させる手段を設けることにより、被処理物の表
裏両面に同時に均一な、処理を施せるようにした
もので、陰電極および陽電極が、それぞれ一個で
よいので真空処理室を小型にでき真空ポンプも容
量の小さいものでよい等の効果が得られる。
以下この発明装置の構成の一例を添付図面にも
とづいて説明する。
とづいて説明する。
第１図、第２図の１は真空処理室で、この室１
には室内の気体を排気するための真空ポンプ（図
示せず）に連通する排気管２、室内に雰囲気ガス
を導入するためのバルブ３を有するガス供給管４
を接続する。
には室内の気体を排気するための真空ポンプ（図
示せず）に連通する排気管２、室内に雰囲気ガス
を導入するためのバルブ３を有するガス供給管４
を接続する。
真空処理室１内の両側には陰電極５と陽電極６
を対設する。陰電極５は真空処理室１に対して電
気的に絶縁しリード線７により外気のマツチング
ボツクス８および通過形電力計９を経て高周波電
源１０に接続する。マツチングボツクス８はキヤ
パシタンスとインダクタンスからなる回路器でイ
ンピーダンス整合を行なうものである。
を対設する。陰電極５は真空処理室１に対して電
気的に絶縁しリード線７により外気のマツチング
ボツクス８および通過形電力計９を経て高周波電
源１０に接続する。マツチングボツクス８はキヤ
パシタンスとインダクタンスからなる回路器でイ
ンピーダンス整合を行なうものである。
陰電極５には、シールド用電極１１を設け、こ
の電極１１および前記陽電極６を高周波電源１０
のアース１３に導通させる、１２は、シールド用
電極１１を陰電極５に対して絶縁すると共に、両
電極５，１１の真空処理室１への取付部を密封す
るためのシール材である。
の電極１１および前記陽電極６を高周波電源１０
のアース１３に導通させる、１２は、シールド用
電極１１を陰電極５に対して絶縁すると共に、両
電極５，１１の真空処理室１への取付部を密封す
るためのシール材である。
１４は真空処理室１の一端に設けた被処理物供
給室、１４は同処理室１の他端に設けた被処理物
巻取室である。供給室１４内にはプラスチツクフ
イルム等の被処理物１６の巻出軸や、その支持枠
などで構成した被処理物供給手段１７を設置す
る。
給室、１４は同処理室１の他端に設けた被処理物
巻取室である。供給室１４内にはプラスチツクフ
イルム等の被処理物１６の巻出軸や、その支持枠
などで構成した被処理物供給手段１７を設置す
る。
巻取室１５内には被処理物１６の巻取軸とその
支持枠および駆動装置等で構成した被処理物巻取
手段１８を設ける。
支持枠および駆動装置等で構成した被処理物巻取
手段１８を設ける。
１９および２０は処理室１の両端に設けた各一
対のシールロールで、それぞれ被処理物１６の搬
送用と引取用の役目をもつている。なお前記の供
給室１４と巻取室１５には、それぞれ図示省略し
てある真空ポンプに通じる排気管２１，２２を設
ける。
対のシールロールで、それぞれ被処理物１６の搬
送用と引取用の役目をもつている。なお前記の供
給室１４と巻取室１５には、それぞれ図示省略し
てある真空ポンプに通じる排気管２１，２２を設
ける。
上記の装置において真空処理室１内及び供給室
１４、巻取室１５内は各排気管２，２１，２２に
より真空排気して所定の真空状態とするが、室１
４、１５内は処理室１内より圧力が若干高くなつ
ているように排気し、処理室１内にはバルブ３を
開き供給管４からアルゴン、窒素などの所望のガ
スを導入する。
１４、巻取室１５内は各排気管２，２１，２２に
より真空排気して所定の真空状態とするが、室１
４、１５内は処理室１内より圧力が若干高くなつ
ているように排気し、処理室１内にはバルブ３を
開き供給管４からアルゴン、窒素などの所望のガ
スを導入する。
この状態で供給手段１７から供給した被処理物
１６をシールロール１９を経て電極５，６間を通
り、シールロール２０を経て巻取手段１８に巻取
らせるとともに両電極５，６間に高周波電圧を印
加しプラズマ放電を発生させ、被処理物１６に対
してプラズマ処理を施す。
１６をシールロール１９を経て電極５，６間を通
り、シールロール２０を経て巻取手段１８に巻取
らせるとともに両電極５，６間に高周波電圧を印
加しプラズマ放電を発生させ、被処理物１６に対
してプラズマ処理を施す。
この処理において、被処理物１６がその幅方向
を電極５，６の表面に対して垂直方向に保持され
た状態で走行し、処理させるので、この被処理物
１６の表裏が均一に処理される。
を電極５，６の表面に対して垂直方向に保持され
た状態で走行し、処理させるので、この被処理物
１６の表裏が均一に処理される。
以下に、この発明の処理装置の実施例を説明す
る。
る。
厚み0.2mm、巾150mm、長さ50ｍの切削ポリテト
ラフルオロエチレン（以下PTFEという）シート
を第１図、第２図に示すような装置に被処理物１
６としてセツトし、電極５，６間の距離を220mm、
処理室１内を真空ポンプにより１×10-5Torr以
下に排気したのち、バルブ３を開きアルゴンガス
を導入し雰囲気圧５×10-3Torrに保つた。
ラフルオロエチレン（以下PTFEという）シート
を第１図、第２図に示すような装置に被処理物１
６としてセツトし、電極５，６間の距離を220mm、
処理室１内を真空ポンプにより１×10-5Torr以
下に排気したのち、バルブ３を開きアルゴンガス
を導入し雰囲気圧５×10-3Torrに保つた。
つぎに電極５，６間に13.56MHzの高周波電圧
を印加し放電電力を4.0Watt／cm2にし、放電処理
量、すなわち、放電電力と処理時間の積が
80Watt.sec／cm2となるようにPTFEシートの走行
速度を決定してプラズマ放電処理を施した。
を印加し放電電力を4.0Watt／cm2にし、放電処理
量、すなわち、放電電力と処理時間の積が
80Watt.sec／cm2となるようにPTFEシートの走行
速度を決定してプラズマ放電処理を施した。
電源を切り処理室１内に空気を導入して常圧に
戻し、両面処理シートを得た。
戻し、両面処理シートを得た。
得られた処理シートの処理表面の外観は肉眼で
は未処理のものと全く変らなかつた。
は未処理のものと全く変らなかつた。
また、上記の両面処理シートの処理面に19mm巾
のポリエチレンフタレートを支持体とする感圧性
接着テープ（日東電気工業株式会社製品No.31）を
貼りつけ、300mm／minの速度で180゜のピーリン
グテストを行なつた結果剥離力は1210〜1330ｇで
あつた。
のポリエチレンフタレートを支持体とする感圧性
接着テープ（日東電気工業株式会社製品No.31）を
貼りつけ、300mm／minの速度で180゜のピーリン
グテストを行なつた結果剥離力は1210〜1330ｇで
あつた。
なお、同様のピーリングテストを処理前の
PTFEシートについて行なつたところ剥離力は51
〜788であつた。
PTFEシートについて行なつたところ剥離力は51
〜788であつた。
さらに前記の処理を施した両面処理シートのエ
ポキシ系接着剤による剥離接着力を測定した結果
0.75±0.12Kg／cm2であつた。
ポキシ系接着剤による剥離接着力を測定した結果
0.75±0.12Kg／cm2であつた。
これに対して、処理前のPTFEテープのエポキ
シ系接着剤による剥離接着力の測定結果は0.01〜
0.04Kg／cm2であつた。
シ系接着剤による剥離接着力の測定結果は0.01〜
0.04Kg／cm2であつた。
上記のように処理されたシートは可塑剤移行防
止、表面ぬれ性帯電防止、ブロツキング防止、印
刷特性の向上、耐摩耗性、耐候性、耐汚染性等の
有用な特性が付与される。
止、表面ぬれ性帯電防止、ブロツキング防止、印
刷特性の向上、耐摩耗性、耐候性、耐汚染性等の
有用な特性が付与される。
第１図は、この発明の処理装置の一実施例を示
す縦断面図、第２図は第１図のＡ−Ａ線の横断平
面図である。 １……真空処理室、５……陰電極、６……陽電
極、１６……被処理物、１７……被処理物供給手
段、１８……被処理物巻取手段。
す縦断面図、第２図は第１図のＡ−Ａ線の横断平
面図である。 １……真空処理室、５……陰電極、６……陽電
極、１６……被処理物、１７……被処理物供給手
段、１８……被処理物巻取手段。
Claims (1)
- １ 真空処理室内に１組の陰電極と陽電極を間隔
をあけて配設し、この両電極の間において被処理
物の幅方向を電極面に対して垂直方向に保持しな
がら被処理物を走行させる手段を設けることによ
り、この被処理物の表裏両面処理を同時に行なう
ように構成したことを特徴とする真空処理装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6398583A JPH0244327B2 (ja) | 1983-04-12 | 1983-04-12 | Shinkushorisochi |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6398583A JPH0244327B2 (ja) | 1983-04-12 | 1983-04-12 | Shinkushorisochi |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS59189132A JPS59189132A (ja) | 1984-10-26 |
| JPH0244327B2 true JPH0244327B2 (ja) | 1990-10-03 |
Family
ID=13245084
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6398583A Expired - Lifetime JPH0244327B2 (ja) | 1983-04-12 | 1983-04-12 | Shinkushorisochi |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0244327B2 (ja) |
-
1983
- 1983-04-12 JP JP6398583A patent/JPH0244327B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS59189132A (ja) | 1984-10-26 |
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