JPH0243784A - 波長可変レーザ装置 - Google Patents
波長可変レーザ装置Info
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- JPH0243784A JPH0243784A JP19496888A JP19496888A JPH0243784A JP H0243784 A JPH0243784 A JP H0243784A JP 19496888 A JP19496888 A JP 19496888A JP 19496888 A JP19496888 A JP 19496888A JP H0243784 A JPH0243784 A JP H0243784A
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Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/10—Controlling the intensity, frequency, phase, polarisation or direction of the emitted radiation, e.g. switching, gating, modulating or demodulating
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- H01S3/1062—Controlling the intensity, frequency, phase, polarisation or direction of the emitted radiation, e.g. switching, gating, modulating or demodulating by controlling devices placed within the cavity using a controlled passive interferometer, e.g. a Fabry-Perot etalon
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- H01S3/136—Stabilisation of laser output parameters, e.g. frequency or amplitude by controlling devices placed within the cavity
- H01S3/137—Stabilisation of laser output parameters, e.g. frequency or amplitude by controlling devices placed within the cavity for stabilising of frequency
-
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- H01S3/14—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range characterised by the material used as the active medium
- H01S3/22—Gases
- H01S3/223—Gases the active gas being polyatomic, i.e. containing two or more atoms
- H01S3/225—Gases the active gas being polyatomic, i.e. containing two or more atoms comprising an excimer or exciplex
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は光化学プロセス等に用いる波長可変レーザ装置
に関するものである。
に関するものである。
従来の技術
近年、光化学プロセス用の光源として紫外域で発振する
レーザ装置が注目されている。中でもエキシマレーザは
、レーザ媒質であるクリプトン、キセノンなどの希ガス
とふっ素、塩素などのハロゲンガスの組み合わせによっ
て、３５３ ｎｍから１９３ｎｍの間のいくつかの波長
で強力な発振線を得ることができる。
レーザ装置が注目されている。中でもエキシマレーザは
、レーザ媒質であるクリプトン、キセノンなどの希ガス
とふっ素、塩素などのハロゲンガスの組み合わせによっ
て、３５３ ｎｍから１９３ｎｍの間のいくつかの波長
で強力な発振線を得ることができる。
これらエキシマレーザの利得バンド幅は約１ｎｍと広い
ので、光共振器中にグレーティングやエタロンなどの波
長選択素子を挿入することによって、その利得バンド幅
内の希望する波長で発振させることができる。したがっ
て、発振波長を精密に検出して制御する機構をレーザ装
置に内蔵すれば、波長可変の紫外レーザ装置として、光
励起による材料の加工、処理あるいは化学反応の制御な
ど幅広い用途が開ける。また、原版のパターンを縮小投
影してレジスト上に露光する投影露光装置の光源として
用いた場合、投影レンズの最大性能が引き出せるように
波長を制御することによって、０．５μｍ以下のパター
ンの加工が可能になる。
ので、光共振器中にグレーティングやエタロンなどの波
長選択素子を挿入することによって、その利得バンド幅
内の希望する波長で発振させることができる。したがっ
て、発振波長を精密に検出して制御する機構をレーザ装
置に内蔵すれば、波長可変の紫外レーザ装置として、光
励起による材料の加工、処理あるいは化学反応の制御な
ど幅広い用途が開ける。また、原版のパターンを縮小投
影してレジスト上に露光する投影露光装置の光源として
用いた場合、投影レンズの最大性能が引き出せるように
波長を制御することによって、０．５μｍ以下のパター
ンの加工が可能になる。
第２図はこのような波長可変レーザの構成を示す図であ
る。第２図において、１はレーザ媒質として希ガスとハ
ロゲンガスを封入した放電管、２は全反射鏡、３は出力
鏡である。４は波長選択ユニットであり、共振器内に挿
入したエタロンの角度を調整することによってレーザ媒
質の利得パンド幅内の任意の波長を選択する。波長検出
装置５はビームスプリッタ６によって取り出されたサン
プル光の中心波長を測定し、レーザ光の発振波長が所望
の波長に一致するようにエタロンの角度を制御するため
の電気信号を波長選択ユニットに送出する。
る。第２図において、１はレーザ媒質として希ガスとハ
ロゲンガスを封入した放電管、２は全反射鏡、３は出力
鏡である。４は波長選択ユニットであり、共振器内に挿
入したエタロンの角度を調整することによってレーザ媒
質の利得パンド幅内の任意の波長を選択する。波長検出
装置５はビームスプリッタ６によって取り出されたサン
プル光の中心波長を測定し、レーザ光の発振波長が所望
の波長に一致するようにエタロンの角度を制御するため
の電気信号を波長選択ユニットに送出する。
発明が解決しようとする課題
ところがエキシマレーザは、高電圧で充電したコンデン
サの電荷を一気に放出して媒質ガスを放電励起するパル
スレーザであるため、装置内に内蔵した波長検出装置が
電磁ノイズによって誤動作し、発振波長が設定した波長
からずれてしまう結果、所望の反応が進まなかったシ、
投影露光装置の光源の場合には、投影倍率が変わるため
不良品が発生するという課題があった。本発明はこのよ
うな課題を解決するためになされたもので、電磁ノイズ
の影響を受けにくく、発振波長の変化を起こさない波長
可変レーザ装置を提供するものである。
サの電荷を一気に放出して媒質ガスを放電励起するパル
スレーザであるため、装置内に内蔵した波長検出装置が
電磁ノイズによって誤動作し、発振波長が設定した波長
からずれてしまう結果、所望の反応が進まなかったシ、
投影露光装置の光源の場合には、投影倍率が変わるため
不良品が発生するという課題があった。本発明はこのよ
うな課題を解決するためになされたもので、電磁ノイズ
の影響を受けにくく、発振波長の変化を起こさない波長
可変レーザ装置を提供するものである。
課題を解決するだめの手段
この課題を解決するため本発明のレーザ装置は、光共振
器と、単一または複数の波長選択素子と、前記波長選択
素子の選択波長を制御する手段、およびレーザ光の一部
を光ファイバによって取り入れ、レーザ光の波長を測定
する波長検出手段を具備したものである。
器と、単一または複数の波長選択素子と、前記波長選択
素子の選択波長を制御する手段、およびレーザ光の一部
を光ファイバによって取り入れ、レーザ光の波長を測定
する波長検出手段を具備したものである。
作 用
この構成によシ、波長検出手段をレーザ装置内の電磁ノ
イズの影響を受けにくい部分に置くことができ、発振波
長を安定に制御できることになる。
イズの影響を受けにくい部分に置くことができ、発振波
長を安定に制御できることになる。
実施例
本発明の実施例のレーザ装置は希ガスとハロゲンガヌの
混合気体をレーザ媒質とする放電管１と、全反射鏡２お
よび出力鏡３からなる光共振器によって、紫外域でレー
ザ発振する。光共振器の光軸上にはエタロン４′ とア
クチュエータ４“からなる波長検出装置４が置かれてい
る。エタロン４′は、アクチュエータ４“によって光軸
に対する角度を調節することができる。レーザ光はビー
ムスプリッタ６によって取り出され、光ファイバ７を通
って波長検出器＠６に入射する。波長検出装置５は放電
管１から発生する電磁ノイズの影響を避けるため、レー
ザ装置架台８の裏面に設置されている。波長検出装置６
が、レーザ光の発振波長が所定の道と一致するようにア
クチュエータ４“を介してエタロン４′ の角度を制御
する点は、第２図の従来例と同様である。
混合気体をレーザ媒質とする放電管１と、全反射鏡２お
よび出力鏡３からなる光共振器によって、紫外域でレー
ザ発振する。光共振器の光軸上にはエタロン４′ とア
クチュエータ４“からなる波長検出装置４が置かれてい
る。エタロン４′は、アクチュエータ４“によって光軸
に対する角度を調節することができる。レーザ光はビー
ムスプリッタ６によって取り出され、光ファイバ７を通
って波長検出器＠６に入射する。波長検出装置５は放電
管１から発生する電磁ノイズの影響を避けるため、レー
ザ装置架台８の裏面に設置されている。波長検出装置６
が、レーザ光の発振波長が所定の道と一致するようにア
クチュエータ４“を介してエタロン４′ の角度を制御
する点は、第２図の従来例と同様である。
従来の例においては、ビームスプリッタ６によって取り
出したレーザ光を直接波長検出装置５へ導いていたため
、波長検出装置５を設置する場所は放電管１近傍に限ら
れ、放電時に発生する電磁ノイズの影響が避けられなか
った。その結果、その検出波長に狂いを生じレーザの発
振波長が変動することとなった。本発明による実施例に
おいては、ビームスプリッタ６から波長検出装置６まで
の導光に光ファイバ７を用いたので、波長検出器を電磁
ノイズの影響を受けにくい場所に設置できる。
出したレーザ光を直接波長検出装置５へ導いていたため
、波長検出装置５を設置する場所は放電管１近傍に限ら
れ、放電時に発生する電磁ノイズの影響が避けられなか
った。その結果、その検出波長に狂いを生じレーザの発
振波長が変動することとなった。本発明による実施例に
おいては、ビームスプリッタ６から波長検出装置６まで
の導光に光ファイバ７を用いたので、波長検出器を電磁
ノイズの影響を受けにくい場所に設置できる。
本実施例のレーザ装置においては、波長検出装置５をレ
ーザ装置の下部に置いた場合、最も電磁ノイズの影響を
受けにくかったが、放電管１の購のや、充放電回路の構
成を変えるとレーザ装置内各部の電磁ノイズの大きさも
変化した。しかし、レーザ装置内で最も電磁ノイズが小
さくなる場所て波長検出器を設置することによって、誤
動作は皆無になった。
ーザ装置の下部に置いた場合、最も電磁ノイズの影響を
受けにくかったが、放電管１の購のや、充放電回路の構
成を変えるとレーザ装置内各部の電磁ノイズの大きさも
変化した。しかし、レーザ装置内で最も電磁ノイズが小
さくなる場所て波長検出器を設置することによって、誤
動作は皆無になった。
なお、レーザ光の取り出し方はこれ以外であっても波長
検出器までの導光に光ファイバを用いたものであれば本
発明の目的を達することができる。
検出器までの導光に光ファイバを用いたものであれば本
発明の目的を達することができる。
以上のような構成を有するので本発明実施例の波長可変
レーザ装置は、波長検出装置が電磁ノイズの影響を受け
ず、設定した波長を安定に保持することができる。
レーザ装置は、波長検出装置が電磁ノイズの影響を受け
ず、設定した波長を安定に保持することができる。
発明の詳細
な説明したように本発明によるレーザ装置は、光ファイ
バによってレーザ光の一部を波長検出手段に導きレーザ
の発振波長を制御することによって、設定した発振波長
を安定に保持できるというすぐれた特徴を有する波長可
変レーザ装置を提供することができるものである。
バによってレーザ光の一部を波長検出手段に導きレーザ
の発振波長を制御することによって、設定した発振波長
を安定に保持できるというすぐれた特徴を有する波長可
変レーザ装置を提供することができるものである。
第１図は本発明の一実施例である波長可変レーザ装置の
購成図、第２図は従来の波長可変レーザの一構成を示す
図である。 １・・・・・・放電管、２・・・・・・全反射鏡、３・
・・・・・出力鏡、４・・・・・・ｉｎ選択ユニット、
４′ ・・・・・・エタロン、４“・・・・・・アクチ
ュエータ、６・・・・・・波長検出装置、６・・・・・
・ビームスプリッタ、７・・・・・・光ファイバ、８・
・・・・・架台。 代理人の氏名 弁理士 粟 野 重 孝 ほか１名第２
図 １−一戚ｙｔＬそ ４′−−一工４℃ソ 牛′−−−アクナユ、Ｔ−１ ５−・−ジ魚長潅を夫Ｘ ７−−−七フフイペ
購成図、第２図は従来の波長可変レーザの一構成を示す
図である。 １・・・・・・放電管、２・・・・・・全反射鏡、３・
・・・・・出力鏡、４・・・・・・ｉｎ選択ユニット、
４′ ・・・・・・エタロン、４“・・・・・・アクチ
ュエータ、６・・・・・・波長検出装置、６・・・・・
・ビームスプリッタ、７・・・・・・光ファイバ、８・
・・・・・架台。 代理人の氏名 弁理士 粟 野 重 孝 ほか１名第２
図 １−一戚ｙｔＬそ ４′−−一工４℃ソ 牛′−−−アクナユ、Ｔ−１ ５−・−ジ魚長潅を夫Ｘ ７−−−七フフイペ
Claims (1)
- 光共振器と、単一または複数の波長選択素子と、前記波
長選択素子の選択波長を制御する手段と、レーザ光の一
部を光ファイバによって取り入れ、レーザ光の波長を測
定する波長検出手段とを具備したことを特徴とする波長
可変レーザ装置。
Priority Applications (5)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19496888A JPH0243784A (ja) | 1988-08-04 | 1988-08-04 | 波長可変レーザ装置 |
| CA000578540A CA1302548C (en) | 1987-09-28 | 1988-09-27 | Laser apparatus |
| EP88115902A EP0310000B1 (en) | 1987-09-28 | 1988-09-27 | Laser apparatus |
| DE3889831T DE3889831T2 (de) | 1987-09-28 | 1988-09-27 | Laser-Apparat. |
| US07/499,206 US4991178A (en) | 1987-09-28 | 1990-03-19 | Laser apparatus |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19496888A JPH0243784A (ja) | 1988-08-04 | 1988-08-04 | 波長可変レーザ装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0243784A true JPH0243784A (ja) | 1990-02-14 |
Family
ID=16333337
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP19496888A Pending JPH0243784A (ja) | 1987-09-28 | 1988-08-04 | 波長可変レーザ装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0243784A (ja) |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6457776A (en) * | 1987-08-28 | 1989-03-06 | Komatsu Mfg Co Ltd | Wavelength controller for laser |
| JPH01160072A (ja) * | 1987-12-17 | 1989-06-22 | Komatsu Ltd | エキシマレーザの波長制御装置 |
-
1988
- 1988-08-04 JP JP19496888A patent/JPH0243784A/ja active Pending
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6457776A (en) * | 1987-08-28 | 1989-03-06 | Komatsu Mfg Co Ltd | Wavelength controller for laser |
| JPH01160072A (ja) * | 1987-12-17 | 1989-06-22 | Komatsu Ltd | エキシマレーザの波長制御装置 |
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