JPH0242442A - ペリクル枠構造体の製造方法 - Google Patents

ペリクル枠構造体の製造方法

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JPH0242442A
JPH0242442A JP63192103A JP19210388A JPH0242442A JP H0242442 A JPH0242442 A JP H0242442A JP 63192103 A JP63192103 A JP 63192103A JP 19210388 A JP19210388 A JP 19210388A JP H0242442 A JPH0242442 A JP H0242442A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
film body
pellicle
thin film
pellicle frame
continuous film
Prior art date
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Pending
Application number
JP63192103A
Other languages
English (en)
Inventor
Hisao Asai
尚雄 浅井
Takeki Matsui
雄毅 松居
Masataka Wada
正孝 和田
Hideki Araki
荒木 秀輝
Kenji Aoki
青木 堅治
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Asahi Kasei Electronics Co Ltd
Original Assignee
Asahi Kasei Electronics Co Ltd
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Publication date
Application filed by Asahi Kasei Electronics Co Ltd filed Critical Asahi Kasei Electronics Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野コ 本発明は、大規模集積回路製造のリソグラフィー工程に
おいて使用されるフォトマスクやレティクルなどの透明
載板(以下マスクという)の異物付着を防止することを
目的として使用しているペリクル枠構造体の製造方法に
関する。
[従来の技術] 半導体製造においてウェハー上に微細な回路パターンを
形成する場合、ステッパなどの半導体製造装置を使用し
ている。ここで、使用するマスクの異物付着を防止する
ためにUSP4131363号等で知られているペリク
ルと呼ばれる薄膜構造体が使用されている(第3図参照
)。ペリクルを装着することによって、異物付着よって
低迷していたフォトリソグラフィー工程におけるステッ
パ等の半導体製造装置の稼動率を高め、歩留まり上昇に
より製造コストを低減させることができる。
一方、半導一体パターンの少量多品種、VLSI化が進
むにつれて該ペリクルの重要性が大きくクローズアップ
されてきている。そのため、ペリクルの使用枚数は今後
急激に伸びることが予想され、ペリクルを低価格で多量
に供給することが要望されている現状にある。
ペリクルおよびペリクルの製造方法は、特開昭58−1
96501号公報により公知である。
現在ペリクルの製造工程は大きく分けて二つに分けられ
る。第1工程は、ペリクル用薄膜の製造、第2工程はペ
リクル用薄膜を接着枠ずけする加工組み立て工程から成
っている。この2つの工程は、すべてペリクル1個に対
して高い平滑性を有する特殊な基板(以下基板という)
1枚を使用し、第1工程ではスピンコーターを使用し、
基板上にペリクル用薄膜を形成し基板上に作製されたペ
リクル用薄膜を第2工程にて基板から剥がした後、ペリ
クル枠を接着、あるいはペリクル枠を接着した後に基板
より剥がし、加工組み立てし、ペリクル枠構造体が製造
される。そして、これらの工程はバッチワイスで行われ
る。
[発明が解決しようとする課題] 前述の始<、ペリクル枠構造体は、6体ごとについて基
板1枚を一貫して使用して製造されるので、第1工程、
第2工程間ではスペースの問題や微小粒子の付着から保
護するための取扱などのために多量の保存は困難である
。また、保管管理中に前記の異物付着を実際上完全に防
止することは出来ず、このため第2工程での歩留まりの
低下は避けられない。したがって従来の方法は著しく生
産効率の低いものであった。
こうした実情に鑑み、本発明は高い生産性を持ち、かつ
保守が容易な形態で、ペリクルを製造することができる
新規な製法を提供することを目的とするものである。
[課題を解決するための手段] 本発明者らは、上記課題をペリクル枠構造体の組み立て
製造方法を根本的に変え、枠状スペンサーを利用するこ
とよって解決し得ることを見出だし、本発明を完成する
に至った。
すなわち、本発明は、透明な連続薄膜体から、ペリクル
枠構造体を製造する方法において、前記連続薄膜体の光
学特性、表面付着物を検出するに先立ち、検査・加工を
行う部分の片面を、粘着剤を有した枠状スペーサーで複
数に区画し、該薄膜体面を互いに接触させることなく維
持し、複数のペリクル枠構造体を製造することを特徴と
するペリクル枠構造体の製造方法である。
本発明は、ペリクル枠を接着するのに選択的に取っても
複数採取できる面積を有したペリクル用薄膜の連続体に
ペリクル枠より若干大きい連続枠体状の片面に粘着物を
有し、厚みを持ったテープをペリクル用薄膜に張り付け
、これをスペーサーとして挾み込むことによって該連続
体を相互に接触させることなく巻取り、保存を行うこと
もできるものであるが、これによって多量のペリクル用
薄膜を少いスペースで安全に保存することができるとと
もに、異物付着から保護されているので、その際の取扱
いは従来にくらべて格段に改善される。さらに、薄膜が
相互に接触していないので、接触による薄膜の損傷を完
全に防止でき、こうしたことから、本発明は、歩留まり
が著しく向上し、生産性を大巾に改善することができる
そして、次にこれを巻きだし、連続的に膜厚み、異物検
査を行い定められた形状のテープを基準としてペリクル
枠を良品部に接着し、不用部を切断することにより一貫
ラインでのペリクル枠構造体を製造することができる。
本発明に使用する透明な連続薄膜体は、ニトロセルロー
ス溶液をニトロセルロースに対して離型性を有するシー
ト状連続基体に塗布し、乾燥後該連続基体から剥離する
ことによって得ることができる。
本発明は、この透明連続薄膜体の製造工程と結合させて
実施するのが有利である。そこで、この前工程について
述べると、上記連続基体は、ニトロセルロースに対して
離型性を有するシート状連続基体であればいずれのもの
でもよい。
その材質としては、例えば、ニトロセルロースに対して
離型性を有するポリマー、該ポリマーをコーティングし
たもの等があげられる。
このようなポリマーとしては、例えばポリテトラフロロ
エチレン等の弗素系ポリマー シリコーン樹脂、ポリプ
ロピレンなどのポリオレフィン系ポリマー等があげられ
る。また、前記の離型性ポリマーをコーティングするシ
ート状の連続基体としては、金属、樹脂、ゴム製の連続
シート状のものがあり特に制限はないが、金属製のもの
が好ましい。この金属基体としてはいずれでもよいが、
特に好ましいものはステンレス鋼、銅、アルミニウム、
タンタル、等である。
また、前記の離型性基体には、ニトロセルロースを溶解
しない流体を利用する態様も含む。
本発明に使用するニトロセルロース溶液のための溶媒と
しては、乳酸エチル、酢酸−n−ブチル等があげられる
。この溶液の濃度は、溶液中の固形分で5〜35%、好
ましくは10〜25%である。
ニトロセルロース溶液をシート状連続基体に塗布する方
法は、ナイフコーター ブレードコーター、キスコータ
ー ロールコータ−あるいはキャストコーターがある。
また、ニトロセルロース溶液を塗布した後、溶媒を除去
するには、塗布面を40〜130℃で加熱することによ
って行うが、その加熱手段としては、ホットプレート、
赤外線ランプ、遠赤外線ヒーターなどを使用することが
できるが、クリーントンネル中で加熱するのが好ましい
以上の前工程で得られたベクル用薄膜を用いて、本発明
によりペリクル枠構造体が製造される。
[実施例] 次に、本発明の実施例を図面に基づいて説明する。
第1および2図は、本発明の製造工程の1例を示す概略
図である。
第1図において1はペリクル用薄膜の連続体でペリクル
枠を接着するのに選択的にとっても複数採取できる面積
を有している。これを連続的に例えば循環ラインを持っ
た超純水中2に導入し、連続的にシート状連続基体より
剥し、40〜130℃に設定された例えば3ブロツク(
1ブロツク2m)からなるクリーントンネル3中を移動
させることによって乾燥させる。この加熱手段としては
前記の前工程で述べたものと同様な手段を採用すること
ができる。乾燥後、この連続薄膜体の、下部より最終的
に製造したいペリクル枠構造体の形状より若干大きくく
り抜いたテープ状スペーサー4を間に挾みこむことによ
って巻き取りを行う。巻取速度は膜厚により異なるが、
0.3〜2m/分が適当である。
この巻き取りにより保存を容易にし、かつ必要な形状の
ペリクルを製造するときに必要なものを任意に取り出し
次工程の作業が行える。又、前記スペーサーの材質とし
ては両面フオームテープ(例えば、住友3M社製両面フ
オームテープ4008、Y−4056,4265,44
08、Y−4921など)等の可撓側の材料であれば特
に制限はない。又、スペーサーに使用する粘着剤として
は、例えばアクリル系粘着剤が好ましい。次工程を第2
図により説明すると、次にこの巻物を巻だし連続的に光
学的に非接触で膜厚みを測定機5により測定し、反射光
、透過光による異物検査機6により検査を行い、不良部
にはマーキングをし、良、不良の区別を付ける。これに
ペリクル枠7の接着を行う。この際、定められた形状の
スペーサーを利用し、又マーキングの有無を画像認識等
を利用し接着場所を判断し、接着を行う。これを必要な
大きさに切断することによってペリクル枠構造体となる
。これにポリマーコート(特開昭6O−237550)
あるいは無機物の蒸着(特開昭6l−106243)に
より反射防止層を両面あるいは片面に設けることによっ
て所定の波長対してより一層光線透過率の高いペリクル
枠構造体とすることができる。
[発明の効果] 以上詳細に説明したように、本発明は、連続した枠状ス
ペーサーを用いることにより、従来のペリクル枠構造体
の製造方法と比較して大巾に一貫した自動化プロセスを
組むことができ、また保存時の取扱も容易であり、歩留
まりも著しく改碧することができ、生産性が向上し、安
価なペリクルを製造することが可能である。
その上、ペリクル用薄膜の多品種の製造という要請に対
しても枠状スペーサーの利用により容品に対応すること
ができる。さらに、検査工程においても、基板を使用す
る従来法では不可能な反射、透過光両手段を用いての検
査が薄膜段階で出来るので、製造、品質の両面において
より安定した生産が可能となる。また、粘着物を有した
スペーサーにより、ペリクル枠の接着のための自動位置
決めを安定的にかつ連続的に行い、不良を選択的に自動
的に排除することも可能である。
【図面の簡単な説明】
第1及び2図は、本発明の一例を示す製造工程の概略図
、第3図は、ペリクル枠構造体の説明図 1・・・ペリクル用薄膜連続体、 2・・・テープ(スペーサー)、 5・・・膜厚み測定機、6・・・異物検査機、7・・・
ペリクル枠 10・・・透明薄膜体特許出願人   旭
化成電子株式会社 代理人 弁理士 小 松 秀 岳 代理人 弁理士 旭      宏 代理人 弁理士 加 々 美 紀 雄

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 透明な連続薄膜体から、ペリクル枠構造体を製造する方
    法において、前記連続薄膜体の光学特性、表面付着異物
    を検出するに先立ち、検査・加工を行う部分の片面を、
    粘着剤を有した枠状スペーサーで複数に区画し、該薄膜
    体面を互いに接触させることなく維持し、ペリクル枠構
    造体を製造することを特徴とするペリクル枠構造体の製
    造方法。
JP63192103A 1988-08-02 1988-08-02 ペリクル枠構造体の製造方法 Pending JPH0242442A (ja)

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JP63192103A JPH0242442A (ja) 1988-08-02 1988-08-02 ペリクル枠構造体の製造方法

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JPH0242442A true JPH0242442A (ja) 1990-02-13

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2018049043A (ja) * 2016-09-20 2018-03-29 日本軽金属株式会社 ペリクル用支持枠及びペリクル並びにその製造方法

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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JP2018049043A (ja) * 2016-09-20 2018-03-29 日本軽金属株式会社 ペリクル用支持枠及びペリクル並びにその製造方法

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