JPH024236B2 - - Google Patents
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Description
本発明は半合成アミノ配糖体抗生物質として有
用な新規化合物である5,2′,3′,4′,4″,6″−
ヘキサデオキシカナマイシンおよびその1−N−
(ω−アミノ−α−ヒドロキシアルカノイル)−
5,2′,3′,4′,4″,6″−ヘキサデオキシカナマ
イシンに関する。 本発明者らは、アミノ配糖体抗生物質の耐生機
構の研究にもづいて、カナマイシン群抗生物質の
耐性菌に有効な数多くのデオキシ誘導体を合成し
た。なかでも、ジベカシン(3′,4′−ジデオキシ
カナマインB:特公昭50−7595号、特許第794612
号、米国特許第3753973号)は各種の耐性菌に有
効な化学療法剤として、細菌感染症の治療に広く
用いられている。また、ハベカシン(1−N−
〔(S)−4−アミノ−2−ヒドロキシブチリル〕
ジベカシン:特公昭52−33629号、米国特許第
4107424号)はジベカシン耐性菌にも有効な化学
療法剤として臨床研究が進められている。今回、
本発明者らは、2″位にたゞ一個の水酸基を残した
5,2′,3′,4′,6″−ヘキサデオキシカナマイシ
ン(以下ヘキサデオキシカナマイシンと称す)を
合成し、これがカナマイシンに匹敵する抗菌力を
有する新規化合物であること、また、これから更
に合成した1−N−〔(S)−4−アミノ−2−ヒ
ドロキシブチリル〕−5,2′,3′,4′,4″,6″−
ヘ
キサデオキシカナマイシン(以下ヘキサデオキシ
カナマイシンと称す)はカナマイシン耐性菌を含
めてアミカシンに匹敵する抗菌力を有する新規化
合物であることをそれぞれ確認して本発明を完成
した。 本発明の要旨とするところは、新規化合物とし
て、次の一般式() 〔式中Aは水素原子または4−アミノ−2−ヒ
ドロキシブチリル基を示す〕で表わされる5,
2′,3′,4′,4″,6″ヘキサデオキシカナマイシン
またはその1−N−アシル誘導体、およびそれら
の酸付加塩にある。 本発明における一般式()の新規化合物の例
には、次の化合物が含まれ、それらの理化学的生
物学的性状は次のとおりである。 (1) ヘキサデオキシカナマイシン〔一般式()
においてAが水素原子の場合〕は、−炭酸塩−
水和物の無色粉末として得られ、分解点191−
196℃、〔α〕23 D+103゜(c1,水)を示した。元素
分析値はC48.95%,H8.41%,N11.71%を示
し、C18H36N4O5・H2CO3・H2Oの理論値
(C48.70%,H8.60%,N11.96%)に合致し、
マススペクトルでm/z388(M+)を示した。シ
リカゲルの薄層クロマトグラフイーで、ブタノ
ール・エタノール・クロロホルム・17%アンモ
ニア水(4:5:2:5容)およびクロロホル
ム・メタノール・濃アンモニア水・水(1:
4:2:1容)の混液を展開溶媒として、それ
ぞれRf0.47および0.78に単一スポツト(ニンヒ
ドリン発色)を示した。抗菌スペクトルは第1
表に示した。 (2) ヘキサデオキシアミカシン〔一般式()に
おいてAが(S)−4−アミノ−2−ヒドロキ
シブチリル基−COCH(OH)CH2CH2NH2の
場合〕は、一炭酸塩二水和物の無色粉末として
得られ、分解点157−162℃、〔α25 D+61゜(c1,
水)を示した。元素分析値はC47.16%,H8.13
%,N11.61%を示し、C22H43N5O7・H2CO3・
2H2Oの理論値(C47.01%,H8.40%,N11.92
%)に合致し、マススペクトルでM+を観測で
きなかつたが、NMRスペクトルで、その構造
が支持された。シリカゲルの薄層クロマトグラ
フイーで、ブタノール・エタノール・クロロホ
ルム・17%アンモニア水(4:5:2:5容)
およびクロロホルム・メタノール・濃アンモニ
ア水・水(1:4:2:1容)の混液を展開溶
媒として、それぞれRf0.31および0.46に単一ス
ポツトを示した。抗菌スペクトルは第1表に示
した。
用な新規化合物である5,2′,3′,4′,4″,6″−
ヘキサデオキシカナマイシンおよびその1−N−
(ω−アミノ−α−ヒドロキシアルカノイル)−
5,2′,3′,4′,4″,6″−ヘキサデオキシカナマ
イシンに関する。 本発明者らは、アミノ配糖体抗生物質の耐生機
構の研究にもづいて、カナマイシン群抗生物質の
耐性菌に有効な数多くのデオキシ誘導体を合成し
た。なかでも、ジベカシン(3′,4′−ジデオキシ
カナマインB:特公昭50−7595号、特許第794612
号、米国特許第3753973号)は各種の耐性菌に有
効な化学療法剤として、細菌感染症の治療に広く
用いられている。また、ハベカシン(1−N−
〔(S)−4−アミノ−2−ヒドロキシブチリル〕
ジベカシン:特公昭52−33629号、米国特許第
4107424号)はジベカシン耐性菌にも有効な化学
療法剤として臨床研究が進められている。今回、
本発明者らは、2″位にたゞ一個の水酸基を残した
5,2′,3′,4′,6″−ヘキサデオキシカナマイシ
ン(以下ヘキサデオキシカナマイシンと称す)を
合成し、これがカナマイシンに匹敵する抗菌力を
有する新規化合物であること、また、これから更
に合成した1−N−〔(S)−4−アミノ−2−ヒ
ドロキシブチリル〕−5,2′,3′,4′,4″,6″−
ヘ
キサデオキシカナマイシン(以下ヘキサデオキシ
カナマイシンと称す)はカナマイシン耐性菌を含
めてアミカシンに匹敵する抗菌力を有する新規化
合物であることをそれぞれ確認して本発明を完成
した。 本発明の要旨とするところは、新規化合物とし
て、次の一般式() 〔式中Aは水素原子または4−アミノ−2−ヒ
ドロキシブチリル基を示す〕で表わされる5,
2′,3′,4′,4″,6″ヘキサデオキシカナマイシン
またはその1−N−アシル誘導体、およびそれら
の酸付加塩にある。 本発明における一般式()の新規化合物の例
には、次の化合物が含まれ、それらの理化学的生
物学的性状は次のとおりである。 (1) ヘキサデオキシカナマイシン〔一般式()
においてAが水素原子の場合〕は、−炭酸塩−
水和物の無色粉末として得られ、分解点191−
196℃、〔α〕23 D+103゜(c1,水)を示した。元素
分析値はC48.95%,H8.41%,N11.71%を示
し、C18H36N4O5・H2CO3・H2Oの理論値
(C48.70%,H8.60%,N11.96%)に合致し、
マススペクトルでm/z388(M+)を示した。シ
リカゲルの薄層クロマトグラフイーで、ブタノ
ール・エタノール・クロロホルム・17%アンモ
ニア水(4:5:2:5容)およびクロロホル
ム・メタノール・濃アンモニア水・水(1:
4:2:1容)の混液を展開溶媒として、それ
ぞれRf0.47および0.78に単一スポツト(ニンヒ
ドリン発色)を示した。抗菌スペクトルは第1
表に示した。 (2) ヘキサデオキシアミカシン〔一般式()に
おいてAが(S)−4−アミノ−2−ヒドロキ
シブチリル基−COCH(OH)CH2CH2NH2の
場合〕は、一炭酸塩二水和物の無色粉末として
得られ、分解点157−162℃、〔α25 D+61゜(c1,
水)を示した。元素分析値はC47.16%,H8.13
%,N11.61%を示し、C22H43N5O7・H2CO3・
2H2Oの理論値(C47.01%,H8.40%,N11.92
%)に合致し、マススペクトルでM+を観測で
きなかつたが、NMRスペクトルで、その構造
が支持された。シリカゲルの薄層クロマトグラ
フイーで、ブタノール・エタノール・クロロホ
ルム・17%アンモニア水(4:5:2:5容)
およびクロロホルム・メタノール・濃アンモニ
ア水・水(1:4:2:1容)の混液を展開溶
媒として、それぞれRf0.31および0.46に単一ス
ポツトを示した。抗菌スペクトルは第1表に示
した。
【表】
【表】
本発明で得られた新規化合物は通常遊離塩基ま
たは水和物または炭酸塩として得られるが、通常
の方法により薬学的に許容できる酸を加えて任意
の無毒性の酸付加塩とすることができる。付加す
べき酸としては塩酸、臭化水素酸、硫酸、燐酸、
硝酸などの無機酸、酢酸、リンゴ酸、クエン酸、
アスコルビン酸、メタンスルホン酸などの有機酸
が用いられる。 本発明における新規化合物は、本発明者らによ
つて合成された3′,4′−ジデオキシカナマイン
(特願昭54−11402号;特開昭55−105699号明細書
参照)を出発原料として合成することができる。 一般式() 〔式中、Rは水素原子を示す〕で表わされる
3′,4′−ジデオキシカナマイシンの4個のアミノ
基を、常法により、アミノ保護基で保護した化合
物〔一般式()において、Rがウレタン型のア
ミノ保護基(BOC=O)になつた場合、但しB
はアルキル、シクロアルキル又はアラルキル基を
示す〕とし、続いて無水溶液中水素化ナトリウム
などの塩基で公知方法で処理して2″,3″位に環状
カルバメートを形成させ、次の一般式() 〔式中、Rは前述と同じアミノ保護基であり、
R1,R2は水酸基である〕で表わされる化合物と
し、次にこれを塩化トリフロロメタンスルホニル
と反応させて、2′,4″および6″位の水酸基(R′)
をスルホン酸エステル化し、続いてスルホン酸エ
ステル基をチオフエノール酸ナトリウムでチオフ
エニル化(−SC6H5基による置換)し、さらに加
水分解して、デオキシ化合物〔一般式()にお
いて、Rは前述と同じアミノ保護基であり、R1
は水素原子になり、R2は水酸基である場合〕を
得、次に二硫化炭素、水酸化ナトリウムおよびヨ
ウ化メチル反応によつて5位の水酸基をS−メチ
ルジチオカルボニル化し、すなわち5位の基を基
−O−C(=S)−S−CH3に転化し、続いて加水
素分解して5−デオキシ化合物〔一般式()に
おいて、Rは前述と同じアミノ保護基であり、
R1,R2は水素原子になつた場合〕とし、終りに
ウレタン型及びカルバメート型の2種のアミノ保
護基を脱離して一般式(a) で表わされるヘキサデオキシカナマイシンを製造
することができる。 本発明におけるヘキサデオキシアミカシン〔一
般式()においてAが(S)−4−アミノ−2
−ヒドロキシブチリル基(H2NCH2CH2CH
(OH)CO)である場合〕を製造するに当つて
は、既知の種々の1−N−アシル化方法によつ
て、ヘキサデオキシカナマイシン〔一般式()
においてAが水素原子の場合〕の1位のアミノ基
を(S)−4−アミノ−2−ヒドロキシ酪酸又は
その反応性誘導体又はそのN−保護体でアシル化
することによつて達成されるが、本発明者らによ
る3,6′および3″のアミノ基の選択的保護法(特
願昭53−138402号、特願昭54−73064号、特願昭
56−58389号)によつてヘキサデオキシアミカシ
ンの1位以外のアミノ基を保護された保護誘導体
を作り、これから1−N−アシル誘導体を製造す
る方法が最も有用な方法である。 次に実施例によつて、本発明の化合物の製造法
を説明する。 実施例 1 ヘキサデオキシカナマイシンの合成: (イ) 3′,4′−ジデオキシカナマイシン1.20g
(2.65ミリモル)に、水20ml、メタノール20ml、
トリエチルアミン17ml(12.2ミリモル)を加え
て溶解し、ベンジルS−4,6−ジメチルピリ
ミド−2−イルチオカルボネート5.03g(18.4
ミリモル)を20mlのメタノールにとかした溶解
を加え、室温で24時間撹拌してアミノ保護反応
を行つた。反応液に17%アンモニア水0.5mlを
加え、濃縮乾固した。残渣を水30mlで2回、n
−ヘキサン30mlで1回洗浄し、1,3,6′,
3″−テトラキス−N−ベンジルカルボニル−
3′,4′−ジデオキシカナマインの無色粉末2.30
gを得た(収率79%)。 (ロ) 前項(イ)で得られた1,3,6′,3″−テトラキ
ス−N−ベンジルカルボニル−3′,4′−ジデオ
キシカナマイシン2.20g(2.01ミリモル)を無
水N,N−ジメチルホルムアミド20mlにとか
し、アルゴン気流下60%(油中)水素化ナトリ
ウム804mg(20.1ミリモル)を加え、室温で3
時間撹拌した(2″,3″−環状カルバメート体の
生成)。反応液に酢酸1.2ml(20.1ミリモル)を
加え、濃縮乾固した。残渣を200mlの水で洗浄
し、1,3,6′−トリス−N−ベンジルオキシ
カルボニル−3′,4′−ジデオキシカナマイシン
−2″,3″−カルバメートの無色粉末1.10gを得
た(収率62%)。分解点221−226℃、〔α〕23 D+
67゜(c1,N,N−ジメチルホルムアミド)。元
素分析値:C58.84%,H5.63%,N6.31%。
C43H52N4O16の理論値: C58.63%,H5.95%,N6.36%。 (ハ) 前項(ロ)で得られた1,3,6′−トリス−N−
ベンジルオキシカルボニル−3′,4′−ジデオキ
シカナマイシン−2″,3″−カルバメート1.05g
を無水ピリジン80mlにとかし、4−ジメチルア
ミノピリジン436mg(3.57ミリモル)を加えた
溶液に、水冷下塩化トリフロロメタンスルホニ
ル1.14ml(10.2ミリモル)を滴加し、続いて室
温で2時間撹拌した(水酸基のスルホン酸エス
テル化)。反応液に水1mlを加えて濃縮し、残
渣を50mlの酢酸エチルの溶解し、飽和炭酸水素
ナトリウム水溶液50ml、水50mlで洗浄したの
ち、酢酸エチル層を無水硫酸ナトリウムで脱水
して濃縮乾固した。残渣をシリカゲル(和光純
薬:ワコーゲルC−200、100g)のカラムクロ
マトグラフイー(クロロホルム−メタノール、
60:1で展開、20ml分画)で精製し、分画47−
61を合し、濃縮乾固して1,3,6′−トリス−
N−ベンジルオキシカルボニル−2′,4″,6″−
トリスO−トリフロロメタンスルホニル−3′,
4′−ジデオキシカナマイシン−2″,3″−カルバ
メート623mgを得た(収率41%)。 (ニ) 前項(ハ)で得られた1,3,6′−トリス−N−
ベンジルオキシカルボニル−2′,4″,6″−トリ
ス−O−トリフロロメタンスルホニル−3′,
4′−ジデオキシカナマイシン−2″,3″,カルバ
メート620mg(0.485ミリモル)を無水N,N−
ジメチルホルムアミド70mlにとかし、チオフエ
ノールナトリウム385mg(2.91ミリモル)を加
え、室温で2時間撹拌した(チオフエニル化)。
反応液を濃縮乾固し、残渣を酢酸エチル30mlに
とかし、水30mlで2回洗浄したのち、酢酸エチ
ル層を無水硫酸ナトリウムで脱水して濃縮乾固
した。残渣をシリカゲル(ワコーゲル、C−
200、70g)のカラムクロマトグラフイー(ク
ロロホルム−メタノール、60:1で展開、14ml
分画)で精製し、分画36−53を合し、濃縮乾固
して、1,3,6′−トリス−N−ベンジルオキ
シカルボニル−2′,4″,6″−トリスフエニルチ
オ−2′,3′,4′,4″,6″−ペンタデオキシカナ
マイシン−2″,3″−カルバメート415mgを得た
(収率74%)。 (ホ) 前項(ニ)で得られた1,3,6′−トリス−N−
ベンジルオキシカルボニル−2′,4″,6″,トリ
スフエニルチオ−2′,3′,4′,4″,6″−ペンタ
デオキシカナマイシン−2″,3″−カルバメート
411mg(0.355ミリモル)をエタノール50mlにと
かし、ラネーニツケル(日興理化学産業R−
200)を加えて、90℃で2時間還流して加水素
分解を行つた。触媒を除去し、濃縮乾固したの
ち、シリカゲル(ワコーゲルC−200,50g)
のカラムクロマトグラフイー(クロロホルム−
メタノール、50:1で展開、10ml分画)で精製
し、分画53−76を合して濃縮乾固し、1,3,
6′−トリス−N−ベンジルオキシカルボニル−
2′,3′,4′,4″,6″−ペンタデオキシカナマイ
シン−2″,3″−カルバメート213mgを得た(収
率72%)。 (ヘ) 前項(ホ)で得られた1,3,6′−トリス−N−
ベンジルオキシカルボニル−2′,3′,4′,4″,
6″−ペンタジデオキシカナマイシン−2″,3″−
カルバメート209mg(0.251ミリモル)をジメチ
ルスルホキシド2mlにとかし、二硫化炭素0.15
ml(2.51ミリモル)を加え、氷冷下5N水酸化
ナトリウム0.25ml(1.25ミリモル)を滴加し、
続いて30分間撹拌した。反応液にヨウ化メチル
0.16ml(2.51ミリモル)を加え、室温で2時間
撹拌した(S−メチルジチオカルボニル化)の
ち、水20mlを加え、酢酸エチル20mlで2回抽出
した。抽出液を無水硫酸ナトリウムで脱水し、
濃縮乾固したのち、シリカゲル(ワコーゲルC
−200、20g)のカラムクロマトグラフイー
(クロロホルム−メタノール、80:1で展開、
4ml分画)で精製し、分画47−62を合して濃縮
乾固し、1,3,6′−トリス−N−ベンジルオ
キシカルボニル−2′,3′,4′,4″,6″−ペンタ
デオキシ−5−O−(S−メチルジチオカルボ
ニル)カナマイシン−2″,3″−カルバメート
165mgを得た(収率71%)。 (ト) 前記(ヘ)で得られた1,3,6,トリス−N−
ベンジルオキシカルボニル−2′,3′,4′,4″,
6″−ペンタデオキシ−5−O−(S−メチル−
ジチオカルボニル)カナマイシン−2″,3″,カ
ルバメート162mg(0.176ミリモル)を無水トル
エン5mlにとかし、α,α′−アゾビスイソブチ
ロニトリル5mgとトリブチルスタナン1mlを加
え、アルゴン気流下、80℃に加熱して撹拌した
(加水素分解)。反応液を濃縮乾固したのち、シ
リカゲル(ワコーゲルC−200,20g)のカラ
ムクロマトグラフイー(クロロホルム−メタノ
ール、50:1で展開、4ml分画)で精製し、分
画37−49を合して濃縮乾燥し、1,3,6′−ト
リス−N−ベンジルオキシカルボニル−5,
2′,3′,4′,4″,6″−ヘキサデオキシカナマイ
シン−2″,3″,−カルバメート112mgを得た(収
率78%)。 (チ) 前項(ト)で得られた1,3,6′−トリス−N−
ベンジルオキシカルボニル−5,2′,3′,4′,
4″,6″−ヘキサデオキシカナマイシン−2″,
3″,カルバメート108mg(0.132ミリモル)をジ
オキサン5mlにとかし、0.1N水酸化バリウム
6mlを加えて、60℃1時間加温撹拌した。反応
液を固型炭酸(ドライアイス)で中和し、沈澱
を去した。液に5%パラジウム−炭素10mg
を加え、水素気流中で6時間室温で撹拌した
(アミノ保護基の脱離)。触媒を除去し、液を
アンバーライトCG−50樹脂(NH4 +)10mlの
カラムにかけて、生成物を吸着せしめ、水30ml
および0.1Nアンモニア水で30mlで洗浄後、
0.3Nアンモニア水で溶出した(1ml分画)。分
画3−8を合して濃縮乾固し、ヘキサデオキシ
カナマイシンの無色粉末(−炭酸塩−水和物)
46mgを得た(収率74%)。 実施例 2 ヘキサデオキシアミカシンの合成: (イ) 実施例1で得られたヘキサデオキシカナマイ
シン40mg(0.085ミリモル)を90%ジメチルス
ルホキシド水溶液5mlにとかし、酢酸亜鉛
〔Zn(OAc)2・2H2O〕109mg(0.494ミリモル)
を加え、室温で15時間撹拌したのち、ベンジル
S−4,6−ジメチルピリミド−2−イルチオ
カルボネート110mg(0.402ミリモル)を加え、
50℃に加温して7時間撹拌した(アミノ保護基
の導入反応)。反応液にエーテル50mlを加えて
生成物を沈澱させた。これをシリカゲル(ワコ
ーゲルC−200,20g)のカラムクロマトグラ
フイー(クロロホルム−メタノール−濃アンモ
ニア水、20:10:1で展開、4ml分画)で精製
し、分画31−40を合して濃縮乾固し、3,6,
3″−トリス−N−ベンジルオキシカルボニルヘ
キサデオキシカナマイシン41mgを得た(収率61
%)。 (ロ) 前項(イ)で得られた3,6′,3″,トリス−N−
ベンジルオキシカルボニルヘキサデオキシカナ
マイシン35mg(0.044ミリモル)をジメチルス
ルホキシド5mlにとかし、トリエチルアミン
0.01ml(0.066ミリモル)と(S)−4−ベンジ
ルオキシカルボニルアミノ−2−ヒドロキシ酪
酸のN−ヒドロキシコハク酸イミドエステル22
mg(0.066ミリモル)をテトラヒドロフラン1
mlにとかした溶液を加え、室温で4時間撹拌し
た(1−N−アシル化反応)。反応液に水30ml
を加え、酢酸エチル30mlで2回抽出した。抽出
液を無水硫酸ナトリウムで脱水し、濃縮乾固し
たのち、シリカゲル(ワコーゲルC−200、10
g)のカラムクロマトグラフイー(クロロホル
ム−メタノール、10:1で展開、2ml分画)で
精製し、分画37−44を合して濃縮乾固し、3,
6′,3″,4−テトラキス−N−ベンジルオキ
シカルボニルヘキサデオキシアミカシン34mgを
得た(収率76%)。 (ハ) 前項(ロ)で得られた3,6′,3″,4−テトラ
キス−N−ベンジルオキシカルボニルヘキサデ
オキシアミカシン33mg(0.033ミリモル)を50
%メタノール水5mlと酢酸0.01mlの混液にとか
し、5%パラジウム炭素3mgを加え、水素気流
中室温で7時間撹拌した(脱保護反応)。触媒
を除去し、濃縮乾固したのち、残渣を5mlの水
にとかし、アンバーライトCG−50樹脂
(NH4 +)5mlのカラムに通して生成物を吸着
させた。水15mlおよび0.2Nアンモニア水で洗
浄後、0.5Nアンモニア水で溶出した(0.5ml分
画)。分画8−13を合して濃縮乾固し、ヘキサ
デオキシアミカシンの無色粉末(一炭酸塩二水
和物)13mgを得た(収率67%)。
たは水和物または炭酸塩として得られるが、通常
の方法により薬学的に許容できる酸を加えて任意
の無毒性の酸付加塩とすることができる。付加す
べき酸としては塩酸、臭化水素酸、硫酸、燐酸、
硝酸などの無機酸、酢酸、リンゴ酸、クエン酸、
アスコルビン酸、メタンスルホン酸などの有機酸
が用いられる。 本発明における新規化合物は、本発明者らによ
つて合成された3′,4′−ジデオキシカナマイン
(特願昭54−11402号;特開昭55−105699号明細書
参照)を出発原料として合成することができる。 一般式() 〔式中、Rは水素原子を示す〕で表わされる
3′,4′−ジデオキシカナマイシンの4個のアミノ
基を、常法により、アミノ保護基で保護した化合
物〔一般式()において、Rがウレタン型のア
ミノ保護基(BOC=O)になつた場合、但しB
はアルキル、シクロアルキル又はアラルキル基を
示す〕とし、続いて無水溶液中水素化ナトリウム
などの塩基で公知方法で処理して2″,3″位に環状
カルバメートを形成させ、次の一般式() 〔式中、Rは前述と同じアミノ保護基であり、
R1,R2は水酸基である〕で表わされる化合物と
し、次にこれを塩化トリフロロメタンスルホニル
と反応させて、2′,4″および6″位の水酸基(R′)
をスルホン酸エステル化し、続いてスルホン酸エ
ステル基をチオフエノール酸ナトリウムでチオフ
エニル化(−SC6H5基による置換)し、さらに加
水分解して、デオキシ化合物〔一般式()にお
いて、Rは前述と同じアミノ保護基であり、R1
は水素原子になり、R2は水酸基である場合〕を
得、次に二硫化炭素、水酸化ナトリウムおよびヨ
ウ化メチル反応によつて5位の水酸基をS−メチ
ルジチオカルボニル化し、すなわち5位の基を基
−O−C(=S)−S−CH3に転化し、続いて加水
素分解して5−デオキシ化合物〔一般式()に
おいて、Rは前述と同じアミノ保護基であり、
R1,R2は水素原子になつた場合〕とし、終りに
ウレタン型及びカルバメート型の2種のアミノ保
護基を脱離して一般式(a) で表わされるヘキサデオキシカナマイシンを製造
することができる。 本発明におけるヘキサデオキシアミカシン〔一
般式()においてAが(S)−4−アミノ−2
−ヒドロキシブチリル基(H2NCH2CH2CH
(OH)CO)である場合〕を製造するに当つて
は、既知の種々の1−N−アシル化方法によつ
て、ヘキサデオキシカナマイシン〔一般式()
においてAが水素原子の場合〕の1位のアミノ基
を(S)−4−アミノ−2−ヒドロキシ酪酸又は
その反応性誘導体又はそのN−保護体でアシル化
することによつて達成されるが、本発明者らによ
る3,6′および3″のアミノ基の選択的保護法(特
願昭53−138402号、特願昭54−73064号、特願昭
56−58389号)によつてヘキサデオキシアミカシ
ンの1位以外のアミノ基を保護された保護誘導体
を作り、これから1−N−アシル誘導体を製造す
る方法が最も有用な方法である。 次に実施例によつて、本発明の化合物の製造法
を説明する。 実施例 1 ヘキサデオキシカナマイシンの合成: (イ) 3′,4′−ジデオキシカナマイシン1.20g
(2.65ミリモル)に、水20ml、メタノール20ml、
トリエチルアミン17ml(12.2ミリモル)を加え
て溶解し、ベンジルS−4,6−ジメチルピリ
ミド−2−イルチオカルボネート5.03g(18.4
ミリモル)を20mlのメタノールにとかした溶解
を加え、室温で24時間撹拌してアミノ保護反応
を行つた。反応液に17%アンモニア水0.5mlを
加え、濃縮乾固した。残渣を水30mlで2回、n
−ヘキサン30mlで1回洗浄し、1,3,6′,
3″−テトラキス−N−ベンジルカルボニル−
3′,4′−ジデオキシカナマインの無色粉末2.30
gを得た(収率79%)。 (ロ) 前項(イ)で得られた1,3,6′,3″−テトラキ
ス−N−ベンジルカルボニル−3′,4′−ジデオ
キシカナマイシン2.20g(2.01ミリモル)を無
水N,N−ジメチルホルムアミド20mlにとか
し、アルゴン気流下60%(油中)水素化ナトリ
ウム804mg(20.1ミリモル)を加え、室温で3
時間撹拌した(2″,3″−環状カルバメート体の
生成)。反応液に酢酸1.2ml(20.1ミリモル)を
加え、濃縮乾固した。残渣を200mlの水で洗浄
し、1,3,6′−トリス−N−ベンジルオキシ
カルボニル−3′,4′−ジデオキシカナマイシン
−2″,3″−カルバメートの無色粉末1.10gを得
た(収率62%)。分解点221−226℃、〔α〕23 D+
67゜(c1,N,N−ジメチルホルムアミド)。元
素分析値:C58.84%,H5.63%,N6.31%。
C43H52N4O16の理論値: C58.63%,H5.95%,N6.36%。 (ハ) 前項(ロ)で得られた1,3,6′−トリス−N−
ベンジルオキシカルボニル−3′,4′−ジデオキ
シカナマイシン−2″,3″−カルバメート1.05g
を無水ピリジン80mlにとかし、4−ジメチルア
ミノピリジン436mg(3.57ミリモル)を加えた
溶液に、水冷下塩化トリフロロメタンスルホニ
ル1.14ml(10.2ミリモル)を滴加し、続いて室
温で2時間撹拌した(水酸基のスルホン酸エス
テル化)。反応液に水1mlを加えて濃縮し、残
渣を50mlの酢酸エチルの溶解し、飽和炭酸水素
ナトリウム水溶液50ml、水50mlで洗浄したの
ち、酢酸エチル層を無水硫酸ナトリウムで脱水
して濃縮乾固した。残渣をシリカゲル(和光純
薬:ワコーゲルC−200、100g)のカラムクロ
マトグラフイー(クロロホルム−メタノール、
60:1で展開、20ml分画)で精製し、分画47−
61を合し、濃縮乾固して1,3,6′−トリス−
N−ベンジルオキシカルボニル−2′,4″,6″−
トリスO−トリフロロメタンスルホニル−3′,
4′−ジデオキシカナマイシン−2″,3″−カルバ
メート623mgを得た(収率41%)。 (ニ) 前項(ハ)で得られた1,3,6′−トリス−N−
ベンジルオキシカルボニル−2′,4″,6″−トリ
ス−O−トリフロロメタンスルホニル−3′,
4′−ジデオキシカナマイシン−2″,3″,カルバ
メート620mg(0.485ミリモル)を無水N,N−
ジメチルホルムアミド70mlにとかし、チオフエ
ノールナトリウム385mg(2.91ミリモル)を加
え、室温で2時間撹拌した(チオフエニル化)。
反応液を濃縮乾固し、残渣を酢酸エチル30mlに
とかし、水30mlで2回洗浄したのち、酢酸エチ
ル層を無水硫酸ナトリウムで脱水して濃縮乾固
した。残渣をシリカゲル(ワコーゲル、C−
200、70g)のカラムクロマトグラフイー(ク
ロロホルム−メタノール、60:1で展開、14ml
分画)で精製し、分画36−53を合し、濃縮乾固
して、1,3,6′−トリス−N−ベンジルオキ
シカルボニル−2′,4″,6″−トリスフエニルチ
オ−2′,3′,4′,4″,6″−ペンタデオキシカナ
マイシン−2″,3″−カルバメート415mgを得た
(収率74%)。 (ホ) 前項(ニ)で得られた1,3,6′−トリス−N−
ベンジルオキシカルボニル−2′,4″,6″,トリ
スフエニルチオ−2′,3′,4′,4″,6″−ペンタ
デオキシカナマイシン−2″,3″−カルバメート
411mg(0.355ミリモル)をエタノール50mlにと
かし、ラネーニツケル(日興理化学産業R−
200)を加えて、90℃で2時間還流して加水素
分解を行つた。触媒を除去し、濃縮乾固したの
ち、シリカゲル(ワコーゲルC−200,50g)
のカラムクロマトグラフイー(クロロホルム−
メタノール、50:1で展開、10ml分画)で精製
し、分画53−76を合して濃縮乾固し、1,3,
6′−トリス−N−ベンジルオキシカルボニル−
2′,3′,4′,4″,6″−ペンタデオキシカナマイ
シン−2″,3″−カルバメート213mgを得た(収
率72%)。 (ヘ) 前項(ホ)で得られた1,3,6′−トリス−N−
ベンジルオキシカルボニル−2′,3′,4′,4″,
6″−ペンタジデオキシカナマイシン−2″,3″−
カルバメート209mg(0.251ミリモル)をジメチ
ルスルホキシド2mlにとかし、二硫化炭素0.15
ml(2.51ミリモル)を加え、氷冷下5N水酸化
ナトリウム0.25ml(1.25ミリモル)を滴加し、
続いて30分間撹拌した。反応液にヨウ化メチル
0.16ml(2.51ミリモル)を加え、室温で2時間
撹拌した(S−メチルジチオカルボニル化)の
ち、水20mlを加え、酢酸エチル20mlで2回抽出
した。抽出液を無水硫酸ナトリウムで脱水し、
濃縮乾固したのち、シリカゲル(ワコーゲルC
−200、20g)のカラムクロマトグラフイー
(クロロホルム−メタノール、80:1で展開、
4ml分画)で精製し、分画47−62を合して濃縮
乾固し、1,3,6′−トリス−N−ベンジルオ
キシカルボニル−2′,3′,4′,4″,6″−ペンタ
デオキシ−5−O−(S−メチルジチオカルボ
ニル)カナマイシン−2″,3″−カルバメート
165mgを得た(収率71%)。 (ト) 前記(ヘ)で得られた1,3,6,トリス−N−
ベンジルオキシカルボニル−2′,3′,4′,4″,
6″−ペンタデオキシ−5−O−(S−メチル−
ジチオカルボニル)カナマイシン−2″,3″,カ
ルバメート162mg(0.176ミリモル)を無水トル
エン5mlにとかし、α,α′−アゾビスイソブチ
ロニトリル5mgとトリブチルスタナン1mlを加
え、アルゴン気流下、80℃に加熱して撹拌した
(加水素分解)。反応液を濃縮乾固したのち、シ
リカゲル(ワコーゲルC−200,20g)のカラ
ムクロマトグラフイー(クロロホルム−メタノ
ール、50:1で展開、4ml分画)で精製し、分
画37−49を合して濃縮乾燥し、1,3,6′−ト
リス−N−ベンジルオキシカルボニル−5,
2′,3′,4′,4″,6″−ヘキサデオキシカナマイ
シン−2″,3″,−カルバメート112mgを得た(収
率78%)。 (チ) 前項(ト)で得られた1,3,6′−トリス−N−
ベンジルオキシカルボニル−5,2′,3′,4′,
4″,6″−ヘキサデオキシカナマイシン−2″,
3″,カルバメート108mg(0.132ミリモル)をジ
オキサン5mlにとかし、0.1N水酸化バリウム
6mlを加えて、60℃1時間加温撹拌した。反応
液を固型炭酸(ドライアイス)で中和し、沈澱
を去した。液に5%パラジウム−炭素10mg
を加え、水素気流中で6時間室温で撹拌した
(アミノ保護基の脱離)。触媒を除去し、液を
アンバーライトCG−50樹脂(NH4 +)10mlの
カラムにかけて、生成物を吸着せしめ、水30ml
および0.1Nアンモニア水で30mlで洗浄後、
0.3Nアンモニア水で溶出した(1ml分画)。分
画3−8を合して濃縮乾固し、ヘキサデオキシ
カナマイシンの無色粉末(−炭酸塩−水和物)
46mgを得た(収率74%)。 実施例 2 ヘキサデオキシアミカシンの合成: (イ) 実施例1で得られたヘキサデオキシカナマイ
シン40mg(0.085ミリモル)を90%ジメチルス
ルホキシド水溶液5mlにとかし、酢酸亜鉛
〔Zn(OAc)2・2H2O〕109mg(0.494ミリモル)
を加え、室温で15時間撹拌したのち、ベンジル
S−4,6−ジメチルピリミド−2−イルチオ
カルボネート110mg(0.402ミリモル)を加え、
50℃に加温して7時間撹拌した(アミノ保護基
の導入反応)。反応液にエーテル50mlを加えて
生成物を沈澱させた。これをシリカゲル(ワコ
ーゲルC−200,20g)のカラムクロマトグラ
フイー(クロロホルム−メタノール−濃アンモ
ニア水、20:10:1で展開、4ml分画)で精製
し、分画31−40を合して濃縮乾固し、3,6,
3″−トリス−N−ベンジルオキシカルボニルヘ
キサデオキシカナマイシン41mgを得た(収率61
%)。 (ロ) 前項(イ)で得られた3,6′,3″,トリス−N−
ベンジルオキシカルボニルヘキサデオキシカナ
マイシン35mg(0.044ミリモル)をジメチルス
ルホキシド5mlにとかし、トリエチルアミン
0.01ml(0.066ミリモル)と(S)−4−ベンジ
ルオキシカルボニルアミノ−2−ヒドロキシ酪
酸のN−ヒドロキシコハク酸イミドエステル22
mg(0.066ミリモル)をテトラヒドロフラン1
mlにとかした溶液を加え、室温で4時間撹拌し
た(1−N−アシル化反応)。反応液に水30ml
を加え、酢酸エチル30mlで2回抽出した。抽出
液を無水硫酸ナトリウムで脱水し、濃縮乾固し
たのち、シリカゲル(ワコーゲルC−200、10
g)のカラムクロマトグラフイー(クロロホル
ム−メタノール、10:1で展開、2ml分画)で
精製し、分画37−44を合して濃縮乾固し、3,
6′,3″,4−テトラキス−N−ベンジルオキ
シカルボニルヘキサデオキシアミカシン34mgを
得た(収率76%)。 (ハ) 前項(ロ)で得られた3,6′,3″,4−テトラ
キス−N−ベンジルオキシカルボニルヘキサデ
オキシアミカシン33mg(0.033ミリモル)を50
%メタノール水5mlと酢酸0.01mlの混液にとか
し、5%パラジウム炭素3mgを加え、水素気流
中室温で7時間撹拌した(脱保護反応)。触媒
を除去し、濃縮乾固したのち、残渣を5mlの水
にとかし、アンバーライトCG−50樹脂
(NH4 +)5mlのカラムに通して生成物を吸着
させた。水15mlおよび0.2Nアンモニア水で洗
浄後、0.5Nアンモニア水で溶出した(0.5ml分
画)。分画8−13を合して濃縮乾固し、ヘキサ
デオキシアミカシンの無色粉末(一炭酸塩二水
和物)13mgを得た(収率67%)。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 一般式() 〔式中Aは水素原子、または(S)−4−アミ
ノ−2−ヒドロキシブチリル基を示す〕で表わさ
れる5,2′,3′,4′,4″,6″−ヘキサデオキシカ
ナマイシンまたはその1−N−アシル誘導体、お
よびそれらの酸付加塩。 2 5,2′,3′,4′,4″,6″−ヘキサデオキシカ
ナマイシン〔一般式()においてAが水素原子
である場合〕である特許請求の範囲第1項記載の
化合物。 3 1−N−〔(S)−4−アミノ−2−ヒドロキ
シブチリル〕−5,2′,3′,4′,4″,6″−ヘキサ
デ
オキシカナマイシン〔一般式()においてAが
(S)−4−アミノ−2−ヒドロキシブチリル基で
ある場合〕である特許請求の範囲第1項記載の化
合物。
Priority Applications (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP57162292A JPS5953498A (ja) | 1982-09-20 | 1982-09-20 | 5,2′,3′,4′,4″,6″−ヘキサデオキシカナマイシンおよびその1−n−アシル誘導体 |
US06/532,058 US4486419A (en) | 1982-09-20 | 1983-09-14 | 5,2',3',4',4",6"-Hexadeoxykanamycin and its 1-N-acylated derivative |
DE8383420151T DE3368640D1 (en) | 1982-09-20 | 1983-09-19 | 5,2',3',4',4",6"-hexadeoxykanamycin and its 1-n-acylated derivative |
EP83420151A EP0104125B1 (en) | 1982-09-20 | 1983-09-19 | 5,2',3',4',4",6"-hexadeoxykanamycin and its 1-n-acylated derivative |
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---|---|---|---|
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---|---|
JPS5953498A JPS5953498A (ja) | 1984-03-28 |
JPH024236B2 true JPH024236B2 (ja) | 1990-01-26 |
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Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP57162292A Granted JPS5953498A (ja) | 1982-09-20 | 1982-09-20 | 5,2′,3′,4′,4″,6″−ヘキサデオキシカナマイシンおよびその1−n−アシル誘導体 |
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Country | Link |
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US (1) | US4486419A (ja) |
EP (1) | EP0104125B1 (ja) |
JP (1) | JPS5953498A (ja) |
DE (1) | DE3368640D1 (ja) |
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JPS6041692A (ja) * | 1983-08-15 | 1985-03-05 | Microbial Chem Res Found | 2′,3′−ジデオキシカナマイシンa誘導体 |
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US4171356A (en) * | 1976-10-28 | 1979-10-16 | Schering Corporation | 2-Unsubstituted derivatives of 4,6-di-o-(aminoglycosyl)-1,3-diaminocyclitois, methods for their use as antibacterial agents and compositions useful therefor |
JPS55105699A (en) * | 1979-02-05 | 1980-08-13 | Microbial Chem Res Found | 3',4'-dideoxykanamycin a and its 1-n-aminoalkanoyl derivative |
JPS5643297A (en) * | 1979-09-19 | 1981-04-21 | Microbial Chem Res Found | 6"-deoxydibeckacin or 4",6"-dideoxydibeckacin, their 1-n-acyl derivative, and their preparation |
-
1982
- 1982-09-20 JP JP57162292A patent/JPS5953498A/ja active Granted
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1983
- 1983-09-14 US US06/532,058 patent/US4486419A/en not_active Expired - Fee Related
- 1983-09-19 EP EP83420151A patent/EP0104125B1/en not_active Expired
- 1983-09-19 DE DE8383420151T patent/DE3368640D1/de not_active Expired
Also Published As
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---|---|
EP0104125A1 (en) | 1984-03-28 |
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JPS5953498A (ja) | 1984-03-28 |
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