JPH0241607Y2 - - Google Patents

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JPH0241607Y2
JPH0241607Y2 JP1982056380U JP5638082U JPH0241607Y2 JP H0241607 Y2 JPH0241607 Y2 JP H0241607Y2 JP 1982056380 U JP1982056380 U JP 1982056380U JP 5638082 U JP5638082 U JP 5638082U JP H0241607 Y2 JPH0241607 Y2 JP H0241607Y2
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laser
laser beam
reflecting mirror
conical
reflecting
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Description

【考案の詳細な説明】 [考案の目的] (産業上の利用分野) この考案は二つのレーザビームを同軸に合成す
る装置に関する。
(従来の技術) 二つのレーザビームを同軸に合成する装置とし
て、従来第3図および第4図に示す装置が知られ
ている。まず、第3図では炭酸ガスレーザ等の第
1のレーザ発振器1から放出される赤外レーザ光
2の光路上に、このレーザ光に対しては透明にな
る反射鏡3を45度に傾けて設け、一方、別の位置
に設けられたHe−Neレーザ等の第2のレーザ発
振器4から放出された可視レーザ光5を赤外レー
ザ光2に直交する方向から反射鏡3に入射させて
赤外レーザ光2の光路に一致させる構成になつて
いる。また、第4図では上記反射鏡3と同種で中
央部に透孔6を形成した反射鏡3aを第1のレー
ザ発振器1と同種の別のレーザ発振器1aよりの
赤外レーザ光2の光路上に45度傾けて設け、第3
図に示した例と同様に反射鏡3aに入射させる構
成になつている。さらに、第2のレーザと同様で
別のレーザ4aより出射したレーザ光5aは反射
鏡3aで環状ビームに反射され、透孔6を通過し
た赤外レーザ光2aを同軸に囲つて直進する合成
ビームになつている。
(考案が解決しようとする課題) 上記前者の装置では二つのレーザビームの波長
領域が同じの場合、合成ビームにすることはでき
ない。また、後者ではレーザ光5aが反射鏡3a
に入射した際、透孔6によるエネルギ損失が大き
く効率的に問題があつた。この考案は上記事情に
鑑みてなされたもので、波長に関係なく二つのレ
ーザビームを同軸上に効率よく合成する装置を提
供するものである。
[考案の構成] (課題を解決するための手段と作用) 第1および第2のレーザ発振器と、上記第1の
レーザ発振器から放出された第1のレーザビーム
と同軸に設けられこの第1のレーザビームを反射
する円錐反射鏡と、中央部に通過孔を有し上記第
1のレーザ発振器と円錐反射鏡との間で上記通過
孔がほぼ同軸となつて配置され上記円錐反射鏡で
反射した上記第1のレーザビームを平行環状ビー
ムとして反射する凹面鏡と、上記円錐反射鏡の裏
面側に位置しかつ上記平行環状ビームで囲われた
空洞部内設けられ上記第2のレーザ発振器から放
出された第2のレーザビームを上記平行環状ビー
ムと同方向に反射する平面反射鏡と、上記平行環
状ビームと上記平面反射鏡で反射した第2のレー
ザビームを集光する集光光学系とを備えた構成と
し、実質的なエネルギ損失をなくして二つのレー
ザビームを合成したものである。
(実施例) 以下、実施例を示す図面に基づいてこの考案を
説明する。第1図において、10は穴あけや溶接
等の加工に適する第1のレーザ発振器で、この発
振器から放出される第1のレーザビームL1の光
路上に凸レンズ11、中央部に通過孔12を形成
した凹面鏡13および円錐反射鏡14が順次光軸
と同軸に設けられている。凹面鏡13は凸レンズ
11の焦点位置を中心にして凸レンズ11とほぼ
対称位置に設けられ、通過孔12はこの通過孔1
2を通過するレーザビームL1の光束径より若干
大に形成されている。一方、円錐反射鏡14の裏
面側には平面反射鏡17が第1のレーザビームL
1の光軸に対して45度の角度で設けられ、第1の
レーザ発振器10と同種の第2のレーザ発振器1
6から放出された第2のレーザビームL2を反射
するようになつている。
円錐反射鏡14で反射した第1のレーザビーム
L1による環状ビーム15aは凹面反射鏡17で
平行環状ビーム15bとなり、この平行環状ビー
ム15bと平面反射鏡17で反射された第2のレ
ーザビームL2とは集光レンズ18によつて加工
物19に集光されるようになつている。なお、平
面反射鏡17は平行環状ビーム15bで囲われる
空洞部20内からはみ出さないサイズとなつてい
る。
上記の構成により、二つのレーザビームL1と
L2は殆ど損失なく同軸に合成される。
[考案の効果] たとえば、第1のレーザ発振器10を低気圧連
連続発振炭酸ガスレーザ装置とし、第2のレーザ
発振器16を横方向励起高気圧炭酸ガスレーザ装
置にして合成した場合、第2図に示すように、中
央部が低く、その周辺部が高い出力になる合成波
形が得られ、鋼板に対するあなあけ加工のような
場合、レーザビームの材料への食い付きが改善さ
れ、さらに溶けた材料を瞬時に飛散させることが
出来、加工時間を大幅に短縮するという実用上の
効果を得ることができた。
【図面の簡単な説明】
第1図はこの考案の一実施例を示す構成図、第
2図は合成レーザビームの一例を示す波形図、第
3図、第4図はそれぞれ従来例を示す要部更成図
である。 10…第1のレーザ発振器、12…通過孔、1
3…凹面鏡、14…円錐反射鏡、16…第2のレ
ーザ発振器、17…平面反射鏡、18…集光レン
ズ。

Claims (1)

    【実用新案登録請求の範囲】
  1. 第1および第2のレーザ発振器と、上記第1の
    レーザ発振器から放出された第1のレーザビーム
    と同軸に設けられこの第1のレーザビームを反射
    する円錐反射鏡と、中央部に通過孔を有し上記第
    1のレーザ発振器と円錐反射鏡との間で上記通過
    孔がほぼ同軸となつて配置され上記円錐反射鏡で
    反射した上記第1のレーザビームを平行環状ビー
    ムとして反射する凹面鏡と、上記円錐反射鏡の裏
    面側に位置しかつ上記平行環状ビームで囲われた
    空洞部内設けられ上記第2のレーザ発振器から放
    出された第2のレーザビームを上記平行環状ビー
    ムと同方向に反射する平面反射鏡と、上記平行環
    状ビームと上記平面反射鏡で反射した第2のレー
    ザビームを集光する集光光学系とを備えたことを
    特徴とするレーザビーム合成装置。
JP1982056380U 1982-04-20 1982-04-20 レ−ザビ−ム合成装置 Granted JPS58159512U (ja)

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JP1982056380U JPS58159512U (ja) 1982-04-20 1982-04-20 レ−ザビ−ム合成装置

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JP1982056380U JPS58159512U (ja) 1982-04-20 1982-04-20 レ−ザビ−ム合成装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS58159512U JPS58159512U (ja) 1983-10-24
JPH0241607Y2 true JPH0241607Y2 (ja) 1990-11-06

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ID=30066910

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JP1982056380U Granted JPS58159512U (ja) 1982-04-20 1982-04-20 レ−ザビ−ム合成装置

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Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5643601A (en) * 1979-09-17 1981-04-22 Minolta Camera Co Ltd Semipermeable mirror

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5643601A (en) * 1979-09-17 1981-04-22 Minolta Camera Co Ltd Semipermeable mirror

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JPS58159512U (ja) 1983-10-24

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