JPH0241159B2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPH0241159B2 JPH0241159B2 JP57085887A JP8588782A JPH0241159B2 JP H0241159 B2 JPH0241159 B2 JP H0241159B2 JP 57085887 A JP57085887 A JP 57085887A JP 8588782 A JP8588782 A JP 8588782A JP H0241159 B2 JPH0241159 B2 JP H0241159B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- heating chamber
- waveguide
- high frequency
- wall
- heating device
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
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- Constitution Of High-Frequency Heating (AREA)
- Electric Ovens (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、加熱室を一枚の金属板で構成する高
周波加熱装置に関するものである。
周波加熱装置に関するものである。
従来、この種の構成の高周波加熱装置は第１図
に示すように、加熱室の左右下壁１と加熱室の上
壁２及び導波管箱部３が各々別部品で構成されて
いた。従つて、各々の部品の接合部では細心の注
意を払つても、接合作業不良がついてまわり、電
波漏洩、不要輻射等の障害を発生していたし、組
立工数削減改善が出来なかつた。
に示すように、加熱室の左右下壁１と加熱室の上
壁２及び導波管箱部３が各々別部品で構成されて
いた。従つて、各々の部品の接合部では細心の注
意を払つても、接合作業不良がついてまわり、電
波漏洩、不要輻射等の障害を発生していたし、組
立工数削減改善が出来なかつた。
等に接合部４は左右下壁１と上壁２と導波管箱
部３が三枚重ねのスポツト溶接になり、電波漏れ
防止の保障と言う点では充分ではなかつた。又、
プロジエクシヨン溶接法ではできないので、単発
の１点１点の溶接になるので加工上も大変であつ
た。
部３が三枚重ねのスポツト溶接になり、電波漏れ
防止の保障と言う点では充分ではなかつた。又、
プロジエクシヨン溶接法ではできないので、単発
の１点１点の溶接になるので加工上も大変であつ
た。
又、第２図のごとく、加熱室上、下、左、右壁
５を一体にして、一方、導波管箱部３や導波管下
部６を溶接一体したものを、加熱室上面にビス７
等にてとりつけていた。しかし、加熱室壁５と導
波管下部６との接合部８において導波管開口部９
よりの電波漏洩は防止しがたく、その為の費用又
防止設計は大変なものであつた。
５を一体にして、一方、導波管箱部３や導波管下
部６を溶接一体したものを、加熱室上面にビス７
等にてとりつけていた。しかし、加熱室壁５と導
波管下部６との接合部８において導波管開口部９
よりの電波漏洩は防止しがたく、その為の費用又
防止設計は大変なものであつた。
本発明は、上記従来の欠点を解消するもので、
導波管方式の高周波加熱装置において、導波管壁
の構成を簡単にし、伝播ロスを少なくし、かつ、
導波管周辺よりの電波漏洩を激減して、なおかつ
不要輻射による無線機器への電波障害を防止しよ
うとするものである。
導波管方式の高周波加熱装置において、導波管壁
の構成を簡単にし、伝播ロスを少なくし、かつ、
導波管周辺よりの電波漏洩を激減して、なおかつ
不要輻射による無線機器への電波障害を防止しよ
うとするものである。
以下、本発明の一実施例について、図面に基づ
いて説明する。
いて説明する。
第３図において、高周波加熱装置の本体１０内
に被加熱物１１を収容する加熱室１２が設けられ
ている。
に被加熱物１１を収容する加熱室１２が設けられ
ている。
その加熱室１２の開口部に開閉自在に扉（図示
せず）が設けられている。又、加熱室１２内には
被加熱物１１を載せる載置台１３で、加熱室の底
壁１４ａ外に設けられたモータ１５で回転駆動さ
れ、焼きむら改善をしている。１６は高周波発生
装置で、この高周波発生装置１６で発生した高周
波は導波管１７を経て、加熱室上壁１４ｂに設け
られた給電口１８から加熱室１２内に供給され
る。１９は給電口１８に設けたカバーで、誘電体
低損失の材料で作られている。
せず）が設けられている。又、加熱室１２内には
被加熱物１１を載せる載置台１３で、加熱室の底
壁１４ａ外に設けられたモータ１５で回転駆動さ
れ、焼きむら改善をしている。１６は高周波発生
装置で、この高周波発生装置１６で発生した高周
波は導波管１７を経て、加熱室上壁１４ｂに設け
られた給電口１８から加熱室１２内に供給され
る。１９は給電口１８に設けたカバーで、誘電体
低損失の材料で作られている。
次に加熱室１２の構成について述べる。
加熱室１２は第４図に示すごとく後板２０と前
板２１及び、本案ポイントの一体形成された側壁
１４ａ，１４ｂ，１４ｃ，１４ｄと導波管１７に
て構成されている。側壁は導波管１７の箱部１４
ｅを絞り出し形成し、又、上壁１４ｂ、右側壁１
４ｄ、底部１４ｆ、左側壁１４ｃ、導波管１７の
底部１４ｆとを一体で形成しているのである。
板２１及び、本案ポイントの一体形成された側壁
１４ａ，１４ｂ，１４ｃ，１４ｄと導波管１７に
て構成されている。側壁は導波管１７の箱部１４
ｅを絞り出し形成し、又、上壁１４ｂ、右側壁１
４ｄ、底部１４ｆ、左側壁１４ｃ、導波管１７の
底部１４ｆとを一体で形成しているのである。
以上の説明から明らかなように、本発明の導波
管給電方式高周波加熱装置は、加熱室側壁を一体
に構成し、かつ導波管の少くとも一部をも、加熱
室側壁にて一体に形成するものであり、導波管壁
と加熱室上壁、右側壁等の接合部における３枚重
ねのスポツト溶接等の皆無により、スポツト溶接
品質の安定、及びそれにより、接合部不良による
電波漏洩が絶無となり、ひいては無線機器への妨
害電波輻射を絶無にすることができる。又、加熱
室側壁導波管壁を一体にしている故、スポツト溶
接する部分の激減に判ない生産性向上はもちろ
ん、妨害電波箇所であるスポツト箇所も激減する
ことにより、製品品質の大幅向上が図れるのであ
る。
管給電方式高周波加熱装置は、加熱室側壁を一体
に構成し、かつ導波管の少くとも一部をも、加熱
室側壁にて一体に形成するものであり、導波管壁
と加熱室上壁、右側壁等の接合部における３枚重
ねのスポツト溶接等の皆無により、スポツト溶接
品質の安定、及びそれにより、接合部不良による
電波漏洩が絶無となり、ひいては無線機器への妨
害電波輻射を絶無にすることができる。又、加熱
室側壁導波管壁を一体にしている故、スポツト溶
接する部分の激減に判ない生産性向上はもちろ
ん、妨害電波箇所であるスポツト箇所も激減する
ことにより、製品品質の大幅向上が図れるのであ
る。
以上のように、本発明によれば、量産性が高
く、かつ電波漏洩の少ない安全性の高い高周波加
熱装置を提供することができる。
く、かつ電波漏洩の少ない安全性の高い高周波加
熱装置を提供することができる。
第１図および第２図は従来の高周波加熱装置の
正面断面図、第３図は本発明の一実施例である高
周波加熱装置の正面断面図、第４図は同要部分解
斜視図、 １０……本体、１１……被加熱物、１２……加
熱室、１４ａ……加熱室の底壁、１４ｂ……加熱
室の上壁、１４ｃ，１４ｄ……加熱室の左右壁、
１４ｅ，１４ｆ……導波管の箱部、底壁、１６…
…高周波発生装置、１７……導波管。
正面断面図、第３図は本発明の一実施例である高
周波加熱装置の正面断面図、第４図は同要部分解
斜視図、 １０……本体、１１……被加熱物、１２……加
熱室、１４ａ……加熱室の底壁、１４ｂ……加熱
室の上壁、１４ｃ，１４ｄ……加熱室の左右壁、
１４ｅ，１４ｆ……導波管の箱部、底壁、１６…
…高周波発生装置、１７……導波管。
Claims (1)
- １ 被加熱物を収納する加熱室と、前記加熱室内
に高周波を供給する高周波発生装置と、前記高周
波発生装置で発生した高周波を前記加熱室へ伝送
する導波管とを備え、前記加熱室の上下および左
右を一枚の金属板で形成し、かつ前記一枚の金属
板の一端を延出して箱形に膨らませて前記導波管
の箱部上壁を構成し、かつ他端を延出して導波管
の底壁を構成してなる高周波加熱装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57085887A JPS58201287A (ja) | 1982-05-20 | 1982-05-20 | 高周波加熱装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57085887A JPS58201287A (ja) | 1982-05-20 | 1982-05-20 | 高周波加熱装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS58201287A JPS58201287A (ja) | 1983-11-24 |
| JPH0241159B2 true JPH0241159B2 (ja) | 1990-09-14 |
Family
ID=13871410
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP57085887A Granted JPS58201287A (ja) | 1982-05-20 | 1982-05-20 | 高周波加熱装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS58201287A (ja) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6127763A (ja) * | 1984-07-17 | 1986-02-07 | Nissan Motor Co Ltd | 車両の運動目標値設定装置 |
| JP2532578B2 (ja) * | 1988-05-25 | 1996-09-11 | 松下電器産業株式会社 | 高周波加熱装置 |
| JP2513113Y2 (ja) * | 1988-11-24 | 1996-10-02 | 株式会社東芝 | 電子レンジ |
Family Cites Families (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS51137137U (ja) * | 1975-04-26 | 1976-11-05 | ||
| JPS52739U (ja) * | 1975-06-23 | 1977-01-06 | ||
| JPS5315541U (ja) * | 1976-07-21 | 1978-02-09 |
-
1982
- 1982-05-20 JP JP57085887A patent/JPS58201287A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS58201287A (ja) | 1983-11-24 |
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