JPH0239737B2 - - Google Patents
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- JPH0239737B2 JPH0239737B2 JP56122090A JP12209081A JPH0239737B2 JP H0239737 B2 JPH0239737 B2 JP H0239737B2 JP 56122090 A JP56122090 A JP 56122090A JP 12209081 A JP12209081 A JP 12209081A JP H0239737 B2 JPH0239737 B2 JP H0239737B2
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- JP
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- 230000007547 defect Effects 0.000 claims description 42
- 238000001514 detection method Methods 0.000 claims description 13
- 238000007689 inspection Methods 0.000 claims description 9
- 230000000630 rising effect Effects 0.000 claims description 7
- 230000002123 temporal effect Effects 0.000 claims description 3
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 claims description 2
- 238000010606 normalization Methods 0.000 claims 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 8
- 238000000034 method Methods 0.000 description 4
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 4
- 230000002950 deficient Effects 0.000 description 2
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 2
- 230000001186 cumulative effect Effects 0.000 description 1
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 230000006386 memory function Effects 0.000 description 1
- 238000003672 processing method Methods 0.000 description 1
- 230000004044 response Effects 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
- G01N21/84—Systems specially adapted for particular applications
- G01N21/88—Investigating the presence of flaws or contamination
- G01N21/89—Investigating the presence of flaws or contamination in moving material, e.g. running paper or textiles
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Textile Engineering (AREA)
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- Immunology (AREA)
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- Investigating Materials By The Use Of Optical Means Adapted For Particular Applications (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
この発明は、被検査物体に光を照射して表面の
欠陥を検査する表面欠陥検査装置に係り、特に被
測定物体の振動に影響されずに欠陥発生位置を特
定し、同一欠陥であると認定するための信号処理
法に関するものである。
欠陥を検査する表面欠陥検査装置に係り、特に被
測定物体の振動に影響されずに欠陥発生位置を特
定し、同一欠陥であると認定するための信号処理
法に関するものである。
従来の表面欠陥検査装置として第１図に示すも
のがある。
のがある。
第１図は従来の表面欠陥検査装置の構成を示す
概念図で、１は被検査物体の物体面を示し、２
ａ，２ｂは前記被検査物体を支持し、その変位を
押える支持部材で、例えばローラ、ダイスなどで
構成され、被検査物体が変位するときはこの支持
された点２ｃを回転中心として図示のように変位
する。３は光源、４は入射光、５は前記物体面１
への照射点、６は反射光、７は光検出器、１ａは
被検査物体を正の方向に角度θ1傾斜させたときの
物体面、５ａはそのときの入射光４の照射点、８
は前記照射点５ａを通る物体面１と平行な面、６
ａはそのときの反射光をあらわす。また、被検査
物体を負の方向に角度θ2傾斜させたときの物体面
を１ｂ、その照射点を５ｂ、この照射点５ｂを通
る平行な面９、そのときの反射光を６ｂであらわ
す。
概念図で、１は被検査物体の物体面を示し、２
ａ，２ｂは前記被検査物体を支持し、その変位を
押える支持部材で、例えばローラ、ダイスなどで
構成され、被検査物体が変位するときはこの支持
された点２ｃを回転中心として図示のように変位
する。３は光源、４は入射光、５は前記物体面１
への照射点、６は反射光、７は光検出器、１ａは
被検査物体を正の方向に角度θ1傾斜させたときの
物体面、５ａはそのときの入射光４の照射点、８
は前記照射点５ａを通る物体面１と平行な面、６
ａはそのときの反射光をあらわす。また、被検査
物体を負の方向に角度θ2傾斜させたときの物体面
を１ｂ、その照射点を５ｂ、この照射点５ｂを通
る平行な面９、そのときの反射光を６ｂであらわ
す。
次に、この装置の動作を説明する。
いま、被検査物体が支持点２ｃを中心として正
の方向に角度θ1傾斜したとき反射光６ａの径路を
みると、入射光４は物体面１ａにα−θ1の角度で
照射点５ａに入射し、平行な面８に対してα−
2θ1の角度で反射される。また、このときの照射
点５ａはh1だけ光検出器７の側に移動する。すな
わち、照射点５ａの移動は反射光６ａが光検出器
７に入射する位置をh1だけ上方に変位させるのに
対し、反射角の減少は反射光６ａの入射位置を下
方移動させるため、両者は互いに打ち消し合うよ
う作用し、反射光６と６ａとはある点で交叉す
る。
の方向に角度θ1傾斜したとき反射光６ａの径路を
みると、入射光４は物体面１ａにα−θ1の角度で
照射点５ａに入射し、平行な面８に対してα−
2θ1の角度で反射される。また、このときの照射
点５ａはh1だけ光検出器７の側に移動する。すな
わち、照射点５ａの移動は反射光６ａが光検出器
７に入射する位置をh1だけ上方に変位させるのに
対し、反射角の減少は反射光６ａの入射位置を下
方移動させるため、両者は互いに打ち消し合うよ
う作用し、反射光６と６ａとはある点で交叉す
る。
次に、物体面１が支持点２ｃを中心に負の方向
に角度θ2傾斜したときの反射光６ｂの径路をみる
と、照射点５ｂの位置は下方向にh2移動するのに
対し、反射光６ｂの反射角はα＋2θ2となり上方
に向けるので互に打消し合い、反射光６と６ｂと
はある点で交叉する。
に角度θ2傾斜したときの反射光６ｂの径路をみる
と、照射点５ｂの位置は下方向にh2移動するのに
対し、反射光６ｂの反射角はα＋2θ2となり上方
に向けるので互に打消し合い、反射光６と６ｂと
はある点で交叉する。
この二つの交叉点は、光源３と支持点２ｃの位
置関係を適当に選定することにより接近させるこ
とができ、物体面１が正、負の方向に傾斜した場
合、反射光の径路が狭い面域内を通過するように
することができる。従つて光検出器７をこの位置
に配設すれば、小さい検出面積の光検出器で反射
光を検出することができ、物体面１の振動に対し
て反射光を効率良く集めることが可能となつた。
置関係を適当に選定することにより接近させるこ
とができ、物体面１が正、負の方向に傾斜した場
合、反射光の径路が狭い面域内を通過するように
することができる。従つて光検出器７をこの位置
に配設すれば、小さい検出面積の光検出器で反射
光を検出することができ、物体面１の振動に対し
て反射光を効率良く集めることが可能となつた。
しかしながら、実際に物体面１に光を走査して
欠陥検出をする場合、多くの例では光の走査が物
体面１に向つて集束もしくは広がる形状で行われ
るため、物体面１の振動に影響されずに反射光を
受光しても、信号幅が変化し欠陥の発生位置の認
識もしくは連続する走査線からの同一欠陥の判定
が困難となる。この様子を示したのが第２図であ
る。
欠陥検出をする場合、多くの例では光の走査が物
体面１に向つて集束もしくは広がる形状で行われ
るため、物体面１の振動に影響されずに反射光を
受光しても、信号幅が変化し欠陥の発生位置の認
識もしくは連続する走査線からの同一欠陥の判定
が困難となる。この様子を示したのが第２図であ
る。
第２図においては説明の都合上、試料は板材と
し、光走査は１点から扇状に広がる走査で走査角
速度は一定とする。また、図中のｌ，ｍは走査線
幅、ｄは板幅を示す。
し、光走査は１点から扇状に広がる走査で走査角
速度は一定とする。また、図中のｌ，ｍは走査線
幅、ｄは板幅を示す。
第３図Ａ，Ｂは光電素子（図示せず）の出力を
示す図である。
示す図である。
第２図において、物体面１で得られる信号幅Ｔ
は光の全走査線幅ｌに対する板幅ｄの比率分の信
号となり第３図Ｂのようになる。ところが、物体
面１が正方向に角度θ1傾斜した位置に物体面１ａ
がくると信号幅は光の全走査線幅ｍに対する板幅
ｄの比率分の信号幅T′として第３図Ａのように
なり、ｌ／ｍ倍パルス幅が広がる。従つて物体面
１の振動があつた場合、パルス幅の変化が発生す
る。このため、欠陥の発生位置を信号幅内の時間
的な発生位置で検出する手法や、その結果の累積
として連続する走査線から同一欠陥を特定する手
法が利用できなくなり、欠陥検査としての信号処
理法に新しい方式を必要としていた。
は光の全走査線幅ｌに対する板幅ｄの比率分の信
号となり第３図Ｂのようになる。ところが、物体
面１が正方向に角度θ1傾斜した位置に物体面１ａ
がくると信号幅は光の全走査線幅ｍに対する板幅
ｄの比率分の信号幅T′として第３図Ａのように
なり、ｌ／ｍ倍パルス幅が広がる。従つて物体面
１の振動があつた場合、パルス幅の変化が発生す
る。このため、欠陥の発生位置を信号幅内の時間
的な発生位置で検出する手法や、その結果の累積
として連続する走査線から同一欠陥を特定する手
法が利用できなくなり、欠陥検査としての信号処
理法に新しい方式を必要としていた。
この発明は、かかる現状に対してなされたもの
で、時間測定を全てフローテイングに、すなわち
測定された時間幅を信号幅に対する割合で規格化
することにより欠陥の発生位置を特定する方法で
上述の問題点を解決した信号処理手段を有する欠
陥検査装置を提供するものである。以下、図面に
基づいてこの発明の一実施例を説明する。
で、時間測定を全てフローテイングに、すなわち
測定された時間幅を信号幅に対する割合で規格化
することにより欠陥の発生位置を特定する方法で
上述の問題点を解決した信号処理手段を有する欠
陥検査装置を提供するものである。以下、図面に
基づいてこの発明の一実施例を説明する。
第４図は時間幅測定をフローテイングにする信
号処理回路のブロツク図、第５図は第４図のブロ
ツク図の各入・出力信号で、第４図の信号路に付
してある記号と同一記号がその部分の信号を示
す。
号処理回路のブロツク図、第５図は第４図のブロ
ツク図の各入・出力信号で、第４図の信号路に付
してある記号と同一記号がその部分の信号を示
す。
第４図において、２１は光電素子、２２は増幅
器、２３は波形整形器、２４は波形の正方向の立
上り検知器、２５は同じく負方向の立下り検知
器、２６は信号幅を検知する第１の時間幅検知手
段である信号幅検知器、２７は検出信号の始点か
ら欠陥の発生位置までの時間幅を検知する第２の
時間幅検知手段である欠陥位置検知器、２８は前
記信号幅検知器２６の出力を規定値に修正すると
ともに、この規定値と、前記信号幅検知器２６の
出力と欠陥位置検知器２７の出力とから前記欠陥
位置検知器２７の出力に補正を加え、この補正結
果に基づく時間的な位置に前記修正された規定値
出力内に欠陥信号を付与する手段である欠陥発生
位置規格化回路である。なお、説明の都合上、欠
陥１個だけ存在するものとする。
器、２３は波形整形器、２４は波形の正方向の立
上り検知器、２５は同じく負方向の立下り検知
器、２６は信号幅を検知する第１の時間幅検知手
段である信号幅検知器、２７は検出信号の始点か
ら欠陥の発生位置までの時間幅を検知する第２の
時間幅検知手段である欠陥位置検知器、２８は前
記信号幅検知器２６の出力を規定値に修正すると
ともに、この規定値と、前記信号幅検知器２６の
出力と欠陥位置検知器２７の出力とから前記欠陥
位置検知器２７の出力に補正を加え、この補正結
果に基づく時間的な位置に前記修正された規定値
出力内に欠陥信号を付与する手段である欠陥発生
位置規格化回路である。なお、説明の都合上、欠
陥１個だけ存在するものとする。
第４図、第５図において、光学素子２１からの
出力は増幅器２２で増幅されて第５図Ｄのような
欠陥デイツプを含む信号となる。ここで、信号Ｄ
は時系列的に第３図Ａ，Ｂに相当する変化があつ
たものとする。信号Ｄは滴当なスライドレベルを
持つ波形整形器２３で２値化され第５図Ｅのよう
な信号となる。ここで、正方向の立上り検知器２
４は信号全体の立上りと、欠陥デイツプの立上り
を検知して第５図Ｆのような信号を、また、立下
り検知器２５は信号全体の立下りと、欠陥デイツ
プの立下りを検知して第５図Ｇのような信号を
各々出力する。信号幅検知器２６は同信号Ｓと前
記信号Ｆ，Ｇの出力を受けて同期信号Ｓの範囲内
で最初の立上り信号から最後の立下り信号までの
時間幅を検出し、それぞれT′，Ｔの時間幅パル
スを有する第５図Ｈのような信号を出力する。同
様に欠陥位置検知器２７では最初の立上り信号か
ら最初の立下り信号までの時間幅を検出し、それ
ぞれΔT′，ΔTの時間幅パルスを有する第５図Ｊ
のような信号を発生する。かくして信号Ｈ，Ｊを
受けた欠陥発生位置規格化回路２８では、まず、
信号幅を無条件にT0というあらかじめ定まつた
規格値として同期信号Ｓと一定の関係をもつて発
生させ、 ΔT′0＝（ΔT′×T0）／T′ ΔT0＝（ΔT×T0）／Ｔ の演算を実施し、ΔT′0，ΔT0の該当位置に各々
デイツプを持たせた第５図Ｋのような信号を発生
する。かかる構成において、もし欠陥信号が同一
欠陥からのものであるならば光走査の角度が一定
であるため、物体的振動による信号全体幅の変化
が補正され、信号ＫにおけるΔT′0＝ΔT0となる
ことは明らかであり、従つて本補正回路により物
体面１の振動があつても欠陥を特定することが可
能である。
出力は増幅器２２で増幅されて第５図Ｄのような
欠陥デイツプを含む信号となる。ここで、信号Ｄ
は時系列的に第３図Ａ，Ｂに相当する変化があつ
たものとする。信号Ｄは滴当なスライドレベルを
持つ波形整形器２３で２値化され第５図Ｅのよう
な信号となる。ここで、正方向の立上り検知器２
４は信号全体の立上りと、欠陥デイツプの立上り
を検知して第５図Ｆのような信号を、また、立下
り検知器２５は信号全体の立下りと、欠陥デイツ
プの立下りを検知して第５図Ｇのような信号を
各々出力する。信号幅検知器２６は同信号Ｓと前
記信号Ｆ，Ｇの出力を受けて同期信号Ｓの範囲内
で最初の立上り信号から最後の立下り信号までの
時間幅を検出し、それぞれT′，Ｔの時間幅パル
スを有する第５図Ｈのような信号を出力する。同
様に欠陥位置検知器２７では最初の立上り信号か
ら最初の立下り信号までの時間幅を検出し、それ
ぞれΔT′，ΔTの時間幅パルスを有する第５図Ｊ
のような信号を発生する。かくして信号Ｈ，Ｊを
受けた欠陥発生位置規格化回路２８では、まず、
信号幅を無条件にT0というあらかじめ定まつた
規格値として同期信号Ｓと一定の関係をもつて発
生させ、 ΔT′0＝（ΔT′×T0）／T′ ΔT0＝（ΔT×T0）／Ｔ の演算を実施し、ΔT′0，ΔT0の該当位置に各々
デイツプを持たせた第５図Ｋのような信号を発生
する。かかる構成において、もし欠陥信号が同一
欠陥からのものであるならば光走査の角度が一定
であるため、物体的振動による信号全体幅の変化
が補正され、信号ＫにおけるΔT′0＝ΔT0となる
ことは明らかであり、従つて本補正回路により物
体面１の振動があつても欠陥を特定することが可
能である。
なお、上記実施例では説明の都合上、物体面１
を板材のものとして説明したが、これは円筒等そ
の他の形状の物体面検査にもそのまま適用できる
ことは明らかであり、光走査が収束方向で実施さ
れる場合においても、同一の補正原理で補正でき
ることはいうまでもない。
を板材のものとして説明したが、これは円筒等そ
の他の形状の物体面検査にもそのまま適用できる
ことは明らかであり、光走査が収束方向で実施さ
れる場合においても、同一の補正原理で補正でき
ることはいうまでもない。
また、欠陥のデイツプ幅に関しても同一の方法
で規格化した測定ができることは原理上明らかで
ある。
で規格化した測定ができることは原理上明らかで
ある。
さらに欠陥が複数個発生する場合、欠陥位置検
知器２７に記憶機能を持たせ複数の時間幅を記憶
させることにより対処できることは明らかであ
る。なお、この補生回路の出力Ｋを受けて欠陥の
信号処理を行う回路技術に関しては周知である。
知器２７に記憶機能を持たせ複数の時間幅を記憶
させることにより対処できることは明らかであ
る。なお、この補生回路の出力Ｋを受けて欠陥の
信号処理を行う回路技術に関しては周知である。
以上、説明したようにこの発明においては、欠
陥の信号処理において測定された時間を全て、信
号幅に対する割合で規格化し、標準信号幅パルス
に欠陥信号を発生させることにより物体面の振動
があつても欠陥を特定することができ、実用上の
効果が得られるものである。
陥の信号処理において測定された時間を全て、信
号幅に対する割合で規格化し、標準信号幅パルス
に欠陥信号を発生させることにより物体面の振動
があつても欠陥を特定することができ、実用上の
効果が得られるものである。
第１図は従来の表面欠陥検査装置の構成を示す
概略図、第２図は第１図の表面欠陥検査装置を具
体的に適用した例を示す説明図、第３図Ａ，Ｂは
第２図で得られる信号幅を示す波形図、第４図は
この発明の一実施例を示す表面欠陥検査装置のブ
ロツク図、第５図は第４図の各ブロツクにおける
信号波形例を示す図である。 図中、２１は光電素子、２２は増幅器、２３は
波形整形器、２４は立上り検知器、２５は立下り
検知器、２６は信号幅検知器、２７は欠陥位置検
知器、２８は欠陥発生位置規格化回路である。な
お、図中の同一符号は同一または相当部分を示
す。
概略図、第２図は第１図の表面欠陥検査装置を具
体的に適用した例を示す説明図、第３図Ａ，Ｂは
第２図で得られる信号幅を示す波形図、第４図は
この発明の一実施例を示す表面欠陥検査装置のブ
ロツク図、第５図は第４図の各ブロツクにおける
信号波形例を示す図である。 図中、２１は光電素子、２２は増幅器、２３は
波形整形器、２４は立上り検知器、２５は立下り
検知器、２６は信号幅検知器、２７は欠陥位置検
知器、２８は欠陥発生位置規格化回路である。な
お、図中の同一符号は同一または相当部分を示
す。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 物体の表面に対して光を照射走査してその反
射光を検出し、その検出信号の変化から前記物体
の表面の欠陥を検出するものにおいて、検出信号
を波形整形する手段と；走査の始点と終点とを示
す同期信号を受け、この同期信号の範囲内におい
て各走査ごとに得られる前記検出信号の最初の立
上り信号から最後の立下り信号までの信号幅Ｔ，
T′を検知する第１の時間幅検知手段と；前記同
期信号内において前記検出信号の最初の立上り信
号から欠陥の発生位置までの時間幅ΔT，ΔT′を
検知する第２の時間幅検知手段と；前記同期信号
と一定の関係をもつた信号幅T0の規定値と前記
第１の時間幅検知手段の出力Ｔ，T′と前記第２
の時間幅検知手段の出力ΔT，ΔT′との間におい
て、下記式の関係をもつて前記第２の時間幅検知
手段の出力に補正を加え、この補正結果ΔT0，
ΔT′0に基づく時間的な位置に前記修正された規
定値出力内に欠陥信号を発生する欠陥発生位置規
格化手段と；を備えたことを特徴とする表面欠陥
検査装置。 ΔT0＝（ΔT×T0）／Ｔ ΔT′0＝（ΔT′×T0）／T′
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12209081A JPS5822941A (ja) | 1981-08-03 | 1981-08-03 | 表面欠陥検査装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12209081A JPS5822941A (ja) | 1981-08-03 | 1981-08-03 | 表面欠陥検査装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5822941A JPS5822941A (ja) | 1983-02-10 |
| JPH0239737B2 true JPH0239737B2 (ja) | 1990-09-06 |
Family
ID=14827398
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP12209081A Granted JPS5822941A (ja) | 1981-08-03 | 1981-08-03 | 表面欠陥検査装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5822941A (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61198851U (ja) * | 1985-05-30 | 1986-12-12 |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS4848180A (ja) * | 1971-10-20 | 1973-07-07 | ||
| JPS5312218A (en) * | 1976-07-20 | 1978-02-03 | Fujitsu Ltd | Automatic detection range setting circuit |
-
1981
- 1981-08-03 JP JP12209081A patent/JPS5822941A/ja active Granted
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS4848180A (ja) * | 1971-10-20 | 1973-07-07 | ||
| JPS5312218A (en) * | 1976-07-20 | 1978-02-03 | Fujitsu Ltd | Automatic detection range setting circuit |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5822941A (ja) | 1983-02-10 |
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