JPH0233922A - 熱処理装置 - Google Patents
熱処理装置Info
- Publication number
- JPH0233922A JPH0233922A JP18361088A JP18361088A JPH0233922A JP H0233922 A JPH0233922 A JP H0233922A JP 18361088 A JP18361088 A JP 18361088A JP 18361088 A JP18361088 A JP 18361088A JP H0233922 A JPH0233922 A JP H0233922A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- process tube
- tube
- rotating
- ceiling wall
- degrees
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 238000007669 thermal treatment Methods 0.000 title 1
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 111
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims abstract description 20
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 abstract description 26
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 abstract description 4
- 230000009931 harmful effect Effects 0.000 abstract description 2
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 16
- 238000002791 soaking Methods 0.000 description 11
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 10
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 7
- 238000007665 sagging Methods 0.000 description 7
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 5
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 2
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 2
- ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N Boron Chemical compound [B] ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052796 boron Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000012159 carrier gas Substances 0.000 description 1
- 239000000428 dust Substances 0.000 description 1
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 1
- 238000012423 maintenance Methods 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 1
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、熱処理技術、特に、プロセスチューブについ
ての改良技術に関し、例えば、半導体装置の製造工程に
おいて、ウェハに拡散処理を施すのに利用して有効な技
術に関する。
ての改良技術に関し、例えば、半導体装置の製造工程に
おいて、ウェハに拡散処理を施すのに利用して有効な技
術に関する。
[従来の技術〕
半導体装置の製造工程において、ウェハに拡散処理を施
す拡散装置として、石英ガラスで円筒形状に形成された
プロセスチューブの内部にウェハを搬入して、プロセス
チューブの内部をヒータにより加熱して所望の拡散反応
を起こさせるように構成されている装置がある。
す拡散装置として、石英ガラスで円筒形状に形成された
プロセスチューブの内部にウェハを搬入して、プロセス
チューブの内部をヒータにより加熱して所望の拡散反応
を起こさせるように構成されている装置がある。
なお、拡散装置を述べである例としては、株式%式%
〔発明が解決しようとする課題〕
しかし、このような拡散装置においては、高温度(例え
ば、1250°C)で、長時間(例えば、10〜50時
間)熱処理されると、プロセスチューブの筒壁が加熱に
伴って軟化し、筒壁それ自体の剛性強度の低下により自
重を支えきれなくなるため、プロセスチューブの変形等
が発生し、プロセスチューブの筒壁の一部がウェハに接
触しウェハの出し入れ作業を妨害するという問題点があ
ることが、本発明者によって明らかにされた。
ば、1250°C)で、長時間(例えば、10〜50時
間)熱処理されると、プロセスチューブの筒壁が加熱に
伴って軟化し、筒壁それ自体の剛性強度の低下により自
重を支えきれなくなるため、プロセスチューブの変形等
が発生し、プロセスチューブの筒壁の一部がウェハに接
触しウェハの出し入れ作業を妨害するという問題点があ
ることが、本発明者によって明らかにされた。
そこで、プロセスチューブを手作業にて周方向に回転さ
せることが考えられるが、手作業にて回転させる場合に
は次のような問題点がある。
せることが考えられるが、手作業にて回転させる場合に
は次のような問題点がある。
(1)高温度にさらされるため、作業者の危険度が高ま
る。
る。
(2)作業者の感に顧るため、プロセスチューブへのウ
ェハ搬入搬出装置とプロセスチューブとの芯ずれが発生
する。
ェハ搬入搬出装置とプロセスチューブとの芯ずれが発生
する。
(3)プロセスチューブの周方向への回転角度について
微妙な制御を確保することができない。
微妙な制御を確保することができない。
本発明の目的は、手作業に頼らずに、高温処理に伴うプ
ロセスチューブの変形による弊害の発生を防止すること
ができる熱処理装置を提供することにある。
ロセスチューブの変形による弊害の発生を防止すること
ができる熱処理装置を提供することにある。
本発明の前記ならびにその他の目的と新規な特徴は、本
明細書の記述および添付図面から明らかになるであろう
。
明細書の記述および添付図面から明らかになるであろう
。
本願において開示される発明のうち代表的なものの概要
を説明すれば、次の通りである。
を説明すれば、次の通りである。
すなわち、熱処理装置においてプロセスチューブを回転
させる回転装置を設けたものである。
させる回転装置を設けたものである。
前記した手段によれば、プロセスチューブが回転装置に
より自動的に回転されることにより、プロセスチューブ
の天井壁に位置する部分が変わるため、天井壁に相当す
る部分における軟化による垂れ下がり変形は防止される
。したがって、変形によってプロセスチューブの天井壁
に相当する部分が被処理物に接触することにより、被処
理物のプロセスチューブに対する出し入れ作業が妨害さ
れるという弊害の発生は未然に防止されることになる。
より自動的に回転されることにより、プロセスチューブ
の天井壁に位置する部分が変わるため、天井壁に相当す
る部分における軟化による垂れ下がり変形は防止される
。したがって、変形によってプロセスチューブの天井壁
に相当する部分が被処理物に接触することにより、被処
理物のプロセスチューブに対する出し入れ作業が妨害さ
れるという弊害の発生は未然に防止されることになる。
〔実施例1〕
第1図は本発明の一実施例である拡散装置を示す縦断面
図、第2図はその作用を説明するだめの縦断面図、第3
図および第4図は同じく一部切断正面図および正面図で
ある。
図、第2図はその作用を説明するだめの縦断面図、第3
図および第4図は同じく一部切断正面図および正面図で
ある。
本実施例において、この拡散装置は、石英ガラス等から
略円筒形状に形成されているプロセスチューブ1を備え
ており、このプロセスチューブ1の内部室は処理室2を
実質的に形成している。プロセスチューブ1の外部には
ヒータ4が平行になるように配設されており、プロセス
チューブ1とヒータ4との間には均熱管3がそれぞれ平
行になるように介設されている。そして、ヒータ4およ
び均熱管3はプロセスチューブ1を通して、処理室2に
おける少なくとも中央部分を均一に加熱するようになっ
ている。プロセスチューブ1の一端開口部には被処理物
としてのウェハ5をボート形状の治具6に複数枚整列し
た状態で出し入れするための炉口1aが形成されており
、炉口1aはキャップ7により開閉されるようになって
いる。プロセスチューブ1の他端にはガス供給口8が開
設されており、ガス供給口8は拡散源としての不純物を
流すキャリアガスやウェット酸素等のような処理ガスを
導入するようになっている。
略円筒形状に形成されているプロセスチューブ1を備え
ており、このプロセスチューブ1の内部室は処理室2を
実質的に形成している。プロセスチューブ1の外部には
ヒータ4が平行になるように配設されており、プロセス
チューブ1とヒータ4との間には均熱管3がそれぞれ平
行になるように介設されている。そして、ヒータ4およ
び均熱管3はプロセスチューブ1を通して、処理室2に
おける少なくとも中央部分を均一に加熱するようになっ
ている。プロセスチューブ1の一端開口部には被処理物
としてのウェハ5をボート形状の治具6に複数枚整列し
た状態で出し入れするための炉口1aが形成されており
、炉口1aはキャップ7により開閉されるようになって
いる。プロセスチューブ1の他端にはガス供給口8が開
設されており、ガス供給口8は拡散源としての不純物を
流すキャリアガスやウェット酸素等のような処理ガスを
導入するようになっている。
プロセスチューブlの外部にはプロセスチューブ1を周
方向に回転させるための回転装置10が設備されており
、この回転装置lOは一対の支持台11.12を備えて
いる。両支持台11.12はプロセスチューブ1の前部
および後部の下方にそれぞれ配設されており、支持台1
1.12トには軸受装置13.14がそれぞれ支持され
ている。
方向に回転させるための回転装置10が設備されており
、この回転装置lOは一対の支持台11.12を備えて
いる。両支持台11.12はプロセスチューブ1の前部
および後部の下方にそれぞれ配設されており、支持台1
1.12トには軸受装置13.14がそれぞれ支持され
ている。
支持台11.12は軸受装置13.14を上下動し得る
ようにそれぞれ構成されており、軸受装置13.14は
2組の回転ローラ15.15および16.16をそれぞ
れ回転自在に支承するように構成されている。各組の回
転ローラ15および16は水平、かつ、プロセスチュー
ブ1の軸心と平行になるように配されて支承されており
、前側に配された組の一方の回転ローラ15は、支持台
11上に設備されている流体圧モータまたは電動モータ
等のような回転駆動装置17により伝動装置18を介し
て回転されるようになっている。
ようにそれぞれ構成されており、軸受装置13.14は
2組の回転ローラ15.15および16.16をそれぞ
れ回転自在に支承するように構成されている。各組の回
転ローラ15および16は水平、かつ、プロセスチュー
ブ1の軸心と平行になるように配されて支承されており
、前側に配された組の一方の回転ローラ15は、支持台
11上に設備されている流体圧モータまたは電動モータ
等のような回転駆動装置17により伝動装置18を介し
て回転されるようになっている。
この回転駆動装置17はコントローラ19により制御さ
れるようになっており、コントローラ19には位置セン
サ20が接続されている0位置センサ20はプロセスチ
ューブ1の外部における適当位置に配されて設備されて
おり、この位置センサ20はプロセスチューブ1が実際
に回転された角度を検出するように構成されている。そ
して、回転駆動装置17はこの位置センサ20によりコ
ントローラ19を介してフィードバック制御されること
により、プロセスチューブ1を回転ローラ15.16を
介して所定の角度(後述する。)、回転し得るように構
成されている。
れるようになっており、コントローラ19には位置セン
サ20が接続されている0位置センサ20はプロセスチ
ューブ1の外部における適当位置に配されて設備されて
おり、この位置センサ20はプロセスチューブ1が実際
に回転された角度を検出するように構成されている。そ
して、回転駆動装置17はこの位置センサ20によりコ
ントローラ19を介してフィードバック制御されること
により、プロセスチューブ1を回転ローラ15.16を
介して所定の角度(後述する。)、回転し得るように構
成されている。
次に作用を説明する。
本実施例において、熱処理作業が実施される際、第1図
および第3図に示されているように、回転ローラ15.
16は支持台11.12を下降されることによりプロセ
スチューブ1から離されており、したがって、プロセス
チューブ1は均熱管3上に載置された状態になっている
。この状態において、プロセスチューブ1、均熱管3お
よびヒータ4の軸心は同一の垂直面内において互いに平
行になっている。
および第3図に示されているように、回転ローラ15.
16は支持台11.12を下降されることによりプロセ
スチューブ1から離されており、したがって、プロセス
チューブ1は均熱管3上に載置された状態になっている
。この状態において、プロセスチューブ1、均熱管3お
よびヒータ4の軸心は同一の垂直面内において互いに平
行になっている。
ヒータ4に通電されてプロセスチューブ1の処理室2が
均熱管3を介して所定の処理温度および雰囲気に設定さ
れると、被処理物としてのウェハ5が複数枚、石英ガラ
ス製の治具6に載置されてプロセスチューブ1の内部に
炉口1aから搬入される。このとき、治具6はプロセス
チューブlの内面上を滑動されるが、プロセスチューブ
1は真円形状に形成されているため、治具6とプロセス
チューブ1内面とを整合させ易い。
均熱管3を介して所定の処理温度および雰囲気に設定さ
れると、被処理物としてのウェハ5が複数枚、石英ガラ
ス製の治具6に載置されてプロセスチューブ1の内部に
炉口1aから搬入される。このとき、治具6はプロセス
チューブlの内面上を滑動されるが、プロセスチューブ
1は真円形状に形成されているため、治具6とプロセス
チューブ1内面とを整合させ易い。
処理室2にガス供給口8から所定の処理ガスが供給され
ると、ウェハ5は所定雰囲気において所定温度に加熱さ
れることにより、所望の拡散処理を施される。
ると、ウェハ5は所定雰囲気において所定温度に加熱さ
れることにより、所望の拡散処理を施される。
ところで、例えば、パワートランジスタのベース形成に
際し、硼素(B)をデボジソシゴンされたウェハに引伸
し拡散処理を実施する場合等においては、1250°C
の高温度下で、10〜50時間のような長時間にわたる
熱処理が実施される場合があるが、このような場合、プ
ロセスチューブの筒壁が加熱に伴って軟化し、それ自体
の剛性強度の低下により自重を支えきれなくなるため、
プロセスチューブの変形等が発生するという問題点があ
ることが、本発明者によって明らかにされた。
際し、硼素(B)をデボジソシゴンされたウェハに引伸
し拡散処理を実施する場合等においては、1250°C
の高温度下で、10〜50時間のような長時間にわたる
熱処理が実施される場合があるが、このような場合、プ
ロセスチューブの筒壁が加熱に伴って軟化し、それ自体
の剛性強度の低下により自重を支えきれなくなるため、
プロセスチューブの変形等が発生するという問題点があ
ることが、本発明者によって明らかにされた。
特に、プロセスの天井壁は高温度になり易いため、軟化
して垂れ下がり変形し易い(第3図の想像線参照)、、
そして、天井壁が垂れ下がり変形すると、プロセスチュ
ーブ内に搬入されているウェハ群の上側部分に垂れ下が
り変形部分が接触し、プロセスチューブからのウェハ群
の搬出が困難になったり、フ゛ロセスチューフ゛が1員
傷されたりする等の弊害が発生する。
して垂れ下がり変形し易い(第3図の想像線参照)、、
そして、天井壁が垂れ下がり変形すると、プロセスチュ
ーブ内に搬入されているウェハ群の上側部分に垂れ下が
り変形部分が接触し、プロセスチューブからのウェハ群
の搬出が困難になったり、フ゛ロセスチューフ゛が1員
傷されたりする等の弊害が発生する。
そこで、本実施例においては、プロセスチューブlを回
転装置10により、定期的、例えば、1回の処理毎に回
転させてプロセスチューブ1における天井壁の垂れ下が
り変形による弊害の発生が防止される。
転装置10により、定期的、例えば、1回の処理毎に回
転させてプロセスチューブ1における天井壁の垂れ下が
り変形による弊害の発生が防止される。
すなわち、所定の処理が終了しウェハ5がプロセスチュ
ーブ1から搬出されると、第2図および第4図に示され
ているように、プロセスチューブ1の前後部において回
転ローラ15.16が支持台11.12により上昇され
、プロセスチューブ1が均熱管3内の底面上から差し上
げられる。
ーブ1から搬出されると、第2図および第4図に示され
ているように、プロセスチューブ1の前後部において回
転ローラ15.16が支持台11.12により上昇され
、プロセスチューブ1が均熱管3内の底面上から差し上
げられる。
続いて、コントローラ19によって制御される回転駆動
装置17により回転ローラ15が伝動装置18を介して
回転され、プロセスチューブ1が所定の角度、すなわち
、90度またはその奇数倍の角度、回動される。このと
き、プロセスチューブ1の実際に回動された角度が位置
センサ20により測定され、その実測値がコントローラ
19に送信されることにより、回転駆動装置17がフィ
ードバック制御されるため、プロセスチューブ1は所定
角度正確に回動される。
装置17により回転ローラ15が伝動装置18を介して
回転され、プロセスチューブ1が所定の角度、すなわち
、90度またはその奇数倍の角度、回動される。このと
き、プロセスチューブ1の実際に回動された角度が位置
センサ20により測定され、その実測値がコントローラ
19に送信されることにより、回転駆動装置17がフィ
ードバック制御されるため、プロセスチューブ1は所定
角度正確に回動される。
その後、回転ローラ15.16が支持台11.12によ
り下降され、プロセスチューブ1が均熱管3内の底面上
に載置される。このとき、回転ローラ15.16は垂直
に上下動されるため、プロセスチューブlにおける軸心
の均熱管3およびヒータ4の軸心に対する位置は、垂直
かつ平行を精密に維持されることになる。したがって、
プロセスチューブ1の偏心に伴って発生するプロセスチ
ューブ1の変形や、加熱の偏り等を防止することができ
るとともに、ウェハの搬入搬出装置との関係を適正に維
持することができる。
り下降され、プロセスチューブ1が均熱管3内の底面上
に載置される。このとき、回転ローラ15.16は垂直
に上下動されるため、プロセスチューブlにおける軸心
の均熱管3およびヒータ4の軸心に対する位置は、垂直
かつ平行を精密に維持されることになる。したがって、
プロセスチューブ1の偏心に伴って発生するプロセスチ
ューブ1の変形や、加熱の偏り等を防止することができ
るとともに、ウェハの搬入搬出装置との関係を適正に維
持することができる。
このようにして、プロセスチューブ1が90度または9
0度の奇数倍の角度だけ回動されると、今まで天井壁に
位置していた部分が側壁に位置することになる。そして
、このプロセスチューブlの回動が、例えば1処理毎に
繰り返されることにより、天井壁に位置する部分はプロ
セスチューブ1において常に移り替わるため、天井壁の
垂れ下がりは抑止ないしは抑制されることになる。した
がって、プロセスチューブの垂れ下がり変形部分にウェ
ハ群の上側部分が接触し、プロセスチューブからのウェ
ハ群の搬出が困難になったり、プロセスチューブが損傷
されたりする等の弊害の発生は未然に防止されたことに
なる。
0度の奇数倍の角度だけ回動されると、今まで天井壁に
位置していた部分が側壁に位置することになる。そして
、このプロセスチューブlの回動が、例えば1処理毎に
繰り返されることにより、天井壁に位置する部分はプロ
セスチューブ1において常に移り替わるため、天井壁の
垂れ下がりは抑止ないしは抑制されることになる。した
がって、プロセスチューブの垂れ下がり変形部分にウェ
ハ群の上側部分が接触し、プロセスチューブからのウェ
ハ群の搬出が困難になったり、プロセスチューブが損傷
されたりする等の弊害の発生は未然に防止されたことに
なる。
前記実施例によれば次の効果が得られる。
(1) プロセスチューブを周方向に回転させること
により、プロセスチューブにおいて天井壁に位置する部
分を移し替えることができるため、高温度処理中に自重
によってプロセスチューブの天井壁部分が垂れ下がり変
形してしまう事態が発生するのを防止することができる
。
により、プロセスチューブにおいて天井壁に位置する部
分を移し替えることができるため、高温度処理中に自重
によってプロセスチューブの天井壁部分が垂れ下がり変
形してしまう事態が発生するのを防止することができる
。
(2)高温度熱処理中におけるプロセスチューブの天井
壁についての垂れ下がり変形を防止することにより、天
井壁が被処理物に接触して被処理物の搬入搬出を妨害す
る事故や、プロセスチューブの損傷事故等のような弊害
の発生を未然に防止することができるため、作業性の低
下を回避することができるとともに、プロセスチューブ
全体としての寿命を延長させることができる。
壁についての垂れ下がり変形を防止することにより、天
井壁が被処理物に接触して被処理物の搬入搬出を妨害す
る事故や、プロセスチューブの損傷事故等のような弊害
の発生を未然に防止することができるため、作業性の低
下を回避することができるとともに、プロセスチューブ
全体としての寿命を延長させることができる。
(3)プロセスチューブを回転させる回転装置を垂直に
上下動するように構成することにより、プロセスチュー
ブの均熱管およびヒータに対する軸心関係を回転前後に
おいて精密に維持することができるため、プロセスチュ
ーブの偏心に伴って発生するプロセスチューブの変形や
加熱の偏り等を防止することができるとともに、プロセ
スチューブへのウェハの搬入搬出装置との関係を適正に
維持することができる。
上下動するように構成することにより、プロセスチュー
ブの均熱管およびヒータに対する軸心関係を回転前後に
おいて精密に維持することができるため、プロセスチュ
ーブの偏心に伴って発生するプロセスチューブの変形や
加熱の偏り等を防止することができるとともに、プロセ
スチューブへのウェハの搬入搬出装置との関係を適正に
維持することができる。
(4)プロセスチューブ、均熱管、ヒータおよびウェハ
の搬入・搬出装置の構造並びにそれらの機能等を変更し
なくて済むため、設備費や維持管理費の増加を抑制する
ことができるとともに、加熱処理についての精度の低下
等を回避することができる。
の搬入・搬出装置の構造並びにそれらの機能等を変更し
なくて済むため、設備費や維持管理費の増加を抑制する
ことができるとともに、加熱処理についての精度の低下
等を回避することができる。
(5)プロセスチューブを自動的に回転させることによ
り、プロセスチューブを手作業で回転させなくて済むた
め、作業の安全性の低下を回避することができるととも
に、作業の精度および信頼性を高めることができる。
り、プロセスチューブを手作業で回転させなくて済むた
め、作業の安全性の低下を回避することができるととも
に、作業の精度および信頼性を高めることができる。
〔実施例2〕
第5図は本発明の他の実施例である拡散装置を示す縦断
面図、第6図はその一部切断正面図である。
面図、第6図はその一部切断正面図である。
本実施例2が前記実施例1と異なる点は、回転装置10
Aが熱処理中においても、プロセスチューブ1をガス供
給口8に接続されたフレキシブルチューブ(図示せず)
の許容範囲(例えば、90度〜360度程度)内で往復
回動させ得るように構成されているとともに、熱処理中
、ウェハ5群がカンチレバー6Aによりプロセスチュー
ブ1の底面から浮き上げられて支持されるようになって
いる点にある。
Aが熱処理中においても、プロセスチューブ1をガス供
給口8に接続されたフレキシブルチューブ(図示せず)
の許容範囲(例えば、90度〜360度程度)内で往復
回動させ得るように構成されているとともに、熱処理中
、ウェハ5群がカンチレバー6Aによりプロセスチュー
ブ1の底面から浮き上げられて支持されるようになって
いる点にある。
本実施例において、熱処理中、プロセスチューブ1が回
転装置10Aにより往復回動されるため、プロセスチュ
ーブ1の天井壁に位置する部分は常に1多り替わってい
ることになる。したがって、プロセスチューブ1のうち
最も高温度になる部分である天井壁が垂れ下がることは
防止される。このとき、プロセスチューブlはガス供給
口8に接続されたフレキシブルチューブ(図示せず)の
許容範囲内で往復回動されるため、ガス供給口8からの
ガス供給については何らの支障は発生しないし、発塵も
ない、また、プロセスチューブl内において、ウェハ5
群はプロセスチューブ1の底面から浮かされて支持され
ているため、プロセスチューブ1の回転がウェハ5群に
よって妨げられることはない。
転装置10Aにより往復回動されるため、プロセスチュ
ーブ1の天井壁に位置する部分は常に1多り替わってい
ることになる。したがって、プロセスチューブ1のうち
最も高温度になる部分である天井壁が垂れ下がることは
防止される。このとき、プロセスチューブlはガス供給
口8に接続されたフレキシブルチューブ(図示せず)の
許容範囲内で往復回動されるため、ガス供給口8からの
ガス供給については何らの支障は発生しないし、発塵も
ない、また、プロセスチューブl内において、ウェハ5
群はプロセスチューブ1の底面から浮かされて支持され
ているため、プロセスチューブ1の回転がウェハ5群に
よって妨げられることはない。
本実施例2によれば、前記実施例1と同様にプロセスチ
ューブの天井壁に相当する部分の垂れ下がりを防止する
ことができるため、天井壁に相当する部分がウェハに接
触してウェハの搬入搬出を妨害する事故や、プロセスチ
ューブの損傷事故等のような弊害の発生を未然に防止す
ることができる。
ューブの天井壁に相当する部分の垂れ下がりを防止する
ことができるため、天井壁に相当する部分がウェハに接
触してウェハの搬入搬出を妨害する事故や、プロセスチ
ューブの損傷事故等のような弊害の発生を未然に防止す
ることができる。
以上本発明者によってなされた発明を実施例に基づき具
体的に説明したが、本発明は前記実施例に限定されるも
のではなく、その要旨を逸脱しない範囲で種々変更可能
であることはいうまでもない。
体的に説明したが、本発明は前記実施例に限定されるも
のではなく、その要旨を逸脱しない範囲で種々変更可能
であることはいうまでもない。
例えば、プロセスチューブを周方向に回転させるための
回転装置としては、前記実施例1.2に開示されている
構成のもの使用するに限らず、プロセスチューブをベル
トやチェーン等により吊持して回転させるように構成さ
れているもの等を使用してもよい。
回転装置としては、前記実施例1.2に開示されている
構成のもの使用するに限らず、プロセスチューブをベル
トやチェーン等により吊持して回転させるように構成さ
れているもの等を使用してもよい。
以上の説明では主として本発明者によってなされた発明
をその背景となった利用分野である拡散装置に適用した
場合について説明したが、それに限定されるものではな
く、低圧CVD装置、アニーリング装置、その他の熱処
理装置全般に適用することができる。
をその背景となった利用分野である拡散装置に適用した
場合について説明したが、それに限定されるものではな
く、低圧CVD装置、アニーリング装置、その他の熱処
理装置全般に適用することができる。
本願において開示される発明のうち代表的なものによっ
て得られる効果を簡単に説明すれば、次の通りである。
て得られる効果を簡単に説明すれば、次の通りである。
プロセスチューブを周方向に回転させることにより、プ
ロセスチューブにおいて天井壁に位置する部分を移し替
えることができるため、高温度処理中に自重によってプ
ロセスチューブの天井壁部分が垂れ下がり変形してしま
う事態が発生するのを防止することができる。高温度熱
処理中におけるプロセスチューブの天井壁についての垂
れ下がり変形を防止することにより、天井壁が被処理物
に接触して被処理物の搬入搬出を妨害する事故や、プロ
セスチューブの損傷事故等のような弊害の発生を未然に
防止することができるため、作業性の低下を回避するこ
とができるとともに、プロセスチューブ全体としての寿
命を延長させることができる。また、プロセスチューブ
を自動的に回転させることができるため、無人化により
、作業の安全性精度および信頬性を高めることができる
。
ロセスチューブにおいて天井壁に位置する部分を移し替
えることができるため、高温度処理中に自重によってプ
ロセスチューブの天井壁部分が垂れ下がり変形してしま
う事態が発生するのを防止することができる。高温度熱
処理中におけるプロセスチューブの天井壁についての垂
れ下がり変形を防止することにより、天井壁が被処理物
に接触して被処理物の搬入搬出を妨害する事故や、プロ
セスチューブの損傷事故等のような弊害の発生を未然に
防止することができるため、作業性の低下を回避するこ
とができるとともに、プロセスチューブ全体としての寿
命を延長させることができる。また、プロセスチューブ
を自動的に回転させることができるため、無人化により
、作業の安全性精度および信頬性を高めることができる
。
第1図は本発明の一実施例である拡散装置を示す縦断面
図、 第2図はその作用を説明するための縦断面図、第3図お
よび第4図は同じく一部切断正面図および正面図である
。 第5図は本発明の他の実施例である拡散装置を示す縦断
面図、 第6図はその一部切断正面図である。 1・・・プロセスチューブ、2・・・処理室、3・・・
均熱管、4・・・ヒータ、5・・・ウェハ(被処理物)
、6・・・治具、6A・・・カンチレバー、7・・・キ
ャップ、8・・・ガス供給口、10、IOA・・・回転
装置、11.12・・・支持台、13.14・・・軸受
装置、15.16・・・回転ローラ、17・・・回転駆
動装置、18・・・伝動装置、19・・・コントローラ
、20・・・位置センサ。 第3図 ム 第4図
図、 第2図はその作用を説明するための縦断面図、第3図お
よび第4図は同じく一部切断正面図および正面図である
。 第5図は本発明の他の実施例である拡散装置を示す縦断
面図、 第6図はその一部切断正面図である。 1・・・プロセスチューブ、2・・・処理室、3・・・
均熱管、4・・・ヒータ、5・・・ウェハ(被処理物)
、6・・・治具、6A・・・カンチレバー、7・・・キ
ャップ、8・・・ガス供給口、10、IOA・・・回転
装置、11.12・・・支持台、13.14・・・軸受
装置、15.16・・・回転ローラ、17・・・回転駆
動装置、18・・・伝動装置、19・・・コントローラ
、20・・・位置センサ。 第3図 ム 第4図
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、プロセスチューブを周方向に回転させる回転装置を
備えていることを特徴とする熱処理装置。 2、回転装置が、プロセスチューブを90度またはその
奇数倍の角度宛、定期的に回転させるように構成されて
いることを特徴とする特許請求の範囲第1項記載の熱処
理装置。 3、回転装置が、プロセスチューブを往復回動させるよ
うに構成されていることを特徴とする特許請求の範囲第
1項記載の熱処理装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP18361088A JPH0233922A (ja) | 1988-07-25 | 1988-07-25 | 熱処理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP18361088A JPH0233922A (ja) | 1988-07-25 | 1988-07-25 | 熱処理装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0233922A true JPH0233922A (ja) | 1990-02-05 |
Family
ID=16138806
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP18361088A Pending JPH0233922A (ja) | 1988-07-25 | 1988-07-25 | 熱処理装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0233922A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
USRE38095E1 (en) | 1998-10-19 | 2003-04-29 | Mario Fabris | Sizing roll stand for a steel mill |
-
1988
- 1988-07-25 JP JP18361088A patent/JPH0233922A/ja active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
USRE38095E1 (en) | 1998-10-19 | 2003-04-29 | Mario Fabris | Sizing roll stand for a steel mill |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR100256512B1 (ko) | 진공처리장치 | |
JPH04179223A (ja) | 熱処理装置 | |
JPH0669314A (ja) | ウエハボート回転装置 | |
JP3069575B2 (ja) | 縦型熱処理装置 | |
JPH0233922A (ja) | 熱処理装置 | |
KR20120040084A (ko) | 진공처리장치 및 진공처리방법 | |
KR100516553B1 (ko) | 다단가열판식 열처리장치 | |
JP2748155B2 (ja) | 熱処理装置 | |
TW202247334A (zh) | 用於在反應室內定位製程套組組件的固定裝置、半導體處理系統及方法 | |
JP2000269137A (ja) | 半導体製造装置及びウェハ取扱方法 | |
JP3507624B2 (ja) | 熱処理用ボ−ト及び熱処理装置 | |
JPH1163838A (ja) | ハイブリッド型熱処理装置 | |
JPH06260438A (ja) | 熱処理用ボート | |
JP2008117810A (ja) | 熱処理装置および熱処理装置における加熱条件取得方法 | |
JPH04125948A (ja) | 熱処理方法 | |
JP2742572B2 (ja) | 半導体ウェーハの縦型熱処理装置 | |
JP2984343B2 (ja) | 縦型熱処理装置 | |
JP2663301B2 (ja) | 熱処理装置 | |
JP2008085206A (ja) | 半導体ウェーハ熱処理用ボートおよび半導体ウェーハの熱処理方法 | |
JP2639435B2 (ja) | 熱処理装置 | |
JP2006253448A (ja) | 基板処理装置 | |
JP3164817B2 (ja) | 熱処理装置及びそのメンテナンス方法 | |
JPH03248418A (ja) | 縦型熱処理装置 | |
JP5291300B2 (ja) | ワーク処理装置 | |
JPH0499315A (ja) | 熱処理装置のボートの支持機構 |