JPH023169A - メモリ回路 - Google Patents
メモリ回路Info
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- JPH023169A JPH023169A JP63146187A JP14618788A JPH023169A JP H023169 A JPH023169 A JP H023169A JP 63146187 A JP63146187 A JP 63146187A JP 14618788 A JP14618788 A JP 14618788A JP H023169 A JPH023169 A JP H023169A
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- sin
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- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 10
- 230000003068 static effect Effects 0.000 description 8
- 230000004913 activation Effects 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 230000003321 amplification Effects 0.000 description 1
- 230000003111 delayed effect Effects 0.000 description 1
- 230000006870 function Effects 0.000 description 1
- 238000003199 nucleic acid amplification method Methods 0.000 description 1
- 230000003071 parasitic effect Effects 0.000 description 1
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、メモリ回路に関し、特に相補型MOSFET
(以下CMO8と略する)を用いたメモリ回路に関す
る。
(以下CMO8と略する)を用いたメモリ回路に関す
る。
従来のCMOSメモリ回路の部分回路を第8図に示ス。
第8図はCMOSスタティックメモリの読み出しに関係
する回路部分だけを取り出したものでC1〜C4はフリ
ップフロップにより構成されるスタティックメモリセル
、D、、D、、D、、D、はデイジット線、W、、W2
はワード線、C1〜C4はディジット線負荷トランジス
タ、Y 1. Y 2はYアドレス信号線、Qs、Qs
、Qg、Qeは差動型センスアンプの駆動トランジスタ
% Qt+ Q+。はセンスアンプの活性化トランジス
タ% Bll B2は各々4つのメモリセルからなるブ
ロック、Qlll Q12はブロックB、のセンスアン
プの負荷トランジスタ、Q+s+ Q14はブロックB
2のセンスアンプの負荷トランジスタ、RBI、π百1
.RB2.π百■は各々ブロック1.ブロック2のリー
ドバス、BSl、BS2は各々ブロックl、ブロック2
を選択する選択信号、QIS〜q+rはブロック1又は
2のリードバスのうち一方をブロック選択信号BS1、
ES2によって選択してセンスアンプSAの入力線SI
N、SINに接続するトランスファーゲートである。こ
こでブロックB1には4つのメモリセルしか含まれてい
ないが、これは簡単の為にこうしただけであって、通常
数百側のメモリセルが含まれている。また、このように
メモリセルを複数のブロックに分割するのはデイジット
線に設ケたセンスアンプのリードバスの配線の寄生!抗
、容量を減らして動作を高速化する為であり昨今のメモ
リの大容量化とともに広く用いられるようになってきた
技術である。
する回路部分だけを取り出したものでC1〜C4はフリ
ップフロップにより構成されるスタティックメモリセル
、D、、D、、D、、D、はデイジット線、W、、W2
はワード線、C1〜C4はディジット線負荷トランジス
タ、Y 1. Y 2はYアドレス信号線、Qs、Qs
、Qg、Qeは差動型センスアンプの駆動トランジスタ
% Qt+ Q+。はセンスアンプの活性化トランジス
タ% Bll B2は各々4つのメモリセルからなるブ
ロック、Qlll Q12はブロックB、のセンスアン
プの負荷トランジスタ、Q+s+ Q14はブロックB
2のセンスアンプの負荷トランジスタ、RBI、π百1
.RB2.π百■は各々ブロック1.ブロック2のリー
ドバス、BSl、BS2は各々ブロックl、ブロック2
を選択する選択信号、QIS〜q+rはブロック1又は
2のリードバスのうち一方をブロック選択信号BS1、
ES2によって選択してセンスアンプSAの入力線SI
N、SINに接続するトランスファーゲートである。こ
こでブロックB1には4つのメモリセルしか含まれてい
ないが、これは簡単の為にこうしただけであって、通常
数百側のメモリセルが含まれている。また、このように
メモリセルを複数のブロックに分割するのはデイジット
線に設ケたセンスアンプのリードバスの配線の寄生!抗
、容量を減らして動作を高速化する為であり昨今のメモ
リの大容量化とともに広く用いられるようになってきた
技術である。
さてこの従来回路ではワード線とYアドレス線によって
選択されたメモリセルのデータがセンスアンプにより増
幅されリードバスRBI、RBI。
選択されたメモリセルのデータがセンスアンプにより増
幅されリードバスRBI、RBI。
RB2.πB2に現われる。そしてこのデータをブロッ
ク選択信号BSI、BS2でどちらか一方だけ選択して
次段のセンスアンプSAの入力信号線SIN、SINに
接続するわけである。
ク選択信号BSI、BS2でどちらか一方だけ選択して
次段のセンスアンプSAの入力信号線SIN、SINに
接続するわけである。
上述した従来のCMOSスタティックメモリではリード
バスRBI、RBI、RB2.RB2のデータをセンス
アンプSAの入力信号線SIN。
バスRBI、RBI、RB2.RB2のデータをセンス
アンプSAの入力信号線SIN。
SINに接続する為にPチャンネル型MOSFETQ+
5〜Q18から成るトランスファーゲートを用いている
為リードバスとSIN、SINの振幅は同一でかつリー
ドバスよりSIN、SINは遅れてしまうという問題点
があった。
5〜Q18から成るトランスファーゲートを用いている
為リードバスとSIN、SINの振幅は同一でかつリー
ドバスよりSIN、SINは遅れてしまうという問題点
があった。
本発明のメモリ回路は2組以上の相補のデータ線対のう
ちの一組をアドレス信号をデコードした選択信号をゲー
ト入力とするトランスファーゲートにより選択して相補
のデータバス線対に接続するように構成されたものであ
って、前記トランスファーゲートとしてPチャンネル型
MOSFETを用いるとともに、前記相補のデータバス
線対と接地間にNチャンネル型MOSFETを接続し、
該Nチャンネル型MOSFETのゲートに該Nチャンネ
ル型MOSFETのスレッショルド電圧より高い電圧を
供給するようにしたことを特徴とする。
ちの一組をアドレス信号をデコードした選択信号をゲー
ト入力とするトランスファーゲートにより選択して相補
のデータバス線対に接続するように構成されたものであ
って、前記トランスファーゲートとしてPチャンネル型
MOSFETを用いるとともに、前記相補のデータバス
線対と接地間にNチャンネル型MOSFETを接続し、
該Nチャンネル型MOSFETのゲートに該Nチャンネ
ル型MOSFETのスレッショルド電圧より高い電圧を
供給するようにしたことを特徴とする。
次に、本発明について第1図を参照して説明する。
第1図は本発明を用いたCMOSスタティックメモリの
部分回路図である。
部分回路図である。
第1図の回路が第8図に示した従来例と異なる点はセン
スアンプSAの入力信号線SIN、SINと接地間にN
チャンネル型M OS F E T Q 1s 。
スアンプSAの入力信号線SIN、SINと接地間にN
チャンネル型M OS F E T Q 1s 。
Q2゜が付加され、そのゲートが入出力が接続されたイ
ンバータエの出力に接続されているという点である。こ
の回路を用いることによりトランスファーゲー)QCs
〜Q1□の入力側であるリードバスRBI、RBI又は
RB2.RB2の信号電圧よりセンスアンプ入力信号線
SIN、SINの信号電圧を大きくすることができる。
ンバータエの出力に接続されているという点である。こ
の回路を用いることによりトランスファーゲー)QCs
〜Q1□の入力側であるリードバスRBI、RBI又は
RB2.RB2の信号電圧よりセンスアンプ入力信号線
SIN、SINの信号電圧を大きくすることができる。
以下に第2図〜第5図を用いてその動作原理を説明する
。
。
本発明の要点であるPチャンネル型トランスファーゲー
トとその出力端と接地間にNチャンネル型MOSFET
を接続した回路をとり出したものを第2図に示した。第
2図の回路と第1図との対応は次のようになっている。
トとその出力端と接地間にNチャンネル型MOSFET
を接続した回路をとり出したものを第2図に示した。第
2図の回路と第1図との対応は次のようになっている。
第1図におけるPチャンネル型トランスファーゲートQ
15〜Q1.は第2図のQlに相当し、またセンスアン
プSAの入力信号線SIN、SINと接地間のNチャン
ネル型M OS F E T Q 1e 、 Q z
。は第2図のQ2に相当する。第1図のトランスファー
ゲートQ1.〜Q + aは、動作時にはゲートに印加
されているBSI又はBS2が接地レベルになるので、
第2図ではQlのゲートは接地している。
15〜Q1.は第2図のQlに相当し、またセンスアン
プSAの入力信号線SIN、SINと接地間のNチャン
ネル型M OS F E T Q 1e 、 Q z
。は第2図のQ2に相当する。第1図のトランスファー
ゲートQ1.〜Q + aは、動作時にはゲートに印加
されているBSI又はBS2が接地レベルになるので、
第2図ではQlのゲートは接地している。
次に、第3図を用いて第2図の回路の動作を説明する。
第3図は出力端子OUTの電圧を横軸にとり縦軸にQl
(Q2)のドレイン電流をとったグラフであり、曲線
31は入力端子INの電圧がV IN ’の時のQlの
ドレイン電流と出力端子OUTの電圧の関係を表わし、
曲線32は入力端子INの電圧がVIHの時のQ、のド
レイン電流と出力端子OUTの電圧の関係を表わし、曲
線33はNチャンネル型M OS F E T Q
2のドレイン電流と出力端子OUTの電圧の関係を表わ
している。この図から入力端子電圧がVTNp v、N
’の時の出力電圧V。lJY+VOUT’を求めること
ができる。つまり入力端子電圧がvlNの時の出力電圧
は曲線32と33との交点の電圧であり、又、入力端子
電圧がV工、′の時の出力電圧は曲線31と33との交
点となる。この図かられかるようにNチャンネル型MO
SFETの飽和電流とトランスファーゲートの飽和電流
値をほぼ等しい値にし入力端子電圧の変化によりNチャ
ンネル型MOSFETの動作曲線との交点が大きく移動
するように設計することにより入力電圧より出力電圧を
大きな振幅にすることができる。
(Q2)のドレイン電流をとったグラフであり、曲線
31は入力端子INの電圧がV IN ’の時のQlの
ドレイン電流と出力端子OUTの電圧の関係を表わし、
曲線32は入力端子INの電圧がVIHの時のQ、のド
レイン電流と出力端子OUTの電圧の関係を表わし、曲
線33はNチャンネル型M OS F E T Q
2のドレイン電流と出力端子OUTの電圧の関係を表わ
している。この図から入力端子電圧がVTNp v、N
’の時の出力電圧V。lJY+VOUT’を求めること
ができる。つまり入力端子電圧がvlNの時の出力電圧
は曲線32と33との交点の電圧であり、又、入力端子
電圧がV工、′の時の出力電圧は曲線31と33との交
点となる。この図かられかるようにNチャンネル型MO
SFETの飽和電流とトランスファーゲートの飽和電流
値をほぼ等しい値にし入力端子電圧の変化によりNチャ
ンネル型MOSFETの動作曲線との交点が大きく移動
するように設計することにより入力電圧より出力電圧を
大きな振幅にすることができる。
第4図は第2図の回路の入力端子電圧と出力電圧との関
係を表わしたもので、入力電圧VINが4v前後で出力
電圧V。tlTが大きく変化することがわかる。
係を表わしたもので、入力電圧VINが4v前後で出力
電圧V。tlTが大きく変化することがわかる。
第5図は本発明の第2の実施例によるCMOSスタティ
ックメモリの部分回路図である。この回路構成は第1の
実施例と同じようにセンスアンプSAの入力信号線SI
N、SINと接地間にNチャンネル型M OS F E
T Q + * 、 Q 2゜を設けることにより
Pチャンネルトランスファーゲートの入力であるリード
バスRBI、RBI (RE2゜RB2)の信号電圧よ
りSIN、SINの信号電圧を大きくしたものであるが
、第1の実施例ではSIN、SINと接地間に設けられ
たNチャンネル型MO8F’ET Q、。l Qz。
ックメモリの部分回路図である。この回路構成は第1の
実施例と同じようにセンスアンプSAの入力信号線SI
N、SINと接地間にNチャンネル型M OS F E
T Q + * 、 Q 2゜を設けることにより
Pチャンネルトランスファーゲートの入力であるリード
バスRBI、RBI (RE2゜RB2)の信号電圧よ
りSIN、SINの信号電圧を大きくしたものであるが
、第1の実施例ではSIN、SINと接地間に設けられ
たNチャンネル型MO8F’ET Q、。l Qz。
のゲートをインバータエの出力電圧で制御していたのに
対して、第2の実施例ではQ21〜Q2Sから成る回路
により制御している点が異なっている。
対して、第2の実施例ではQ21〜Q2Sから成る回路
により制御している点が異なっている。
次にこの回路の動作を第6図、第7図を用いて説明する
。
。
第6図は第5図の回路のRBI、πBl〜SIN。
SINの間のQ 1s〜Q25により構成された部分を
抜き出したものである。但し、第5図の回路の動作では
BSIとBS2はどちらか一方だけが選択(つまりレベ
ル)されているのでPチャンネル型MOSFETは一組
、4個のみが第6図では記されている。また第6図にお
いては各MOSFETのサイズを下記の様に選ぶ。
抜き出したものである。但し、第5図の回路の動作では
BSIとBS2はどちらか一方だけが選択(つまりレベ
ル)されているのでPチャンネル型MOSFETは一組
、4個のみが第6図では記されている。また第6図にお
いては各MOSFETのサイズを下記の様に選ぶ。
Qlのサイズ=Q2のサイズ・・・・・・(1)Qlの
サイズ” Q 4のサイズ・・・・・・(2)Q、のサ
イズ=Q、のサイズ・・・・・・(3)Qlのサイズ:
Q、のサイズ= Qlのサイズ:JrXQlのサイズ・・・・・・(4)
またQl、Q2とQ 3 、 Q 4の飽和電流をほぼ
等しくなるようにすることは第一の実施例と同様である
。
サイズ” Q 4のサイズ・・・・・・(2)Q、のサ
イズ=Q、のサイズ・・・・・・(3)Qlのサイズ:
Q、のサイズ= Qlのサイズ:JrXQlのサイズ・・・・・・(4)
またQl、Q2とQ 3 、 Q 4の飽和電流をほぼ
等しくなるようにすることは第一の実施例と同様である
。
次に第7図を用いて第6図の回路の動作を説明する。
第7図は第3図と同様に横軸に電圧を縦軸に電流をとっ
たもので曲線71はPチャンネルMOSFET Q2
のソースがVπの時のドレイン電圧とドレイン電流の関
係を表わし、曲線72はPチャンネルMOSFET
Q、のソースがvlNの時のドレイン電圧とドレイン電
流の関係を表わし、曲線73はNチャンネルM OS
F E T Q s及びQ4のドレイン電圧とドレイ
ン電流の関係を表わし、曲線74はPチャンネル型MO
SFET QsとQ、のドレイン電圧とQ s 、
Q sを流れるドレイン電流の和の電流の関係を表わし
曲線75はNチャンネル型MOSFET Q、のドレ
イン電圧(=ゲート電圧)とドレイン電流との関係を表
わしている。
たもので曲線71はPチャンネルMOSFET Q2
のソースがVπの時のドレイン電圧とドレイン電流の関
係を表わし、曲線72はPチャンネルMOSFET
Q、のソースがvlNの時のドレイン電圧とドレイン電
流の関係を表わし、曲線73はNチャンネルM OS
F E T Q s及びQ4のドレイン電圧とドレイ
ン電流の関係を表わし、曲線74はPチャンネル型MO
SFET QsとQ、のドレイン電圧とQ s 、
Q sを流れるドレイン電流の和の電流の関係を表わし
曲線75はNチャンネル型MOSFET Q、のドレ
イン電圧(=ゲート電圧)とドレイン電流との関係を表
わしている。
第7図のグラフではQ5.Q、のサイズはQl。
Q2の1/2としQ7のサイズはQl、Q−と同じであ
ると仮定している。従って曲線74は曲線71と72と
のほぼ中間に位置し、また曲線73と75は電圧がVR
IIPの所で交わることになる。第6図の回路の出力電
圧V。。Tr VOIJ?は第3図の場合と同じように
して各々曲線72と73の交点及び曲線71と73の交
点となる。このように第6図の回路ではNチャンネル型
M OS F E T Q s 、 Q 4のゲート電
圧が、出力電圧V。UTとVOUTの中間の値に自動的
に設定され、かつ入力電圧V IN r−が変化した場
合でもそれに応じてQl、Q、のゲート電圧が変化する
為、第1の実施例よりも動作余裕が大きく使いやすいと
いう特徴がある。しかしながら−見して明らかなように
本実施例は構成するのに必要なMOSFETの数が多く
チップ面積の増大を招くため用途に応じて第一、第二の
実施例の回路を使いわけることが望ましい。
ると仮定している。従って曲線74は曲線71と72と
のほぼ中間に位置し、また曲線73と75は電圧がVR
IIPの所で交わることになる。第6図の回路の出力電
圧V。。Tr VOIJ?は第3図の場合と同じように
して各々曲線72と73の交点及び曲線71と73の交
点となる。このように第6図の回路ではNチャンネル型
M OS F E T Q s 、 Q 4のゲート電
圧が、出力電圧V。UTとVOUTの中間の値に自動的
に設定され、かつ入力電圧V IN r−が変化した場
合でもそれに応じてQl、Q、のゲート電圧が変化する
為、第1の実施例よりも動作余裕が大きく使いやすいと
いう特徴がある。しかしながら−見して明らかなように
本実施例は構成するのに必要なMOSFETの数が多く
チップ面積の増大を招くため用途に応じて第一、第二の
実施例の回路を使いわけることが望ましい。
以上説明したように本発明はPチャンネル型MOSFE
Tを用いたトランスファーゲートの出力端と接地との間
にNチャンネル型MOSFETを設け、そのゲート電圧
を該Nチャンネル型MOSFETのスレッショルド電圧
より高い電圧を供給することによりトランスファーゲー
トの出力側の電圧振幅を入力側より大きくすることがで
きるという効果がある。
Tを用いたトランスファーゲートの出力端と接地との間
にNチャンネル型MOSFETを設け、そのゲート電圧
を該Nチャンネル型MOSFETのスレッショルド電圧
より高い電圧を供給することによりトランスファーゲー
トの出力側の電圧振幅を入力側より大きくすることがで
きるという効果がある。
従来トランスファーゲートは単なるスイッチングマトリ
ックスとしての機能を有しているのみであり、遅延時間
を増大させていたが本発明による回路を用いれば、トラ
ンスファーゲートに増幅機能を持たせることができる為
、メモリ回路の読み出し用のセンスアンプの段数を減ら
すことができ消費電力、チップ面積、遅延時間の低減が
可能となる。
ックスとしての機能を有しているのみであり、遅延時間
を増大させていたが本発明による回路を用いれば、トラ
ンスファーゲートに増幅機能を持たせることができる為
、メモリ回路の読み出し用のセンスアンプの段数を減ら
すことができ消費電力、チップ面積、遅延時間の低減が
可能となる。
第1図は本発明の第1の実施例によるCMOSスタティ
ックメモリの部分回路図、第2図、第3図、第4図は本
発明の第1の実施例の回路の動作を説明する図、第5図
は本発明の第2の実施例によるCMOSスタティックメ
モリの部分回路図、第6図、第7図は本発明の第2の実
施例の回路動作を説明する図、第8図は従来のCMOS
スタティックメモリの部分回路図である。 第1図、第5図、第8図において Q1〜Q、・・・・・・ディジット線負荷MOSFET
、C1〜C4・・・・・・メモリセル% W、、W2・
・・・・・ワード線、D、、 「、Dz、Dz・・・・
・・デイジット線、Yl。 Y2・・・・・・Yアドレス選択信号線、Qs、 Qa
+ Qs。 Q、・・・・・・センスアンプの駆動用MOSFET、
Q、。 Ql。・・・・・・センスアンプの活性化MOSFET
、B、。 B2・・・・・・セルアレイブロック、Qn、Ql□・
・・・・・ブロック1のセンスアンプ負荷M OS F
E T 。 Q 131 C14・・・・・・ブロック2のセンスア
ンプ負荷MOSFET%BSI、BS2・・・・・・セ
ルアレイブロック選択信号、SIN、SIN・・・・・
・センスアンプSAの入力信号、SA・・・・・・セン
スアンプ% Ql#〜Q1g・・・・・・トランスファ
ーゲートMOSFET、Qn、、Qzo−−Nチャンネ
ル型MOSFET第1図において 工・・・・・・イン
バータ第5図において Qz+〜Q25・・・・・・N
チャンネル型MOSFETQ+s、C2゜のゲート電圧
発生用MOSFET。 代理人 弁理士 内 原 晋 第1刺 Vρ117 ¥540 N ガタ図 θ(J7 ′rJ3図 θ0r y5’を図
ックメモリの部分回路図、第2図、第3図、第4図は本
発明の第1の実施例の回路の動作を説明する図、第5図
は本発明の第2の実施例によるCMOSスタティックメ
モリの部分回路図、第6図、第7図は本発明の第2の実
施例の回路動作を説明する図、第8図は従来のCMOS
スタティックメモリの部分回路図である。 第1図、第5図、第8図において Q1〜Q、・・・・・・ディジット線負荷MOSFET
、C1〜C4・・・・・・メモリセル% W、、W2・
・・・・・ワード線、D、、 「、Dz、Dz・・・・
・・デイジット線、Yl。 Y2・・・・・・Yアドレス選択信号線、Qs、 Qa
+ Qs。 Q、・・・・・・センスアンプの駆動用MOSFET、
Q、。 Ql。・・・・・・センスアンプの活性化MOSFET
、B、。 B2・・・・・・セルアレイブロック、Qn、Ql□・
・・・・・ブロック1のセンスアンプ負荷M OS F
E T 。 Q 131 C14・・・・・・ブロック2のセンスア
ンプ負荷MOSFET%BSI、BS2・・・・・・セ
ルアレイブロック選択信号、SIN、SIN・・・・・
・センスアンプSAの入力信号、SA・・・・・・セン
スアンプ% Ql#〜Q1g・・・・・・トランスファ
ーゲートMOSFET、Qn、、Qzo−−Nチャンネ
ル型MOSFET第1図において 工・・・・・・イン
バータ第5図において Qz+〜Q25・・・・・・N
チャンネル型MOSFETQ+s、C2゜のゲート電圧
発生用MOSFET。 代理人 弁理士 内 原 晋 第1刺 Vρ117 ¥540 N ガタ図 θ(J7 ′rJ3図 θ0r y5’を図
Claims (1)
- 2組以上の相補のデータ線対のうちの一組をアドレス
信号をデコードした選択信号をゲート入力とするトラン
スファーゲートにより選択して相補のデータバス線対に
接続するように構成されたメモリ回路において前記トラ
ンスファーゲートとしてPチャンネル型MOSFETを
用いるとともに前記相補のデータバス線対と接地間にN
チャンネル型MOSFETを接続し、該Nチャンネル型
MOSFETのゲートに該Nチャンネル型MOSFET
のスレッショルド電圧より高い電圧を供給するようにし
たことを特徴とするメモリ回路。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63146187A JPH0766668B2 (ja) | 1988-06-13 | 1988-06-13 | メモリ回路 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63146187A JPH0766668B2 (ja) | 1988-06-13 | 1988-06-13 | メモリ回路 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH023169A true JPH023169A (ja) | 1990-01-08 |
JPH0766668B2 JPH0766668B2 (ja) | 1995-07-19 |
Family
ID=15402103
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP63146187A Expired - Fee Related JPH0766668B2 (ja) | 1988-06-13 | 1988-06-13 | メモリ回路 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0766668B2 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US11619426B2 (en) | 2018-03-07 | 2023-04-04 | Enersion Inc. | Adsorption-based heat pump |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6358697A (ja) * | 1986-08-29 | 1988-03-14 | Toshiba Corp | スタテイツク型半導体記憶装置 |
-
1988
- 1988-06-13 JP JP63146187A patent/JPH0766668B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6358697A (ja) * | 1986-08-29 | 1988-03-14 | Toshiba Corp | スタテイツク型半導体記憶装置 |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US11619426B2 (en) | 2018-03-07 | 2023-04-04 | Enersion Inc. | Adsorption-based heat pump |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0766668B2 (ja) | 1995-07-19 |
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