JPH0230082B2 - Jikihetsudo - Google Patents
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- JPH0230082B2 JPH0230082B2 JP6339981A JP6339981A JPH0230082B2 JP H0230082 B2 JPH0230082 B2 JP H0230082B2 JP 6339981 A JP6339981 A JP 6339981A JP 6339981 A JP6339981 A JP 6339981A JP H0230082 B2 JPH0230082 B2 JP H0230082B2
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Links
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/1278—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive specially adapted for magnetisations perpendicular to the surface of the record carrier
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Magnetic Heads (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は磁気ヘツドに係り、さらに詳しくは磁
気記録媒体面に垂直な方向に磁化を行つて磁気記
録をする主磁極と補助磁極とを有する磁気ヘツド
に関するものである。
気記録媒体面に垂直な方向に磁化を行つて磁気記
録をする主磁極と補助磁極とを有する磁気ヘツド
に関するものである。
近年高密度磁気記録達成の新しい方式として垂
直型磁気記録方式が注目を集めている。この方式
は磁気記録媒体面に対して垂直方向に磁化容易軸
を有する薄膜磁気記録媒体を用いて主磁極（記録
再生極）と補助磁極（励磁極）からなる磁気ヘツ
ドを用いて記録再生を行う方式である。
直型磁気記録方式が注目を集めている。この方式
は磁気記録媒体面に対して垂直方向に磁化容易軸
を有する薄膜磁気記録媒体を用いて主磁極（記録
再生極）と補助磁極（励磁極）からなる磁気ヘツ
ドを用いて記録再生を行う方式である。
従来の磁気記録媒体面に平行な方向に磁化を行
つて記録をする面内記録方式では媒体走行方向に
対して1μｍ程度の波長しか記録再生できなかつ
たが、垂直磁気記録方式を採用すると0.3μｍ程度
の波長の記録再生を行うことができ、さらに高密
度の記録を行う可能性を持つている。
つて記録をする面内記録方式では媒体走行方向に
対して1μｍ程度の波長しか記録再生できなかつ
たが、垂直磁気記録方式を採用すると0.3μｍ程度
の波長の記録再生を行うことができ、さらに高密
度の記録を行う可能性を持つている。
この垂直磁気記録方式の概略を第１図ａ〜ｃを
用いて説明する。
用いて説明する。
第１図ａに示す従来例は主磁極１０１と補助磁
極１０２を磁気記録媒体１０３を挾んで配置した
構造を有する。主磁極１０１は通常パーマロイな
どの高透磁率材料を1μｍ程度の厚みにした薄膜
が用いられ、その先端である符号Ａで示す部分に
よつて記録再生が行われる。
極１０２を磁気記録媒体１０３を挾んで配置した
構造を有する。主磁極１０１は通常パーマロイな
どの高透磁率材料を1μｍ程度の厚みにした薄膜
が用いられ、その先端である符号Ａで示す部分に
よつて記録再生が行われる。
補助磁極１０２は巻線１０５を有し、この巻線
１０５に通電することにより磁気記録媒体の磁化
反転に必要な起磁力が与えられる。この補助磁極
は高透磁率磁性材であるMnZnフエライトがよく
用いられる。
１０５に通電することにより磁気記録媒体の磁化
反転に必要な起磁力が与えられる。この補助磁極
は高透磁率磁性材であるMnZnフエライトがよく
用いられる。
磁気記録媒体１０３はベース１０９を有し、そ
の主磁極側の側面には0.5〜1μｍの厚みを有する
高透磁率磁性層１０８が形成されている。材質と
しては80％Niパーマロイ薄膜が用いられる。こ
の高透磁率磁性層１０８の表面には第１図ａにお
いて符号ｙで示す垂直方向に磁化容易軸を有する
0.5〜2μｍ程度の垂直記録層１０７が形成されて
いる。この垂直記録層１０７はCo−Cr合金がよ
く用いられる。垂直記録層１０７と高透磁率磁性
層１０８は垂直磁気記録を高密度に達成するため
の必要条件である。
の主磁極側の側面には0.5〜1μｍの厚みを有する
高透磁率磁性層１０８が形成されている。材質と
しては80％Niパーマロイ薄膜が用いられる。こ
の高透磁率磁性層１０８の表面には第１図ａにお
いて符号ｙで示す垂直方向に磁化容易軸を有する
0.5〜2μｍ程度の垂直記録層１０７が形成されて
いる。この垂直記録層１０７はCo−Cr合金がよ
く用いられる。垂直記録層１０７と高透磁率磁性
層１０８は垂直磁気記録を高密度に達成するため
の必要条件である。
第１図ｂに示す従来例は補助磁極１０２として
永久磁石を用い、補助磁極の巻線を省略し、記録
再生信号は主磁極１０１に施された巻線１０６に
よつて行なうものである。
永久磁石を用い、補助磁極の巻線を省略し、記録
再生信号は主磁極１０１に施された巻線１０６に
よつて行なうものである。
また、第１図ｃに示す従来例は主磁極１０１と
補助磁極１０２とを磁気記録媒体１０３に対して
同一側に配置したもので、補助磁極１０２は主磁
極１０１と磁気的に接続部材１０４を介して接続
されている。補助磁極１０２の主磁極１０１との
接続部材１０４と補助磁極１０２との間には永久
磁石１１０が介在される場合もある。
補助磁極１０２とを磁気記録媒体１０３に対して
同一側に配置したもので、補助磁極１０２は主磁
極１０１と磁気的に接続部材１０４を介して接続
されている。補助磁極１０２の主磁極１０１との
接続部材１０４と補助磁極１０２との間には永久
磁石１１０が介在される場合もある。
以上のような各種の構造の磁気ヘツドにおい
て、補助磁極１０２に与えられた起磁力による磁
力線は高透磁率磁性層１０８の主磁極近傍のＢ点
に集中し、主磁極１０１の先端部Ａに集束され、
垂直記録層１０７の磁化反転を行う。
て、補助磁極１０２に与えられた起磁力による磁
力線は高透磁率磁性層１０８の主磁極近傍のＢ点
に集中し、主磁極１０１の先端部Ａに集束され、
垂直記録層１０７の磁化反転を行う。
このような方式を採用すると、磁化が存在する
ことに伴う反磁界が高密度記録になるほどゼロに
近づくため、従来の面内記録方式に比較して著し
く記録密度が向上する。
ことに伴う反磁界が高密度記録になるほどゼロに
近づくため、従来の面内記録方式に比較して著し
く記録密度が向上する。
しかし、以上のような垂直磁気記録方式には次
のような欠点がある。
のような欠点がある。
(1) 補助磁極１０２の巻線１０５によつて起磁力
を与える場合には、インダクタンスが多く、周
波数特性が悪くなる。
を与える場合には、インダクタンスが多く、周
波数特性が悪くなる。
(2) 補助磁極を永久磁石とした場合には主磁極の
巻線１０６の巻数が多くできず、大電流が必要
である。
巻線１０６の巻数が多くできず、大電流が必要
である。
(3) 主磁極に施されている巻線による再生では、
出力が小さく信号処理が困難であつた。
出力が小さく信号処理が困難であつた。
(4) 第１図ｃに示すように、補助磁極中に永久磁
石を挿入する場合には、永久磁石材が厚いた
め、書込み効率及び再生効率が低下し、垂直記
録方式の長所を生かせなかつた。
石を挿入する場合には、永久磁石材が厚いた
め、書込み効率及び再生効率が低下し、垂直記
録方式の長所を生かせなかつた。
(5) 補助磁極の中に組込まれる永久磁石を薄いも
のとしようとすると、加工が困難で製造価格が
著しく増大する。
のとしようとすると、加工が困難で製造価格が
著しく増大する。
本発明は以上のような従来の欠点を除去するた
めになされたもので、製造工程を簡略化でき、耐
摩耗性を向上させ、高密度の磁気記録を行えるよ
うに構成した磁気ヘツドを提供することを目的と
している。
めになされたもので、製造工程を簡略化でき、耐
摩耗性を向上させ、高密度の磁気記録を行えるよ
うに構成した磁気ヘツドを提供することを目的と
している。
本発明においては上記の目的を達成するために
補助磁極の磁気記録媒体摺動面に薄膜堆積法によ
つて永久磁石薄膜を形成した構造を採用した。
補助磁極の磁気記録媒体摺動面に薄膜堆積法によ
つて永久磁石薄膜を形成した構造を採用した。
以下、図面に示す実施例に基づいて本発明の詳
細を説明する。
細を説明する。
第２図及び第３図は本発明の一実施例を説明す
るもので、図中第１図ａ〜ｃと同一部分には同一
符号を付してある。
るもので、図中第１図ａ〜ｃと同一部分には同一
符号を付してある。
本実施例にあつては主磁極１０１と磁気的に接
続された補助磁極１０２の磁気記録媒体摺動面に
永久磁石薄膜２０１が形成されている。この永久
磁石薄膜２０１は抵抗加熱蒸着、イオンプレーテ
イング、電子ビーム蒸着、スパツタリング、メツ
キ、CVDなどの薄膜堆積法で形成される。そし
て永久磁石薄膜２０１の磁化方向は垂直記録層１
０７の面に垂直となつている。
続された補助磁極１０２の磁気記録媒体摺動面に
永久磁石薄膜２０１が形成されている。この永久
磁石薄膜２０１は抵抗加熱蒸着、イオンプレーテ
イング、電子ビーム蒸着、スパツタリング、メツ
キ、CVDなどの薄膜堆積法で形成される。そし
て永久磁石薄膜２０１の磁化方向は垂直記録層１
０７の面に垂直となつている。
このような構造において永久磁石薄膜２０１の
厚みは垂直記録層１０７を磁化反転させる起磁力
が20ATである場合、材料としてSmCo合金を用
いると残留磁束密度Brが0.8テスラであるため、
約50μｍ程度である。
厚みは垂直記録層１０７を磁化反転させる起磁力
が20ATである場合、材料としてSmCo合金を用
いると残留磁束密度Brが0.8テスラであるため、
約50μｍ程度である。
残留磁束密度が0.8テスラより大であれば、も
つと薄くできる可能性があるが、0.8テスラより
小さければ、厚くする必要もある。
つと薄くできる可能性があるが、0.8テスラより
小さければ、厚くする必要もある。
一方、補助磁極１０２の巻線１０５による励磁
電流を多くし、この巻線に電流がない場合に磁化
反転が主磁極近傍で起きないようにする安定化の
ための配慮も必要であるが、このときは永久磁石
薄膜２０１はさらに薄くしなければならない。ど
んな材料を用いても200μｍ以下がよい。
電流を多くし、この巻線に電流がない場合に磁化
反転が主磁極近傍で起きないようにする安定化の
ための配慮も必要であるが、このときは永久磁石
薄膜２０１はさらに薄くしなければならない。ど
んな材料を用いても200μｍ以下がよい。
永久磁石材料は可逆化透磁率が低いため、永久
磁石薄膜が厚いと再生効率の低下を招くため、必
要起磁力の許される範囲内で薄い方がよい。
磁石薄膜が厚いと再生効率の低下を招くため、必
要起磁力の許される範囲内で薄い方がよい。
永久磁石薄膜２０１の材料としては永久磁石材
のすべてが可能である。しかし、可逆比透磁率が
１に近いものが磁化の安定性を考えると好都合で
ある。その意味では希土類、コバルト合金のBa
フエライト、Srフエライト、Co−Cr合金などが
よい。これらのうちで特にSmCo合金は残留磁束
密度が0.8〜1.2テスラと高く、保磁力も７×
105AT／ｍと大きく、可逆比透磁率がほぼ１で
あり、薄膜堆積も行なえ、きわめて好適である。
のすべてが可能である。しかし、可逆比透磁率が
１に近いものが磁化の安定性を考えると好都合で
ある。その意味では希土類、コバルト合金のBa
フエライト、Srフエライト、Co−Cr合金などが
よい。これらのうちで特にSmCo合金は残留磁束
密度が0.8〜1.2テスラと高く、保磁力も７×
105AT／ｍと大きく、可逆比透磁率がほぼ１で
あり、薄膜堆積も行なえ、きわめて好適である。
一方、Co−Cr合金は垂直記録層１０７に用い
られることが多いが、この物質も残留磁束密度が
高く、可逆比透磁率が１に近く、これを用いた場
合には垂直記録層１０７が直接接しても同一の材
料のため磁化反転が生じず、好適な材料である。
このようなことは垂直記録層と永久磁石薄膜とが
同一であれば一般に同じことが言える。
られることが多いが、この物質も残留磁束密度が
高く、可逆比透磁率が１に近く、これを用いた場
合には垂直記録層１０７が直接接しても同一の材
料のため磁化反転が生じず、好適な材料である。
このようなことは垂直記録層と永久磁石薄膜とが
同一であれば一般に同じことが言える。
永久磁石薄膜２０１の製法については膜厚が
200μｍ以下であるため薄膜堆積法がよい。また、
永久磁石薄膜２０１はテープ摺動面でもあるため
耐摩耗性も同時に要求される。したがつて、薄膜
堆積法の中でも硬い膜が得られるスパツタリン
グ、イオンプレーテイング、メツキ法などが適し
ている。永久磁石薄膜がこのような方法で形成さ
れると耐摩耗性が向上するため、補助磁極１０２
の耐摩耗性は問題にならず、材料選択の自由が拡
大する。
200μｍ以下であるため薄膜堆積法がよい。また、
永久磁石薄膜２０１はテープ摺動面でもあるため
耐摩耗性も同時に要求される。したがつて、薄膜
堆積法の中でも硬い膜が得られるスパツタリン
グ、イオンプレーテイング、メツキ法などが適し
ている。永久磁石薄膜がこのような方法で形成さ
れると耐摩耗性が向上するため、補助磁極１０２
の耐摩耗性は問題にならず、材料選択の自由が拡
大する。
薄膜堆積法の中でもメツキ法は成膜速度が大
で、量産性に優れている。
で、量産性に優れている。
以上のような構造を有する磁気ヘツドによる記
録原理を第３図のヒステリシスループを用いて説
明する。
録原理を第３図のヒステリシスループを用いて説
明する。
磁気記録媒体１０３の垂直記録層１０７は図示
していない消磁極などにより予め一方向に磁化さ
れ、第３図のＣ点にあるものとする。磁気記録媒
体が移動し、主磁極１０１の先端に近づくと永久
磁石薄膜２０１の起磁力によつてＤ点まで励磁さ
れている。補助磁極巻線１０５に電流が通電され
ると、その起磁力によりＥ点まで励磁され磁化反
転を生じ、最終的にはＦ点に到る。
していない消磁極などにより予め一方向に磁化さ
れ、第３図のＣ点にあるものとする。磁気記録媒
体が移動し、主磁極１０１の先端に近づくと永久
磁石薄膜２０１の起磁力によつてＤ点まで励磁さ
れている。補助磁極巻線１０５に電流が通電され
ると、その起磁力によりＥ点まで励磁され磁化反
転を生じ、最終的にはＦ点に到る。
補助磁極巻線１０５に電流が流れていなければ
Ｃ点に再び戻ることになる。このようにして補助
磁極巻線１０５に通電する電流量は永久磁石がな
い場合の1/2以下となり、電力消費は少なくなる。
Ｃ点に再び戻ることになる。このようにして補助
磁極巻線１０５に通電する電流量は永久磁石がな
い場合の1/2以下となり、電力消費は少なくなる。
なお、上記の実施例は主磁極と補助磁極が磁気
記録媒体の同一側に配置されている場合について
のみ説明したが、磁気記録媒体を挾んで配置され
る場合にも全く同様に適用することができる。
記録媒体の同一側に配置されている場合について
のみ説明したが、磁気記録媒体を挾んで配置され
る場合にも全く同様に適用することができる。
以上の説明から明らかなように、本発明によれ
ば補助磁極の先端に永久磁石薄膜が形成されてい
るため、補助磁極を励磁する電流量が少なくて済
み、巻線の巻数を少なくでき、インダクタンスを
減少でき、周波数特性が向上する。また、永久磁
石薄膜はきわめて薄いため、磁気記録時の磁力線
の閉ループが能率的に形成され、再生効率が向上
し、書込み効率も向上する。さらに、永久磁石薄
膜の形成が容易で低価格であり、耐摩耗性も向上
し、補助磁極の材料を磁気特性だけに注目して選
べるため、選択の自由度が拡大する。
ば補助磁極の先端に永久磁石薄膜が形成されてい
るため、補助磁極を励磁する電流量が少なくて済
み、巻線の巻数を少なくでき、インダクタンスを
減少でき、周波数特性が向上する。また、永久磁
石薄膜はきわめて薄いため、磁気記録時の磁力線
の閉ループが能率的に形成され、再生効率が向上
し、書込み効率も向上する。さらに、永久磁石薄
膜の形成が容易で低価格であり、耐摩耗性も向上
し、補助磁極の材料を磁気特性だけに注目して選
べるため、選択の自由度が拡大する。
第１図ａ〜ｃはそれぞれ異なつた従来構造を説
明する概略構成図、第２図は本発明の一実施例を
説明する概略構成図、第３図は記録原理を説明す
るヒステリシスループを示す線図である。 １０１……主磁極、１０２……補助磁性、１０
３……磁気記録媒体、１０５……巻線、１０７…
…垂直記録層、１０８……高透磁率磁性層。
明する概略構成図、第２図は本発明の一実施例を
説明する概略構成図、第３図は記録原理を説明す
るヒステリシスループを示す線図である。 １０１……主磁極、１０２……補助磁性、１０
３……磁気記録媒体、１０５……巻線、１０７…
…垂直記録層、１０８……高透磁率磁性層。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 媒体面に垂直な方向に磁化容易軸を有する磁
気記録媒体に対して主磁極と補助磁極を用いて磁
気記録を行う磁気ヘツドにおいて、前記補助磁極
の磁気記録媒体摺動面に薄膜堆積法によつて永久
磁石薄膜を形成したことを特徴とする磁気ヘツ
ド。 ２ 薄膜堆積法として、メツキ、スパツタリン
グ、イオンプレーテイングのいずれかを採用した
ことを特徴とする特許請求の範囲第１項記載の磁
気ヘツド。 ３ 薄膜堆積法によつて形成された永久磁石薄膜
の厚みが200μｍ以下であることを特徴とする特
許請求の範囲第１項記載の磁気ヘツド。 ４ 永久磁石薄膜の材質が磁気記録媒体と同一の
材質であることを特徴とする特許請求の範囲第１
項または第２項記載の磁気ヘツド。 ５ 永久磁石薄膜の材料としてSmCo合金、
CoCr合金、Baフエライト、Srフエライトのいず
れか、または複数組み合わせて用いたことを特徴
とする特許請求の範囲第１項記載の磁気ヘツド。
Priority Applications (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6339981A JPH0230082B2 (ja) | 1981-04-28 | 1981-04-28 | Jikihetsudo |
| DE19823213928 DE3213928A1 (de) | 1981-04-15 | 1982-04-15 | Senkrecht - magnetkopf |
| US06/705,049 US4649449A (en) | 1981-04-15 | 1985-02-25 | Perpendicular magnetic head |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6339981A JPH0230082B2 (ja) | 1981-04-28 | 1981-04-28 | Jikihetsudo |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS57179906A JPS57179906A (en) | 1982-11-05 |
| JPH0230082B2 true JPH0230082B2 (ja) | 1990-07-04 |
Family
ID=13228181
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6339981A Expired - Lifetime JPH0230082B2 (ja) | 1981-04-15 | 1981-04-28 | Jikihetsudo |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0230082B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS59162008A (ja) * | 1983-03-07 | 1984-09-12 | 北越製紙株式会社 | 木質ブロツク加工品の製造方法 |
| JP2004333217A (ja) * | 2003-05-02 | 2004-11-25 | Japan Science & Technology Agency | 磁界検出装置 |
-
1981
- 1981-04-28 JP JP6339981A patent/JPH0230082B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS57179906A (en) | 1982-11-05 |
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