JPH02300187A - 1―アザビシクロ[3.2.0]ヘプト―2―エン―2―カルボン酸化合物 - Google Patents
1―アザビシクロ[3.2.0]ヘプト―2―エン―2―カルボン酸化合物Info
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- C07D477/10—Heterocyclic compounds containing 1-azabicyclo [3.2.0] heptane ring systems, i.e. compounds containing a ring system of the formula:, e.g. carbapenicillins, thienamycins; Such ring systems being further condensed, e.g. 2,3-condensed with an oxygen-, nitrogen- or sulphur-containing hetero ring with hydrogen atoms, hydrocarbon or substituted hydrocarbon radicals, directly attached in position 4, and with a carbon atom having three bonds to hetero atoms with at the most one bond to halogen, e.g. an ester or nitrile radical, directly attached in position 2
- C07D477/12—Heterocyclic compounds containing 1-azabicyclo [3.2.0] heptane ring systems, i.e. compounds containing a ring system of the formula:, e.g. carbapenicillins, thienamycins; Such ring systems being further condensed, e.g. 2,3-condensed with an oxygen-, nitrogen- or sulphur-containing hetero ring with hydrogen atoms, hydrocarbon or substituted hydrocarbon radicals, directly attached in position 4, and with a carbon atom having three bonds to hetero atoms with at the most one bond to halogen, e.g. an ester or nitrile radical, directly attached in position 2 with hydrogen atoms, hydrocarbon or substituted hydrocarbon radicals, attached in position 6
- C07D477/14—Heterocyclic compounds containing 1-azabicyclo [3.2.0] heptane ring systems, i.e. compounds containing a ring system of the formula:, e.g. carbapenicillins, thienamycins; Such ring systems being further condensed, e.g. 2,3-condensed with an oxygen-, nitrogen- or sulphur-containing hetero ring with hydrogen atoms, hydrocarbon or substituted hydrocarbon radicals, directly attached in position 4, and with a carbon atom having three bonds to hetero atoms with at the most one bond to halogen, e.g. an ester or nitrile radical, directly attached in position 2 with hydrogen atoms, hydrocarbon or substituted hydrocarbon radicals, attached in position 6 with hydrogen atoms, hydrocarbon or substituted hydrocarbon radicals, attached in position 3
-
- A—HUMAN NECESSITIES
- A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
- A61P—SPECIFIC THERAPEUTIC ACTIVITY OF CHEMICAL COMPOUNDS OR MEDICINAL PREPARATIONS
- A61P31/00—Antiinfectives, i.e. antibiotics, antiseptics, chemotherapeutics
- A61P31/04—Antibacterial agents
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F7/00—Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table
- C07F7/02—Silicon compounds
- C07F7/08—Compounds having one or more C—Si linkages
- C07F7/18—Compounds having one or more C—Si linkages as well as one or more C—O—Si linkages
- C07F7/1804—Compounds having Si-O-C linkages
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
「産業上の利用分野」
この発明は新規1−アザビシクロ[3,2,0]ヘプト
−2−エン−2−カルボン酸化合物および医薬として許
容されるその塩類に関する。
−2−エン−2−カルボン酸化合物および医薬として許
容されるその塩類に関する。
さらに詳細には、この発明は抗菌作用を有する新規1−
アザビシクロ[3,2,0]ヘプト−2−エン−2−カ
ルボン酸化合物および医薬として許容されるその塩類に
関する。
アザビシクロ[3,2,0]ヘプト−2−エン−2−カ
ルボン酸化合物および医薬として許容されるその塩類に
関する。
すなわち、この発明の目的は、多くの病原菌に対して強
い作用を有し、抗菌剤として有用な新規l−アザビシク
ロ[3,2,0]ヘプト−2−エン−2−カルボン酸化
合物および医薬として許容されるその塩類を提供するこ
とにある。
い作用を有し、抗菌剤として有用な新規l−アザビシク
ロ[3,2,0]ヘプト−2−エン−2−カルボン酸化
合物および医薬として許容されるその塩類を提供するこ
とにある。
「課題を解決するための手段」
目的とする1−アザビシクロ[3,2,0]ヘプト−2
−エン−2−カルボン酸化合物は新規であり、下記一般
式で示すことができる。
−エン−2−カルボン酸化合物は新規であり、下記一般
式で示すことができる。
[式中、R1はカルボキシ基、保護されたカルボキシ基
またはカルボキシラド基、R2はヒドロキシ(低級)ア
ルキル基または保護きれたヒドロキン(低級)アルキル
基、R3は水素または低級アルキル基、Aは式: 含んでいてもよいN−含有脂肪複素環基、R4は水素、
ヒドロキシ基、保護されたヒドロキシ基、ヒドロキシ(
低級)アルキル基、保護されたヒドロキシ(低級)アル
キル基、低級アルキル基、低級アルコキシ(低級)アル
キル基、ハロゲン、カルバモイル基、モノ−もしくはジ
(低級)アルキルカルバモイル基またはイミノ保護基、
R5は水素、低級アルケニル基、カルバモイル基、七ノ
ーもしくはジ(低級)アルキルカルバモイル基、イミノ
保護基、または式: (式中、R6は水素または、適当な置換基で置換されて
いてもよい低級アルキル基、R7は水素、低級アルキル
基、シアノ基、ヒドロキシ(低級)アルコキシ(低級)
アルキル基または複素環基、R8は低級アルキル基を意
味するか、またはR7はRもしくはR8と結合して低級
アルキレン基を形成する)で示される基、mおよびnは
それぞれ0ないし3の整数を意味する)で示される基を
意味する]または医薬として許容きれるその塩類。
またはカルボキシラド基、R2はヒドロキシ(低級)ア
ルキル基または保護きれたヒドロキン(低級)アルキル
基、R3は水素または低級アルキル基、Aは式: 含んでいてもよいN−含有脂肪複素環基、R4は水素、
ヒドロキシ基、保護されたヒドロキシ基、ヒドロキシ(
低級)アルキル基、保護されたヒドロキシ(低級)アル
キル基、低級アルキル基、低級アルコキシ(低級)アル
キル基、ハロゲン、カルバモイル基、モノ−もしくはジ
(低級)アルキルカルバモイル基またはイミノ保護基、
R5は水素、低級アルケニル基、カルバモイル基、七ノ
ーもしくはジ(低級)アルキルカルバモイル基、イミノ
保護基、または式: (式中、R6は水素または、適当な置換基で置換されて
いてもよい低級アルキル基、R7は水素、低級アルキル
基、シアノ基、ヒドロキシ(低級)アルコキシ(低級)
アルキル基または複素環基、R8は低級アルキル基を意
味するか、またはR7はRもしくはR8と結合して低級
アルキレン基を形成する)で示される基、mおよびnは
それぞれ0ないし3の整数を意味する)で示される基を
意味する]または医薬として許容きれるその塩類。
目的化合物(りの好適な医薬として許容される塩類は常
用の無毒性塩類であり、無機塩基塩、その例として、例
えばナトリウム塩、カリウム塩等のアルカリ金属塩、例
えばカルシウム塩、マグネシウム塩等のアルカリ土類金
属塩、アンモニウム塩、有機塩基塩、その例として、例
えばトリエチルアミン塩、とリジン塩、ピコリン塩、エ
タノールアミン塩、トリエタノールアミン塩、ジシクロ
ヘキシルアミン塩、N、N’−ジベンジルエチレンジア
ミン塩等の有機アミン塩のような塩基との塩;例えば塩
酸塩、臭化水素酸塩、硫酸塩、燐酸塩等の無機酸付加塩
、例えばギ酸塩、酢酸塩、トリフルオロ酢酸塩、マレイ
ン酸塩、酒石酸塩、メタンスルホン酸塩、ベンゼンスル
ホン酸塩等の有機酸付加塩のような酸との塩;例えばア
ルギニン、アスパラギン酸、グルタミン酸等の塩基性ア
ミノ酸または酸性アミノ酸との塩;分子内第四級塩等が
挙げられる。
用の無毒性塩類であり、無機塩基塩、その例として、例
えばナトリウム塩、カリウム塩等のアルカリ金属塩、例
えばカルシウム塩、マグネシウム塩等のアルカリ土類金
属塩、アンモニウム塩、有機塩基塩、その例として、例
えばトリエチルアミン塩、とリジン塩、ピコリン塩、エ
タノールアミン塩、トリエタノールアミン塩、ジシクロ
ヘキシルアミン塩、N、N’−ジベンジルエチレンジア
ミン塩等の有機アミン塩のような塩基との塩;例えば塩
酸塩、臭化水素酸塩、硫酸塩、燐酸塩等の無機酸付加塩
、例えばギ酸塩、酢酸塩、トリフルオロ酢酸塩、マレイ
ン酸塩、酒石酸塩、メタンスルホン酸塩、ベンゼンスル
ホン酸塩等の有機酸付加塩のような酸との塩;例えばア
ルギニン、アスパラギン酸、グルタミン酸等の塩基性ア
ミノ酸または酸性アミノ酸との塩;分子内第四級塩等が
挙げられる。
前記分子内塩は、R5が低級アルケニル基であさらに低
級アルキル基のような置換基を有し、R2がカルボキシ
ラド基である場合、またはR5が式: で示される基であり、かつR2がカルボキシラド基であ
る場合に形成されることができ、前者の分子内第四級塩
の好適な例としては、例えば1−アリル−1−メチル−
3−ピロリジニオカルボキシレート等の1−(低級)ア
ルケニル−1−(低級)アルキルピロリジニオカルボキ
シレート等が挙げられる。
級アルキル基のような置換基を有し、R2がカルボキシ
ラド基である場合、またはR5が式: で示される基であり、かつR2がカルボキシラド基であ
る場合に形成されることができ、前者の分子内第四級塩
の好適な例としては、例えば1−アリル−1−メチル−
3−ピロリジニオカルボキシレート等の1−(低級)ア
ルケニル−1−(低級)アルキルピロリジニオカルボキ
シレート等が挙げられる。
以下に述べる目的化合物(I)および中間化合物におい
ては、不斉炭素原子に基づく光学異性体のような立体異
性体対1個以上が存在することかあり、そのような異性
体もこの発明の範囲内に包含されるものとする。
ては、不斉炭素原子に基づく光学異性体のような立体異
性体対1個以上が存在することかあり、そのような異性
体もこの発明の範囲内に包含されるものとする。
この発明の目的化合物(I)または医薬として許容され
るその塩類は下記反応式で説明される製造法によって製
造することができる。
るその塩類は下記反応式で説明される製造法によって製
造することができる。
裂盪羞ユ
またはその塩類
またはその塩類
1産盈ユ
(ト1)
(1−b)
またはその塩類
1産羞ユ
R3
(I−c)
またはその塩類
(I−d)
またはその塩類
製IL±
(1−e)
またはその塩類
(I−4)
またはその塩類
製造法5
(1−g)
またはその塩類
(1−h)
またはその塩類
去j4J一旦
Cl−4)
またはその塩類
またはその塩類
1盟茎ユ
(I−j)
またはその塩類
(I−k)
またはその塩類
製j0(互
(I−4)
またはその塩類
(1−m)
またはその塩類
魁]L且
(1−m)
またはその塩類
(1−n)
またはその塩類
凱11組印
(1−o)
またはその塩類
(I−p)
去】D組■
p3
(Xl)
またはその塩類
CI−q)
またはその塩類
[式中、R1、R2、R3,R’ 、R5,m、n%A
および式: 0Hはそれぞれ前と同じ意味であり、R1
は保護されたカルボキシ基 R2は保護されたヒドロキ
シ(低級)アルキル基、Rbはヒドロキシ(低級)アル
キル基、R4は保護されたヒドロキシ基または保護され
たヒドロキシ(低級)アルキル基、R4はヒドロキシ基
またはヒドロキシ(低級)アルキル基、R5はイミノ保
護基、R5は式二 (式中、R,RおよびR8はそれぞれ前と同じ意味)で
示される基、R5は低級アルケニル基、R9は低級アル
コキシ基またはアリール基、RIGは低級アルキル基ま
たはアル(低級)アルキル基、R11は低級アルキル基
を意味する〕。
および式: 0Hはそれぞれ前と同じ意味であり、R1
は保護されたカルボキシ基 R2は保護されたヒドロキ
シ(低級)アルキル基、Rbはヒドロキシ(低級)アル
キル基、R4は保護されたヒドロキシ基または保護され
たヒドロキシ(低級)アルキル基、R4はヒドロキシ基
またはヒドロキシ(低級)アルキル基、R5はイミノ保
護基、R5は式二 (式中、R,RおよびR8はそれぞれ前と同じ意味)で
示される基、R5は低級アルケニル基、R9は低級アル
コキシ基またはアリール基、RIGは低級アルキル基ま
たはアル(低級)アルキル基、R11は低級アルキル基
を意味する〕。
製造法1および11で使用される原料化合物(1)およ
び(XI)は新規であり、例えば、下記に示す方法によ
って製造することができる。
び(XI)は新規であり、例えば、下記に示す方法によ
って製造することができる。
1迭A
す
(v)
またはその塩類
互盈I
す
(V)
またはその塩類
(■)
またはその塩類
方法C
R3
(■)
またはヒドロキシ基におけるその
反応性誘導体またはその塩類
またはその塩類
亙蒸工
(V)
またはその塩類
(X)
またはその塩類
1迭I
(X)
またはその塩類
またはその塩類
方」L旦
(ト1)
またはその塩類
(XI)
またはその塩類
方法G
、3
(Xll−a)
またはその塩類
(XI)
またはその塩類
亙五旦
(XI−c)
またはその塩類
(XI−d)
またはその塩類
1迭」
(XI)
またはその塩類
(XI)
またはその塩類
[式中、R%R8、R%R,、Rb、RsR’、mおよ
びnはそれぞれ前と同じ意味であり、A は式: (式中、R’、R5,m、nおよび式:RおよびR13
はそれぞれ水素またはイミノ保護基を意味する)で示さ
れる基、Lは脱離基、・Xはハロゲンを意味する]。
びnはそれぞれ前と同じ意味であり、A は式: (式中、R’、R5,m、nおよび式:RおよびR13
はそれぞれ水素またはイミノ保護基を意味する)で示さ
れる基、Lは脱離基、・Xはハロゲンを意味する]。
この明細書の記載において、この発明の範囲内に包含さ
れる種々の定義の好適な例および説明を以下詳細に述べ
る。
れる種々の定義の好適な例および説明を以下詳細に述べ
る。
「低級」とは、特に指示がなければ、炭素原子1ないし
6個を意味するもの、とする。
6個を意味するもの、とする。
好適な「保護されたカルボキシ基」としては、1エステ
ル化されたカルボキシ基」が下記のものであるようなエ
ステル化きれたカルボキシ基が挙げられる。
ル化されたカルボキシ基」が下記のものであるようなエ
ステル化きれたカルボキシ基が挙げられる。
エステル化されたカルボキシ基のエステル部分の好適な
例としては、適当な置換基少なくとも1個を有していて
もよい低級アルキルエステル、その例として、例えばメ
チルエステル、エチルエステル、プロピルエステル、イ
ソプロピルエステル、ブチルエステル、イソブチルエス
テル、第三級ブチルエステル、ペンチルエステル、ヘキ
シルエステル等の低級アルキルエステル;例えばアセト
キシメデルエステル、プロピオニルオキシメチルエステ
ル、ブチリルオキシメチルエステル、バレリルオキシメ
チルエステル、ピバロイルオキシメチルエステル、ヘキ
サノイルオキシメチルエステル等の低級アルカノイルオ
キシ低級アルキルエステル:例えば2−ヨウドエチルエ
ステル、2゜2.2−1リクロロエチルエステル等のモ
ノ〈またはジまたはトリ)ハロ(低級)アルキルエステ
ル;例えばビニルエステル、アリルエステル等の低級ア
ルケニルエステル;例えばベンジルエステル、4−メト
キシベンジルエステル、4−ニトロベンジルエステル、
フェネチルエステル、トリチルエステル、ベンズヒドリ
ルエステル、ビス(メトキシフェニル)メチルエステル
、3.4−ジメトキシベンジルエステル、4−ヒドロキ
シ−3,5−ジ第三級ブナルベンジルエステル等の適当
な置換基少な(とも1個を有していてもよいアル(低級
)アルキルエステル等のようなものが挙げられる。
例としては、適当な置換基少なくとも1個を有していて
もよい低級アルキルエステル、その例として、例えばメ
チルエステル、エチルエステル、プロピルエステル、イ
ソプロピルエステル、ブチルエステル、イソブチルエス
テル、第三級ブチルエステル、ペンチルエステル、ヘキ
シルエステル等の低級アルキルエステル;例えばアセト
キシメデルエステル、プロピオニルオキシメチルエステ
ル、ブチリルオキシメチルエステル、バレリルオキシメ
チルエステル、ピバロイルオキシメチルエステル、ヘキ
サノイルオキシメチルエステル等の低級アルカノイルオ
キシ低級アルキルエステル:例えば2−ヨウドエチルエ
ステル、2゜2.2−1リクロロエチルエステル等のモ
ノ〈またはジまたはトリ)ハロ(低級)アルキルエステ
ル;例えばビニルエステル、アリルエステル等の低級ア
ルケニルエステル;例えばベンジルエステル、4−メト
キシベンジルエステル、4−ニトロベンジルエステル、
フェネチルエステル、トリチルエステル、ベンズヒドリ
ルエステル、ビス(メトキシフェニル)メチルエステル
、3.4−ジメトキシベンジルエステル、4−ヒドロキ
シ−3,5−ジ第三級ブナルベンジルエステル等の適当
な置換基少な(とも1個を有していてもよいアル(低級
)アルキルエステル等のようなものが挙げられる。
このような意味における保護きれたカルボキシ基のさら
に好ましい例としては、C2−C,アルケニルオキシカ
ルボニル基およびフェニル(またはニトロフェニル)(
C1−C4)アルコキシカルボニル基が挙げられ、最も
好ましいものとしててはアリルオキシカルボニル基およ
び4−ニトロベンジルオキシカルボニル基が挙げられる
。
に好ましい例としては、C2−C,アルケニルオキシカ
ルボニル基およびフェニル(またはニトロフェニル)(
C1−C4)アルコキシカルボニル基が挙げられ、最も
好ましいものとしててはアリルオキシカルボニル基およ
び4−ニトロベンジルオキシカルボニル基が挙げられる
。
好適なヒドロキシ(低級)アルキル基としては、ヒドロ
キシメチル、ヒドロキシエチル呟 ヒドロキシプロピル
、1−(ヒドロキシメチル)エチル、1−ヒドロキシ−
1−メチルエチル、ヒドロキシブチル、ヒドロキシペン
チル、ヒドロキシヘキシル等のようなヒドロキシ基を有
する直鎖または分枝鎖低級アルキル基が挙げられ、それ
らの中できらに好ましい例としてはヒドロキシ(C1−
C,)アルキル基が挙げられ、最も好ましいものとして
はR2の1−ヒドロキシエチル基およびR4のヒドロキ
シメチル基が挙げられる。
キシメチル、ヒドロキシエチル呟 ヒドロキシプロピル
、1−(ヒドロキシメチル)エチル、1−ヒドロキシ−
1−メチルエチル、ヒドロキシブチル、ヒドロキシペン
チル、ヒドロキシヘキシル等のようなヒドロキシ基を有
する直鎖または分枝鎖低級アルキル基が挙げられ、それ
らの中できらに好ましい例としてはヒドロキシ(C1−
C,)アルキル基が挙げられ、最も好ましいものとして
はR2の1−ヒドロキシエチル基およびR4のヒドロキ
シメチル基が挙げられる。
好適な「保護されたヒドロキシ(低級)アルキル基、と
は、後述のようなイミノ保護基の説明で述べるもの;お
よびきらに例えばベンジル、ベンズヒドリル、トリチル
等のモノ−またはジーまたはトリフェニル(低級)アル
キル基のようなアル(低級)アルキル基等;例えばトリ
メチルシリル、トリエチルシリル、イソプロピルジメチ
ルシリル、第三級ブチルジメチルシリル、ジイソプロピ
ルメチルシリル等のトリ(低級)アルキルシリル基、例
えばトリフェニルシリル等のトリアリールシリル基、例
えばトリベンジルシリル等のトリアル(低級)アルキル
シリル基等のようなトリ置換シリル基等;のような常用
のヒドロキシ保護基によってヒドロキシ基が保護された
前記ヒドロキシ(低級)アルキル基を意味する。
は、後述のようなイミノ保護基の説明で述べるもの;お
よびきらに例えばベンジル、ベンズヒドリル、トリチル
等のモノ−またはジーまたはトリフェニル(低級)アル
キル基のようなアル(低級)アルキル基等;例えばトリ
メチルシリル、トリエチルシリル、イソプロピルジメチ
ルシリル、第三級ブチルジメチルシリル、ジイソプロピ
ルメチルシリル等のトリ(低級)アルキルシリル基、例
えばトリフェニルシリル等のトリアリールシリル基、例
えばトリベンジルシリル等のトリアル(低級)アルキル
シリル基等のようなトリ置換シリル基等;のような常用
のヒドロキシ保護基によってヒドロキシ基が保護された
前記ヒドロキシ(低級)アルキル基を意味する。
このような意味における「保護されたヒドロキシ(低級
)アルキル基、のξらに好ましい例としては、(フェニ
ル(またはニトロフェニル)(C1−C,)アルコキシ
)カルボニルオキシ(C−C)アルキル基および(トリ
(C1−C)アルキルシリル)オキシ(C1−C,)ア
ルキル基が挙げられ、最も好ましいものとしては、R2
の1−トリメデルシリルオキシニブル基および1−第三
級ブチルジメデルシリルオキシエチル基、ならびにR4
の第三級ブチルジメチルシリルオキシメチル基が挙げら
れる。
)アルキル基、のξらに好ましい例としては、(フェニ
ル(またはニトロフェニル)(C1−C,)アルコキシ
)カルボニルオキシ(C−C)アルキル基および(トリ
(C1−C)アルキルシリル)オキシ(C1−C,)ア
ルキル基が挙げられ、最も好ましいものとしては、R2
の1−トリメデルシリルオキシニブル基および1−第三
級ブチルジメデルシリルオキシエチル基、ならびにR4
の第三級ブチルジメチルシリルオキシメチル基が挙げら
れる。
好適な「保護されたヒドロキシ基」とは、前記のような
保護されたヒドロキシ(低級)アルキル基の説明で述べ
たもののような常用のヒドロキシ保護基によってヒドロ
キシ基が保護された常用のものを意味し、それらの中で
きらに好ましい例としては(フェニル(またはニトロフ
ェニル)(C1−C4)アルコキシ)カルボニルオキシ
基および(トリ(C1−04)アルキルシリル)オキシ
基が挙げられ、最も好ましいものとしては第三級ブデル
ジメデルシリルオキシ基が挙げられる。
保護されたヒドロキシ(低級)アルキル基の説明で述べ
たもののような常用のヒドロキシ保護基によってヒドロ
キシ基が保護された常用のものを意味し、それらの中で
きらに好ましい例としては(フェニル(またはニトロフ
ェニル)(C1−C4)アルコキシ)カルボニルオキシ
基および(トリ(C1−04)アルキルシリル)オキシ
基が挙げられ、最も好ましいものとしては第三級ブデル
ジメデルシリルオキシ基が挙げられる。
好適な1低級アルキル基」としては、メチル、二デノ呟
プロピル、イソプロピル、ブチル、第三級ブチJ呟ペン
チル、ヘキシル等のような直鎖または分枝鎖アルキル基
が挙げられ、それらの中でさらに好ましい例としてはC
1−C,アルキル基が挙げられ、最も好ましいものとし
てはR3、R6およびR8のメチル基ならびにR7のメ
チル基、エチル基およびイソプロピル基が挙げられる。
プロピル、イソプロピル、ブチル、第三級ブチJ呟ペン
チル、ヘキシル等のような直鎖または分枝鎖アルキル基
が挙げられ、それらの中でさらに好ましい例としてはC
1−C,アルキル基が挙げられ、最も好ましいものとし
てはR3、R6およびR8のメチル基ならびにR7のメ
チル基、エチル基およびイソプロピル基が挙げられる。
好適な′低級アルコキシ(低級)アルキル基」としては
、ヒドロキシ基が前記低級アルキル基によって置換され
た上記直鎖または分枝鎖ヒドロキシ(低級)アルキル基
が挙げられ、それらの中で好ましい例としてはC−Cア
ルコキシ(C1−04)アルキル基が挙げられ、最も好
ましいものとしてはメトキシメチル基が挙げられる。
、ヒドロキシ基が前記低級アルキル基によって置換され
た上記直鎖または分枝鎖ヒドロキシ(低級)アルキル基
が挙げられ、それらの中で好ましい例としてはC−Cア
ルコキシ(C1−04)アルキル基が挙げられ、最も好
ましいものとしてはメトキシメチル基が挙げられる。
好適な1イミノ保護基ノhしては、カルボン酸、炭酸、
スルホン酸およびカルバミン酸から誘導きれたカルバモ
イル基、脂肪族アシル基、芳香族アシル基、複素環アシ
ル基、および芳香族基または複素環基で置換された脂肪
族アシル基のようなアシル基が挙げられる。
スルホン酸およびカルバミン酸から誘導きれたカルバモ
イル基、脂肪族アシル基、芳香族アシル基、複素環アシ
ル基、および芳香族基または複素環基で置換された脂肪
族アシル基のようなアシル基が挙げられる。
脂肪族アシル基としては飽和または不飽和、非環式また
は環式アシル基、その例としては、例えばホルミル、ア
セチル、プロピオニル、ブチリル、インブチリル、バレ
リル、インバレリル、ピバロイノ呟ヘキサノイル等の低
級アルカノイル基のようなアルカノイル基、例えばメシ
ル、エチルスルホニル、プロピルスルホニル、イソプロ
ピルスルホニル、ブチルスルホニル、インブチルスルホ
ニル、ペンチルスルホニル、ヘキシルスルホニル等の低
級アルキルスルホニル基のようなアルキルスルホニル基
、カルバモイル基、例えばメチルカルバモイル、エチル
カルバモイル ルカルバモイル ル、エトキシカルボニル、プロポキシカルボニル、ブト
キシカルボニル、第三級ブトキシカルボニル等の低級ア
ルコキシカルボニル基のようなアルコキシカルボニル基
、例えばビニルオキシカルボニル、アリルオキシカルボ
ニル等の低級アルケニルオキシカルボニル基のようなア
ルケニルオキシカルボニル基、例えばアクリロイル、メ
タクリロイル、クロトノイル等の低級アルケノイル基の
ようなアルケノイル基、例えばシクロプロパンカルボニ
ル、シクロペンタンカルボニル、シクロヘキサンカルボ
ニル等のシクロ(低級)アルカン力ルホニル基のような
シクロアルカンカルボニル基等が挙げられる。
は環式アシル基、その例としては、例えばホルミル、ア
セチル、プロピオニル、ブチリル、インブチリル、バレ
リル、インバレリル、ピバロイノ呟ヘキサノイル等の低
級アルカノイル基のようなアルカノイル基、例えばメシ
ル、エチルスルホニル、プロピルスルホニル、イソプロ
ピルスルホニル、ブチルスルホニル、インブチルスルホ
ニル、ペンチルスルホニル、ヘキシルスルホニル等の低
級アルキルスルホニル基のようなアルキルスルホニル基
、カルバモイル基、例えばメチルカルバモイル、エチル
カルバモイル ルカルバモイル ル、エトキシカルボニル、プロポキシカルボニル、ブト
キシカルボニル、第三級ブトキシカルボニル等の低級ア
ルコキシカルボニル基のようなアルコキシカルボニル基
、例えばビニルオキシカルボニル、アリルオキシカルボ
ニル等の低級アルケニルオキシカルボニル基のようなア
ルケニルオキシカルボニル基、例えばアクリロイル、メ
タクリロイル、クロトノイル等の低級アルケノイル基の
ようなアルケノイル基、例えばシクロプロパンカルボニ
ル、シクロペンタンカルボニル、シクロヘキサンカルボ
ニル等のシクロ(低級)アルカン力ルホニル基のような
シクロアルカンカルボニル基等が挙げられる。
芳香族基で置換された脂肪族アシル基としては、例えば
ベンジルオキシカルボニル、フェネチルオキシカルボニ
ル等のフェニル(低級)アルフキジカルボニル基のよう
なアラルコキシカルボニル基等が挙げられる。
ベンジルオキシカルボニル、フェネチルオキシカルボニ
ル等のフェニル(低級)アルフキジカルボニル基のよう
なアラルコキシカルボニル基等が挙げられる。
これらのアシル基はさらに、ニトロ基等のような適当な
置換基1個以上で置換されていてもよく、そのような置
換基を有する好ましいアシル基としては、例えばニトロ
ベンジルオキシカルボニル等のニトロアラルコキシカル
ボニル基等が挙げられる。
置換基1個以上で置換されていてもよく、そのような置
換基を有する好ましいアシル基としては、例えばニトロ
ベンジルオキシカルボニル等のニトロアラルコキシカル
ボニル基等が挙げられる。
このような意味における「イミノ保護基,のさらに好ま
しい例としてはC2−C4アルケニルオキシカルボニル
基およびフェニル(またはニトロフェニル)(C1−C
4)アルフキジカルボニル基が挙げられ、最も好ましい
ものとしてはR4のアリルオキシカルボニル基およびR
5のアリルオキシカルボニル基およびベンジルオキシカ
ルボニル基が挙げられる。
しい例としてはC2−C4アルケニルオキシカルボニル
基およびフェニル(またはニトロフェニル)(C1−C
4)アルフキジカルボニル基が挙げられ、最も好ましい
ものとしてはR4のアリルオキシカルボニル基およびR
5のアリルオキシカルボニル基およびベンジルオキシカ
ルボニル基が挙げられる。
好適な「低級アルコキシ基」としては、メトキシ、エト
キシ、プロポキシ、インプロポキシ、ブトキシ、イソブ
トキシ、ペンチルオキシ、イソペンチルオキシ、ヘキシ
ルオキシ等のような直鎖または分枝鎖アルコキシ基が挙
げられ、それらの中でさらに好ましい例としてはC1−
C,アルコキシ基が挙げられ、最も好ましいものとして
はエトキシ基が挙げられる。
キシ、プロポキシ、インプロポキシ、ブトキシ、イソブ
トキシ、ペンチルオキシ、イソペンチルオキシ、ヘキシ
ルオキシ等のような直鎖または分枝鎖アルコキシ基が挙
げられ、それらの中でさらに好ましい例としてはC1−
C,アルコキシ基が挙げられ、最も好ましいものとして
はエトキシ基が挙げられる。
好適な「アリール基」としては、フェニル、トリル、キ
シリル、クメニル、メシチル、ナフテル等のようなC6
”−010アリール基が挙げられ、それらの中でさらに
好ましい例としてはフェニル基が挙げられる。
シリル、クメニル、メシチル、ナフテル等のようなC6
”−010アリール基が挙げられ、それらの中でさらに
好ましい例としてはフェニル基が挙げられる。
好適な1脱離基」としてはアジド、例えば塩素、臭素、
フッ素または沃素のようなハロゲン等のような無機酸残
基、アシルオキシ基、その例として、例えばアセトキシ
等の低級アルカノイルオキシ基、例えばベンゼンスルホ
ニルオキシ、トシルオキシ、メタンスルホニルオキシ等
のスルホニルオキシ基等のような有機酸残基が挙げられ
、それらの中できらに好ましい例としてはC1−C4ア
ルカノイルオキシ基が挙げられ、最も好ましいものとし
てはアセトキシ基が挙げられる。
フッ素または沃素のようなハロゲン等のような無機酸残
基、アシルオキシ基、その例として、例えばアセトキシ
等の低級アルカノイルオキシ基、例えばベンゼンスルホ
ニルオキシ、トシルオキシ、メタンスルホニルオキシ等
のスルホニルオキシ基等のような有機酸残基が挙げられ
、それらの中できらに好ましい例としてはC1−C4ア
ルカノイルオキシ基が挙げられ、最も好ましいものとし
てはアセトキシ基が挙げられる。
好適な1ハロゲン」としては塩素、臭素、沃素およびフ
ッ素が挙げられ、それらの中でさらに好ましい例として
はR4のフッ素およびXの塩素が挙げられる。
ッ素が挙げられ、それらの中でさらに好ましい例として
はR4のフッ素およびXの塩素が挙げられる。
好適な1モノ−またはジ(低級)アルキルカルバモイル
基」とは、メチルカルバモイル、ジメチルカルバモイル
、エチルカルバモイル、ジエチルカルバモイル ル モイル、イソプロピルカルバモイル バモイル、ペンチルカルバモイル モイル ルキル基で置換されたカルバモイル基を意味し、それら
の中でさらに好ましい例としてはモノ−またはジ(C1
−C4)アルキルカルバモイル基が挙げられ、最も好ま
しいものとしてはジメチルカルバモイル基が挙げられる
。
基」とは、メチルカルバモイル、ジメチルカルバモイル
、エチルカルバモイル、ジエチルカルバモイル ル モイル、イソプロピルカルバモイル バモイル、ペンチルカルバモイル モイル ルキル基で置換されたカルバモイル基を意味し、それら
の中でさらに好ましい例としてはモノ−またはジ(C1
−C4)アルキルカルバモイル基が挙げられ、最も好ま
しいものとしてはジメチルカルバモイル基が挙げられる
。
好適な「低級アルケニル基」としては、ビニル、アリル
等のような直鎖または分枝鎖アルケニル基が挙げられ、
それらの中でさらに好ましい例としてはC2−C4アル
ケニル基が挙げられ、最も好ましいものとしてはアリル
基が挙げられる。
等のような直鎖または分枝鎖アルケニル基が挙げられ、
それらの中でさらに好ましい例としてはC2−C4アル
ケニル基が挙げられ、最も好ましいものとしてはアリル
基が挙げられる。
好適な「ヒドロキシ(低級)アルコキシ(低級)アルキ
ル基」としては、ヒドロキシ基が前記のようなヒドロキ
シ(低級)アルキル基で置換された前記ヒドロキシ(低
級)アルキル基が挙げられ、それらの中でさらに好まし
い例としてはヒドロキシ(C1−C4)アルコキシ(C
1−C4)アルキル基が挙げられ、最も好ましいものと
じては2−(2−ヒドロキシエトキシ)エチル基が挙げ
られる。
ル基」としては、ヒドロキシ基が前記のようなヒドロキ
シ(低級)アルキル基で置換された前記ヒドロキシ(低
級)アルキル基が挙げられ、それらの中でさらに好まし
い例としてはヒドロキシ(C1−C4)アルコキシ(C
1−C4)アルキル基が挙げられ、最も好ましいものと
じては2−(2−ヒドロキシエトキシ)エチル基が挙げ
られる。
好適な1適当な置換基で置換されていてもよい低級アル
キル基」としては、ヒドロキシ基、カルバモイル基およ
び前記のハロゲンのような適当な置換基1個以上、好ま
しくは1個ないし3個で置換諮れたまたは非置換前記低
級アルキル基が挙げられ、それらの中でさらに好ましい
例としては’ cl−c,アルキル基、ヒドロキシ
( C1−C4)アルキル基、ハロ(C1−C,)アル
キル基およびカルバモイルCC1−C4)アルキル基が
挙げられ、最も好ましいものとしてはメチル基、ヒドロ
キシメチル基、フルオロメチル基およびカルバモイルメ
チル基が挙げられる。
キル基」としては、ヒドロキシ基、カルバモイル基およ
び前記のハロゲンのような適当な置換基1個以上、好ま
しくは1個ないし3個で置換諮れたまたは非置換前記低
級アルキル基が挙げられ、それらの中でさらに好ましい
例としては’ cl−c,アルキル基、ヒドロキシ
( C1−C4)アルキル基、ハロ(C1−C,)アル
キル基およびカルバモイルCC1−C4)アルキル基が
挙げられ、最も好ましいものとしてはメチル基、ヒドロ
キシメチル基、フルオロメチル基およびカルバモイルメ
チル基が挙げられる。
好適なr複素環基」とは、酸素原子、イオウ原子、窒素
原子のようなペテロ原子少なくとも1個を含む飽和また
は不飽和、単環式または多環式複素環基を意味する。
原子のようなペテロ原子少なくとも1個を含む飽和また
は不飽和、単環式または多環式複素環基を意味する。
好ましい複素環基としては、例えば、ピロリル、ピロリ
ニル、イミダゾリル、ピラゾリル、ピリジルおよびその
N−オキシド、ピリミジル、ピラジニル、ピリダジニル
、例えば4H−1.2.4−トリアゾリル、IH−1.
2.3−トリアゾリル、2H−1.2.3− トリアゾ
リル等のトリアゾリル、例えばIH−テトラゾリル、2
H−テトラゾリル等のテトラゾリル、例えば4.5−ジ
ヒドロ−1.2.4−トリアジニル、2.5−ジヒドロ
− 1.2.4− トリアジニル等のジヒドロトリアジ
ニル等の窒素原子1ないし4個を含む不飽和3ないし8
員、好ましくは5または6員複素単環基; 例えば、アゼチジニル、ピロリジニル、イミダゾリジニ
ル、ピペリジニル、ピラゾリジニル、ピペラジニル等の
窒素原子1ないし4個を含む飽和3ないし8員、好まし
く5または6員複素単環基; 例えば、インドリル、イソインドリル、イントリジニル
、ベンズイミダゾリル、キノリル、イソキノリル、イミ
ダゾリル、ベンゾトリアゾリル、テトラシロピリジル、
例えばテトラシロci.s−b]ピリダジニル等のテト
ラゾロピリダジニJ呟 ジヒドロトリアゾロピリダジニ
ル等の窒素原子1ないし5個を含む不飽和縮合、好まし
くは8ないし10員複素環基; 例えばオキサシリル、イソオキサシリル、例えば1.2
.4−オキサジアゾリル、1.3.4−オキサジアゾリ
ル、1.2.5−オキサジアゾリル等のオキサジアゾリ
ル等の酸素原子1ないし2個および窒素原子1ないし3
個を含む不飽和3ないし8員、好ましくは5または6員
複素単環基;例えば、モルホリニル等の酸素原チェない
し2個および窒素原子1ないし3個を含む飽和3ないし
8員、好ましくは5または6員複素単環基;例えば、ベ
ンズオキサシリル、ベンズオキサジアゾリル等の酸素原
子1ないし2個および窒素原チェないし3個を含む不飽
和縮合、好ましくは8ないし10員複素環基; 例えば、デアゾリル、チアゾリニル、例えば1.2.4
−チアジアゾリル、1.3.4−チアジアゾリル、1.
2.5−チアジアゾリル、1.2.3−デアジアゾリル
等のチアジアゾリル等のイオウ原子1ないし2個および
窒素原チェないし3個を含む不飽和3ないし8員、好ま
しくは5または6員複素単環基; 例えば、チアゾリジニル、イソチアゾリジニル、デアジ
アゾリルニル等のイ才つ原チェないし2個および窒素原
子1ないし3個を含む飽和3ないし8員、好ましくは5
または6員複素単環基;例えば、チェニル等のイ才つ原
子1個を含む不飽和3ないし8員、好ましくは5または
6員複素単環基; 例えば、ベンゾチアゾリル、ベンゾチアジアゾリル等の
イ才つ原子1ないし2個および窒素原チェないし3個を
含む不飽和縮合、好ましくは8ないし10員複素環基等
のような複素環基が挙げられ、それらの中でさらに好ま
しい例としてはイ才つ原子1ないし2個および窒素原子
1ないし3個を含む飽和または不飽和5または6員複素
単環基が挙げられ、最も好ましいものとしては例えばチ
アゾール−2−イル等のチアゾリル基および、例えば1
.3.4−チアジアゾリル−2−イル等のデアジアゾリ
ル基が挙げられる。
ニル、イミダゾリル、ピラゾリル、ピリジルおよびその
N−オキシド、ピリミジル、ピラジニル、ピリダジニル
、例えば4H−1.2.4−トリアゾリル、IH−1.
2.3−トリアゾリル、2H−1.2.3− トリアゾ
リル等のトリアゾリル、例えばIH−テトラゾリル、2
H−テトラゾリル等のテトラゾリル、例えば4.5−ジ
ヒドロ−1.2.4−トリアジニル、2.5−ジヒドロ
− 1.2.4− トリアジニル等のジヒドロトリアジ
ニル等の窒素原子1ないし4個を含む不飽和3ないし8
員、好ましくは5または6員複素単環基; 例えば、アゼチジニル、ピロリジニル、イミダゾリジニ
ル、ピペリジニル、ピラゾリジニル、ピペラジニル等の
窒素原子1ないし4個を含む飽和3ないし8員、好まし
く5または6員複素単環基; 例えば、インドリル、イソインドリル、イントリジニル
、ベンズイミダゾリル、キノリル、イソキノリル、イミ
ダゾリル、ベンゾトリアゾリル、テトラシロピリジル、
例えばテトラシロci.s−b]ピリダジニル等のテト
ラゾロピリダジニJ呟 ジヒドロトリアゾロピリダジニ
ル等の窒素原子1ないし5個を含む不飽和縮合、好まし
くは8ないし10員複素環基; 例えばオキサシリル、イソオキサシリル、例えば1.2
.4−オキサジアゾリル、1.3.4−オキサジアゾリ
ル、1.2.5−オキサジアゾリル等のオキサジアゾリ
ル等の酸素原子1ないし2個および窒素原子1ないし3
個を含む不飽和3ないし8員、好ましくは5または6員
複素単環基;例えば、モルホリニル等の酸素原チェない
し2個および窒素原子1ないし3個を含む飽和3ないし
8員、好ましくは5または6員複素単環基;例えば、ベ
ンズオキサシリル、ベンズオキサジアゾリル等の酸素原
子1ないし2個および窒素原チェないし3個を含む不飽
和縮合、好ましくは8ないし10員複素環基; 例えば、デアゾリル、チアゾリニル、例えば1.2.4
−チアジアゾリル、1.3.4−チアジアゾリル、1.
2.5−チアジアゾリル、1.2.3−デアジアゾリル
等のチアジアゾリル等のイオウ原子1ないし2個および
窒素原チェないし3個を含む不飽和3ないし8員、好ま
しくは5または6員複素単環基; 例えば、チアゾリジニル、イソチアゾリジニル、デアジ
アゾリルニル等のイ才つ原チェないし2個および窒素原
子1ないし3個を含む飽和3ないし8員、好ましくは5
または6員複素単環基;例えば、チェニル等のイ才つ原
子1個を含む不飽和3ないし8員、好ましくは5または
6員複素単環基; 例えば、ベンゾチアゾリル、ベンゾチアジアゾリル等の
イ才つ原子1ないし2個および窒素原チェないし3個を
含む不飽和縮合、好ましくは8ないし10員複素環基等
のような複素環基が挙げられ、それらの中でさらに好ま
しい例としてはイ才つ原子1ないし2個および窒素原子
1ないし3個を含む飽和または不飽和5または6員複素
単環基が挙げられ、最も好ましいものとしては例えばチ
アゾール−2−イル等のチアゾリル基および、例えば1
.3.4−チアジアゾリル−2−イル等のデアジアゾリ
ル基が挙げられる。
このような意味におけるR5のさらに好ましい例として
は、水素、C2−C4アルケニル基、C2−C,アルケ
ニルオキシカルボニル基、フェニル(またはニトロフェ
ニル)(C1−C,)アルコキシカルボニル基、ジ(C
1−C4)アルキルカルバモイル基、(C1−C4)ア
ルカンイミドイル基、N−(C1−C6)アルキル(C
1−C)アルカンイミドイル基、N−[ヒドロキシ(C
−C)アルコキシ(C1−C4)アルキル](C1−C
,)アルカンイミドイル基、N−シアノ(C1−C4)
アルカンイミドイル−チアゾリル(またはチアゾリニル
またはチアジアゾリルまたはチアゾリジニルまたはイソ
チアゾリジニルまたはチアジアゾリルニル)(C1−C
4)アルカンイミドイル、C−ヒドロキシ(またはハロ
またカルバモイル)(C1−C4)アルカンイミドイル
基、N.N−ジ(’C1−C4)アルキルイミニオ(C
1−C4)アルキル基および式: (式中、R6は水素またはC−Cアルキル基、R8はC
−C アルキル基、!はそれぞれ5または6員N−含
有複素環基を形成する3ないし5の整数である)で示さ
れる化合物が挙げられ、最も好ましい例としては、水素
、アリル基、アリルオキシカルボニル基、ベンジルオキ
シカルボニル基、ジメチルカルバモイル基、ホルムイミ
ドイル基、アセトイミドイル基、N−メチル(またはエ
チルまたイソプロピル)ホルムイミドイル基、N−メチ
ルアセトイミドイル基、N−[2−(2−ヒドロキシエ
トキシ)エチル]ホルムイミドイル基、N−シアノホル
ムイミドイル基、N−(チアゾール−2−イル)ホルム
イミドイル基、N−(1,3,4−チアジアゾール−2
−イル)ホルムイミドイル基、2−ヒドロキシ(またフ
ルオロまたはカルバモイル)アセトイミドイル基、N、
N−ジメチルイミニオメデル基、1−ピロリン−2−イ
ル基、1−メチル−2−(1−ピロリニオ)基および式
: で示される化合物が挙げられる。
は、水素、C2−C4アルケニル基、C2−C,アルケ
ニルオキシカルボニル基、フェニル(またはニトロフェ
ニル)(C1−C,)アルコキシカルボニル基、ジ(C
1−C4)アルキルカルバモイル基、(C1−C4)ア
ルカンイミドイル基、N−(C1−C6)アルキル(C
1−C)アルカンイミドイル基、N−[ヒドロキシ(C
−C)アルコキシ(C1−C4)アルキル](C1−C
,)アルカンイミドイル基、N−シアノ(C1−C4)
アルカンイミドイル−チアゾリル(またはチアゾリニル
またはチアジアゾリルまたはチアゾリジニルまたはイソ
チアゾリジニルまたはチアジアゾリルニル)(C1−C
4)アルカンイミドイル、C−ヒドロキシ(またはハロ
またカルバモイル)(C1−C4)アルカンイミドイル
基、N.N−ジ(’C1−C4)アルキルイミニオ(C
1−C4)アルキル基および式: (式中、R6は水素またはC−Cアルキル基、R8はC
−C アルキル基、!はそれぞれ5または6員N−含
有複素環基を形成する3ないし5の整数である)で示さ
れる化合物が挙げられ、最も好ましい例としては、水素
、アリル基、アリルオキシカルボニル基、ベンジルオキ
シカルボニル基、ジメチルカルバモイル基、ホルムイミ
ドイル基、アセトイミドイル基、N−メチル(またはエ
チルまたイソプロピル)ホルムイミドイル基、N−メチ
ルアセトイミドイル基、N−[2−(2−ヒドロキシエ
トキシ)エチル]ホルムイミドイル基、N−シアノホル
ムイミドイル基、N−(チアゾール−2−イル)ホルム
イミドイル基、N−(1,3,4−チアジアゾール−2
−イル)ホルムイミドイル基、2−ヒドロキシ(またフ
ルオロまたはカルバモイル)アセトイミドイル基、N、
N−ジメチルイミニオメデル基、1−ピロリン−2−イ
ル基、1−メチル−2−(1−ピロリニオ)基および式
: で示される化合物が挙げられる。
(以下余白)
好適な1さらに別のへテロ原子を含んでいてもよいN−
含有脂肪族複素環基、とは、前記複素環基が窒素原子お
よびイオウ原子、酸素原子、窒素原子等のような別のへ
テロ原子を含んでいてもよい非芳香族複素環基である前
記複素環基を意味する。
含有脂肪族複素環基、とは、前記複素環基が窒素原子お
よびイオウ原子、酸素原子、窒素原子等のような別のへ
テロ原子を含んでいてもよい非芳香族複素環基である前
記複素環基を意味する。
非芳香族複素環基としては、複素環が飽和であるかまた
は非共役二重結合のみを含むもの等である前記複素環基
が挙げられる。
は非共役二重結合のみを含むもの等である前記複素環基
が挙げられる。
このような意味にお序る好ましい「さらに別のへテロ原
子を含んでいてもよいN−含有脂肪族複素環基」として
は、例えば、ピロリニル、イミダゾリニル、ジヒドロピ
リジル、テトラヒドロピリジル、ジヒドロトリアジニル
等の、その環内にのみ非共役二重結合を有しかつ窒素原
チェないし4個を含む3ないし8員、好ましくは4ない
し6員複素単環基; 例えば、アゼデシニル、ピロリジニル、イミダゾリジニ
ル、ピペリジニル、ピラゾリジニル、ピペラジニル等の
窒素原子1ないし4個を含む飽和3ないし8員、好まし
くは4ないし6員複素単環基; 例えば、モルホリニル等の酸素原子1ないし2個および
窒素原子1ないし3個を含む飽和3ないし8員、好まし
くは4ないし6員複素単環基;例えば、チアゾリジニル
、インチアゾリジニル、チアジアゾールニル、チオモル
ホリニル等のイ才つ原子1ないし2個および窒素原子1
ないし3個を含む飽和3ないし8員、好ましくは4ない
し6員複素単環基が挙げられる。
子を含んでいてもよいN−含有脂肪族複素環基」として
は、例えば、ピロリニル、イミダゾリニル、ジヒドロピ
リジル、テトラヒドロピリジル、ジヒドロトリアジニル
等の、その環内にのみ非共役二重結合を有しかつ窒素原
チェないし4個を含む3ないし8員、好ましくは4ない
し6員複素単環基; 例えば、アゼデシニル、ピロリジニル、イミダゾリジニ
ル、ピペリジニル、ピラゾリジニル、ピペラジニル等の
窒素原子1ないし4個を含む飽和3ないし8員、好まし
くは4ないし6員複素単環基; 例えば、モルホリニル等の酸素原子1ないし2個および
窒素原子1ないし3個を含む飽和3ないし8員、好まし
くは4ないし6員複素単環基;例えば、チアゾリジニル
、インチアゾリジニル、チアジアゾールニル、チオモル
ホリニル等のイ才つ原子1ないし2個および窒素原子1
ないし3個を含む飽和3ないし8員、好ましくは4ない
し6員複素単環基が挙げられる。
このような意味におけるさらに別のへテロ原子を含んで
いてもよいN−含有脂肪族複素環基のさらに好ましい例
としては、 一窒素原子1ないし4個を含む飽和4ないし6員複素単
環基; 一酸素原チェないし2個および窒素原子1ないし3個を
含む飽和4ないし6員複素単環基;−イ才つ原子1ない
し2個および窒素原チェないし3個を含む飽和4ないし
6員複素単環基;一式: (式中、mおよびnlはそれぞれOないし3の整数、m
およびn2はそれぞれ0ないし2の整数であるが、1<
m +n (3、O<m2+n2く2を条件とする
)で示きれる複素環基等が挙げられ、最も好宏し°いも
のとしては、−例えば3−ビロリン−3−イル等のピロ
リニル基; −例えば2−イミダシリン−4−イル等のイミダゾリニ
ル基; −例えば1.2.3.6−テトラヒドロピリジン−4−
イル、1.2.5.6−テトラヒドロピリジン−3−イ
ル等の、テトラヒドロピリジル基;−例えばアゼチジン
−3−イル等のアゼチジニル基; −例えばピロリジン−2−イル、ピロリジン−3−イル
等のピロリジニル基; −例えばピペリジン−2(または3または4)−イル等
のピペリジニル基; −例えばピラゾリジン−4−イル等のピラゾリジニル基
; −例えばピペラジン−2−イル等のピペラジニル基; −例えばモルホリン−2(または3)−イル等のモルホ
リニル基; −例えばチアゾリジン−4−イル等のチアゾリジニル基
; −例えばチオモルホリン−3−イル等のチオモルホリニ
ル基等が挙げられる。
いてもよいN−含有脂肪族複素環基のさらに好ましい例
としては、 一窒素原子1ないし4個を含む飽和4ないし6員複素単
環基; 一酸素原チェないし2個および窒素原子1ないし3個を
含む飽和4ないし6員複素単環基;−イ才つ原子1ない
し2個および窒素原チェないし3個を含む飽和4ないし
6員複素単環基;一式: (式中、mおよびnlはそれぞれOないし3の整数、m
およびn2はそれぞれ0ないし2の整数であるが、1<
m +n (3、O<m2+n2く2を条件とする
)で示きれる複素環基等が挙げられ、最も好宏し°いも
のとしては、−例えば3−ビロリン−3−イル等のピロ
リニル基; −例えば2−イミダシリン−4−イル等のイミダゾリニ
ル基; −例えば1.2.3.6−テトラヒドロピリジン−4−
イル、1.2.5.6−テトラヒドロピリジン−3−イ
ル等の、テトラヒドロピリジル基;−例えばアゼチジン
−3−イル等のアゼチジニル基; −例えばピロリジン−2−イル、ピロリジン−3−イル
等のピロリジニル基; −例えばピペリジン−2(または3または4)−イル等
のピペリジニル基; −例えばピラゾリジン−4−イル等のピラゾリジニル基
; −例えばピペラジン−2−イル等のピペラジニル基; −例えばモルホリン−2(または3)−イル等のモルホ
リニル基; −例えばチアゾリジン−4−イル等のチアゾリジニル基
; −例えばチオモルホリン−3−イル等のチオモルホリニ
ル基等が挙げられる。
rさらに別のへテロ原子を含んでいてもよいN−含有層
肪族複素環基」がイミダゾリニル基である場合、例えば
下記平衡式によって示されるような互変異性体が存在す
ることは周知のことである。
肪族複素環基」がイミダゾリニル基である場合、例えば
下記平衡式によって示されるような互変異性体が存在す
ることは周知のことである。
上記およびその他の互変異性体はすべてこの発明の範囲
内に包含されるが、この明細書においてはそのような互
変異性体を含む目的化合物および中間化合物は便宜上そ
れらの表現の一つ、例えば2−イミダシリン−4−イル
および式:を用いて示す。
内に包含されるが、この明細書においてはそのような互
変異性体を含む目的化合物および中間化合物は便宜上そ
れらの表現の一つ、例えば2−イミダシリン−4−イル
および式:を用いて示す。
この発明の目的化合物(りの製造法を以下詳細に説明す
る。
る。
(1)1産迭ユ
化合物(1)またはその塩類は、化合物(I[)または
その塩類を環化することにより製造することができる。
その塩類を環化することにより製造することができる。
化合物(If)の好適な塩類としては、化合物(I)の
塩類と同じものが挙げられる。
塩類と同じものが挙げられる。
この反応は通常、ジオキサン、ヘキサメチルホスホラミ
ド、ベンゼン、トルエン、キシレン、ジメチルスルホキ
シド、N、N−ジメチルホルムアミド、ピリジン等のよ
うな反応に悪影響を及ぼさない常用の溶媒、またはそれ
らの混合物中で行われる。
ド、ベンゼン、トルエン、キシレン、ジメチルスルホキ
シド、N、N−ジメチルホルムアミド、ピリジン等のよ
うな反応に悪影響を及ぼさない常用の溶媒、またはそれ
らの混合物中で行われる。
この反応の反応温度は特に限定されないが、通常は加温
下ないし加熱下に反応が行われる。
下ないし加熱下に反応が行われる。
(2)1産抹1
化合物(I−b)またはその塩類は、化合物(1−a)
またはその塩類をR1のカルボキシ保護基の脱離反応に
付すことにより製造することができる。
またはその塩類をR1のカルボキシ保護基の脱離反応に
付すことにより製造することができる。
化合物(1−a)および(1−b)の好適な塩類として
は、化合物(りの塩類と同じものが挙げられる。
は、化合物(りの塩類と同じものが挙げられる。
この反応は通常、加水分解、還元等のような常法によっ
て行われる。
て行われる。
(1)加水分解
加水分解は塩基または酸の存在下に行うのが望ましい。
好適な塩基としては例えば水酸化ナトリウム、水酸化カ
リウム等のアルカリ金属水酸化物、例えば水酸化マグネ
シウム、水酸化カルシウム等のアルカリ土類金属水酸化
物、例えば水素化ナトリウム、水素化カリウム等のアル
カリ金属水素化物、例えば水素化カルシウム等のアルカ
リ土類金属水素化物、例えばナトリウムエトキシド、ナ
トリウムエトキシド、カリウム第三級ブトキシド等のア
ルカリ金属アルフキシト、例えば炭酸ナトリウム、炭酸
カリウム等のアルカリ金属炭酸塩、および例えば炭酸マ
グネシウム、炭酸カルシウム等のアルカリ土類金属炭酸
塩、例えば炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム等の
アルカリ金属炭酸水素塩等が挙げられる。
リウム等のアルカリ金属水酸化物、例えば水酸化マグネ
シウム、水酸化カルシウム等のアルカリ土類金属水酸化
物、例えば水素化ナトリウム、水素化カリウム等のアル
カリ金属水素化物、例えば水素化カルシウム等のアルカ
リ土類金属水素化物、例えばナトリウムエトキシド、ナ
トリウムエトキシド、カリウム第三級ブトキシド等のア
ルカリ金属アルフキシト、例えば炭酸ナトリウム、炭酸
カリウム等のアルカリ金属炭酸塩、および例えば炭酸マ
グネシウム、炭酸カルシウム等のアルカリ土類金属炭酸
塩、例えば炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム等の
アルカリ金属炭酸水素塩等が挙げられる。
好適な酸としては例えばギ酸、酢酸、プロピオン酸、ト
リフルオロ酢酸、ベンゼンスルホン酸、p−トルエンス
ルホン酸等の有機酸および例えば塩酸、臭化水素酸、硫
酸、燐酸等の無機酸が挙げられる。トリフルオロ酢酸を
使用する加水分解は通常、例えばフェノール、アニソー
ル等の陽イオン捕捉剤の添加によって加速される。
リフルオロ酢酸、ベンゼンスルホン酸、p−トルエンス
ルホン酸等の有機酸および例えば塩酸、臭化水素酸、硫
酸、燐酸等の無機酸が挙げられる。トリフルオロ酢酸を
使用する加水分解は通常、例えばフェノール、アニソー
ル等の陽イオン捕捉剤の添加によって加速される。
この反応は通常、水、ジクロロメタン、例えばメタノー
ル、エタノール等のアルコール、テトラヒドロフラン、
ジオキサン、アセトン等のような反応に悪影響を及ぼき
ない常用の溶媒、またはそれらの混合物中で行われる。
ル、エタノール等のアルコール、テトラヒドロフラン、
ジオキサン、アセトン等のような反応に悪影響を及ぼき
ない常用の溶媒、またはそれらの混合物中で行われる。
液状の塩基または醋も溶媒として使用することができる
。
。
反応温度は特に限定されず、通常冷却下ないし加熱下に
反応が行われる。
反応が行われる。
(i)還元
脱離反応に適用されうる還元法としては、例えば亜鉛、
亜鉛アマルガム等の金属または例えば塩化第一クロム、
酢酸第一クロム等のクロム化合物の塩と、例えば酢酸、
プロピオン酸、塩酸、硫酸等の有機酸または無機酸との
組合わせを用いることによる還元;および例えばパラジ
ウム海綿、パラジウム黒、酸化パラジウム、パラジウム
−炭素、コロイドパラジウム、パラジウム−硫酸バリウ
ム、パラジウム−炭酸バリウム、水酸化パラジウム−炭
素等のパラジウム触媒、例えば還元ニッケル、酸化ニッ
ケル、ラネーニッケル等のニッケル触媒、例えば白金板
、白金海綿、白金黒、コロイド白金、酸化白金、白金線
等の白金触媒等のような常用の金属触媒の存在下におけ
る慣用の接触還元がその例として挙げられる。
亜鉛アマルガム等の金属または例えば塩化第一クロム、
酢酸第一クロム等のクロム化合物の塩と、例えば酢酸、
プロピオン酸、塩酸、硫酸等の有機酸または無機酸との
組合わせを用いることによる還元;および例えばパラジ
ウム海綿、パラジウム黒、酸化パラジウム、パラジウム
−炭素、コロイドパラジウム、パラジウム−硫酸バリウ
ム、パラジウム−炭酸バリウム、水酸化パラジウム−炭
素等のパラジウム触媒、例えば還元ニッケル、酸化ニッ
ケル、ラネーニッケル等のニッケル触媒、例えば白金板
、白金海綿、白金黒、コロイド白金、酸化白金、白金線
等の白金触媒等のような常用の金属触媒の存在下におけ
る慣用の接触還元がその例として挙げられる。
接触還元を適用する場合には、反応を中性付近の条件で
行うのが望まし、い。
行うのが望まし、い。
この反応は通常、水、例えばメタノール、エタノール、
プロパツール等のアルコール、ジオキサン、テトラヒド
ロフラン、酢酸、例えば燐酸塩緩衝液、酢酸塩緩衝液等
の緩衝溶液等のような反応に悪影響を及ぼさない常用の
溶媒、またはそれらの混合物中で行われる。
プロパツール等のアルコール、ジオキサン、テトラヒド
ロフラン、酢酸、例えば燐酸塩緩衝液、酢酸塩緩衝液等
の緩衝溶液等のような反応に悪影響を及ぼさない常用の
溶媒、またはそれらの混合物中で行われる。
反応温度は特に限定されないが通常は冷却下ないし加温
下に反応が行われる。
下に反応が行われる。
カルボキシ保護基がアリル基である場合には、保護基は
パラジウム化合物を使用する水素化分解によって脱保護
される。
パラジウム化合物を使用する水素化分解によって脱保護
される。
この反応に使用きれる好適なパラジウム化合物としては
、パラジウム−炭素、水酸化パラジウム−炭素、塩化パ
ラジウム、テトラキス(トリフェニルホスフィン)パラ
ジウム(0)、ビス(ジベンジリデンアセトン)パラジ
ウム(0)、ジ[1゜2−ビス(ジフェニルホスフィノ
)エタンコバラジウム(0)、テトラキス(亜燐酸トリ
フェニル)パラジウム(0)、テトラキス(亜燐酸トリ
エチル)パラジウム(0)等のようなパラジウム−配位
子錯体が挙げれる。
、パラジウム−炭素、水酸化パラジウム−炭素、塩化パ
ラジウム、テトラキス(トリフェニルホスフィン)パラ
ジウム(0)、ビス(ジベンジリデンアセトン)パラジ
ウム(0)、ジ[1゜2−ビス(ジフェニルホスフィノ
)エタンコバラジウム(0)、テトラキス(亜燐酸トリ
フェニル)パラジウム(0)、テトラキス(亜燐酸トリ
エチル)パラジウム(0)等のようなパラジウム−配位
子錯体が挙げれる。
反応は例えばモルホリン、N−メチルアニリン等のアミ
ン、例えばジメドン、酢酸ベンゾイル、2−メトキシ−
3−オキソ吉草酸等の活性メチレン化合物、例えばシア
ン化α−テトラヒドロピラニルオキシベンジル等のシア
ノヒドリン化合物、例えばギ酸、酢酸、ギ酸アンモニウ
ム、酢酸ナトリウム等の低級アルカン酸またはその塩、
N−ヒドロキシスクシンイミド等のような反応系内で発
生するアリル基の捕集剤の存在下に行うのが望ましい。
ン、例えばジメドン、酢酸ベンゾイル、2−メトキシ−
3−オキソ吉草酸等の活性メチレン化合物、例えばシア
ン化α−テトラヒドロピラニルオキシベンジル等のシア
ノヒドリン化合物、例えばギ酸、酢酸、ギ酸アンモニウ
ム、酢酸ナトリウム等の低級アルカン酸またはその塩、
N−ヒドロキシスクシンイミド等のような反応系内で発
生するアリル基の捕集剤の存在下に行うのが望ましい。
この反応は、例えばブチルアミン、トリエチルアミン等
の低級アルキルアミン、ピリジン等のような塩基の存在
下に行うことができる。
の低級アルキルアミン、ピリジン等のような塩基の存在
下に行うことができる。
パラジウム配位子錯体をこの反応に使用する場合には、
反応を例えばトリフェニルホスフィン、亜燐酸トリフェ
ニル、亜燐酸トリエチル等の対応する配位子の存在下に
行うのが望ましい。
反応を例えばトリフェニルホスフィン、亜燐酸トリフェ
ニル、亜燐酸トリエチル等の対応する配位子の存在下に
行うのが望ましい。
この反応は通常、水、メタノール、エタノール、プロパ
ツール、ジオキサン、テトラヒドロフラン、アセトニト
リル、クロロホルム、ジクロロメタン、ジクロロエタン
、酢酸エチル等のような反応に悪影響を及ぼさない常用
の溶媒、またはそれらの混合物中で行われる。
ツール、ジオキサン、テトラヒドロフラン、アセトニト
リル、クロロホルム、ジクロロメタン、ジクロロエタン
、酢酸エチル等のような反応に悪影響を及ぼさない常用
の溶媒、またはそれらの混合物中で行われる。
脱離反応は脱離すべきカルボキシ保護基の種類に従って
選択することができる。
選択することができる。
この製造法においては、RおよびR4のヒドロキシ保護
基および/またはR5のイミノ保護基が反応中同時に脱
離する場合もその範囲内に包含される。
基および/またはR5のイミノ保護基が反応中同時に脱
離する場合もその範囲内に包含される。
(3)製11(ユ
化合物(1−d)またはその塩類は、化合物(1−c)
またその塩類をR2のヒドロキシ保護基の脱離反応に付
すことにより製造することができる。
またその塩類をR2のヒドロキシ保護基の脱離反応に付
すことにより製造することができる。
化合物(I−c)および(I−d)の好適な塩類として
は、化合物(I)塩類と同じものが挙げられる。
は、化合物(I)塩類と同じものが挙げられる。
この反応は通常、加水分解、還元等のような常法によっ
て行われる。
て行われる。
加水分解および還元の方法ならびに例えば反応温度、溶
媒等の反応条件は、製造法2の化合物(1−a)のカル
ボキシ保護基の脱離反応の説明と実質的に同じであり、
従って前記説明を参照すればよい。
媒等の反応条件は、製造法2の化合物(1−a)のカル
ボキシ保護基の脱離反応の説明と実質的に同じであり、
従って前記説明を参照すればよい。
ヒドロキシ保護基がトリ(低級)アルキルシリル基であ
る場合には、この保護基の脱離は例えばフン化テトラブ
チルアンモニウム等のフッ化テトラ(低級)アルキルア
ンモニウムの存在下に行つこともできる。
る場合には、この保護基の脱離は例えばフン化テトラブ
チルアンモニウム等のフッ化テトラ(低級)アルキルア
ンモニウムの存在下に行つこともできる。
この製造法においては、R1のカルボキシ保護基および
/またはR5のイミノ保護基および/またはR4のヒド
ロキシ保護基が反応中同時に脱離する場合もその範囲内
に包含される。
/またはR5のイミノ保護基および/またはR4のヒド
ロキシ保護基が反応中同時に脱離する場合もその範囲内
に包含される。
〈4)1産迭1
化合物(1−f)またはその塩類は、化合物(1−e)
またはその塩類をR5のイミノ保護基の脱離反応に付す
ことにより製造することができる。
またはその塩類をR5のイミノ保護基の脱離反応に付す
ことにより製造することができる。
化合物(1−e)の好適な塩類については、化合物(I
)について掲げたもののような塩基との塩類が挙げられ
る。
)について掲げたもののような塩基との塩類が挙げられ
る。
化合物H−f>の好適な塩類としては、化合物(1)の
塩類と同じものが挙げられる。
塩類と同じものが挙げられる。
この反応は通常、加水分解、還元等のような常法によっ
て行われる。
て行われる。
加水分解および還元の方法ならびに例えば反応温度、溶
媒等の反応条件は、製造法2の化合物(Ll)のカルボ
キシ保護基の脱離反応の説明と実質的に同じであり、従
って前記説明を参照すればよい。
媒等の反応条件は、製造法2の化合物(Ll)のカルボ
キシ保護基の脱離反応の説明と実質的に同じであり、従
って前記説明を参照すればよい。
この製造法においては R1および/またはR2のカル
ボキシ保護基および/またはヒドロキシ保護基および/
またはRのヒドロキシ保護基が反応中同時に脱離する場
合もその範囲内に包含される。
ボキシ保護基および/またはヒドロキシ保護基および/
またはRのヒドロキシ保護基が反応中同時に脱離する場
合もその範囲内に包含される。
(5)製jI組旦
化合物(I−h)またはその塩類は、化合物< I −
g)またはその塩類を還元することにより製造すること
ができる。
g)またはその塩類を還元することにより製造すること
ができる。
化合物(1−g)および(I−h)の好適な塩類として
は、化合物(1)の塩類と同じものが挙げられる。
は、化合物(1)の塩類と同じものが挙げられる。
還元法および例えば反応温度、溶媒等の反応条件は製造
法2の化合物(I−a)のカルボキシ保護基の脱離反応
の説明と実質的に同じであり、従って前記説明を参照す
ればよい。
法2の化合物(I−a)のカルボキシ保護基の脱離反応
の説明と実質的に同じであり、従って前記説明を参照す
ればよい。
この製造法においては、R1および/またはR2のカル
ボキシ保護基および/またはヒドロキシ保護基および/
またはR4および/またはR5のヒドロキシ保護基およ
び/またはイミノ保護基が反応中同時に脱離する場合も
その範囲内に包含される。
ボキシ保護基および/またはヒドロキシ保護基および/
またはR4および/またはR5のヒドロキシ保護基およ
び/またはイミノ保護基が反応中同時に脱離する場合も
その範囲内に包含される。
(6)製11組旦
化合物(I−i)またはその塩類は、化合物(I −f
)またはその塩類を化合物(Xlll)またはその塩類
と反応させることにより製造することができる。
)またはその塩類を化合物(Xlll)またはその塩類
と反応させることにより製造することができる。
化合物(I−i)の好適な塩類としては、化合物(1)
の塩類と同じものが挙げられる。
の塩類と同じものが挙げられる。
化合物(XI[)の好適な塩類としては、化合物(I)
について掲げた酸付加塩類が挙げられる。
について掲げた酸付加塩類が挙げられる。
化合物(XII[)中、式:
で示される化合物は、式:
で示される化合物を、例えば式:(R10)2SO4を
有する硫酸誘導体と反応きせることにより、反応系内で
製造することができる。
有する硫酸誘導体と反応きせることにより、反応系内で
製造することができる。
この反応は通常、テトラヒドロプラン、ジオキサン、水
、メタノール、エタノール、例えば燐酸塩緩衝液等の緩
衝溶液のような反応に悪影響を及ぼさない常用の溶媒、
またはそれらの混合物中で行われる。
、メタノール、エタノール、例えば燐酸塩緩衝液等の緩
衝溶液のような反応に悪影響を及ぼさない常用の溶媒、
またはそれらの混合物中で行われる。
この反応は製造法2の説明で述べたような有機塩基また
は無機塩基の存在下に行うことができる。
は無機塩基の存在下に行うことができる。
反応温度は特に限定されないが、通常は冷却下ないし加
温下に反応が行われる。
温下に反応が行われる。
(7)1産迭ユ
化合物(I−k)またはその塩類は、化合物(I−j)
またはその塩類をR4のヒドロキシ保護基の脱離反応に
付すことにより製造することができる。
またはその塩類をR4のヒドロキシ保護基の脱離反応に
付すことにより製造することができる。
化合物(I−j)および(I−k)の好適な塩類として
は、化合物(I)の塩類と同じものが挙げられる。
は、化合物(I)の塩類と同じものが挙げられる。
この反応は通常、加水分解、還元等のような常法によっ
て行われる。
て行われる。
加水分解および還元の方法ならびに例えば反応温度、溶
媒等の反応条件は、製造法2の化合物(I−a)のカル
ボキシ保護基の脱離反応の説明と実質的に同じであり、
従って前記説明を参照すればよい。
媒等の反応条件は、製造法2の化合物(I−a)のカル
ボキシ保護基の脱離反応の説明と実質的に同じであり、
従って前記説明を参照すればよい。
ヒドロキシ保護基がトリ(低級)アルキルシリル基であ
る場合には、この保護基の脱離は例えばフッ化テトラブ
チルアンモニウム等のフッ化テトラ(低級)アルキルア
ンモニウムの存在下に行うこともできる。
る場合には、この保護基の脱離は例えばフッ化テトラブ
チルアンモニウム等のフッ化テトラ(低級)アルキルア
ンモニウムの存在下に行うこともできる。
この製造法においては、R1のカルボキシ保護基および
/またはR5のイミノ保護基および/またはR2のヒド
ロキシ保護基が反応中間時に脱離する場合も、その範囲
内に包含される。
/またはR5のイミノ保護基および/またはR2のヒド
ロキシ保護基が反応中間時に脱離する場合も、その範囲
内に包含される。
〈8)1産羞1
化合物(Ll)またはその塩類は、化合物(1!)また
はその塩類を約1当量の捕集剤の存在下にパラジウム化
合物と反応させることにより製造することができる。
はその塩類を約1当量の捕集剤の存在下にパラジウム化
合物と反応させることにより製造することができる。
化合物(1−Z)および(Ll)の好適な塩類としては
、化合物(I>の塩類と同じものが挙げられる。
、化合物(I>の塩類と同じものが挙げられる。
この反応に使用される好適なパラジウム化合物としては
、パラジウム−炭素、水酸化パラジウム−炭素、塩化パ
ラジウム、テトラキス(トリフェニルホスフィン)パラ
ジウム(0)、ビス(ジベンジリデンアセトン)パラジ
ウムく0)、ジ[1゜2−ビス(ジフェニルホスフィノ
)エタン]パラジウム(0)、テトラキス(亜燐酸トリ
フェニル)パラジウム(0)、テトラキス(亜燐酸トリ
エチル)パラジウム(0)のようなパラジウム−配位子
錯体等が挙げられる。
、パラジウム−炭素、水酸化パラジウム−炭素、塩化パ
ラジウム、テトラキス(トリフェニルホスフィン)パラ
ジウム(0)、ビス(ジベンジリデンアセトン)パラジ
ウムく0)、ジ[1゜2−ビス(ジフェニルホスフィノ
)エタン]パラジウム(0)、テトラキス(亜燐酸トリ
フェニル)パラジウム(0)、テトラキス(亜燐酸トリ
エチル)パラジウム(0)のようなパラジウム−配位子
錯体等が挙げられる。
反応は例えばモルホリン、N−メチルアニリン等のアミ
ン、例えばジメドン、酢酸ベンゾイル、2−メチル−3
−オキソ吉草酸等の活性メチレン化合物、例えば塩化α
−テトラヒドロピラニルオキシベンジル等のシアノヒド
リン化合物、例えばギ酸、酢酸、ギ酸アンモニウム、酢
酸ナトリウム、2−エチルへ゛キサン酸ナトリウム等の
アルカン酸またはその塩、N−ヒドロキシスクシンイミ
ド等のような反応系内で発生する低級アルケニル基の捕
集剤約1当量の存在下に行うのが望ましい。
ン、例えばジメドン、酢酸ベンゾイル、2−メチル−3
−オキソ吉草酸等の活性メチレン化合物、例えば塩化α
−テトラヒドロピラニルオキシベンジル等のシアノヒド
リン化合物、例えばギ酸、酢酸、ギ酸アンモニウム、酢
酸ナトリウム、2−エチルへ゛キサン酸ナトリウム等の
アルカン酸またはその塩、N−ヒドロキシスクシンイミ
ド等のような反応系内で発生する低級アルケニル基の捕
集剤約1当量の存在下に行うのが望ましい。
この反応は例えばブチルアミン、トリエチルアミン等の
低級アルキルアミン、とリジン等のような塩基の存在下
に行うことができる。
低級アルキルアミン、とリジン等のような塩基の存在下
に行うことができる。
パラジウム−配位子錯体をこの反応に使用する場合、反
応を例えばトリフェニルホスフィン、亜燐酸トリフェニ
ル、亜燐酸トリエチル等の対応する配位子の存在下に行
うのが望ましい。
応を例えばトリフェニルホスフィン、亜燐酸トリフェニ
ル、亜燐酸トリエチル等の対応する配位子の存在下に行
うのが望ましい。
この反応は通常、水、メタノール、エタノール、プロパ
ツール、ジオキサン、テトラヒドロフラン、アセトニト
リル、クロロホルム、ジクロロメタン、ジクロロエタン
、酢酸エチル等のような反応に悪影響を及ぼさない常用
の溶媒、またはそれらの混合物中で行われる。
ツール、ジオキサン、テトラヒドロフラン、アセトニト
リル、クロロホルム、ジクロロメタン、ジクロロエタン
、酢酸エチル等のような反応に悪影響を及ぼさない常用
の溶媒、またはそれらの混合物中で行われる。
(9)1産迭1
化合物(1−n)またはその塩類は、化合物(1−m)
またはその塩類を低級アルキル化剤と反応させることに
より製造することができる。
またはその塩類を低級アルキル化剤と反応させることに
より製造することができる。
化合物<1−n)の好適な塩類としては、化合物(I)
について掲げた酸付加塩類と同じものが挙げられる。
について掲げた酸付加塩類と同じものが挙げられる。
この反応に使用される好適なアルキル化剤としては、例
えば硫酸ジメチル、硫酸ジエチル等の硫酸ジアルキル、
例えばスルホン酸メチル等のスルホン酸アルキル、例え
ば沃化メチル、沃化エチル、臭化プロピル等のアルキル
ハロゲン化物、例えばジアゾメタン、ジアゾエタン等の
ジアゾアルカン等のようなヒドロキシ基をアルコキシ基
にアルキル化し得る常用のものが挙げられる。
えば硫酸ジメチル、硫酸ジエチル等の硫酸ジアルキル、
例えばスルホン酸メチル等のスルホン酸アルキル、例え
ば沃化メチル、沃化エチル、臭化プロピル等のアルキル
ハロゲン化物、例えばジアゾメタン、ジアゾエタン等の
ジアゾアルカン等のようなヒドロキシ基をアルコキシ基
にアルキル化し得る常用のものが挙げられる。
この反応は製造法2の説明で述べたような無機塩基また
は有機塩基の存在下に行うのが望ましい。
は有機塩基の存在下に行うのが望ましい。
さらに、この反応は通常、水、アセトン、ジクロロメタ
ン、メタノール、エタノール、プロパツール、ピリジン
、N、N−ジメチルホルムアミド等のような反応に悪影
響を及ぼきない常用の溶媒、またはそれらの混合物中で
行われる。
ン、メタノール、エタノール、プロパツール、ピリジン
、N、N−ジメチルホルムアミド等のような反応に悪影
響を及ぼきない常用の溶媒、またはそれらの混合物中で
行われる。
(10)ItJL族旦
化合物(1−p)は化合物(I−o)またはその塩類を
化合物(Xn[−a)またはその塩類と反応させること
により製造することができる。
化合物(Xn[−a)またはその塩類と反応させること
により製造することができる。
化合物(!−o)の好適な塩類としては、化合物(1)
の塩類と同じものが挙げられる。
の塩類と同じものが挙げられる。
化合物(XI[−a)の好適な塩類としては、化合物(
りについて掲げた酸付加塩と同じものが挙げられる。
りについて掲げた酸付加塩と同じものが挙げられる。
化合物(XIi[−a)の好適な例としては例えばホル
ムイミド酸メチル、ホルムイミド酸エチル等のホルムイ
ミド酸(低級)アルキル、例えばホルムイミド酸ベンジ
ル等のホルムイミド酸アル(低級)アルキル等が挙げら
れる。
ムイミド酸メチル、ホルムイミド酸エチル等のホルムイ
ミド酸(低級)アルキル、例えばホルムイミド酸ベンジ
ル等のホルムイミド酸アル(低級)アルキル等が挙げら
れる。
この反応は通常、テトラヒドロフラン、ジオキサン、水
、メタノール、エタノール、例えば燐酸塩緩衝液等の緩
衝溶液等のような反応に悪影響を及ぼさない常用の溶媒
、またはそれらの混合物中で行われる。
、メタノール、エタノール、例えば燐酸塩緩衝液等の緩
衝溶液等のような反応に悪影響を及ぼさない常用の溶媒
、またはそれらの混合物中で行われる。
この反応は製造法2の説明で述べたような有機塩基また
は無機塩基の存在下に行うことができる。
は無機塩基の存在下に行うことができる。
反応温度は特に限定されないが、通常は冷却下ないし加
温下に反応が行われる。
温下に反応が行われる。
(11)lil産吉U
化合物(1−q)またはその塩類は、化合物(XI)ま
たはその塩類を化合物(XII[−b)またはその塩類
と反応させることにより製造することができる。
たはその塩類を化合物(XII[−b)またはその塩類
と反応させることにより製造することができる。
化合物(I−q)の好適な塩類としては、化合物(1)
の塩類と同じものが挙げられる。
の塩類と同じものが挙げられる。
この反応は通常製造法10と実質的に同様にして行われ
る。
る。
方法および例えば反応温度、溶媒等の反応条件は製造法
10の説明と実質的に同じであり、従って前記説明を参
照すればよい。
10の説明と実質的に同じであり、従って前記説明を参
照すればよい。
化合物(Xl[−b)の好適な例としては、例えばホル
ムイミド酸メチル、ホルムイミド酸エチル、アセトイミ
ド酸メチル、アセトイミド酸メチル、プロピオンイミド
酸エチル、ブチルイミド酸エチル、インバレルイミド酸
エチル、ペンタンイミド酸エチル、ヘキサンイミド酸エ
チル等の低級アル・力・ンイミド酸(低級)゛アルキル
、例えばホルムイミド酸ベンジル、アセトイミド酸ベン
ジル、プロピオンイミド酸ベンジル、ブチルイミド酸ベ
ンジル、イソバレルイミド酸ベンジル、ペンタンイミド
酸ベンジル、ヘキサンイミド酸ベンジル等の低級アルカ
ンイミド酸アル(低級)アルキル等またはそれらの酸付
加塩が挙げられる。
ムイミド酸メチル、ホルムイミド酸エチル、アセトイミ
ド酸メチル、アセトイミド酸メチル、プロピオンイミド
酸エチル、ブチルイミド酸エチル、インバレルイミド酸
エチル、ペンタンイミド酸エチル、ヘキサンイミド酸エ
チル等の低級アル・力・ンイミド酸(低級)゛アルキル
、例えばホルムイミド酸ベンジル、アセトイミド酸ベン
ジル、プロピオンイミド酸ベンジル、ブチルイミド酸ベ
ンジル、イソバレルイミド酸ベンジル、ペンタンイミド
酸ベンジル、ヘキサンイミド酸ベンジル等の低級アルカ
ンイミド酸アル(低級)アルキル等またはそれらの酸付
加塩が挙げられる。
製造法1ないし11に従って得られる目的化合物(1)
は、例えば抽出、沈殿、分画晶出、再結晶、クロマトグ
ラフィー等の常法で単離、精製することができる。
は、例えば抽出、沈殿、分画晶出、再結晶、クロマトグ
ラフィー等の常法で単離、精製することができる。
新規原料化合物(I[)および(XI)またはそれらの
塩類の製造法を以下詳細に説明する。
塩類の製造法を以下詳細に説明する。
(A)1抜A
化合物(V)またはその塩類は、化合物(III)を化
合物(mV)またはその塩類と反応させることにより製
造することができる。
合物(mV)またはその塩類と反応させることにより製
造することができる。
化合物(F/)および(V)の好適な塩類としては、化
合物(I)の酸付加塩と同じものが挙げられる。
合物(I)の酸付加塩と同じものが挙げられる。
化合物(IV)またはその塩類は常法によってまたはこ
の明細書の製造例に記載した方法によって公知化合物か
ら製造することができる。
の明細書の製造例に記載した方法によって公知化合物か
ら製造することができる。
この反応は例えば水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等
のアルカリ金属水酸化物、例えば水酸化マグネシウム、
水酸化カルシウム等のアルカリ土類金属水酸化物、例え
ば水素化ナトリウム、水素化カリウム等のアルカリ金属
水素化物、例えば水素化カルシウム等のアルカリ土類金
属水素化物、例えばナトリウムメトキシド、ナトリウム
エトキシド、カリウム第三級ブトキシド等のアルカリ金
属アルフキシト、例えば炭酸ナトリウム、炭酸カリウム
等のアルカリ金属炭酸塩、例えば炭酸マグネンウム、炭
酸カルシウム等のアルカリ土類金属炭酸塩、例えば炭酸
水素ナトリウム、炭酸水素カリウム等のアルカリ金属炭
酸水素塩等のような塩基の存在下に行うことができる。
のアルカリ金属水酸化物、例えば水酸化マグネシウム、
水酸化カルシウム等のアルカリ土類金属水酸化物、例え
ば水素化ナトリウム、水素化カリウム等のアルカリ金属
水素化物、例えば水素化カルシウム等のアルカリ土類金
属水素化物、例えばナトリウムメトキシド、ナトリウム
エトキシド、カリウム第三級ブトキシド等のアルカリ金
属アルフキシト、例えば炭酸ナトリウム、炭酸カリウム
等のアルカリ金属炭酸塩、例えば炭酸マグネンウム、炭
酸カルシウム等のアルカリ土類金属炭酸塩、例えば炭酸
水素ナトリウム、炭酸水素カリウム等のアルカリ金属炭
酸水素塩等のような塩基の存在下に行うことができる。
この反応はエノール化剤の存在下に行うのが望ましい、
好適なエノール化剤としては、例えばトリフルオロメタ
ンスルホン酸トリメチルシリル等のトリハロ(低級)ア
ルカンスルホン酸トリ(低級)アルキルシリ1好ましく
はトリハロ(C1−C)アルカンスルホン酸トリ(C1
−C4)アルキルシリル、例えばトリフルオロメタンス
ルホン酸第−スズ等のハロゲンを有していてもよい低級
アルキルスルホン酸第−スズ、好ましくはポリハロ(C
1−C,)アルキルスルホン酸第−スズのようなスズ化
合物等が挙げられる。
好適なエノール化剤としては、例えばトリフルオロメタ
ンスルホン酸トリメチルシリル等のトリハロ(低級)ア
ルカンスルホン酸トリ(低級)アルキルシリ1好ましく
はトリハロ(C1−C)アルカンスルホン酸トリ(C1
−C4)アルキルシリル、例えばトリフルオロメタンス
ルホン酸第−スズ等のハロゲンを有していてもよい低級
アルキルスルホン酸第−スズ、好ましくはポリハロ(C
1−C,)アルキルスルホン酸第−スズのようなスズ化
合物等が挙げられる。
この反応は通常、水、ジクロロメタン、例えばメタノー
ル、エタノール等のアルコール、テトラヒドロフラン、
ジオキサン、アセトン等のような反応に悪影響を及ぼさ
ない常用の溶媒、またはそれらの混合物中で行われる。
ル、エタノール等のアルコール、テトラヒドロフラン、
ジオキサン、アセトン等のような反応に悪影響を及ぼさ
ない常用の溶媒、またはそれらの混合物中で行われる。
液状の塩基も溶媒として使用することができる。
反応温度は特に限定されないが、通常は冷却下ないし加
温下に反応が行われる。
温下に反応が行われる。
(B)1汰1
化合物(■)またはその塩類は、化合物(V)またはそ
の塩類を化合物(Vl)またはその反応性等個物と反応
させることにより製造することができる。
の塩類を化合物(Vl)またはその反応性等個物と反応
させることにより製造することができる。
化合物(■)の好適な塩類としては、化合物(I)の塩
類と同じものが挙げられる。
類と同じものが挙げられる。
化合物(VI)の好適な例としては、カルボキシ基が常
用のカルボキシ保護基で保護されて前記エステル化され
たカルボキシ基を形成しているグリオキシル酸が挙げら
れる。
用のカルボキシ保護基で保護されて前記エステル化され
たカルボキシ基を形成しているグリオキシル酸が挙げら
れる。
化合物(VI>の好適な反応性等価物としてはその−水
化物等が挙げられる。
化物等が挙げられる。
この反応は反応系内で生成する水の共沸回収下に行うこ
とができる。水の共沸回収は例えば共沸蒸留等の常法に
よって行うことができる。
とができる。水の共沸回収は例えば共沸蒸留等の常法に
よって行うことができる。
反応は通常、水、ジクロロメタン、例えばメタノール、
エタノール等のアルコール、テトラヒドロフラン、ジオ
キサン、アセトン、ベンゼン、トルエン、キシレン等の
ような反応に悪影響を及ぼさない常用の溶媒、またはそ
れらの混合物中で行われる。
エタノール等のアルコール、テトラヒドロフラン、ジオ
キサン、アセトン、ベンゼン、トルエン、キシレン等の
ような反応に悪影響を及ぼさない常用の溶媒、またはそ
れらの混合物中で行われる。
反応温度は特に限定きれないが、通常は加温下ないし加
熱下に反応が行われる。
熱下に反応が行われる。
(C)亙茎亙
化合物(I[)またはその塩類は、化合物(■)または
そのヒドロキシ基における反応性誘導体またはその塩類
を化合物(■)と反応させることにより製造することが
できる。
そのヒドロキシ基における反応性誘導体またはその塩類
を化合物(■)と反応させることにより製造することが
できる。
化合物(■)のヒドロキシ基における好適な反応性誘導
体としては、例えば塩化物、臭化物、沃化物等のハロゲ
ン化物、例えばメタンスルホン酸エステル、ベンゼンス
ルホン酸エステル、トルエンスルホン酸エステル等のス
ルホン酸エステル等が挙げられるが、それらの中でさら
に好ましい例としてはハロゲン化物が挙げられる。
体としては、例えば塩化物、臭化物、沃化物等のハロゲ
ン化物、例えばメタンスルホン酸エステル、ベンゼンス
ルホン酸エステル、トルエンスルホン酸エステル等のス
ルホン酸エステル等が挙げられるが、それらの中でさら
に好ましい例としてはハロゲン化物が挙げられる。
化合物(■)の好ましい例としては、トリフェニルホス
フィン、例えば亜燐酸トリエチル等の亜燐酸トリ(C1
−04、)アルキル等が挙げられる。
フィン、例えば亜燐酸トリエチル等の亜燐酸トリ(C1
−04、)アルキル等が挙げられる。
この反応は例えば炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウ
ム等のアルカリ金属炭酸水素塩、例えば炭酸ナトリウム
、炭酸カリウム等のアルカリ金属炭酸塩、例えば炭酸マ
グネシウム、炭酸カルシウム等のアルカリ土類金属炭酸
塩、例えばトリメチルアミン、トリエチルアミン、N、
N−ジイソプロピル−N−エチルアミン等の、トリ(低
級)アルキルアミン、例えばピリジン、ピッリン、ルチ
ジン、N、N−ジメチルアミノピリジンのようなN。
ム等のアルカリ金属炭酸水素塩、例えば炭酸ナトリウム
、炭酸カリウム等のアルカリ金属炭酸塩、例えば炭酸マ
グネシウム、炭酸カルシウム等のアルカリ土類金属炭酸
塩、例えばトリメチルアミン、トリエチルアミン、N、
N−ジイソプロピル−N−エチルアミン等の、トリ(低
級)アルキルアミン、例えばピリジン、ピッリン、ルチ
ジン、N、N−ジメチルアミノピリジンのようなN。
N−ジ(低級)アルキルアミノピリジン等のピリジン化
合物、キノリン、イミダシーツ呟例えばN−メデルモル
ホリン等のN−低級アルキルモルホリン、例えばN−エ
チルピペリジン等のN−低級アルキルピペリジン、例え
ばN、N−ジメチルベンジルアミン等のN、N−ジ(低
級)アルキルベンジルアミン等のような無機塩基または
有機塩基の存在下に行うことができる。
合物、キノリン、イミダシーツ呟例えばN−メデルモル
ホリン等のN−低級アルキルモルホリン、例えばN−エ
チルピペリジン等のN−低級アルキルピペリジン、例え
ばN、N−ジメチルベンジルアミン等のN、N−ジ(低
級)アルキルベンジルアミン等のような無機塩基または
有機塩基の存在下に行うことができる。
この反応は通常、ジオキサン、アセトニトリル、クロロ
ホルム、ジクロロメタン、ヘキサメチルホスホラミド、
ジクロロエタン、テトラヒドロフラン、酢酸エチル、ジ
メチルスルホキシド、N、N−ジメチルホルムアミド、
ピリジン等のような反応に悪影響を及ぼさない常用の溶
媒、またはそれらの混合物中で行われる。
ホルム、ジクロロメタン、ヘキサメチルホスホラミド、
ジクロロエタン、テトラヒドロフラン、酢酸エチル、ジ
メチルスルホキシド、N、N−ジメチルホルムアミド、
ピリジン等のような反応に悪影響を及ぼさない常用の溶
媒、またはそれらの混合物中で行われる。
この反応の反応温度は特に限定されないが、通常は冷却
下ないし加温下に反応が行われる。
下ないし加温下に反応が行われる。
(D)亙抜旦
化合物(X)またはその塩類は、化合物(V)またはそ
の塩類を化合物(IX)またはその塩類と反応させるこ
とにより製造することができる。
の塩類を化合物(IX)またはその塩類と反応させるこ
とにより製造することができる。
化合物(X)の好適な塩類としては、化合物(I)の塩
類と同じものが挙げられる。
類と同じものが挙げられる。
化合物(IK)の好適な塩類としては、化合物(1e)
の塩類と同じものが挙げられる。
の塩類と同じものが挙げられる。
化合物(IX)の好適な例としては、カルボキシ基が前
記のような常用のカルボキシ保護基で保護されていても
よいハロゲン化オキサリルが挙げられる。
記のような常用のカルボキシ保護基で保護されていても
よいハロゲン化オキサリルが挙げられる。
この反応は方法Cで述べたような塩基の存在下に行うこ
とができる。
とができる。
この反応は通常、ジオキサン、アセトニトリル、クロロ
ホルム、ジクロロメタン、ヘキサメチルホスホラミド、
ジクロロエタン、テトラヒドロフラン、酢酸エチル、ジ
メチルスルホキシド、N、N−ジメチルホルムアミド、
ピリジン等のような反応に悪影響を及ぼさない常用の溶
媒、またはそれらの混合物中で行われる。
ホルム、ジクロロメタン、ヘキサメチルホスホラミド、
ジクロロエタン、テトラヒドロフラン、酢酸エチル、ジ
メチルスルホキシド、N、N−ジメチルホルムアミド、
ピリジン等のような反応に悪影響を及ぼさない常用の溶
媒、またはそれらの混合物中で行われる。
この反応の反応温度は特に限定されないが、通常は冷却
下ないし加温下に反応が行われる。
下ないし加温下に反応が行われる。
(E)亙抜ヱ
化合物(I[)またはその塩類は、化合物(X)または
その塩類を化合物(■)と反応させることにより製造す
ることができる。
その塩類を化合物(■)と反応させることにより製造す
ることができる。
この反応は通常、ジオキサン、アセトニトリル、クロロ
ホルム、ジクロロメタン、ヘキサメチルホスホラミド、
ジクロロエタン、テトラヒドロフラン、酢酸エチル、ジ
メチルスルホキシド、N、N−ジメチルホルムアミド、
ピリジン、ベンゼン、トルエン、キシレン等のような反
応に悪影響を及ぼさない常用の溶媒、またはそれらの混
合物中で行われる。
ホルム、ジクロロメタン、ヘキサメチルホスホラミド、
ジクロロエタン、テトラヒドロフラン、酢酸エチル、ジ
メチルスルホキシド、N、N−ジメチルホルムアミド、
ピリジン、ベンゼン、トルエン、キシレン等のような反
応に悪影響を及ぼさない常用の溶媒、またはそれらの混
合物中で行われる。
この反応の反応温度は特に限定されないが、通常は加温
下ないし加熱下に反応が行われる。
下ないし加熱下に反応が行われる。
(F)1抜ヱ
化合物(XI)またはその塩類は、化合物(I[−a)
またはその塩類を環化することにより製造することがで
きる。
またはその塩類を環化することにより製造することがで
きる。
化合物(II−a)および(XI[)の好適な塩類とし
ては、化合物<I)の塩類と同じものが挙げられる。
ては、化合物<I)の塩類と同じものが挙げられる。
環化方法および例えば反応温度、溶媒等の反応条件は製
造法1の化合物(If)の環化反応の説明と実質的に同
じであり、従って前記説明を参照すればよい。
造法1の化合物(If)の環化反応の説明と実質的に同
じであり、従って前記説明を参照すればよい。
(G)亙逗亙
化合物(XII−b)またはその塩類は、化合物(Xト
a)またはその塩類をR1のカルボキシ保護基の脱離反
応に付すことにより製造することができる。
a)またはその塩類をR1のカルボキシ保護基の脱離反
応に付すことにより製造することができる。
化合物(XI[−a)の好適な塩類としては、化合物(
1−a)の塩類と同じものが挙げられる。
1−a)の塩類と同じものが挙げられる。
化合物(XI[−b)の好適な塩類としては、化合物(
XI[)の塩類と同じものが挙げられる。
XI[)の塩類と同じものが挙げられる。
この反応は通常、加水分解、還元等のような常法によっ
て行われる。
て行われる。
加水分解および還元の方法ならびに例えば反応温度、溶
媒等の反応条件は製造法2の化合物(1’−a)のカル
ボキシ保護基の脱離反応の説明と実質的に同じであり、
従って前記説明を参照すればよい。
媒等の反応条件は製造法2の化合物(1’−a)のカル
ボキシ保護基の脱離反応の説明と実質的に同じであり、
従って前記説明を参照すればよい。
この製造法においては、R2およびR4のヒドロキシ保
護基および/またはR5のイミノ保護基が反応中同時に
脱離する場合もその範囲内に包含される。
護基および/またはR5のイミノ保護基が反応中同時に
脱離する場合もその範囲内に包含される。
(H)亙茎旦
化合物(Xl[−d)またはその塩類は、化合物(XI
[−c)またはその塩類をR2のヒドロキシ保護基の脱
離反応に付すことにより製造することができる。
[−c)またはその塩類をR2のヒドロキシ保護基の脱
離反応に付すことにより製造することができる。
化合物(XI[−c)および(XI−d)の好適な塩類
としては、化合物(In)の塩類と同じものが挙げられ
る。
としては、化合物(In)の塩類と同じものが挙げられ
る。
この反応は通常、加水分解、還元等のような常法によっ
て行われる。
て行われる。
加水分解および還元の方法ならびに例えば反応温度、溶
媒等の反応条件は製造法2の化合物(■−a)のカルボ
キシ保護基の脱離反応の説明と実質的に同じであり、従
って前記説明を参照すればよい。
媒等の反応条件は製造法2の化合物(■−a)のカルボ
キシ保護基の脱離反応の説明と実質的に同じであり、従
って前記説明を参照すればよい。
ヒドロキシ保護基がトリ(低級)アルキルシリル基であ
る場合にはこの保護基の脱離は例えばフッ化テトラブチ
ルアンモニウム等のフッ化テトラ(低級)アルキルアン
モニウムの存在下に行うこともできる。
る場合にはこの保護基の脱離は例えばフッ化テトラブチ
ルアンモニウム等のフッ化テトラ(低級)アルキルアン
モニウムの存在下に行うこともできる。
この製造法においては、R1のカルボキシ保護基および
/またはR12および/またはR13のアミノ保護基が
反応中同時に脱離する場合もその範囲内に包含される。
/またはR12および/またはR13のアミノ保護基が
反応中同時に脱離する場合もその範囲内に包含される。
(I)1迭ユ
化合物(XI)またはその塩類は、化合物(XI[)ま
たはその塩類をR12および/またはR13のアミノ保
護基の脱離反応に付すことにより製造することができる
。
たはその塩類をR12および/またはR13のアミノ保
護基の脱離反応に付すことにより製造することができる
。
化合物(X I )の好適な塩類としては、化合物(x
l)の塩類と同じものが挙げられる。
l)の塩類と同じものが挙げられる。
この反応は通常加水分解、還元等のような常法によって
行われる。
行われる。
加水分解および還元の方法ならびに例えば反応温度、溶
媒等の反応条件は製造法2の化合物(I−a)のカルボ
キシ保護基の脱離反応の説明と実質的に同じであり、従
って前記説明を参照すればよい。
媒等の反応条件は製造法2の化合物(I−a)のカルボ
キシ保護基の脱離反応の説明と実質的に同じであり、従
って前記説明を参照すればよい。
この製造法においては、Rおよび/またはR2のカルボ
キシ保護基および/またはヒドロキシ保護基が反応中同
時に脱離する場合もその範囲内に包含きれる。
キシ保護基および/またはヒドロキシ保護基が反応中同
時に脱離する場合もその範囲内に包含きれる。
この発明の目的化合物(!)および医薬として許容され
るその塩類は新規であり、大きな抗菌作用を発揮してダ
ラム陽性菌およびダラム陰性菌を含む広汎な病原菌の生
育を阻止し、抗菌薬として有用である。
るその塩類は新規であり、大きな抗菌作用を発揮してダ
ラム陽性菌およびダラム陰性菌を含む広汎な病原菌の生
育を阻止し、抗菌薬として有用である。
こへに目的化合物(1)の有用性を示すために、この発
明の化合物(I)の代表的化合物の抗菌作用についての
試験結果を以下に示す。
明の化合物(I)の代表的化合物の抗菌作用についての
試験結果を以下に示す。
資力m月
管内抗菌作用を下記寒天板倍々希釈法により測定した。
試験菌株をトリプトケース・ソイ・ブロス中−夜培養し
てその一白金耳(生菌数106個/戚)を各濃度段階の
試験化合物を含むハート・インフュージョン寒天(HI
寒天)に画線し、37℃、20時間インキュベート後に
最小阻止濃度(MIC)を</1mで表わした。
てその一白金耳(生菌数106個/戚)を各濃度段階の
試験化合物を含むハート・インフュージョン寒天(HI
寒天)に画線し、37℃、20時間インキュベート後に
最小阻止濃度(MIC)を</1mで表わした。
K象文介1
実施例12の化合物
治療用として投与するために、この発明の目的化合物(
1)および医薬として許容されるその塩類は、経口投与
、非経口投与および外用投与に適した有機もしくは無機
固体状または液状賦形剤のような医薬として許容される
担体と混合して、前記化合物を有効成分として含有する
常用の医薬製剤の形として使用きれる。医薬製剤は錠剤
、顆粒、粉剤、カプセルのような固体の形または溶液、
懸rl f& 、シロップ、エマルジョン、レモネード
のような液体の形等とすればよい。
1)および医薬として許容されるその塩類は、経口投与
、非経口投与および外用投与に適した有機もしくは無機
固体状または液状賦形剤のような医薬として許容される
担体と混合して、前記化合物を有効成分として含有する
常用の医薬製剤の形として使用きれる。医薬製剤は錠剤
、顆粒、粉剤、カプセルのような固体の形または溶液、
懸rl f& 、シロップ、エマルジョン、レモネード
のような液体の形等とすればよい。
必要に応じて、上記製剤中に助剤、安定剤、湿潤剤およ
びその他、乳糖、ステアリン酸、ステアリン酸マグネシ
ウム、白土、しよ糖、トウモロコシデンプン、タルク、
ゼラチン、寒天、ペクチン、落花生油、オリーブ油、カ
カオ脂、エチレングリフール、酒石酸、クエン酸、フマ
ル酸等のような通常使用される添加剤が含まれていても
よい。
びその他、乳糖、ステアリン酸、ステアリン酸マグネシ
ウム、白土、しよ糖、トウモロコシデンプン、タルク、
ゼラチン、寒天、ペクチン、落花生油、オリーブ油、カ
カオ脂、エチレングリフール、酒石酸、クエン酸、フマ
ル酸等のような通常使用される添加剤が含まれていても
よい。
化合物(I)の投与量は患者の年齢、条件、疾患の種類
、使用すべき化合物(I)の種類等によって変化する。
、使用すべき化合物(I)の種類等によって変化する。
一般的には、1日当り1mgと約4,000鴫との間の
量もしくはそれ以上を患者に投与してもよい、この発明
の目的化合物(I>は平均1回投与量約1 mg%Lo
ng、 50mg、 100mg、 250mg、 5
00ffig、1000mg、 2000mgを病原菌
感染症治療に使用すればよい。
量もしくはそれ以上を患者に投与してもよい、この発明
の目的化合物(I>は平均1回投与量約1 mg%Lo
ng、 50mg、 100mg、 250mg、 5
00ffig、1000mg、 2000mgを病原菌
感染症治療に使用すればよい。
(以下余白)
「実施例」
以下製造例および実施例に従ってこの発明をきらに詳細
に説明する。
に説明する。
1産遭ユ
1−アリルオキシカルボニル−3−ヒドロキシメチルピ
ロリジン(2,6g)のアセトン溶液にジョーンズ試薬
(1,25N、 20fllll )を常温で加える。
ロリジン(2,6g)のアセトン溶液にジョーンズ試薬
(1,25N、 20fllll )を常温で加える。
1時間攪拌後、これにイソプロピルアルコール(Lol
++ )を加える。生成する沈殿を濾去して濾液の溶媒
を減圧下に留去する。残渣をジクロロメタンに溶解し、
ジシクロへキシルカルボジイミド(0,79g)、メル
ドラム酸(0,55g)、4−メチルアミノピリジン(
0,47g)を0℃で溶液に加える。常温で24時間攪
拌後、生成する沈殿を濾去する。濾液をIN塩酸で洗浄
し、溶媒を減圧下に留去する。残渣を酢酸(10111
1)と水(7−)との混合物に溶解し、混合物を1時間
還流する。溶媒を留去して得られる残渣を酢酸エチル中
に加える。
++ )を加える。生成する沈殿を濾去して濾液の溶媒
を減圧下に留去する。残渣をジクロロメタンに溶解し、
ジシクロへキシルカルボジイミド(0,79g)、メル
ドラム酸(0,55g)、4−メチルアミノピリジン(
0,47g)を0℃で溶液に加える。常温で24時間攪
拌後、生成する沈殿を濾去する。濾液をIN塩酸で洗浄
し、溶媒を減圧下に留去する。残渣を酢酸(10111
1)と水(7−)との混合物に溶解し、混合物を1時間
還流する。溶媒を留去して得られる残渣を酢酸エチル中
に加える。
溶液を順次炭酸水素ナトリウム飽和水溶液および食塩水
で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥後溶媒を留去する。
で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥後溶媒を留去する。
残渣をシリカゲルを使用するカラムクロマトグラフィー
に付し、n−ヘキサンと酢酸エチルとの混液(2: 1
、v/v)で溶出して、3−アセチル−1−アリルオキ
シカルボニルピロリジン(2,01g)を得る。
に付し、n−ヘキサンと酢酸エチルとの混液(2: 1
、v/v)で溶出して、3−アセチル−1−アリルオキ
シカルボニルピロリジン(2,01g)を得る。
IR(CH2C12) : 1680−1720 ct
a−”NMR(CDCl2.8 ) ’ 1.9−2.
2 (2H9m)、2.22 (3)1゜s)、 3.
0−3.9 (5H,a+)、 4.28−4.35
(2H,m)。
a−”NMR(CDCl2.8 ) ’ 1.9−2.
2 (2H9m)、2.22 (3)1゜s)、 3.
0−3.9 (5H,a+)、 4.28−4.35
(2H,m)。
5.10−5.20 (2H,m)、 5.90−6.
10 (1)1.m)(以下余白) !U虹二U (23)−1−アリルオキシカルボニル−2−カルボキ
シピロリジン(Log)のジクロロメタン(100II
IQ )溶液に、ジシクロへキシルカルボジイミド(9
,8g)、メルドラム酸(6,8g)および4−ジメチ
ルアミノピリジン(5,8g)を0℃で加える。常温で
24時間攪拌後、生成する沈殿を濾去する。濾液をIN
塩酸溶液で洗浄し、溶媒を減圧下に留去する。残渣を酢
酸(80m11 )と水(6011111)との混合物
に溶解し、1時間還流する。溶媒を留去して得られる残
渣を酢酸エチル中に加える。溶液を順次炭酸水素ナトリ
ウム飽和水溶液および食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウ
ムで乾燥して溶媒を留去する。残渣をシリカゲルを使用
するクロマトグラフィーに付し、n−ヘキサンと酢酸エ
チルとの混液(2: 1、v/v)で溶出して、(2S
)−2−アセチル−1−アリルオキシカルボニルピロリ
ジン(4,1g)を得る。
10 (1)1.m)(以下余白) !U虹二U (23)−1−アリルオキシカルボニル−2−カルボキ
シピロリジン(Log)のジクロロメタン(100II
IQ )溶液に、ジシクロへキシルカルボジイミド(9
,8g)、メルドラム酸(6,8g)および4−ジメチ
ルアミノピリジン(5,8g)を0℃で加える。常温で
24時間攪拌後、生成する沈殿を濾去する。濾液をIN
塩酸溶液で洗浄し、溶媒を減圧下に留去する。残渣を酢
酸(80m11 )と水(6011111)との混合物
に溶解し、1時間還流する。溶媒を留去して得られる残
渣を酢酸エチル中に加える。溶液を順次炭酸水素ナトリ
ウム飽和水溶液および食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウ
ムで乾燥して溶媒を留去する。残渣をシリカゲルを使用
するクロマトグラフィーに付し、n−ヘキサンと酢酸エ
チルとの混液(2: 1、v/v)で溶出して、(2S
)−2−アセチル−1−アリルオキシカルボニルピロリ
ジン(4,1g)を得る。
IR(ニー)) ’ 1690−1720 a
m−’NMR(CDCl2.8 ) ’ 178−2.
00 (4H1m)−2,比2.19 (3)1.それ
ぞれs)、 3.42−3.69 (2H,m)。
m−’NMR(CDCl2.8 ) ’ 178−2.
00 (4H1m)−2,比2.19 (3)1.それ
ぞれs)、 3.42−3.69 (2H,m)。
4.23−4.47 (IH,m)、 4.48−4.
62 (2H,m)。
62 (2H,m)。
5.18−5.40 (2H,m)、 5.79−
6.03 (IH,m>1産五に釘 (2S、4R)−1−アリルオキシカルボニル−カルボ
キシピロリジン(15g)のジクロロメタン( 15D
Q )溶液に、ジシクロへキシルカルボジイミド( 1
1.5K )、メルドラム酸(8.0g)および4−ジ
メチルアミノピリジン(6.8g)を0℃で加える.常
温で24時間攪拌後、生成する沈殿を濾去する.濾液を
IN塩酸溶液で洗浄して溶媒を減圧下に留去する.残渣
を酢酸( 801Q )と水(60戚)との混合物に溶
解し、1時間還流する.溶媒を留去して得られる残渣を
酢酸エチル中に加える.溶液を順次炭酸水素ナトリウム
飽和水溶液および食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムで
乾燥して溶媒を留去する.残渣をジメチルホルムアミド
( 601Q )に溶解し、次いでこれにイミダゾール
(8.7g)および塩化第6級ブチルジメチルシリル(
8.7g>を常温で加える.10時間攪拌後、混合物を
水( 200all )中に注ぎ、酢酸エチル( 10
0IQ )で2回抽出し、硫酸マグネシウムで乾燥して
溶媒を留去する.残渣をシリカゲルを使用するクロマト
グラフィーに付し、n−ヘキサンと酢酸エチルとの混液
(2:1、v/v )で溶出して、( 2 S.4R)
−2−アセチル−1−アリルオキシカルボニル−4−第
三級ブチルジメチルシリルオキシピロリジン(10.6
g)を得る。
6.03 (IH,m>1産五に釘 (2S、4R)−1−アリルオキシカルボニル−カルボ
キシピロリジン(15g)のジクロロメタン( 15D
Q )溶液に、ジシクロへキシルカルボジイミド( 1
1.5K )、メルドラム酸(8.0g)および4−ジ
メチルアミノピリジン(6.8g)を0℃で加える.常
温で24時間攪拌後、生成する沈殿を濾去する.濾液を
IN塩酸溶液で洗浄して溶媒を減圧下に留去する.残渣
を酢酸( 801Q )と水(60戚)との混合物に溶
解し、1時間還流する.溶媒を留去して得られる残渣を
酢酸エチル中に加える.溶液を順次炭酸水素ナトリウム
飽和水溶液および食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムで
乾燥して溶媒を留去する.残渣をジメチルホルムアミド
( 601Q )に溶解し、次いでこれにイミダゾール
(8.7g)および塩化第6級ブチルジメチルシリル(
8.7g>を常温で加える.10時間攪拌後、混合物を
水( 200all )中に注ぎ、酢酸エチル( 10
0IQ )で2回抽出し、硫酸マグネシウムで乾燥して
溶媒を留去する.残渣をシリカゲルを使用するクロマト
グラフィーに付し、n−ヘキサンと酢酸エチルとの混液
(2:1、v/v )で溶出して、( 2 S.4R)
−2−アセチル−1−アリルオキシカルボニル−4−第
三級ブチルジメチルシリルオキシピロリジン(10.6
g)を得る。
IR (ニー)) ’ 1700−1720
crm−’NMR (CDCl2. 8 ) ’ o
. 03 (6H,s)、o. 92 (9H,s)。
crm−’NMR (CDCl2. 8 ) ’ o
. 03 (6H,s)、o. 92 (9H,s)。
1、70−2.LO (2H.m)、 2.06. 2
.14 (3H.それぞれS)、3、25−3.60
(3H.m)、 4.23−4.61 (38。
.14 (3H.それぞれS)、3、25−3.60
(3H.m)、 4.23−4.61 (38。
m)、 5.02−5.24 (2H.n)、 5
.68−6.00 (18,m)製造例2−1)と実質
的に同様にして下記化合物を得る。
.68−6.00 (18,m)製造例2−1)と実質
的に同様にして下記化合物を得る。
振1」IL二打
IR (C12C12) ’ 1680(710 cr
s−INMR (CDCl2.8 ) ’ 1.4−1
.7 (2H.m> 、1. 8−2. 0(2H.m
)、 2.17 (3H.s)、 2.3−2.6 (
2)1.m)。
s−INMR (CDCl2.8 ) ’ 1.4−1
.7 (2H.m> 、1. 8−2. 0(2H.m
)、 2.17 (3H.s)、 2.3−2.6 (
2)1.m)。
2、7−3.0 (2H.m)、 3.9−4.3 (
2H,m)、 4.58−4、61 (2H.a+)、
5.1−5.4 (2H.m)、 5.8−6.0(
2H.a+) 袈」」IL二〇 1R(ニー)) : 1690−1710 am
−’NMR(CDC13,S ) ’ 1.4−2.2
(4R1m)、2−19 (3H1s)、 2.4
−2.6 (IH,+n)、 2.7−3.2 (2
H,+n>。
2H,m)、 4.58−4、61 (2H.a+)、
5.1−5.4 (2H.m)、 5.8−6.0(
2H.a+) 袈」」IL二〇 1R(ニー)) : 1690−1710 am
−’NMR(CDC13,S ) ’ 1.4−2.2
(4R1m)、2−19 (3H1s)、 2.4
−2.6 (IH,+n)、 2.7−3.2 (2
H,+n>。
3.8−4.3 (2H,Il+)、 4.50−4
.60 (28,m)、 5.2−5.4 (2H,
m)、 5.8−6.1 (IH,m)(3R,4
R)−4−アセトキシ−3−[(IR)−1−第三級ブ
チルジメチルシリルオキシエチル]−2−オキソアゼチ
ジン(2,2g)およびトリエチルアミン(1,111
1)のジクロロメタン(2011111)溶液に、トリ
フルオロメタンスルホン酸トリメチルシリル(1,51
1111”)を窒素雰囲気中、−60°Cで加え、混合
物をO″Cで30分間攪拌する(溶液A)。
.60 (28,m)、 5.2−5.4 (2H,
m)、 5.8−6.1 (IH,m)(3R,4
R)−4−アセトキシ−3−[(IR)−1−第三級ブ
チルジメチルシリルオキシエチル]−2−オキソアゼチ
ジン(2,2g)およびトリエチルアミン(1,111
1)のジクロロメタン(2011111)溶液に、トリ
フルオロメタンスルホン酸トリメチルシリル(1,51
1111”)を窒素雰囲気中、−60°Cで加え、混合
物をO″Cで30分間攪拌する(溶液A)。
4−7セチルー1−アリルオキシカルボニルピロリジン
(1,0g)およびトリエチルアミン(0,7111Q
)のジクロロメタン(10mQ )溶液に、トリフルオ
ロメタンスルホン酸トリメチルシリル(0,9811)
を窒素雰囲気中、−60℃で加え、この混合物を0°C
で30分間攪拌する。この混合物に溶液Aを窒素雰囲気
中O℃で滴下し、混合物を0℃でさらに4時間攪拌する
0反応混合物を酢酸エチルと水との混合物中に加え、混
合物を常温で2時間攪拌する。炭酸水素ナトリウム水溶
液でpH6,5付近に調整し、有機層を分取して食塩水
で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥して溶媒を減圧下に
留去する。残渣をシリカゲルを使用するクロマトグラフ
ィーに付し、n−ヘキサンと酢酸エチルとの混液(1:
2、v/v )で溶出して、(3S、4R)−4−[2
−(1−アリルオキシカルボニルピロリジン−3−イル
)−2−オキソエチル]−3−[(IR)−1−第三級
ブチルジメチルシリルオキシエチル]−2−オキソアゼ
チジン(1,2g )を得る。
(1,0g)およびトリエチルアミン(0,7111Q
)のジクロロメタン(10mQ )溶液に、トリフルオ
ロメタンスルホン酸トリメチルシリル(0,9811)
を窒素雰囲気中、−60℃で加え、この混合物を0°C
で30分間攪拌する。この混合物に溶液Aを窒素雰囲気
中O℃で滴下し、混合物を0℃でさらに4時間攪拌する
0反応混合物を酢酸エチルと水との混合物中に加え、混
合物を常温で2時間攪拌する。炭酸水素ナトリウム水溶
液でpH6,5付近に調整し、有機層を分取して食塩水
で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥して溶媒を減圧下に
留去する。残渣をシリカゲルを使用するクロマトグラフ
ィーに付し、n−ヘキサンと酢酸エチルとの混液(1:
2、v/v )で溶出して、(3S、4R)−4−[2
−(1−アリルオキシカルボニルピロリジン−3−イル
)−2−オキソエチル]−3−[(IR)−1−第三級
ブチルジメチルシリルオキシエチル]−2−オキソアゼ
チジン(1,2g )を得る。
IR(CH2C12) ’ 1760.1690−17
10 ccm−”NMR(CDCl2.8) : 0.
1 (6H,s)、 0.88 (9H,s)。
10 ccm−”NMR(CDCl2.8) : 0.
1 (6H,s)、 0.88 (9H,s)。
1.22 (3H,d、J=7Hz)、 1.9−2.
5 (2H,m)、 2.7−3.0 (3H,m)、
3.0−3.3 (1)1.m)、 3.3−3.7
(4H,m)、 3.8−4.4 (2H,m)、 4
.5−4.7 (2H,m)。
5 (2H,m)、 2.7−3.0 (3H,m)、
3.0−3.3 (1)1.m)、 3.3−3.7
(4H,m)、 3.8−4.4 (2H,m)、 4
.5−4.7 (2H,m)。
5.0−5.4 (2H,m)、 5.6−6.2 (
IH,m)、 6.26(LH,br s) 製造例3と実質的に同様にして下記化合物を得る。
IH,m)、 6.26(LH,br s) 製造例3と実質的に同様にして下記化合物を得る。
毀1JL(二〇
1R(CH2C12) ’ 1760.1690−17
10 crs−’NMR(CDCl2.8 )
’ 0.03 (6H,s)、 0.91 (
9H,s)。
10 crs−’NMR(CDCl2.8 )
’ 0.03 (6H,s)、 0.91 (
9H,s)。
1.11−1.21 (3H,m)、 1.69−
2.30 (4H,m)。
2.30 (4H,m)。
2.41−3.00 (3Lm)、 3.39−3.
65 (2H,m)。
65 (2H,m)。
3.82−4.00 (IH,m)、 4.02−4
.41 (2H,m)。
.41 (2H,m)。
4.42−4.50 (2H,m)、 5.08−5
.38 (2H,n+)。
.38 (2H,n+)。
5.62−6.00 (1)1.m)製m−社
IR(CH2C12) ’ 1760,1690−17
10 cwl−’NMR(CDC13,S ) ’ 0
.03 (12H,s)、 o、 092 (18H9
s)、 1.12−1.22 (38,m)、 2
.44−2.92 (3H,m)。
10 cwl−’NMR(CDC13,S ) ’ 0
.03 (12H,s)、 o、 092 (18H9
s)、 1.12−1.22 (38,m)、 2
.44−2.92 (3H,m)。
3.35−3.61 (28,m)、 4.29−
4.62 (3H,m)。
4.62 (3H,m)。
5.11−5.30 (2H,m)、 5.60−6
.00 (IH,m)聚1」IL二υ 暑 IR(CH2C12) ’ 1750.1690 am
−’NMR(CDCl2. l; ) : 0.05
(6H,s)、 0.90 (9H,s)。
.00 (IH,m)聚1」IL二υ 暑 IR(CH2C12) ’ 1750.1690 am
−’NMR(CDCl2. l; ) : 0.05
(6H,s)、 0.90 (9H,s)。
1.15 (3H,d、J=6Hz5.1.44−1.
56 <2H,m)。
56 <2H,m)。
1.76−1.81 (2H,m)、 2.43−
2.95 (6H,m)。
2.95 (6H,m)。
3.82−4.13 (4H,III)、 4.50
−4.54・(2)1.s)。
−4.54・(2)1.s)。
5.11−5.27 (2H,m)、 5.83−5
.95 (IH,m)。
.95 (IH,m)。
6.05 (IH,br s)
製!二〇
IR(CH2C12) ’ 1755.1690 cm
−’NMR(CDCl2.8 ) : 0.02 (6
H,s)、 0.90 (9H,s)。
−’NMR(CDCl2.8 ) : 0.02 (6
H,s)、 0.90 (9H,s)。
1.14 (3H,d、J=6Hz)、 1.2−
2.0 (4H,m>、 2.4−3.2 (6H,
a+)、 3.7−4.2 (4H,m)、 4.
4−4.6(2H,m)、 5.0−5.3 (2
1,m)、 5.7−6.2 (2H,m)飯AJ
!LL二口 トリメデルシリルアセチレン(17m1! )のテトラ
ヒドロフラン(100111)溶液に、順次n−ブチル
リチウムのn−ヘキサン溶液(1,50M、 81m1
1 )および1−アセチル−4−ピペリドン(tt、s
g)のテトラヒドロフラン(15ffijl )溶液を
一78℃で加える。−78°Cで30分間攪拌後、混合
物に酢酸(5,0−)を加え、この混合物を塩化アンモ
ニウム水溶液(300+sll )と酢酸エチル(30
0ffLIl )との混合物中に0°Cで加える。有機
層を分取して食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥
する。溶媒を留去して得られる結晶を濾取し、n−ヘキ
サンで洗浄して、1−アセチル−4−ヒドロキシ−4−
(2−トリメチルシリルエチニル)ピペリジン(14,
48g ’)を得る。
2.0 (4H,m>、 2.4−3.2 (6H,
a+)、 3.7−4.2 (4H,m)、 4.
4−4.6(2H,m)、 5.0−5.3 (2
1,m)、 5.7−6.2 (2H,m)飯AJ
!LL二口 トリメデルシリルアセチレン(17m1! )のテトラ
ヒドロフラン(100111)溶液に、順次n−ブチル
リチウムのn−ヘキサン溶液(1,50M、 81m1
1 )および1−アセチル−4−ピペリドン(tt、s
g)のテトラヒドロフラン(15ffijl )溶液を
一78℃で加える。−78°Cで30分間攪拌後、混合
物に酢酸(5,0−)を加え、この混合物を塩化アンモ
ニウム水溶液(300+sll )と酢酸エチル(30
0ffLIl )との混合物中に0°Cで加える。有機
層を分取して食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥
する。溶媒を留去して得られる結晶を濾取し、n−ヘキ
サンで洗浄して、1−アセチル−4−ヒドロキシ−4−
(2−トリメチルシリルエチニル)ピペリジン(14,
48g ’)を得る。
IR(スジ螢−ル) : 3160. 1610
am−’NMR(CDC13,S ) ’ 0.17
(9H9s)、1.50−2.22(4H,m)、
2.08 (3計s)、 2.53 (IH,s)、
3.13−4.30 (4H,鵬) 1産に釘 1−アセチル−4−ヒドロキシ−4−(2−トリメチル
シリルエチニル)ピペリジン(13g)のテトラヒドロ
フラン(1001111)、水(25111)およびN
、N−ジメチルホルムアミド(10滴)の混合物中溶液
をこ塩化第二水銀(1,6g)および硫酸(10滴)を
加え、この混合物を常温で15時間攪拌する。炭酸水素
ナトリウム水溶液でpH8付近に調型後、反応混合物を
「フロリジル」(商標、フロリジン社製)で濾過し、残
渣を順次酢酸エチルとテトラヒドロフランとで洗浄する
。濾液と洗液とを合わせて溶媒を減圧下に留去し、残渣
を酢酸エチルに溶解して硫酸マグネシウムで乾燥する。
am−’NMR(CDC13,S ) ’ 0.17
(9H9s)、1.50−2.22(4H,m)、
2.08 (3計s)、 2.53 (IH,s)、
3.13−4.30 (4H,鵬) 1産に釘 1−アセチル−4−ヒドロキシ−4−(2−トリメチル
シリルエチニル)ピペリジン(13g)のテトラヒドロ
フラン(1001111)、水(25111)およびN
、N−ジメチルホルムアミド(10滴)の混合物中溶液
をこ塩化第二水銀(1,6g)および硫酸(10滴)を
加え、この混合物を常温で15時間攪拌する。炭酸水素
ナトリウム水溶液でpH8付近に調型後、反応混合物を
「フロリジル」(商標、フロリジン社製)で濾過し、残
渣を順次酢酸エチルとテトラヒドロフランとで洗浄する
。濾液と洗液とを合わせて溶媒を減圧下に留去し、残渣
を酢酸エチルに溶解して硫酸マグネシウムで乾燥する。
fs媒を留去して、1.4−ジアセチル−4−ヒドロキ
シピペリジン(8,75g)を得る。
シピペリジン(8,75g)を得る。
IR(スジ書−ル) ’ 3350. 1700.
1610 cm−’NMR(CDC13,l; )
’ 1.40−2.00 <481m>、2.15(
3H,s)、 2.27 (3H,s)、 2.80−
3.30 (LH。
1610 cm−’NMR(CDC13,l; )
’ 1.40−2.00 <481m>、2.15(
3H,s)、 2.27 (3H,s)、 2.80−
3.30 (LH。
br s)、 3.30−4.20 (3H,m)、
4.20−5.00(IH,m) 11轟旦二刀 1.4−ジアセチル−4−ヒドロキシピペリジン(0,
2g)をIN塩酸(41111)に溶解し、溶液を10
0℃に15時間加熱する。0°Cに冷却後、反応混合物
をテトラヒドロフラン(10ffL11 )と水(10
IIIQ)との混合物で希釈する。混合物にクロロギ酸
アリル(0,15all )のテトラヒドロフラン(2
1111)溶液を0℃で滴下し、この間水酸化カリウム
水溶液でputo付近に調整する。0℃で30分間攪拌
後、反応混合物を酢酸エチルと水との混合物で希釈する
。有機層を分取して順次水および食塩水で洗浄し、硫酸
マグネシウムで乾燥する。溶媒を留去して得られる残渣
をシリカゲル(Log)を使用するクロマトグラフィー
に付し、n−へキサンと酢酸エチルとの混液(9:1−
1:1.v/v)で溶出して、4−アセチル−1−アリ
ルオキシカルボニル−4−ヒドロキシピペリジン(0,
26g)を得る。
4.20−5.00(IH,m) 11轟旦二刀 1.4−ジアセチル−4−ヒドロキシピペリジン(0,
2g)をIN塩酸(41111)に溶解し、溶液を10
0℃に15時間加熱する。0°Cに冷却後、反応混合物
をテトラヒドロフラン(10ffL11 )と水(10
IIIQ)との混合物で希釈する。混合物にクロロギ酸
アリル(0,15all )のテトラヒドロフラン(2
1111)溶液を0℃で滴下し、この間水酸化カリウム
水溶液でputo付近に調整する。0℃で30分間攪拌
後、反応混合物を酢酸エチルと水との混合物で希釈する
。有機層を分取して順次水および食塩水で洗浄し、硫酸
マグネシウムで乾燥する。溶媒を留去して得られる残渣
をシリカゲル(Log)を使用するクロマトグラフィー
に付し、n−へキサンと酢酸エチルとの混液(9:1−
1:1.v/v)で溶出して、4−アセチル−1−アリ
ルオキシカルボニル−4−ヒドロキシピペリジン(0,
26g)を得る。
IR(ニー)) 7 3420. 1690 am
−’NMR(CDCl2.l; ) ’ 1.2
0−1.63 (2H1m)、 1.75−2.1
5 (2H,s)、 2.26 (3H,s)、 3.
00−3.45(2H,m)、 3.82 (IH,b
r s)、 3.96−4.33 (2H。
−’NMR(CDCl2.l; ) ’ 1.2
0−1.63 (2H1m)、 1.75−2.1
5 (2H,s)、 2.26 (3H,s)、 3.
00−3.45(2H,m)、 3.82 (IH,b
r s)、 3.96−4.33 (2H。
m)、 4.50−4.77 (2H,a+)、 5.
10−5.50 (2H,m)。
10−5.50 (2H,m)。
5.74−6.20 (ILa+)
聚1jIL二〇
4−アセチル−1−アリルオキシカルボニル−4−ヒド
ロキシピペリジン(0,2g)のピリジン(4,O絨)
溶液に塩化チオニル(0,1211)を−20°Cで滴
下する。この混合物を1時間かけて常温まで昇温せしめ
、きらに2時間攪拌する。混合物の溶媒を減圧下に留去
して得られる残渣を酢酸エチルと水との混合物中に加え
る。有機層を分取して食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウ
ムで乾燥して溶媒を留去する。残渣をシリカゲル(10
g)を使用するクロマトグラフィーに付し、n−ヘキサ
ンlt−酸エチルとの混液(9: 1−1 : 1.
v/v)で溶出して4−アセチル−1−アリルオキシカ
ルボニル−1,2,3,6−チトラヒドロピリジン(6
9gmg)を得る。
ロキシピペリジン(0,2g)のピリジン(4,O絨)
溶液に塩化チオニル(0,1211)を−20°Cで滴
下する。この混合物を1時間かけて常温まで昇温せしめ
、きらに2時間攪拌する。混合物の溶媒を減圧下に留去
して得られる残渣を酢酸エチルと水との混合物中に加え
る。有機層を分取して食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウ
ムで乾燥して溶媒を留去する。残渣をシリカゲル(10
g)を使用するクロマトグラフィーに付し、n−ヘキサ
ンlt−酸エチルとの混液(9: 1−1 : 1.
v/v)で溶出して4−アセチル−1−アリルオキシカ
ルボニル−1,2,3,6−チトラヒドロピリジン(6
9gmg)を得る。
NMR(CDCl2.8 ) ’ 2.26−2.60
(2H2m)、2.35(3H,s)、 3.60
(2H,t、J:6Hz)、 4.10−4.30(2
H,a+)、 4.50−4.75 (2H,m)、
5.12−5.45(2H,ea)、 5.70−6.
25 (IH,m)、 6.65−6.86(IH,m
) 製JLILL二j 4−アセチル−1−アリルオキシカルボニル−1,2,
3,6−チトラヒドロピリジン(1,33g)およびト
リエチルアミン(1,06m)のジクロロメタン(SO
W )溶液に、トリフルオロメタンスルホン酸トリメチ
ルシリル(2,21111>を0℃で加える。4時間攪
拌後、(3R,4R)−4−アセトキシ−3−[(IR
)−1−第三級ブチルジメチルシリルオキシエチル]−
2−オキソアゼチジン(1,82g )および臭化亜鉛
(1,86g)の酢酸エチル(l0IQ )溶液を混合
物に加え、この混合物を0°Cで1時間攪拌する0反応
混合物を酢酸エチル(200m11 )と水(2001
111)との混合物中に取る。炭酸水素ナトリウム水溶
液でpHを4に調整した後、有機層を分取して食塩水で
洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥する。溶媒を留去して
得られる残渣をシリカゲル(40g)を使用するクロマ
トグラフィーに付し、n−ヘキサンと酢酸エチルとの混
液(9:1−3ニア、v/v )で溶出して、(3S。
(2H2m)、2.35(3H,s)、 3.60
(2H,t、J:6Hz)、 4.10−4.30(2
H,a+)、 4.50−4.75 (2H,m)、
5.12−5.45(2H,ea)、 5.70−6.
25 (IH,m)、 6.65−6.86(IH,m
) 製JLILL二j 4−アセチル−1−アリルオキシカルボニル−1,2,
3,6−チトラヒドロピリジン(1,33g)およびト
リエチルアミン(1,06m)のジクロロメタン(SO
W )溶液に、トリフルオロメタンスルホン酸トリメチ
ルシリル(2,21111>を0℃で加える。4時間攪
拌後、(3R,4R)−4−アセトキシ−3−[(IR
)−1−第三級ブチルジメチルシリルオキシエチル]−
2−オキソアゼチジン(1,82g )および臭化亜鉛
(1,86g)の酢酸エチル(l0IQ )溶液を混合
物に加え、この混合物を0°Cで1時間攪拌する0反応
混合物を酢酸エチル(200m11 )と水(2001
111)との混合物中に取る。炭酸水素ナトリウム水溶
液でpHを4に調整した後、有機層を分取して食塩水で
洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥する。溶媒を留去して
得られる残渣をシリカゲル(40g)を使用するクロマ
トグラフィーに付し、n−ヘキサンと酢酸エチルとの混
液(9:1−3ニア、v/v )で溶出して、(3S。
4 R)−4−[2−(1−アリルオキシカルボニル−
1,2,3,6−テトラヒドロピリジン−4−イル)−
2−オキソニブル]−3−[(IR)−1−第三級ブチ
ルジメチルシリルオキシエチル]−2−オキソアゼチジ
ン(1,80g)を得る。
1,2,3,6−テトラヒドロピリジン−4−イル)−
2−オキソニブル]−3−[(IR)−1−第三級ブチ
ルジメチルシリルオキシエチル]−2−オキソアゼチジ
ン(1,80g)を得る。
IR(CHzClz) ’ 3420.1760.17
00 cta−”NMR(CDCl2.8 ) : 0
.10 (6H,s)、 0.91 (9H,s)。
00 cta−”NMR(CDCl2.8 ) : 0
.10 (6H,s)、 0.91 (9H,s)。
1.25 (3H,d、J=7Hz)、 2.20−
2.54 (2H,m)。
2.54 (2H,m)。
2.76 (LH,dd、J=7. 18Hz)、
2.80 (IH,dd。
2.80 (IH,dd。
J=3. 5Hz)、 3.15 (IH,dd、J
=3. 18Hz)、 3.59(2H,t、J=6
Hz)、 3.80−4.38 (4H,m)、
4.46−4.70 (2H,+a)、 5.10
−5.43 (2H,m)、 5.70−6.20
(2H,m)、 6.86 (1)1.m)飯111
L二〇 (3S、4R)−4−[2−(1−アリルオキシカルボ
ニル− ジンー4−イル)−2−オキソニブル]−3−[(IR
)−を−第三級ブチルジメチルシリルオキシエチル]−
2−オキソアゼチジン(1.85g)のトルエン( 4
0111 )溶液にグリオキシル酸アリル・−水化物(
0.78g)を加える.この混合物を水の共沸回収下に
4時間加熱還流する.溶媒を留去して得られる残渣をキ
シレンに溶解して溶媒を減圧下に留去する.残渣をジク
ロロメタン(20m)に溶解する.この溶液に順次2.
6−ルチジン( 0.58111 >および塩化チオニ
ル(0. 42all )を−20°Cで加える。−2
0°Cで15分間攪拌後、反応混合物を酢酸エチル(1
00ffl11 )と水(100+lQ )との混合物
中に5℃で注ぐ、炭酸水素ナトリウム水溶液でpHを6
.5付近に調整し、有機層を分取して食塩水で洗浄し、
硫酸マグネシウムで乾燥して溶媒を留去する。残渣を脱
気したN、N−ジメチルホルムアミド(zoma )に
溶解し、この溶液に2.6−ルチジン(0,58m1+
) オよヒドリフェニルホスフィン(1,29g )
を加える。常温で6時間放置後、反応混合物を酢酸エチ
ル(10011111)と水(100ωQ)との混合物
中に注ぐ、有機層を分取して順次水、炭酸水素ナトリウ
ム水溶液および食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾
燥する。溶媒を留去して得られる残渣をシリカゲル(5
0g)を使用するクロマトグラフィーに付し、n−ヘキ
サンと酢酸エチルとの混液(5:1−3ニア、v/v
)で溶出して、2−[(3S、4R)−4−+2−(1
−アリルオキシカルボニル−1,2,3,6−テトラヒ
ドロビリジン−4−イル)−2−オキソエチル)−3−
+(IR)−1−第三級ブチルジメチルシリルオキシエ
チル)−2−オキソアゼチジン−1−イ4 ] −2−
トリフェニルホスホラニリデン酢酸アリル(2,10g
)を得る。
=3. 18Hz)、 3.59(2H,t、J=6
Hz)、 3.80−4.38 (4H,m)、
4.46−4.70 (2H,+a)、 5.10
−5.43 (2H,m)、 5.70−6.20
(2H,m)、 6.86 (1)1.m)飯111
L二〇 (3S、4R)−4−[2−(1−アリルオキシカルボ
ニル− ジンー4−イル)−2−オキソニブル]−3−[(IR
)−を−第三級ブチルジメチルシリルオキシエチル]−
2−オキソアゼチジン(1.85g)のトルエン( 4
0111 )溶液にグリオキシル酸アリル・−水化物(
0.78g)を加える.この混合物を水の共沸回収下に
4時間加熱還流する.溶媒を留去して得られる残渣をキ
シレンに溶解して溶媒を減圧下に留去する.残渣をジク
ロロメタン(20m)に溶解する.この溶液に順次2.
6−ルチジン( 0.58111 >および塩化チオニ
ル(0. 42all )を−20°Cで加える。−2
0°Cで15分間攪拌後、反応混合物を酢酸エチル(1
00ffl11 )と水(100+lQ )との混合物
中に5℃で注ぐ、炭酸水素ナトリウム水溶液でpHを6
.5付近に調整し、有機層を分取して食塩水で洗浄し、
硫酸マグネシウムで乾燥して溶媒を留去する。残渣を脱
気したN、N−ジメチルホルムアミド(zoma )に
溶解し、この溶液に2.6−ルチジン(0,58m1+
) オよヒドリフェニルホスフィン(1,29g )
を加える。常温で6時間放置後、反応混合物を酢酸エチ
ル(10011111)と水(100ωQ)との混合物
中に注ぐ、有機層を分取して順次水、炭酸水素ナトリウ
ム水溶液および食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾
燥する。溶媒を留去して得られる残渣をシリカゲル(5
0g)を使用するクロマトグラフィーに付し、n−ヘキ
サンと酢酸エチルとの混液(5:1−3ニア、v/v
)で溶出して、2−[(3S、4R)−4−+2−(1
−アリルオキシカルボニル−1,2,3,6−テトラヒ
ドロビリジン−4−イル)−2−オキソエチル)−3−
+(IR)−1−第三級ブチルジメチルシリルオキシエ
チル)−2−オキソアゼチジン−1−イ4 ] −2−
トリフェニルホスホラニリデン酢酸アリル(2,10g
)を得る。
IR(CH2C12) ’ 1740.17<10 c
m−1HMR(CDC13,8> ’ −0−10−0
,23(6H1m)、0.70−1.00 (9H,m
)、 1.00−1.39 (3H,m)、 2.20
−3.25 (5H,m)、 3.25−3.75
(2H,m)、 4.00−4.85 (8H,
m)、 4.85−5.80 (48,m)、 5.6
0−6.30 (2H,m)、 6.70−7.00
(IH,m)、 7.30−7.93 (15H,m) 製1」IL二〇 ジメチルスルホキシド(21,811111)の塩化メ
チレン(375m11 )溶液を一70℃に冷却し、こ
れに塩化オキサリル(13,41111)の塩化メチレ
ン(12511L11 )溶液を一50°C未満の温度
で加える。添加終了後、混合物を30分間攪拌し、攪拌
終了時点で1−アリルオキシカルボニル−3−ヒドロキ
シピロリジン(25g)の塩化メチレン(1251d
)溶液を一50℃未満の温度で加える。混合物を同温で
1時間攪拌し、次いでトリエチルアミン(101m11
)を−50℃未浦の温度で加える。混合物を同温度で
さらに1時間攪拌する。その後、温度を徐々に室温まで
上昇せしめ、反応混合物を水で希釈して放置する0次い
で水層を分取し、塩化メチレンで2回抽出する。有機層
を合わせてIN塩酸、炭酸水素ナトリウム飽和水溶液、
水および塩化ナトリウム水溶液で順次洗浄し、無水硫酸
マグネシウムで乾燥する。最終的に溶媒を減圧下に留去
して、1−アリルオキシカルボニル−3−オキソピロリ
ジン(24,5g)を得る。
m−1HMR(CDC13,8> ’ −0−10−0
,23(6H1m)、0.70−1.00 (9H,m
)、 1.00−1.39 (3H,m)、 2.20
−3.25 (5H,m)、 3.25−3.75
(2H,m)、 4.00−4.85 (8H,
m)、 4.85−5.80 (48,m)、 5.6
0−6.30 (2H,m)、 6.70−7.00
(IH,m)、 7.30−7.93 (15H,m) 製1」IL二〇 ジメチルスルホキシド(21,811111)の塩化メ
チレン(375m11 )溶液を一70℃に冷却し、こ
れに塩化オキサリル(13,41111)の塩化メチレ
ン(12511L11 )溶液を一50°C未満の温度
で加える。添加終了後、混合物を30分間攪拌し、攪拌
終了時点で1−アリルオキシカルボニル−3−ヒドロキ
シピロリジン(25g)の塩化メチレン(1251d
)溶液を一50℃未満の温度で加える。混合物を同温で
1時間攪拌し、次いでトリエチルアミン(101m11
)を−50℃未浦の温度で加える。混合物を同温度で
さらに1時間攪拌する。その後、温度を徐々に室温まで
上昇せしめ、反応混合物を水で希釈して放置する0次い
で水層を分取し、塩化メチレンで2回抽出する。有機層
を合わせてIN塩酸、炭酸水素ナトリウム飽和水溶液、
水および塩化ナトリウム水溶液で順次洗浄し、無水硫酸
マグネシウムで乾燥する。最終的に溶媒を減圧下に留去
して、1−アリルオキシカルボニル−3−オキソピロリ
ジン(24,5g)を得る。
IR(ニー)) + 1760. 1700
.’ 1650 am−1HMR(CDCl2.8
) : 2.60 (2H,t、J4Hz)、 3.8
0(2H,s)、 3.83 (2H,t、J=8Hz
)、 4.61 (2H,dt。
.’ 1650 am−1HMR(CDCl2.8
) : 2.60 (2H,t、J4Hz)、 3.8
0(2H,s)、 3.83 (2H,t、J=8Hz
)、 4.61 (2H,dt。
J=5およびIHz>、 5.10−5.45 (2H
,m)、 5.70−6.15 (IH,m) 聚1JLL二社 トリメチルシリルアセチレン(16,3IQ )のテト
ラヒドロフラン(100IILII)溶液に、順次n−
ブチルリチウムのn−ヘキサン溶液(1,50M、 7
01Q )および1−アリルオキシカルボニル−3−オ
キソピロリジン(15g)のテトラヒドロフラン(15
mQ ) f!I液を一50℃で加える。−50℃で1
時間攪拌後、混合物に塩化アンモニウム水溶液と酢酸エ
チルとを0℃で加える。有機層を分取して水層を酢酸エ
チルで2回抽出する。有機層を合わせてIN塩酸、水お
よび食塩水で順次洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥する
。溶媒を減圧下に留去して、1−アリルオキシカルボニ
ル−3−ヒドロキシ−3−トリメチルシリルエチニルピ
ロリジン(19,5g)を得る。
,m)、 5.70−6.15 (IH,m) 聚1JLL二社 トリメチルシリルアセチレン(16,3IQ )のテト
ラヒドロフラン(100IILII)溶液に、順次n−
ブチルリチウムのn−ヘキサン溶液(1,50M、 7
01Q )および1−アリルオキシカルボニル−3−オ
キソピロリジン(15g)のテトラヒドロフラン(15
mQ ) f!I液を一50℃で加える。−50℃で1
時間攪拌後、混合物に塩化アンモニウム水溶液と酢酸エ
チルとを0℃で加える。有機層を分取して水層を酢酸エ
チルで2回抽出する。有機層を合わせてIN塩酸、水お
よび食塩水で順次洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥する
。溶媒を減圧下に留去して、1−アリルオキシカルボニ
ル−3−ヒドロキシ−3−トリメチルシリルエチニルピ
ロリジン(19,5g)を得る。
IR(ニー)) ’ 1700. 1640.
1610 am−1HMR(CDC13,8) ’
o、ts (9H,s)、 2.16 (2H1t。
1610 am−1HMR(CDC13,8) ’
o、ts (9H,s)、 2.16 (2H1t。
JニアHz>、 2.52 (IH,br s)、 3
.57 (21,t。
.57 (21,t。
J=7Hz>、 3.61 (21,s)、 4.57
(2H,dt、J=5および1)1z)、 5.05
−5.40 (2H,m>、 5.70−6.1!5
(IH,a+) 11±エニ刃 1−アリルオキシカルボニル−3−ヒドロキシ−3−ト
リメチルシリルエチニルピロリジン(18,0g)のピ
リジン< 180ffLII )溶液に塩化チ才ニル(
291111”)を20°C未満の温度で滴下する。こ
の混合物を1時間攪拌し、冷水中に徐々に注ぐ、溶液を
n−ヘキサンで3回抽出する。抽出液を合わせてIN塩
酸で4回、炭酸水素ナトリウム飽和水溶液、水および食
塩水で順次洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥して溶媒を
留去する。残渣をシリカゲルを使用するクロマトグラフ
ィーに付して、1−アリルオキシカルボニル−3−トリ
メチルシリルニブニル−3−ピロリン(7,25g )
ヲ得ル。
(2H,dt、J=5および1)1z)、 5.05
−5.40 (2H,m>、 5.70−6.1!5
(IH,a+) 11±エニ刃 1−アリルオキシカルボニル−3−ヒドロキシ−3−ト
リメチルシリルエチニルピロリジン(18,0g)のピ
リジン< 180ffLII )溶液に塩化チ才ニル(
291111”)を20°C未満の温度で滴下する。こ
の混合物を1時間攪拌し、冷水中に徐々に注ぐ、溶液を
n−ヘキサンで3回抽出する。抽出液を合わせてIN塩
酸で4回、炭酸水素ナトリウム飽和水溶液、水および食
塩水で順次洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥して溶媒を
留去する。残渣をシリカゲルを使用するクロマトグラフ
ィーに付して、1−アリルオキシカルボニル−3−トリ
メチルシリルニブニル−3−ピロリン(7,25g )
ヲ得ル。
IR(ニー)) : 2170. 1755. 1
700. 1645 am−1HMR(CDC13,
8) :0.22 (9H1s)、3−50−4−40
<28.m)、 4.23 (2H,s)、 4
.62 (2H,d、J=6Hz)。
700. 1645 am−1HMR(CDC13,
8) :0.22 (9H1s)、3−50−4−40
<28.m)、 4.23 (2H,s)、 4
.62 (2H,d、J=6Hz)。
5.10−5.50 (2H,m)、 5.70−6.
30 (2H,m)1産轟エニy 1−アリルオキシカルボニル−3−トリメチルシリルニ
ブニル−3−ピロリン(7,60g)、硫酸第二水銀(
0,9g)および硫酸(5滴)のテトラヒドロフラン(
76111)および水(23IQ )の混合物中溶液を
室温で一夜攪拌する。[料物質の消失確認後、混合物に
炭酸水素ナトリウム飽和水溶液および酢酸エチルを加え
る。水層を酢酸エチルで2回抽出し、有機層を合わせて
IN塩酸、炭酸水素ナトリウム飽和水溶液、水および食
塩水で順次洗浄して硫酸マグネシウムで乾燥する。溶媒
を留去して、1−アリルオキシカルボニル−3−アセチ
ル−3−ピロリン(2,3g)を得る。
30 (2H,m)1産轟エニy 1−アリルオキシカルボニル−3−トリメチルシリルニ
ブニル−3−ピロリン(7,60g)、硫酸第二水銀(
0,9g)および硫酸(5滴)のテトラヒドロフラン(
76111)および水(23IQ )の混合物中溶液を
室温で一夜攪拌する。[料物質の消失確認後、混合物に
炭酸水素ナトリウム飽和水溶液および酢酸エチルを加え
る。水層を酢酸エチルで2回抽出し、有機層を合わせて
IN塩酸、炭酸水素ナトリウム飽和水溶液、水および食
塩水で順次洗浄して硫酸マグネシウムで乾燥する。溶媒
を留去して、1−アリルオキシカルボニル−3−アセチ
ル−3−ピロリン(2,3g)を得る。
IR(ニー)) : 1760. 1700. 1
630 crn−’NMR(CDCl2.8) +
2.36 (3)1.s)、 4.40 (枇m)。
630 crn−’NMR(CDCl2.8) +
2.36 (3)1.s)、 4.40 (枇m)。
4.60 (2H,dt、J=6およびIHz>、 5
.08−5.45(2H,a+)、 5.70−6.1
5 (IH,m)、 6.62 (IH,m>1産傅互
二漫 製造例5−5)と実質的に同様にして、(3s。
.08−5.45(2H,a+)、 5.70−6.1
5 (IH,m)、 6.62 (IH,m>1産傅互
二漫 製造例5−5)と実質的に同様にして、(3s。
4 R)−4−[2−(1−アリルオキシカルボニル−
3−ピロリン−3−イル)−2−オキソエチル]−3−
[(IR)−1−第三級ブデルジメチルシリルオキシエ
デルコー2−オキソアゼチジンを収率Sa、Z%で得る
。
3−ピロリン−3−イル)−2−オキソエチル]−3−
[(IR)−1−第三級ブデルジメチルシリルオキシエ
デルコー2−オキソアゼチジンを収率Sa、Z%で得る
。
IR<CHCl3) ’ 3420,1755,170
0,1630 am−’NMR(CDCl2. l;
) 70.08 (6H,s)、 0.87 <9H,
s)。
0,1630 am−’NMR(CDCl2. l;
) 70.08 (6H,s)、 0.87 <9H,
s)。
1.20 (3)1.d、J=7Hz>、 2.6
−3.30 (3H,m)。
−3.30 (3H,m)。
3.80−4.50 (8H,a+)、 4.59
(2)1.d、J=6Hz>。
(2)1.d、J=6Hz>。
5.03−5.40 (2H,m)、 5.60−6
.15 (2)1.m)。
.15 (2)1.m)。
6.62 (LH,a+)
毀JJLL二〇
製造例5−6)と実質的に同様にして、2−[(3S、
4R)−4−(2−(1−アリルオキシカルボニル−3
−ピロリン−3−イル)−2−オキソエチル)−3−(
(IR)−1−第三級ブチルジメチルシリルオキシエテ
ル)−2−才キソアゼチジン−1−イル] −2−トI
Jフェニルホスホラニリデン酢酸アリルを収率64.5
%で得る。
4R)−4−(2−(1−アリルオキシカルボニル−3
−ピロリン−3−イル)−2−オキソエチル)−3−(
(IR)−1−第三級ブチルジメチルシリルオキシエテ
ル)−2−才キソアゼチジン−1−イル] −2−トI
Jフェニルホスホラニリデン酢酸アリルを収率64.5
%で得る。
[この化合物は実施例1−2)の原料物質として直ちに
使用した。コ 聚産輿り1旦 3−アセチルピリジン(10g)、エチレングリ0−ル
(50111)t’(よU p −)ルエンスルホン酸
(0,5g)をトルエンに溶解し、副生ずる水を連続的
に回収しながら、溶液を150”Cで1日間還流する。
使用した。コ 聚産輿り1旦 3−アセチルピリジン(10g)、エチレングリ0−ル
(50111)t’(よU p −)ルエンスルホン酸
(0,5g)をトルエンに溶解し、副生ずる水を連続的
に回収しながら、溶液を150”Cで1日間還流する。
冷後、炭酸水素ナトリウム飽和水溶液およびトルエンを
加えて混合物を攪拌し、放置する。
加えて混合物を攪拌し、放置する。
水層を分取してトルエンで2回抽出する。トルエン層を
合わせて順次炭酸水素ナトリウム飽和水溶液、水および
塩化ナトリウム水溶液で洗浄し、無水硫酸マグネシウム
で乾燥する。最後に溶媒を減圧下に留去して、2−メチ
ル−2−(ピリジン−3−イル)−1,3−ジオキソラ
ン(13,6g)を得る。
合わせて順次炭酸水素ナトリウム飽和水溶液、水および
塩化ナトリウム水溶液で洗浄し、無水硫酸マグネシウム
で乾燥する。最後に溶媒を減圧下に留去して、2−メチ
ル−2−(ピリジン−3−イル)−1,3−ジオキソラ
ン(13,6g)を得る。
IR(ニー)) : 2990. 2890.
1685 cm−1HMR(CDC1a、S )
’ 1.67 (3H1s)、3.60−4.20(
4H,m)、 7.05−7.40 (IH,m)、
7.60−7.80(IH,a)、 8.45−8.J
IO(2H,m)袈1J1し1幻 臭化ベンジル(9111V)を2−メチル−2−(ピリ
ジン−3−イル)−1,3−ジオキソラン(13,6g
)のアセトン(140猷)溶液に加え、その混合物を
還流する。原料物質の消失を確認後、アセトンを減圧下
に留去する。残渣をエタノール(14011g )に溶
解し、溶液を水冷しながら水素化ホウ素ナトリウム(3
,12g)を徐々に加える。混合物を1時間攪拌後、水
および酢酸エチルを加える、混合物を攪拌し、次いで放
置する。水層を分取して酢酸エチルで2回抽出する。有
機層を合わせて順次炭酸水素ナトリウム飽和水溶液、水
および塩化ナトリウム水溶液で洗浄し、無水硫酸マグネ
シウムで乾燥する。最終的に溶媒を減圧下に留去して、
2−(1−ベンジル−1,2,5,6−テトラヒドロピ
リジン−3−イル)−2−メチル−1,3−ジオキソラ
ン(7,86g)を得る。
1685 cm−1HMR(CDC1a、S )
’ 1.67 (3H1s)、3.60−4.20(
4H,m)、 7.05−7.40 (IH,m)、
7.60−7.80(IH,a)、 8.45−8.J
IO(2H,m)袈1J1し1幻 臭化ベンジル(9111V)を2−メチル−2−(ピリ
ジン−3−イル)−1,3−ジオキソラン(13,6g
)のアセトン(140猷)溶液に加え、その混合物を
還流する。原料物質の消失を確認後、アセトンを減圧下
に留去する。残渣をエタノール(14011g )に溶
解し、溶液を水冷しながら水素化ホウ素ナトリウム(3
,12g)を徐々に加える。混合物を1時間攪拌後、水
および酢酸エチルを加える、混合物を攪拌し、次いで放
置する。水層を分取して酢酸エチルで2回抽出する。有
機層を合わせて順次炭酸水素ナトリウム飽和水溶液、水
および塩化ナトリウム水溶液で洗浄し、無水硫酸マグネ
シウムで乾燥する。最終的に溶媒を減圧下に留去して、
2−(1−ベンジル−1,2,5,6−テトラヒドロピ
リジン−3−イル)−2−メチル−1,3−ジオキソラ
ン(7,86g)を得る。
IR(ニート) 7 2900. 1740 a
m−’NMR(CDCl2.E ) ’ 1.43 (
3H1s)、1.90−2.30(2)1.ff1)、
2.48 (2)1.t、J=6Hz>、 2.95
(28,s)。
m−’NMR(CDCl2.E ) ’ 1.43 (
3H1s)、1.90−2.30(2)1.ff1)、
2.48 (2)1.t、J=6Hz>、 2.95
(28,s)。
3.57 (2H,s)、 3.70−3.95 (4
H,m)、 5.83(IH9m)、 7.23 (5
H,5)11!エニ氾 2−(1−ベンジル−1,2,5,8−テトラヒドロピ
リジン−3−イル)−2−メチル−1,3−ジオキソラ
ン(7,8g)のトルエン(7011)溶液にクロロギ
酸アリル(3,91111)を加え、混合物を60°C
で30分間攪拌する0次いで反応混合物を濃縮し、残渣
をカラムクロマトグラフィーによりネ青製して、2−(
1−アリルオキシカルボニル−1,2,5,6−テトラ
ヒドロピリジン−3−イル)−2−メチル−1,3−ジ
オキソラン(6,95g)を得る。
H,m)、 5.83(IH9m)、 7.23 (5
H,5)11!エニ氾 2−(1−ベンジル−1,2,5,8−テトラヒドロピ
リジン−3−イル)−2−メチル−1,3−ジオキソラ
ン(7,8g)のトルエン(7011)溶液にクロロギ
酸アリル(3,91111)を加え、混合物を60°C
で30分間攪拌する0次いで反応混合物を濃縮し、残渣
をカラムクロマトグラフィーによりネ青製して、2−(
1−アリルオキシカルボニル−1,2,5,6−テトラ
ヒドロピリジン−3−イル)−2−メチル−1,3−ジ
オキソラン(6,95g)を得る。
IR(ニー)) ’ 2900. 1700
am−1HMR(CDCl2.δ) : 1.47 (
3H,s)、 2.00−2.30(2H,@)、 3
.47 (2H,t、J=6Hz)、 3.70−4.
00(6H,a+)、 4.50−4.65 <2H,
n+)、 5.03−5.35(2H,ea)、 5.
75 (IH,t、、C6Hz)、 5.83−6.0
5(IH,m) 鼠1j1しニリ 2−(1−アリルオキシカルボニル− 5、6−テトラヒドロピリジン−3ーイル)−2−メチ
ル−1.3−ジオキソラン(6.95g)のアセトン(
1401LQ )溶液にp−トルエンスルホン酸・二
本化物(sz3mg)を室温で加え、混合物を同温で1
時間攪拌する.次いで、酸を中和するために次階水素ナ
トリウム飽和水溶液を加え、反応混合物を減圧濃縮する
.濃縮液を酢酸エチルおよび水で希釈し、次いで攪拌し
、水層を分取して酢酸エチルで2回抽出する.有機層を
合わせて順次炭酸水素ナトリウム飽和水溶液、水および
塩化ナトリウム水溶液で洗浄して無水硫酸マグネシウム
で乾燥する.溶媒を減圧下に留去し、残渣をカラムクロ
マトグラフィーで精製して、1−アリルオキシカルボニ
ル−3−アセチル−1.2.5.6−テトラヒドロピリ
ジン(4.43g)を得る。
am−1HMR(CDCl2.δ) : 1.47 (
3H,s)、 2.00−2.30(2H,@)、 3
.47 (2H,t、J=6Hz)、 3.70−4.
00(6H,a+)、 4.50−4.65 <2H,
n+)、 5.03−5.35(2H,ea)、 5.
75 (IH,t、、C6Hz)、 5.83−6.0
5(IH,m) 鼠1j1しニリ 2−(1−アリルオキシカルボニル− 5、6−テトラヒドロピリジン−3ーイル)−2−メチ
ル−1.3−ジオキソラン(6.95g)のアセトン(
1401LQ )溶液にp−トルエンスルホン酸・二
本化物(sz3mg)を室温で加え、混合物を同温で1
時間攪拌する.次いで、酸を中和するために次階水素ナ
トリウム飽和水溶液を加え、反応混合物を減圧濃縮する
.濃縮液を酢酸エチルおよび水で希釈し、次いで攪拌し
、水層を分取して酢酸エチルで2回抽出する.有機層を
合わせて順次炭酸水素ナトリウム飽和水溶液、水および
塩化ナトリウム水溶液で洗浄して無水硫酸マグネシウム
で乾燥する.溶媒を減圧下に留去し、残渣をカラムクロ
マトグラフィーで精製して、1−アリルオキシカルボニ
ル−3−アセチル−1.2.5.6−テトラヒドロピリ
ジン(4.43g)を得る。
IR (ニー)) 7 1700. 167
0 cm−’NMR (CDC13.S ) ’ 2
. 30 (3H,s)、2.15−2.50(2H.
m)、 3.52 <2H.t.J=6Hz)、 4.
15 (2H.m)。
0 cm−’NMR (CDC13.S ) ’ 2
. 30 (3H,s)、2.15−2.50(2H.
m)、 3.52 <2H.t.J=6Hz)、 4.
15 (2H.m)。
4、57 (2H.dt.J=6. 1’Hz)、 5
.05−5.37 (28。
.05−5.37 (28。
m>、 5.60−6.13 (IH.a+)、 6.
92 (IH.m)1産盪り二股 1−アリルオキシカルボニル−3−アセチル−1、2.
5.6−テトラヒドロピリジン(4.4g)、(3R.
4R)−4−アセトキシ−3−[(IR)−1−第三級
プデルジメチルシリルオキシエチル]−2−オキソアゼ
チジン(6.6g)およびトリエチルアミン(6.91
d)を塩化メチレンに溶解し、溶液( 441ffi
)を−50°Cに冷却する.この冷却溶液にトリプルオ
ロメタンスルホン酸トリメチルシリル( 1o.aaa
)を徐々に加える.滴下終了後、混合物を同温で15
分間攪拌する.次いで温度を徐々に0°Cまで上昇せし
め、0℃で反応混合物を1時間攪拌して反応を完結せし
める.この反応混合物を酢酸エチルと水とで希釈し、室
温で1時間攪拌する.水層を分取して酢酸エチルで2回
抽出する.有機層を合わせて順次IN塩酸、炭酸水素ナ
トリウム飽和水溶液、水および塩化ナトリウム水溶液で
洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥する.次いで溶媒
を減圧下に留去し、残渣をカラムクロマトグラフィーで
精製して, (3 S.4 R)−4−[ 2−( 1
−アリルオキシカルボニル−2、5.8−テトラヒドロ
ピリジン−3−イル)−2−オキソエチル]−3−[(
IR)−1−第三級ブデルジメチルシリルオキシエチル
]−2−オキソアゼチジン(8.73g)を得る。
92 (IH.m)1産盪り二股 1−アリルオキシカルボニル−3−アセチル−1、2.
5.6−テトラヒドロピリジン(4.4g)、(3R.
4R)−4−アセトキシ−3−[(IR)−1−第三級
プデルジメチルシリルオキシエチル]−2−オキソアゼ
チジン(6.6g)およびトリエチルアミン(6.91
d)を塩化メチレンに溶解し、溶液( 441ffi
)を−50°Cに冷却する.この冷却溶液にトリプルオ
ロメタンスルホン酸トリメチルシリル( 1o.aaa
)を徐々に加える.滴下終了後、混合物を同温で15
分間攪拌する.次いで温度を徐々に0°Cまで上昇せし
め、0℃で反応混合物を1時間攪拌して反応を完結せし
める.この反応混合物を酢酸エチルと水とで希釈し、室
温で1時間攪拌する.水層を分取して酢酸エチルで2回
抽出する.有機層を合わせて順次IN塩酸、炭酸水素ナ
トリウム飽和水溶液、水および塩化ナトリウム水溶液で
洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥する.次いで溶媒
を減圧下に留去し、残渣をカラムクロマトグラフィーで
精製して, (3 S.4 R)−4−[ 2−( 1
−アリルオキシカルボニル−2、5.8−テトラヒドロ
ピリジン−3−イル)−2−オキソエチル]−3−[(
IR)−1−第三級ブデルジメチルシリルオキシエチル
]−2−オキソアゼチジン(8.73g)を得る。
IR (CHCL3) ’ 3440,1760,16
95.1650 cm−’NMR (CDCl2. 8
) ? 0.08 (6H.s)、 0.88 (9
H,s)。
95.1650 cm−’NMR (CDCl2. 8
) ? 0.08 (6H.s)、 0.88 (9
H,s)。
1、22 (3H.d.J:6Hz)、 2.25−2
.88 (2H.m)。
.88 (2H.m)。
2.70−3.10 (3H,m)、 3.53 (
2H,t、に6Hz)。
2H,t、に6Hz)。
3.83−4.30 (4H,m)、 4.56
(2H,dt、J=6゜IHz)、 5.05−5.
40 (2H,m)、 5.65−6.07 (IH
。
(2H,dt、J=6゜IHz)、 5.05−5.
40 (2H,m)、 5.65−6.07 (IH
。
m)、6.10 (LH,br、s)、6.93 (
IH,m)聚111L二〇 ジメチルスルホキシド(15,11Q )の塩化メチレ
ン溶液(zooIlII)を−70℃に冷却し、これに
−50℃未満の温度で塩化オキサリル(19,311Q
)を加える。混合物を15分間攪拌後、(2S、4R
)−1−アリルオキシカルボニル−4−ヒドロキシ−2
−メトキシカルボニルピロリジン(16,3g)の塩化
メチレン溶液を一50°C未満の温度で加える。混合物
を同温で1時間攪拌し、次いでトリエチルアミン(50
111)を−50℃未満の温度で加える。混合物をその
温度でさらに30分間攪拌する。その後、温度を徐々に
室温まで上昇せしめ、反応混合物を水で希釈して放置す
る0次いで水層を分取し、塩化メチレンで2回抽出する
。有機層を合わせてIN塩酸で2回、次いで炭酸水素ナ
トリウム飽和水溶液、水および塩化ナトリウム水溶液で
順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥する。最後に
溶媒を減圧下に留去して、(23)−1−アリルオキシ
カルボニル−2−メトキシカルボニル−4−オキソピロ
リジン(15,5g)を得る。
IH,m)聚111L二〇 ジメチルスルホキシド(15,11Q )の塩化メチレ
ン溶液(zooIlII)を−70℃に冷却し、これに
−50℃未満の温度で塩化オキサリル(19,311Q
)を加える。混合物を15分間攪拌後、(2S、4R
)−1−アリルオキシカルボニル−4−ヒドロキシ−2
−メトキシカルボニルピロリジン(16,3g)の塩化
メチレン溶液を一50°C未満の温度で加える。混合物
を同温で1時間攪拌し、次いでトリエチルアミン(50
111)を−50℃未満の温度で加える。混合物をその
温度でさらに30分間攪拌する。その後、温度を徐々に
室温まで上昇せしめ、反応混合物を水で希釈して放置す
る0次いで水層を分取し、塩化メチレンで2回抽出する
。有機層を合わせてIN塩酸で2回、次いで炭酸水素ナ
トリウム飽和水溶液、水および塩化ナトリウム水溶液で
順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥する。最後に
溶媒を減圧下に留去して、(23)−1−アリルオキシ
カルボニル−2−メトキシカルボニル−4−オキソピロ
リジン(15,5g)を得る。
IR(ニー)) : 1760. 1705 a
m″″INMR(CDCl2.l; ) ’ 2.55
(LHldd、J=18.4Hz>。
m″″INMR(CDCl2.l; ) ’ 2.55
(LHldd、J=18.4Hz>。
2.97 (IH,dd、J=18.10Hz>、 3
.74 (3H,s)。
.74 (3H,s)。
3.92 (2H,s)、 4.60 (2H,d、J
=5Hz)、 4.80(LH,dd、J=10.4H
z>、 5.05−5.40 (2H,m)。
=5Hz)、 4.80(LH,dd、J=10.4H
z>、 5.05−5.40 (2H,m)。
5.60−6.10 (IH,m)
1産五エニ釘
トリメチルシリルアセチレン(5g)のテトラヒドロフ
ラン(6011)溶液に、n−ブチルリチウム(32I
Q )を−50℃で徐々に滴下する0滴下終了後、混合
物を一50℃で30分間攪拌後、(2S)−1−アリル
オキシカルボニル−2−メトキシカルボニル−4−ピロ
リジン(lOg)のテトラヒドロフラン溶液(10Il
lII)を−50’C未満の温度で加える。混合物を1
時間攪拌し、次いで塩化アンモニウム飽和水溶液および
酢酸エチルで希釈する。放置後、水層を分取して酢酸エ
チルで2回抽出し、有機層を合わせて順次IN塩酸、炭
酸水素ナトリウム飽和水溶液、水および塩化ナトリウム
水溶液で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥する。最
後に溶媒を減圧下に留去して、1−アリルオキシカルボ
ニル−4−ヒドロキシ−2−メトキシカルボニル−4−
トリメチルシリルエチニルピロリジン(8,26g)を
得る。
ラン(6011)溶液に、n−ブチルリチウム(32I
Q )を−50℃で徐々に滴下する0滴下終了後、混合
物を一50℃で30分間攪拌後、(2S)−1−アリル
オキシカルボニル−2−メトキシカルボニル−4−ピロ
リジン(lOg)のテトラヒドロフラン溶液(10Il
lII)を−50’C未満の温度で加える。混合物を1
時間攪拌し、次いで塩化アンモニウム飽和水溶液および
酢酸エチルで希釈する。放置後、水層を分取して酢酸エ
チルで2回抽出し、有機層を合わせて順次IN塩酸、炭
酸水素ナトリウム飽和水溶液、水および塩化ナトリウム
水溶液で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥する。最
後に溶媒を減圧下に留去して、1−アリルオキシカルボ
ニル−4−ヒドロキシ−2−メトキシカルボニル−4−
トリメチルシリルエチニルピロリジン(8,26g)を
得る。
IR<エート) : 3400. 2180.
1760. 1700 am−’NMR(CDCl
2.8) = 0.12 (9H,s)、 2.20−
2.60(2H,m)、 3.70 (5H,+a)、
4.30−4.60 (3H,m)。
1760. 1700 am−’NMR(CDCl
2.8) = 0.12 (9H,s)、 2.20−
2.60(2H,m)、 3.70 (5H,+a)、
4.30−4.60 (3H,m)。
5.00−5.35 <2H,s+)、 5.55
−6.05 (IH,m)1産旌l二丑 1−アリルオキシカルボニル−4−ヒドロキシ−2−メ
トキシカルボニル−4−トリメチルシリルエチニルピロ
リジン(7,0g)のトルエン(7゜−)溶液に=臭化
溝(2,2511’)を室温で徐々に加え、混合物を室
温で1日間攪拌する0次いで反応部1合物を氷水−酢酸
エチル中に注ぐ0次に水層を分取して酢酸エチルで2回
抽出する。有機層を合わせて炭酸水素ナトリウム飽和水
溶液で2回、さらに水および塩化ナトリウム水溶液で順
次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥する。最後に溶
媒を減圧下に留去して、1−アリルオキシカルボニル−
2−メトキシカルボニル−4−トリメチルシリルニブニ
ル−3−ピロリン(3,0g)ヲ得る。
−6.05 (IH,m)1産旌l二丑 1−アリルオキシカルボニル−4−ヒドロキシ−2−メ
トキシカルボニル−4−トリメチルシリルエチニルピロ
リジン(7,0g)のトルエン(7゜−)溶液に=臭化
溝(2,2511’)を室温で徐々に加え、混合物を室
温で1日間攪拌する0次いで反応部1合物を氷水−酢酸
エチル中に注ぐ0次に水層を分取して酢酸エチルで2回
抽出する。有機層を合わせて炭酸水素ナトリウム飽和水
溶液で2回、さらに水および塩化ナトリウム水溶液で順
次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥する。最後に溶
媒を減圧下に留去して、1−アリルオキシカルボニル−
2−メトキシカルボニル−4−トリメチルシリルニブニ
ル−3−ピロリン(3,0g)ヲ得る。
IR(ニー)) : 2170. 1750.
1720 am−’NMR(CDCl2.8 )
: 0.20 (9H,s)、 3.72 <3H,s
)。
1720 am−’NMR(CDCl2.8 )
: 0.20 (9H,s)、 3.72 <3H,s
)。
4.20−4.35 (2H,m)、 4.35−4
.70 (3H,es)。
.70 (3H,es)。
5.00−5.40 (2H,+e)、 5.60−
6.07 (2H,m)胆111L−u 1−アリルオキシカルボニル− ルボニル−4−トリメチルシリルエチニル−3−ピロリ
ン(2.9g)のテトラヒドロフラン(9−)およびエ
タノール(3611 )中溶液を予じめ5℃に冷却して
これに、内部温度を10℃未満に保ちながら、水素化ホ
ウ素ナトリウム(713−g)を徐々に加える.fl金
物を5℃で30分間、次いで室温で1時間攪拌する.少
量の酢酸を加えて水素化ホウ素ナトリウムを分解後、反
応混合物を酢酸エチルおよび水で希釈する。水層を酢酸
エチルで2回抽出′する。有機層を合わせて順次IN塩
酸、炭酸水素ナトリウム飽和水溶液、水および塩化ナト
リウム水溶液で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥す
る0次いで溶媒を減圧下に留去する。残渣にテトラヒド
ロフラン(261Q )、水(51111)、硫酸第二
水銀(280mg)および硫酸(2滴)を加え、混合物
を室温で1日間攪拌する0反応完結後、炭酸水素ナトリ
ウム飽和水溶液および酢酸エチルを加える。水層を分取
して酢酸エチルで2回抽出する。有機層を合わせて順次
IN塩酸、次階水素ナトリウム飽和水溶液、水および塩
化ナトリウム水溶液で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで
乾燥する。R後に溶媒を減圧下に留去して、1−アリル
オキシカルボニル−4−アセチル−2−ヒドロキシメチ
ル−3−ピロリン(2,50g)を得る。
6.07 (2H,m)胆111L−u 1−アリルオキシカルボニル− ルボニル−4−トリメチルシリルエチニル−3−ピロリ
ン(2.9g)のテトラヒドロフラン(9−)およびエ
タノール(3611 )中溶液を予じめ5℃に冷却して
これに、内部温度を10℃未満に保ちながら、水素化ホ
ウ素ナトリウム(713−g)を徐々に加える.fl金
物を5℃で30分間、次いで室温で1時間攪拌する.少
量の酢酸を加えて水素化ホウ素ナトリウムを分解後、反
応混合物を酢酸エチルおよび水で希釈する。水層を酢酸
エチルで2回抽出′する。有機層を合わせて順次IN塩
酸、炭酸水素ナトリウム飽和水溶液、水および塩化ナト
リウム水溶液で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥す
る0次いで溶媒を減圧下に留去する。残渣にテトラヒド
ロフラン(261Q )、水(51111)、硫酸第二
水銀(280mg)および硫酸(2滴)を加え、混合物
を室温で1日間攪拌する0反応完結後、炭酸水素ナトリ
ウム飽和水溶液および酢酸エチルを加える。水層を分取
して酢酸エチルで2回抽出する。有機層を合わせて順次
IN塩酸、次階水素ナトリウム飽和水溶液、水および塩
化ナトリウム水溶液で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで
乾燥する。R後に溶媒を減圧下に留去して、1−アリル
オキシカルボニル−4−アセチル−2−ヒドロキシメチ
ル−3−ピロリン(2,50g)を得る。
NMR(CDC13,l; ) ’ 2−35 (3H
1s)、3.85 <3H0m)。
1s)、3.85 <3H0m)。
4.37 (2H,ai)、 4.60 (2H,dt
、J=6. IHz)。
、J=6. IHz)。
4.88 (IH,ai)、 5.10−5.45 (
2H,ai)、 5.70−6.15 (IH,m)
、 6.52 (LH,m)製m二υ 1−アリルオキシカルボニル− 2−ヒドロキシメチル−3−ビロリン(2.5g)およ
びイミダゾール(1.51g)の塩化メチレン溶液(
501!1Q )に、塩化第三級ブチルジメチルシリル
(2.5g)を水冷下に加える.次いで混合物を室温で
1日間攪拌し、続いて水と酢酸エチルとを加える.水層
を分取して酢酸エチルで2回抽出する.有機層を合わせ
てIN塩酸、炭酸水素ナトリウム飽和水溶液、水および
塩化ナトリウム水溶液で洗浄し、無水硫酸マグネシウム
で乾燥する.最後に溶媒を減圧下に留去して、1−アリ
ルオキシカルボニル−4−アセチル−2−第三級ブチル
ジメチルシリルオキシメチル−3−ピロリン(1.45
g)を得る。
2H,ai)、 5.70−6.15 (IH,m)
、 6.52 (LH,m)製m二υ 1−アリルオキシカルボニル− 2−ヒドロキシメチル−3−ビロリン(2.5g)およ
びイミダゾール(1.51g)の塩化メチレン溶液(
501!1Q )に、塩化第三級ブチルジメチルシリル
(2.5g)を水冷下に加える.次いで混合物を室温で
1日間攪拌し、続いて水と酢酸エチルとを加える.水層
を分取して酢酸エチルで2回抽出する.有機層を合わせ
てIN塩酸、炭酸水素ナトリウム飽和水溶液、水および
塩化ナトリウム水溶液で洗浄し、無水硫酸マグネシウム
で乾燥する.最後に溶媒を減圧下に留去して、1−アリ
ルオキシカルボニル−4−アセチル−2−第三級ブチル
ジメチルシリルオキシメチル−3−ピロリン(1.45
g)を得る。
IR (ニート) : 1700. 16
70 am−1HMR (CDCl2. 8 ) :
0.04 (6H.s)、 0.87 (9H.s)
。
70 am−1HMR (CDCl2. 8 ) :
0.04 (6H.s)、 0.87 (9H.s)
。
2、15 (3H.s)、 3.70−4.00 (2
H.m>、 4.15−4、40 (2H.m)、 4
.57 (2H.d,J=5Hz)、 4.75(LH
.s)、5.00−5.40 (2H,m)、5.6
0−6.10(LH.11)、 6.60 (IH
.m)聚1」IL二〇 製造例5に記載した方法と実質的に同様にして、(3S
,4R)−4−[2−(1−アリルオキシカルボニル−
2−第三級ブチルジメチルシリルオキシメチル−3−ピ
ロリン−4−イル)−2−オキソエチル]−3−[(I
R)−1−第三級ブデルジメチルシリルオキシエチル]
−2−オキソアゼチジンを得る。
H.m>、 4.15−4、40 (2H.m)、 4
.57 (2H.d,J=5Hz)、 4.75(LH
.s)、5.00−5.40 (2H,m)、5.6
0−6.10(LH.11)、 6.60 (IH
.m)聚1」IL二〇 製造例5に記載した方法と実質的に同様にして、(3S
,4R)−4−[2−(1−アリルオキシカルボニル−
2−第三級ブチルジメチルシリルオキシメチル−3−ピ
ロリン−4−イル)−2−オキソエチル]−3−[(I
R)−1−第三級ブデルジメチルシリルオキシエチル]
−2−オキソアゼチジンを得る。
IR (CHCL3) : 3410, 1750.
1695. 1670。
1695. 1670。
1625 cm−’
NMR (CDCl2, δ ) : 0.0
8 (3H.s)、 0.12 (3H.s>。
8 (3H.s)、 0.12 (3H.s>。
0、90 (9H.s)、 1.25 (3H.d,J
=7Hz)、 2.70−3、30 (3H.m)、
3.70−4.45 (6H.m)、 4.61(2M
,d.J=5Hz>、 4.80 (IH.m)、 5
.10−5.45(2H,m)、 5.70−6.20
(ILm)、 6.10 (IH.m)。
=7Hz)、 2.70−3、30 (3H.m)、
3.70−4.45 (6H.m)、 4.61(2M
,d.J=5Hz>、 4.80 (IH.m)、 5
.10−5.45(2H,m)、 5.70−6.20
(ILm)、 6.10 (IH.m)。
6、65 <1)1.ffi)
飯」JLLニリ
塩化オキサリル(5. 811LQ )のジクロロメタ
ン(100mQ )溶液に、ジメチルスルホキシド(9
、44緘)、1−ベンジル−4−( 1−ヒドロキシエ
チル)−1、2,3.8−テトラヒドロピリジン(13
.7g)のジクロロメタン( 301119 )溶液お
よびトリエチルアミン( 44.2IQ )を窒素雰囲
気中−70℃で滴下する.次いで反応混合物を常温まで
昇温せしめ、沈殿を濾去する.濾液を減圧濃縮して残渣
を酢酸エチルC 2001111 )と水(100戚)
との混合物に溶解する.有機層を分取して食塩水( 1
oomt)で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥する.溶
媒を留去して得られる残渣をシリカゲル( 350m1
1 )を使用するクロマトグラフィーに付し、ヘキサン
と酢酸エチルとの混液(1:1、v/v )で溶出して
、4−アセチル−1−ベンジル−1.2,3.6−テト
ラヒドロピリジン(9.63g)を得る。
ン(100mQ )溶液に、ジメチルスルホキシド(9
、44緘)、1−ベンジル−4−( 1−ヒドロキシエ
チル)−1、2,3.8−テトラヒドロピリジン(13
.7g)のジクロロメタン( 301119 )溶液お
よびトリエチルアミン( 44.2IQ )を窒素雰囲
気中−70℃で滴下する.次いで反応混合物を常温まで
昇温せしめ、沈殿を濾去する.濾液を減圧濃縮して残渣
を酢酸エチルC 2001111 )と水(100戚)
との混合物に溶解する.有機層を分取して食塩水( 1
oomt)で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥する.溶
媒を留去して得られる残渣をシリカゲル( 350m1
1 )を使用するクロマトグラフィーに付し、ヘキサン
と酢酸エチルとの混液(1:1、v/v )で溶出して
、4−アセチル−1−ベンジル−1.2,3.6−テト
ラヒドロピリジン(9.63g)を得る。
IR (スジ1−ル) : 1740. 16
70 am−’NMR (CDC1a.8 ) :2
. 27 (3H.s)、2. 26−2.71(4)
1.s)、 3.13−3.23 (2)1.ffi>
、 3.61 (2)1.s)。
70 am−’NMR (CDC1a.8 ) :2
. 27 (3H.s)、2. 26−2.71(4)
1.s)、 3.13−3.23 (2)1.ffi>
、 3.61 (2)1.s)。
6.67−6.82 (LH,m)、7.29 (5
8,s)振1凌IL二幻 4−アセチル−1−ベンジル−1,2,3,6−テトラ
ヒドロピリジン(9,63g)および塩化ベンジルオキ
シカルボニル(9,061M )のトルエン溶液を85
°Cに8時間加熱する。溶媒を減圧下に留去した後、残
留する溶液を酢酸エチル(loOmffi )に溶解し
、炭酸水素ナトリウム飽和水溶液(1001nll )
で2回および食塩水(100111! >で順次洗浄す
る。
8,s)振1凌IL二幻 4−アセチル−1−ベンジル−1,2,3,6−テトラ
ヒドロピリジン(9,63g)および塩化ベンジルオキ
シカルボニル(9,061M )のトルエン溶液を85
°Cに8時間加熱する。溶媒を減圧下に留去した後、残
留する溶液を酢酸エチル(loOmffi )に溶解し
、炭酸水素ナトリウム飽和水溶液(1001nll )
で2回および食塩水(100111! >で順次洗浄す
る。
有機層を分取して硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧濃縮
して得られる油状物をシリカゲル(500mft)を使
用するクロマトグラフィーに付し、ヘキサンと酢酸エチ
ルとの混液(1: L v/v)で溶出して、4−アセ
チル−1−ベンジルオキシカルボニル−1,2,3,6
−テトラヒドロピリジン(10,2g )を得る。
して得られる油状物をシリカゲル(500mft)を使
用するクロマトグラフィーに付し、ヘキサンと酢酸エチ
ルとの混液(1: L v/v)で溶出して、4−アセ
チル−1−ベンジルオキシカルボニル−1,2,3,6
−テトラヒドロピリジン(10,2g )を得る。
IR(スジ1−ル) : 1760. 1680−
1715 cm−1HMR(CDC13,8) :2
.31 <3)1.s)、2−30−2.45(2H,
m)、 3.58 (2H,t、J=5.8Hz>、
4.18−4.23(2H,ear、 5.16 (2
H,s)、 6.7−6.83 (1)1.m)。
1715 cm−1HMR(CDC13,8) :2
.31 <3)1.s)、2−30−2.45(2H,
m)、 3.58 (2H,t、J=5.8Hz>、
4.18−4.23(2H,ear、 5.16 (2
H,s)、 6.7−6.83 (1)1.m)。
7.30 <5H,s)
製1JIL二υ
(3R,4R)−4−アセトキシ−3−[(IR)−1
−第三級ブチルジメチルシリルオキシエチル]−2−オ
キソアゼチジン(3,96g)およびトリエチルアミン
(2,03m1l )のジクロロメタン(601111
1)溶液に、トリフルオロメタンスルホン酸トリメデル
シリル(3,51d ”)を窒素雰囲気中−70°Cで
滴下する。この溶液に、4−アセデル−1−ベンジルオ
キシカルボニル−1,2,3,6−テトラヒドロピリジ
ン(3,268g ) 、 トリエチルアミン(1,
94111)およびトリフルオロメタンスルホン酸トリ
メチルシリル(2,6all)のジクロロメタン溶液を
窒素雰囲気中−70℃で攪拌して製造した反応混合物を
一70℃で滴下する。混合物を室温まで昇温せしめた後
、混合物を2時間攪拌する0反応混合物を酢酸エチル(
200119)と水(ioomu )との混合物中に注
ぎ、溶液を30分間攪拌する。有機層を分取して食塩水
(1001111)で洗浄して硫酸マグネシウムで乾燥
し、濃縮して得られる油状物をシリカゲル(300m1
! )を使用するクロマトグラフィーに付し、ヘキサン
と酢酸エチルとの混液(2:1−1=5、v/v )で
溶出して、(3S、4R)−4−[2−(1−ベンジル
オキシカルボニル−1゜2.3.6−テトラヒドロピリ
ジン−4−イル)−2−オキソエチル]−3−[(IR
)−1−第三級ブチルジメチルシリルオキシニブル]−
2−オキソアゼチジン(4,65g)を得る。
−第三級ブチルジメチルシリルオキシエチル]−2−オ
キソアゼチジン(3,96g)およびトリエチルアミン
(2,03m1l )のジクロロメタン(601111
1)溶液に、トリフルオロメタンスルホン酸トリメデル
シリル(3,51d ”)を窒素雰囲気中−70°Cで
滴下する。この溶液に、4−アセデル−1−ベンジルオ
キシカルボニル−1,2,3,6−テトラヒドロピリジ
ン(3,268g ) 、 トリエチルアミン(1,
94111)およびトリフルオロメタンスルホン酸トリ
メチルシリル(2,6all)のジクロロメタン溶液を
窒素雰囲気中−70℃で攪拌して製造した反応混合物を
一70℃で滴下する。混合物を室温まで昇温せしめた後
、混合物を2時間攪拌する0反応混合物を酢酸エチル(
200119)と水(ioomu )との混合物中に注
ぎ、溶液を30分間攪拌する。有機層を分取して食塩水
(1001111)で洗浄して硫酸マグネシウムで乾燥
し、濃縮して得られる油状物をシリカゲル(300m1
! )を使用するクロマトグラフィーに付し、ヘキサン
と酢酸エチルとの混液(2:1−1=5、v/v )で
溶出して、(3S、4R)−4−[2−(1−ベンジル
オキシカルボニル−1゜2.3.6−テトラヒドロピリ
ジン−4−イル)−2−オキソエチル]−3−[(IR
)−1−第三級ブチルジメチルシリルオキシニブル]−
2−オキソアゼチジン(4,65g)を得る。
IR(スジl−ル) : 1740−1760.
1670−1710 cra−’NMR(CDC13
,8) :0.07 (6H,s)、 0.87 (9
H1s)。
1670−1710 cra−’NMR(CDC13
,8) :0.07 (6H,s)、 0.87 (9
H1s)。
1.22 (38,d、J=6Hz)、 2.27−2
.38 (2H,m)。
.38 (2H,m)。
2.70−2.92 (2H,m)、 3.00−3.
21 (LH,dd。
21 (LH,dd。
J=17. 3Hz)、 3.60 (2H,ai
)、 3.92−4.23 (4H。
)、 3.92−4.23 (4H。
ai)、 5.16 (2H,s)、 6.18 (I
H,s)、 6.66−6.77(IH,ee)、 7
.32 (5H,5)11λにV (3S、4R)−4−[2−(1−ベンジルオキシカル
ボニル−1,2,3,6−テトラヒドロピリジン−4−
イル)−2−オキソエチル]−3−[(IR)−1−第
三級ブチルジメチルシリルオキシエチル]−2−オキソ
アゼチジン(4,65g)のアセトニトリル(25ff
LIl )溶液に、三フフ化ホウ素・エーテル錯体(2
,61119)を0℃で滴下し、混合物を1時間攪拌す
る0反応混合物に炭酸水素ナトリウム(5g)を加えて
30分間攪拌し、次いで沈殿を濾去する。濾液を酢酸エ
チル(1ooffl11 )に溶解し、順次水(50m
)および食塩水(501d )で洗浄して硫酸マグネ
シウムで乾燥する。溶媒を減圧下に留去して、(3S、
4R)−4−[2−(1−ペンジルオキシ力ルボニル−
1,2,3,6−テトラヒドロピリジン−4−イル)、
−2−オキソエチル]−3−[(IR)−1−ヒドロキ
シエチル]−2−オキソアゼチジン(3,6g)を得る
。
H,s)、 6.66−6.77(IH,ee)、 7
.32 (5H,5)11λにV (3S、4R)−4−[2−(1−ベンジルオキシカル
ボニル−1,2,3,6−テトラヒドロピリジン−4−
イル)−2−オキソエチル]−3−[(IR)−1−第
三級ブチルジメチルシリルオキシエチル]−2−オキソ
アゼチジン(4,65g)のアセトニトリル(25ff
LIl )溶液に、三フフ化ホウ素・エーテル錯体(2
,61119)を0℃で滴下し、混合物を1時間攪拌す
る0反応混合物に炭酸水素ナトリウム(5g)を加えて
30分間攪拌し、次いで沈殿を濾去する。濾液を酢酸エ
チル(1ooffl11 )に溶解し、順次水(50m
)および食塩水(501d )で洗浄して硫酸マグネ
シウムで乾燥する。溶媒を減圧下に留去して、(3S、
4R)−4−[2−(1−ペンジルオキシ力ルボニル−
1,2,3,6−テトラヒドロピリジン−4−イル)、
−2−オキソエチル]−3−[(IR)−1−ヒドロキ
シエチル]−2−オキソアゼチジン(3,6g)を得る
。
IR(X5f4) 7 3200−3400. t
670−1750 am−1HMR(CDC13,l
; ) :1.32 (3H,d、J=7Hz>、 2
.24−2.40 (2H,ai3.2.74−3.1
3 (4H,m)、 3.49−3.64 (2H,m
)、 3.83−4.27 (4H,m)、 5.15
(2H,s)、 6.40−6.50 (IH,br
s)、 6.67−6.86(IH,ai)、 7.3
3 (5H,s)製ffi二n (3S、4R)−4−[2−(1−ベンジルオキシカル
ボニル−1,2,3,6−テトラヒドロビリジン−4−
イル)−2−オキソエチル]−3−[(IR)−1−ヒ
ドロキシエチル]−2−才キソアゼチジン(3,59g
)およびピリジン(3,9−)のジクロロメタン(35
m1 )溶液に、塩化トリメチルシリル(1,42M
)を窒素雰囲気中−70’Cで滴下し、混合物を1時間
攪拌する。この溶液に塩化オキサリル(1,26111
1+ )と4−ニトロベンジルアルコール(2,3g)
とのジクロロメタン(10m)中での0℃における反応
混合物を一70℃で滴下し、この溶液をさらに1時間攪
拌する0反応混合物を酢酸エチル(7G+111 )と
水(40111)との混合物中に注ぐ、有機層を分取し
て酢酸(55(lsQ )を含む水(501111)お
よび食塩水で順次洗浄し、次いで硫酸マグネシウムで乾
燥する。溶媒を留去して得られる残渣をシリカゲル(2
50111’)を使用するクロマトグラフィーに付し、
ヘキサンと酢酸エチルとの混液(1: 1、v/v)で
溶出して、2−[(33,4R)−4−(2−(1−ベ
ンジルオキシカルボニル− リジンー4−イル)−2−オキソエチル)−3−((I
R)−1−トリメチルシリルオキシエチル)−2−オキ
ソアゼチジン−1−イル]ー2ーオキソ酢酸4ニトロベ
ンジル(4.73g)を得る。
670−1750 am−1HMR(CDC13,l
; ) :1.32 (3H,d、J=7Hz>、 2
.24−2.40 (2H,ai3.2.74−3.1
3 (4H,m)、 3.49−3.64 (2H,m
)、 3.83−4.27 (4H,m)、 5.15
(2H,s)、 6.40−6.50 (IH,br
s)、 6.67−6.86(IH,ai)、 7.3
3 (5H,s)製ffi二n (3S、4R)−4−[2−(1−ベンジルオキシカル
ボニル−1,2,3,6−テトラヒドロビリジン−4−
イル)−2−オキソエチル]−3−[(IR)−1−ヒ
ドロキシエチル]−2−才キソアゼチジン(3,59g
)およびピリジン(3,9−)のジクロロメタン(35
m1 )溶液に、塩化トリメチルシリル(1,42M
)を窒素雰囲気中−70’Cで滴下し、混合物を1時間
攪拌する。この溶液に塩化オキサリル(1,26111
1+ )と4−ニトロベンジルアルコール(2,3g)
とのジクロロメタン(10m)中での0℃における反応
混合物を一70℃で滴下し、この溶液をさらに1時間攪
拌する0反応混合物を酢酸エチル(7G+111 )と
水(40111)との混合物中に注ぐ、有機層を分取し
て酢酸(55(lsQ )を含む水(501111)お
よび食塩水で順次洗浄し、次いで硫酸マグネシウムで乾
燥する。溶媒を留去して得られる残渣をシリカゲル(2
50111’)を使用するクロマトグラフィーに付し、
ヘキサンと酢酸エチルとの混液(1: 1、v/v)で
溶出して、2−[(33,4R)−4−(2−(1−ベ
ンジルオキシカルボニル− リジンー4−イル)−2−オキソエチル)−3−((I
R)−1−トリメチルシリルオキシエチル)−2−オキ
ソアゼチジン−1−イル]ー2ーオキソ酢酸4ニトロベ
ンジル(4.73g)を得る。
IR (スジ9−ル) : 1800. 17
50. 1660−1710 am−1HMR (
CDC13,S ) ’ 0.04 (9H.s)、1
.18 (3H,d。
50. 1660−1710 am−1HMR (
CDC13,S ) ’ 0.04 (9H.s)、1
.18 (3H,d。
J=7Hz)、 2.29−2.38 (2H.m)、
3.00−3.20(2H.m)、 3.51−3.
62 (2)1.m)、 4.06−4.31(3H.
+n)、 4.56−4.64 (IH.m>、 5.
15 (2H,s)。
3.00−3.20(2H.m)、 3.51−3.
62 (2)1.m)、 4.06−4.31(3H.
+n)、 4.56−4.64 (IH.m>、 5.
15 (2H,s)。
5、40 (2H.s)、 6.73−6.83 (L
H.m)、 7.35(5H,s)、 7.55−7.
60 (2H,m)、 8.21−8.28(2H.m
) 鼠1ヱIBニリ (R)−3−ヒドロキシピロリジン・塩酸塩(20g)
の1.4−ジオキサン( 200ffill )および
水( 20011Q )の混合物中溶液に、トリエチル
アミン( 49. 61Q )およびジ炭酸ジ第三級ブ
チル(38.9g)を0°Cで加える.常温で12時間
攪拌後、混合物の溶媒を減圧下に留去する.残渣を酢酸
エチルで抽出し、有機溶液を食塩水で洗浄して硫酸マグ
ネシウムで乾燥する.溶媒を留去して、(R)−1−第
三級プトキシ力ルボニル−3−ヒドロキシピロリジン(
32g)を得る。
H.m)、 7.35(5H,s)、 7.55−7.
60 (2H,m)、 8.21−8.28(2H.m
) 鼠1ヱIBニリ (R)−3−ヒドロキシピロリジン・塩酸塩(20g)
の1.4−ジオキサン( 200ffill )および
水( 20011Q )の混合物中溶液に、トリエチル
アミン( 49. 61Q )およびジ炭酸ジ第三級ブ
チル(38.9g)を0°Cで加える.常温で12時間
攪拌後、混合物の溶媒を減圧下に留去する.残渣を酢酸
エチルで抽出し、有機溶液を食塩水で洗浄して硫酸マグ
ネシウムで乾燥する.溶媒を留去して、(R)−1−第
三級プトキシ力ルボニル−3−ヒドロキシピロリジン(
32g)を得る。
IR (ニート) 二 3400, 1660
−1680 am−’NMR (CDCl2.8 )
=1. 46 (9H,s)、1。8−2.0 (2
H。
−1680 am−’NMR (CDCl2.8 )
=1. 46 (9H,s)、1。8−2.0 (2
H。
m)、 2.3−2.4 (IH.m)、 3.2−3
.5 (4H,n+)11町旦二刀 (R)−1−第三級ブトキ.ジカルボニルー3ーヒドロ
キシピロリジン(32g)のジクロロメタン( 300
+nQ )溶液に、トリエチルアミン(28.6111
11)および次いで塩化メタンスルホニル(14、6+
+tc)を窒素雰囲気中−10°Cで加える.O″Cで
30分間攪拌後、溶液を順次水、IN塩酸、炭酸水素ナ
トリウム飽和水溶液および食塩水で洗浄する.溶液を乾
燥し、溶媒を留去して、(R)−1−第三級ブトキシ力
ルボニル−3−メタンスルホニルオキシピロリジン(4
5g)を得る。
.5 (4H,n+)11町旦二刀 (R)−1−第三級ブトキ.ジカルボニルー3ーヒドロ
キシピロリジン(32g)のジクロロメタン( 300
+nQ )溶液に、トリエチルアミン(28.6111
11)および次いで塩化メタンスルホニル(14、6+
+tc)を窒素雰囲気中−10°Cで加える.O″Cで
30分間攪拌後、溶液を順次水、IN塩酸、炭酸水素ナ
トリウム飽和水溶液および食塩水で洗浄する.溶液を乾
燥し、溶媒を留去して、(R)−1−第三級ブトキシ力
ルボニル−3−メタンスルホニルオキシピロリジン(4
5g)を得る。
IR (CH2C12) : 1690 a
m−1HMR (CDC13,S ) ’ 1.47
(9H.s)、2.9−2.42 (2H。
m−1HMR (CDC13,S ) ’ 1.47
(9H.s)、2.9−2.42 (2H。
m>、 3.00 (3H.s)、 3.35−3.7
5 (5H,m)聚1!四辷りl (R)−1−第三級ブトキシ力ルボニル−3−メタンス
ルホニルオキシピロリジン(20g)のジメデルスルホ
キシド( 20011111 )溶液に安息香酸ナトリ
ウム(22g)を窒素雰囲気中で加える。
5 (5H,m)聚1!四辷りl (R)−1−第三級ブトキシ力ルボニル−3−メタンス
ルホニルオキシピロリジン(20g)のジメデルスルホ
キシド( 20011111 )溶液に安息香酸ナトリ
ウム(22g)を窒素雰囲気中で加える。
100°Cで1時間攪拌後、溶液を酢酸エチルと水との
混合物中に加える.有機層を分取して水および食塩水で
順次洗浄する.溶媒を乾燥し、留去して、( S)−3
−ベンゾイルオキシ−1−第三級プトキシ力ルポニルビ
ロリジン(22g)を得る。
混合物中に加える.有機層を分取して水および食塩水で
順次洗浄する.溶媒を乾燥し、留去して、( S)−3
−ベンゾイルオキシ−1−第三級プトキシ力ルポニルビ
ロリジン(22g)を得る。
IR (CH2C12) : 1725. 1690
am−1HMR (CDCl2.8 ) :1. 48
(9)1.s)、2. 18−2. 31(2H,m
)、 3.52−3.67 (4H,m)、 7.
40−7.61(38,lI+)、 8.00−8.
14 (2H,m)毀111見二〇 (S)−3−ベンゾイルオキシ−1−第三級プトキシカ
ルボニルピロリジン(21g)のメタノール(210m
1 )溶液に、メタノール中28%ナトリウムメトキシ
ド溶液(18mQ )を窒素雰囲気中−to’cで加え
る。o”cで2時間攪拌後、これに酢酸(4,9gma
)を加え、混合物の溶媒を留去する。
am−1HMR (CDCl2.8 ) :1. 48
(9)1.s)、2. 18−2. 31(2H,m
)、 3.52−3.67 (4H,m)、 7.
40−7.61(38,lI+)、 8.00−8.
14 (2H,m)毀111見二〇 (S)−3−ベンゾイルオキシ−1−第三級プトキシカ
ルボニルピロリジン(21g)のメタノール(210m
1 )溶液に、メタノール中28%ナトリウムメトキシ
ド溶液(18mQ )を窒素雰囲気中−to’cで加え
る。o”cで2時間攪拌後、これに酢酸(4,9gma
)を加え、混合物の溶媒を留去する。
残渣を酢酸エチルで抽出して抽出液を水および食塩水で
順次洗浄する。有機溶媒を乾燥し、留去して、(S)−
1−第三級ブトキシ力ルボニル−3−ヒドロキシピロリ
ジン(19,0g)を得る。
順次洗浄する。有機溶媒を乾燥し、留去して、(S)−
1−第三級ブトキシ力ルボニル−3−ヒドロキシピロリ
ジン(19,0g)を得る。
IR(ニート) : 3400. 1690
am−1HMR(CDCl2.ε) : 1.46
(9H,s)、 1.8−2.0 (2H。
am−1HMR(CDCl2.ε) : 1.46
(9H,s)、 1.8−2.0 (2H。
m)、 2.3−2.4 (IH,+a)、 3.2−
3.5 (4H,m)1産町並二戯 製造例10−2)と実質的に同様にして、(S)−1−
第三級ブトキシ力ルボニル−3−メタンスルホニルオキ
シピロリジンを収率88.4%で得る。
3.5 (4H,m)1産町並二戯 製造例10−2)と実質的に同様にして、(S)−1−
第三級ブトキシ力ルボニル−3−メタンスルホニルオキ
シピロリジンを収率88.4%で得る。
IR(ニー)) : 1690 am−’NMR
(CDC13,8) ’ 1.47 (9H9s)、2
.01−2.42(2H,m)、 3.04 (3L
s)、 3.55−3.75 (5H,m)袈1jl
立二〇 製造例1l−1)と実質的に同様にして、(R)−1=
第三級ブトキシカルボニルー3−シアノピロリジンを収
率48.0%で得る。
(CDC13,8) ’ 1.47 (9H9s)、2
.01−2.42(2H,m)、 3.04 (3L
s)、 3.55−3.75 (5H,m)袈1jl
立二〇 製造例1l−1)と実質的に同様にして、(R)−1=
第三級ブトキシカルボニルー3−シアノピロリジンを収
率48.0%で得る。
rR(ニー)) : 2225. 1690
am−”NMR(CDC13,8> ’ 1.46 (
9H9s)、1.88−2.43(2H,m)、 2.
98−3.29 (IH,m)、 3.27−3.80
(4H,m) 1産斑」二n 製造例11−2)と実質的に同様にして、(R)−1−
アリルオキシカルボニル−3−カルボキシピロリジンを
定量的に得る。
am−”NMR(CDC13,8> ’ 1.46 (
9H9s)、1.88−2.43(2H,m)、 2.
98−3.29 (IH,m)、 3.27−3.80
(4H,m) 1産斑」二n 製造例11−2)と実質的に同様にして、(R)−1−
アリルオキシカルボニル−3−カルボキシピロリジンを
定量的に得る。
IR(CH2C12) ’ 1690−1710 am
−1HMR(CDC13,8> ’ 2.00−2.3
2 (2H9m)、2.88−3.30 (IH,m)
、 3.32−3.81 (4H,m)、 4.53(
2H,d、J=6Hz)、 5.02−5.49 (2
H,m)、 5.62−6.19 (IH,m) 製造例1O−8) 製造例2−1)と実質的に同様にして、(R)−3−ア
セデル−1−アリルオキシカルボニルピロリジンを収率
65.7%で得る。
−1HMR(CDC13,8> ’ 2.00−2.3
2 (2H9m)、2.88−3.30 (IH,m)
、 3.32−3.81 (4H,m)、 4.53(
2H,d、J=6Hz)、 5.02−5.49 (2
H,m)、 5.62−6.19 (IH,m) 製造例1O−8) 製造例2−1)と実質的に同様にして、(R)−3−ア
セデル−1−アリルオキシカルボニルピロリジンを収率
65.7%で得る。
IR(ニー)) ’ 1690−1710 cm
−1HMR(CDC13,8) ’ 2−20 (3H
,s)、 t、 89−2.30(2H,m)、 2.
85−3.70 (5H,m)、 4.45−4.66
(2H,m)、 5.02−5.49 (2H,m)、
5.61−6.17(LH,m) 11盪F二對 製造例3と実質的に同様にして、(3S、4 R)−4
−[2−((3R)−1−アリルオキシカッしボニルピ
ロリジン−3−イル)−2−オキソエチル]−3−[(
IR)−1−第三級ブチルジメチルシリルオキシエチル
]−2−オキソアゼチジンを収率48.0%で得る。
−1HMR(CDC13,8) ’ 2−20 (3H
,s)、 t、 89−2.30(2H,m)、 2.
85−3.70 (5H,m)、 4.45−4.66
(2H,m)、 5.02−5.49 (2H,m)、
5.61−6.17(LH,m) 11盪F二對 製造例3と実質的に同様にして、(3S、4 R)−4
−[2−((3R)−1−アリルオキシカッしボニルピ
ロリジン−3−イル)−2−オキソエチル]−3−[(
IR)−1−第三級ブチルジメチルシリルオキシエチル
]−2−オキソアゼチジンを収率48.0%で得る。
IR(CH2C12) ’ 3270.1760.17
10 am−’NMR(CDCl2.l; ) ’ o
、 07 (68,s)、 0.87 (9H1sL1
.20−1.29 (3H,n+)、 2.04−2.
21 (2H,m)。
10 am−’NMR(CDCl2.l; ) ’ o
、 07 (68,s)、 0.87 (9H1sL1
.20−1.29 (3H,n+)、 2.04−2.
21 (2H,m)。
2.67−3.30 <4H,m)、 3.41−3.
80 (4H,m)。
80 (4H,m)。
3.90−4.23 (2)1.m)、 4.57
−4.60 (2H,m)。
−4.60 (2H,m)。
5.18−5.34 (2)1.m)、 5.87
−6.03 (IH,m)。
−6.03 (IH,m)。
6.17 (lH,br s)
暮1ヱl上二〇
(R)−1−第三級ブトキシ力ルポニル−3−メタンス
ルホニルオキシピロリジン(20g)のジメチルスルホ
キシド(200fflll )溶液に、シアン化ナトリ
ウム(l1g)を窒素雰囲気中常温で加える。窒素雰囲
気中100℃で1時間攪拌後、溶液を酢酸エチルと水と
の混合物中に加える。有機層を分取して水および食塩水
で順次洗浄する。溶媒を乾燥し、留去して残渣をシリカ
ゲルを使用するクロマトグラフィーに付し、n−ヘキサ
ンと酢酸エチルとの混液(2: 1、v/v)で溶出し
て、(S)−1−第三級ブトキシ力ルボニル−3=シア
ノピロリジン(9,0g)を得る。
ルホニルオキシピロリジン(20g)のジメチルスルホ
キシド(200fflll )溶液に、シアン化ナトリ
ウム(l1g)を窒素雰囲気中常温で加える。窒素雰囲
気中100℃で1時間攪拌後、溶液を酢酸エチルと水と
の混合物中に加える。有機層を分取して水および食塩水
で順次洗浄する。溶媒を乾燥し、留去して残渣をシリカ
ゲルを使用するクロマトグラフィーに付し、n−ヘキサ
ンと酢酸エチルとの混液(2: 1、v/v)で溶出し
て、(S)−1−第三級ブトキシ力ルボニル−3=シア
ノピロリジン(9,0g)を得る。
IR(ニー)) ’ 2255. 1690 a
m−’NMR(CDCl2.8 ) : 1.46 (
9H,s)、 2.00−2.40(2H,m)、 2
.98−3.31 <IH,m)、 3.31−3.8
0(4H,m) 聚1Jl上二幻 (S)−1−第三級ブトキシ力ルボニル−3−シアノピ
ロリジン(8,0g)の酢酸(60ffl! )および
濃塩酸(60m )の混合物中溶液を100°Cで3時
間攪拌した後、溶媒を減圧下に留去する。残渣を水(8
01111>とテトラヒドロフラン(80mjl )と
の混合物に溶解する。この溶液にクロロギ酸アリル(4
,7−)を、30%水酸化ナトリウム水溶液でpH8,
5に1itu、なから0℃で滴下する。10分間攪拌後
、溶液をIN塩酸でpH2,0に!II!する。混合物
を酢酸エチルで抽出し、次いで有機層を食塩水で洗浄し
て硫酸マグネシウムで乾燥する。溶媒を留去して(S)
−1−アリルオキシカルボニル−3−カルボキシピロリ
ジン(9,8g)を得る。
m−’NMR(CDCl2.8 ) : 1.46 (
9H,s)、 2.00−2.40(2H,m)、 2
.98−3.31 <IH,m)、 3.31−3.8
0(4H,m) 聚1Jl上二幻 (S)−1−第三級ブトキシ力ルボニル−3−シアノピ
ロリジン(8,0g)の酢酸(60ffl! )および
濃塩酸(60m )の混合物中溶液を100°Cで3時
間攪拌した後、溶媒を減圧下に留去する。残渣を水(8
01111>とテトラヒドロフラン(80mjl )と
の混合物に溶解する。この溶液にクロロギ酸アリル(4
,7−)を、30%水酸化ナトリウム水溶液でpH8,
5に1itu、なから0℃で滴下する。10分間攪拌後
、溶液をIN塩酸でpH2,0に!II!する。混合物
を酢酸エチルで抽出し、次いで有機層を食塩水で洗浄し
て硫酸マグネシウムで乾燥する。溶媒を留去して(S)
−1−アリルオキシカルボニル−3−カルボキシピロリ
ジン(9,8g)を得る。
IR(CH2C1z) ’ 1690−1710 cm
″″INMR(CDC1a、S ) ’ 2.05−2
.24 (2H1m) 、2−98−3.05 (IH
,m)、 3.38−3.77 (4H,m)、 4.
56−4.61 (2H,m)、 5.17−5.35
(2H,m)、 5.84−6.03 (IH,m)
、 8.58 (LH,br 5)K1JIL二拉 製造例2−1)と実質的に同様にして、(S)−3−ア
セチル−1−アリルオキシカルボニルピロリジンを収率
60.8%で得る。
″″INMR(CDC1a、S ) ’ 2.05−2
.24 (2H1m) 、2−98−3.05 (IH
,m)、 3.38−3.77 (4H,m)、 4.
56−4.61 (2H,m)、 5.17−5.35
(2H,m)、 5.84−6.03 (IH,m)
、 8.58 (LH,br 5)K1JIL二拉 製造例2−1)と実質的に同様にして、(S)−3−ア
セチル−1−アリルオキシカルボニルピロリジンを収率
60.8%で得る。
IR(ニー)) i 1690−1720 am
−1HMR(CDC13,S ) ’ 2.21 (3
H9s)、1.96−2.25(2H,m)、 3.1
1−3.22 (LM、m)、 3.40−3.71(
4)1.m)、 4.54−4.60 (2H,m>、
5.17−5.34(2H,m)、 5.84−6.
03 (LH,m)1産五旦二y 製造例3と実質的に同様にして、(3S、4 R)−4
−[2−((S)−1−アリルオキシカルボニルピロリ
ジン− ル]−3−[(IR)−1−第三級ブチルジメチルシリ
ルオキシエチル]−2−オキソアゼチジンを収率61.
0%で得る。
−1HMR(CDC13,S ) ’ 2.21 (3
H9s)、1.96−2.25(2H,m)、 3.1
1−3.22 (LM、m)、 3.40−3.71(
4)1.m)、 4.54−4.60 (2H,m>、
5.17−5.34(2H,m)、 5.84−6.
03 (LH,m)1産五旦二y 製造例3と実質的に同様にして、(3S、4 R)−4
−[2−((S)−1−アリルオキシカルボニルピロリ
ジン− ル]−3−[(IR)−1−第三級ブチルジメチルシリ
ルオキシエチル]−2−オキソアゼチジンを収率61.
0%で得る。
IR (CH2C12) : 3300. 1765.
1710 cm−1HMR (CDCl2. 8 )
: 0.07 (6H.s)、 0.87 (9H,
s)。
1710 cm−1HMR (CDCl2. 8 )
: 0.07 (6H.s)、 0.87 (9H,
s)。
1、19−1.29 (38,m)、 2.04−2.
22 <28.m)。
22 <28.m)。
2、66−3.17 (4H.m)、 3.36−3.
60 (4H.m)。
60 (4H.m)。
3、93−4.24 (2H.m)、 4.57−
4.61 (2H.m)。
4.61 (2H.m)。
5、18−5、35 (2H.a+)、 5.84−
6.04 (IH.m)。
6.04 (IH.m)。
6、08 (IH.br s)
製lJllニリ
!−(ジフェニルメチル)−3−メトキシカルボニルア
ゼチジン(28g)のメタノール(270mQ)および
テトラヒドロフラン( 1301111 )溶液にIN
水酸化ナトリウム( 11511L11 )を加え、溶
液を室温で1.5時間攪拌する.次いで溶液を減圧濃縮
して有機溶媒を回収する.水溶液を10%塩酸でー2、
95にIJ4tL,、生成する沈殿を濾取、水洗、乾燥
して、1−(ジフェニルメチル)−3−カルボキシアゼ
デシン(24.7g)を得る。
ゼチジン(28g)のメタノール(270mQ)および
テトラヒドロフラン( 1301111 )溶液にIN
水酸化ナトリウム( 11511L11 )を加え、溶
液を室温で1.5時間攪拌する.次いで溶液を減圧濃縮
して有機溶媒を回収する.水溶液を10%塩酸でー2、
95にIJ4tL,、生成する沈殿を濾取、水洗、乾燥
して、1−(ジフェニルメチル)−3−カルボキシアゼ
デシン(24.7g)を得る。
融点: 138−140℃
NMR (DMSO−da.S ) ’ 3− 09−
3.45 (5H.III>、4− 42(IH.s)
、 7、13−7.43 (10H.m)11五旦二社 1−(ジフェニルメチル)−3−カルボキシアゼチジン
(21.6g)のメタノール( 3001d )および
テトラヒドロフラン(2001t1 )溶液に10%パ
ラジウム−炭素(17g)を加え、混合物を5kg/c
T112の水素圧下4時間水素添加する.触媒を濾去し
て濾液の溶媒を留去する.残渣に水( 180mll
)および酢酸エチル( 120fflll )を加え、
溶液を5分間攪拌する.水層を分取してテトラヒドロフ
ランと混合して0−5℃に冷却する.これにクロロギ酸
アリル( 14. 2m )のテトラヒト07ラン(
30mffi )溶液を、pH9−10にm整しながら
滴下する.2時間後、酢酸エチル( rooma )を
加え、有機層を分取して水( 2011Q )洗、乾燥
し、溶媒を留去して、1−アリルオキシカルボニル−3
−カルボキシアゼチジン(10.1g)を得る。
3.45 (5H.III>、4− 42(IH.s)
、 7、13−7.43 (10H.m)11五旦二社 1−(ジフェニルメチル)−3−カルボキシアゼチジン
(21.6g)のメタノール( 3001d )および
テトラヒドロフラン(2001t1 )溶液に10%パ
ラジウム−炭素(17g)を加え、混合物を5kg/c
T112の水素圧下4時間水素添加する.触媒を濾去し
て濾液の溶媒を留去する.残渣に水( 180mll
)および酢酸エチル( 120fflll )を加え、
溶液を5分間攪拌する.水層を分取してテトラヒドロフ
ランと混合して0−5℃に冷却する.これにクロロギ酸
アリル( 14. 2m )のテトラヒト07ラン(
30mffi )溶液を、pH9−10にm整しながら
滴下する.2時間後、酢酸エチル( rooma )を
加え、有機層を分取して水( 2011Q )洗、乾燥
し、溶媒を留去して、1−アリルオキシカルボニル−3
−カルボキシアゼチジン(10.1g)を得る。
NMR (CDCI311; ) ’ 3. 46 (
LH.m)、4− 18 (4H.d。
LH.m)、4− 18 (4H.d。
J=6Hz)、 4.55 (2H,m)、 5.08
−5.38 (2H.m>。
−5.38 (2H.m>。
5、65−6.10 (IH.ta)、 7.29 (
LH.s)11五B二n 製造例2−1)と実質的に同様にして、3−アセチル−
1−アリルオキシカルボニルアゼチジンを収率70.8
%で得る。
LH.s)11五B二n 製造例2−1)と実質的に同様にして、3−アセチル−
1−アリルオキシカルボニルアゼチジンを収率70.8
%で得る。
IR(CH2C12) :1710 cm−1HMR(
CDCl2.8 ) =2.19 (3H0s)、3.
40−3.55(LH,m)、 4.13 (4H
,d、J=8Hz>、 4.53−4.57<28.
+m)、 5.17−5.35 (2H,m)、
5.81−5.98(1)1.m) 臀1ヱ1112ニリ 製造例3と実質的に同様にして、(3S、4 R)−4
−[2−(1−アリルオキシ力ルポニルアゼチノン−3
−イル)−2−オキソエチル]−3−[(IR)−1−
第三級ブチルジメチルシリルオキシエデル]−2−オキ
ソアゼチジンを収率47.8%で得る。
CDCl2.8 ) =2.19 (3H0s)、3.
40−3.55(LH,m)、 4.13 (4H
,d、J=8Hz>、 4.53−4.57<28.
+m)、 5.17−5.35 (2H,m)、
5.81−5.98(1)1.m) 臀1ヱ1112ニリ 製造例3と実質的に同様にして、(3S、4 R)−4
−[2−(1−アリルオキシ力ルポニルアゼチノン−3
−イル)−2−オキソエチル]−3−[(IR)−1−
第三級ブチルジメチルシリルオキシエデル]−2−オキ
ソアゼチジンを収率47.8%で得る。
IR(ニー)) : 1760. 1710
cm−’NMR(CDC13,S ) ’ 0.04
(6H1s)、0.94 (9H1s)。
cm−’NMR(CDC13,S ) ’ 0.04
(6H1s)、0.94 (9H1s)。
1.20 (3H,d、J=6Hz)、 2.53−2
.89 (3)1.m)。
.89 (3)1.m)。
3.39−3.50 (LH,l11)、 3.87−
4.17 (6H,m)。
4.17 (6H,m)。
4.46−4.51 (2H,m)、 5.12−5.
28 (2H,m)。
28 (2H,m)。
5.74−5.91 (LH,m)、 6.17 (L
H,br s)飯1」■lニリ 水素化ナトリウム(油中60%、816mg)および沃
化メチル(4,91111)のテトラヒドロフラン(5
0−)溶液を50−60℃に加熱してこれに、(2S、
4R)−4−(第三級ブチルジメチルシリルオキシ)−
1−(第三級ブトキシカルボニル)−2−ヒドロキシメ
チルビロリジン(5,2g)のテトラヒドロフラン(l
0IIIQ )溶液を滴下する。2時間攪拌後、反応混
合物を水と酢酸エチルとの混合物中に注ぎ、有機層を分
取して順次亜硫酸ナトリウム飽和水溶液および食塩水で
洗浄して硫酸マグネシウムで乾燥する。溶媒を留去して
得られる油状物をシリカゲル(200fflQ )を使
用するクロマトグラフィーに付し、ヘキサンと酢酸エチ
ルとの混液(4: 1. v/v)で溶出して、(2S
、4R)−4−(第三級ブチルジメチルシリルオキシ)
−1=(第三級ブトキシカルボニル)−2−メトキシメ
チルピロリジン(4,5g)を得る。
H,br s)飯1」■lニリ 水素化ナトリウム(油中60%、816mg)および沃
化メチル(4,91111)のテトラヒドロフラン(5
0−)溶液を50−60℃に加熱してこれに、(2S、
4R)−4−(第三級ブチルジメチルシリルオキシ)−
1−(第三級ブトキシカルボニル)−2−ヒドロキシメ
チルビロリジン(5,2g)のテトラヒドロフラン(l
0IIIQ )溶液を滴下する。2時間攪拌後、反応混
合物を水と酢酸エチルとの混合物中に注ぎ、有機層を分
取して順次亜硫酸ナトリウム飽和水溶液および食塩水で
洗浄して硫酸マグネシウムで乾燥する。溶媒を留去して
得られる油状物をシリカゲル(200fflQ )を使
用するクロマトグラフィーに付し、ヘキサンと酢酸エチ
ルとの混液(4: 1. v/v)で溶出して、(2S
、4R)−4−(第三級ブチルジメチルシリルオキシ)
−1=(第三級ブトキシカルボニル)−2−メトキシメ
チルピロリジン(4,5g)を得る。
IR(スジ■−ル) : 1700 am−’NM
R(CDCl2.8 ) : 0.08 (6
H,s)、 0.88 (98,s)。
R(CDCl2.8 ) : 0.08 (6
H,s)、 0.88 (98,s)。
1.45 (9)1.s)、 1.83−2.04
(2H,m)、 3.32(3H,s)、 3.
40−4.45 (6H,m) 。
(2H,m)、 3.32(3H,s)、 3.
40−4.45 (6H,m) 。
製」J11二針
(2S、4 R)−4−(第三級ブチルジメチルシリル
オキシ)−1−(第三級ブトキシカルボニル)−2−メ
トキシメチルピロリジン(4,48g)およびフ/化テ
トラブチルアンモニウム(テトラヒドロフラン中1モル
溶液、13II111)のテトラヒドロフラン(45I
IL11 )溶液を0℃で8時間攪拌する0反応混合物
を酢酸エチルで抽出し、有機層を分取して食塩水で洗浄
し、硫酸マグネシウムで乾燥する。溶媒を留去して得ら
れる油状物をシリカゲル(300fflQ )を使用す
るクロマトグラフィーに付し、ヘキサンと酢酸エチルと
の混液(1:2、v/v )で溶出して、(2S、4R
)−1−(第三級ブトキシカルボニル トキシメチルピロリジン(2.82g)を得る。
オキシ)−1−(第三級ブトキシカルボニル)−2−メ
トキシメチルピロリジン(4,48g)およびフ/化テ
トラブチルアンモニウム(テトラヒドロフラン中1モル
溶液、13II111)のテトラヒドロフラン(45I
IL11 )溶液を0℃で8時間攪拌する0反応混合物
を酢酸エチルで抽出し、有機層を分取して食塩水で洗浄
し、硫酸マグネシウムで乾燥する。溶媒を留去して得ら
れる油状物をシリカゲル(300fflQ )を使用す
るクロマトグラフィーに付し、ヘキサンと酢酸エチルと
の混液(1:2、v/v )で溶出して、(2S、4R
)−1−(第三級ブトキシカルボニル トキシメチルピロリジン(2.82g)を得る。
IR (スジa−L> ’ 1680−1700
. 3350 cm−’NMR (CDC13.8
) ’ 1. 45 (9H5s)、1. 96−2
.27(2H.n+)、 3.31 (3H.s)、
3.40−3.50(4H.m)。
. 3350 cm−’NMR (CDC13.8
) ’ 1. 45 (9H5s)、1. 96−2
.27(2H.n+)、 3.31 (3H.s)、
3.40−3.50(4H.m)。
3、93−4.16 (IH.m)、 4.34−4
.50 (IH,m)級m二υ (2S.4R)−1−(第三級ブトキシカルボニル)−
4−ヒドロキシ−2−メトキシメチルピロリジン(2.
8g)および塩化メタンスルホニル(l、12−)のジ
クロロメタン( 30fflQ )溶液にトリエチルア
ミン(2. 38111Q )を0℃で滴下する.30
分後、反応混合物を順次IN塩酸、水および食塩水で洗
浄する.有機層を硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を留
去して得る油状物をシリカゲル(300m)を使用する
クロマトグラフィーに付し、、ヘキサンと酢酸エチルと
の混液( 1 : 1. v/v)で溶出して、(2S
.4R)−1−(第三級ブトキシカルボニル)−4−メ
タンスルホニルオキシ−−メトキシメチルピロリジン(
3.61g)を得る。
.50 (IH,m)級m二υ (2S.4R)−1−(第三級ブトキシカルボニル)−
4−ヒドロキシ−2−メトキシメチルピロリジン(2.
8g)および塩化メタンスルホニル(l、12−)のジ
クロロメタン( 30fflQ )溶液にトリエチルア
ミン(2. 38111Q )を0℃で滴下する.30
分後、反応混合物を順次IN塩酸、水および食塩水で洗
浄する.有機層を硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を留
去して得る油状物をシリカゲル(300m)を使用する
クロマトグラフィーに付し、、ヘキサンと酢酸エチルと
の混液( 1 : 1. v/v)で溶出して、(2S
.4R)−1−(第三級ブトキシカルボニル)−4−メ
タンスルホニルオキシ−−メトキシメチルピロリジン(
3.61g)を得る。
IR (スジー−ル) : 1700 cm−
’NMR (CDC13.l; ) ’ 1. 47
(9H,s)、2.31 (2H。
’NMR (CDC13.l; ) ’ 1. 47
(9H,s)、2.31 (2H。
br s)、 3.03 (3H.s)、 3.34
(3H.s)、 3.40−3、75 (4H.m)、
4.04−4.17 (IH.s)、 5.23−5
、32 (IH.m) 製j!LM!in二U (2S、4R)−1−(第三級ブトキシカルボニル)−
4−メタンスルホニルオキシ−2−メトキシメチルピロ
リジン(3,3g)およびシアン化ナトリウム(1,7
5g )のジメチルスルホキシド(35m1i ) m
液を92℃に3時間40分加熱する6反応混合物を水(
100絨)と酢酸エチル(zooaa )との混合物中
に注ぐ、有機層を分取して食塩水で洗浄し、硫酸マグネ
シウムで乾燥する。溶媒を留去して得られる油状物をシ
リカゲル(200!111 )を使用゛するクロマトグ
ラフィーに付し、ヘキサンと酢酸エチルとの混液(1:
1、v/v)で溶出して、(2S、4S)−1−(第
三級ブトキシカルボニル)−4−シアノ−2−メトキシ
メチルピロリジン(2,5g)を得る。
(3H.s)、 3.40−3、75 (4H.m)、
4.04−4.17 (IH.s)、 5.23−5
、32 (IH.m) 製j!LM!in二U (2S、4R)−1−(第三級ブトキシカルボニル)−
4−メタンスルホニルオキシ−2−メトキシメチルピロ
リジン(3,3g)およびシアン化ナトリウム(1,7
5g )のジメチルスルホキシド(35m1i ) m
液を92℃に3時間40分加熱する6反応混合物を水(
100絨)と酢酸エチル(zooaa )との混合物中
に注ぐ、有機層を分取して食塩水で洗浄し、硫酸マグネ
シウムで乾燥する。溶媒を留去して得られる油状物をシ
リカゲル(200!111 )を使用゛するクロマトグ
ラフィーに付し、ヘキサンと酢酸エチルとの混液(1:
1、v/v)で溶出して、(2S、4S)−1−(第
三級ブトキシカルボニル)−4−シアノ−2−メトキシ
メチルピロリジン(2,5g)を得る。
IR(スジー−ル) + 1705. 1750
cm−’NMR(CDC13,S ) :1.47
(9H,s)、 2.3O−2−47(2B、m)、
2.93−3.08 (IH,m)、 3.37 (3
H,s)。
cm−’NMR(CDC13,S ) :1.47
(9H,s)、 2.3O−2−47(2B、m)、
2.93−3.08 (IH,m)、 3.37 (3
H,s)。
3.41−3.63 (3Lm>、 3.84−4
.10 (2H,m)振1」ul二即 製造例1l−2)と実質的に同様にして、(2R)−1
−アリルオキシカルボニル− −2−メトキシメチルピロリジンを収率89。9%で得
る。
.10 (2H,m)振1」ul二即 製造例1l−2)と実質的に同様にして、(2R)−1
−アリルオキシカルボニル− −2−メトキシメチルピロリジンを収率89。9%で得
る。
IR (スジミール) : 1710 cm−
1HMR (CDC1a,8 ) ’ 2. 23−2
.50 (2H,m)、3. 33(3H.s)、 3
.51−4.14 (6H,m)、 4.56−4.6
3(2H.m)、 5.18−5.37 (2H.m)
、 5.84−6.04(IH.m) 11園長二n 製造例2−1)と実質的に同様にして、(2R)−4−
アセチル−1−アリルオキシカルボニル−2−メトキシ
メチルピロリジンを収率4o.9%で得る。
1HMR (CDC1a,8 ) ’ 2. 23−2
.50 (2H,m)、3. 33(3H.s)、 3
.51−4.14 (6H,m)、 4.56−4.6
3(2H.m)、 5.18−5.37 (2H.m)
、 5.84−6.04(IH.m) 11園長二n 製造例2−1)と実質的に同様にして、(2R)−4−
アセチル−1−アリルオキシカルボニル−2−メトキシ
メチルピロリジンを収率4o.9%で得る。
IR (スジー−4) : 1710 cm−
’NMR (CDC13.8 ) ’ 2.20 (3
H.s)、3.33 (3H.d。
’NMR (CDC13.8 ) ’ 2.20 (3
H.s)、3.33 (3H.d。
J=7Hz>、 4.10 (IH.br s)、
4.58−4.60 (2H。
4.58−4.60 (2H。
m)、 5.18−5.34 (2H.m)、 5
.84−6.03 (IH,m)敷1」lにn 製造例3と実質的に同様にして、(3 S.4 R)−
4−[2−((2S)−1−アリルオキシカルボニル− ル)−2−オキソエチル]−3−[(IR)−1−第三
級ブチルジメチルシリルオキシエチル]−2−オキソア
ゼチジンを収率41.4%で得る。
.84−6.03 (IH,m)敷1」lにn 製造例3と実質的に同様にして、(3 S.4 R)−
4−[2−((2S)−1−アリルオキシカルボニル− ル)−2−オキソエチル]−3−[(IR)−1−第三
級ブチルジメチルシリルオキシエチル]−2−オキソア
ゼチジンを収率41.4%で得る。
IR (スジー−ル) : 1710. 17
50 cm−’NMR (CDCl2,l; ) ’
O− 07 (6H.s)、o. 87 (9H.s
)、’1、21 (3H.d.J=7Hz>、 3.3
5 (3H.s)、 3.92−4、21 (3H.s
*)、 4.58−4.62 (2H.m)、 5.1
8−5、35 (2H.m)、 5.85−6.1
7 (2H.m)11丘関二鼾 製造例14−6)と実質的に同様にして、2−[(3S
.4R)−4−[2−((2S)−1−アリルオキシカ
ルボニル−2−メトキシメチルビ0 1ノジン−4−イ
ル)−2−オキソエチル]−3−((IR)−1−第三
級ブチルジメチルシリオキシエチル)−2−才キソアゼ
チジン−1−イル]ー2ーオキソ酢謙アリルを定量的に
得る。
50 cm−’NMR (CDCl2,l; ) ’
O− 07 (6H.s)、o. 87 (9H.s
)、’1、21 (3H.d.J=7Hz>、 3.3
5 (3H.s)、 3.92−4、21 (3H.s
*)、 4.58−4.62 (2H.m)、 5.1
8−5、35 (2H.m)、 5.85−6.1
7 (2H.m)11丘関二鼾 製造例14−6)と実質的に同様にして、2−[(3S
.4R)−4−[2−((2S)−1−アリルオキシカ
ルボニル−2−メトキシメチルビ0 1ノジン−4−イ
ル)−2−オキソエチル]−3−((IR)−1−第三
級ブチルジメチルシリオキシエチル)−2−才キソアゼ
チジン−1−イル]ー2ーオキソ酢謙アリルを定量的に
得る。
IR (スジ謄−ル) : 1705. 17
50. 1810 cm−’NMR (CDC13
,l; ) ’ 0−08 (6H,s)、0.88
(9H.s)。
50. 1810 cm−’NMR (CDC13
,l; ) ’ 0−08 (6H,s)、0.88
(9H.s)。
1、23−1.29 (3H.m)、 3.34 (
3H.s)、 4.56−4、80 (48.■)、
5.19−5.50 (4H.m)、 5.86
−6、04 (2H.a+) 鉦1jl土二す (2S.4R)−1−ベンジルオキシカルボニル−2−
ヒドロキシメチル−4−メタンスルホニルオキシピロリ
ジン(60g)およびイミダゾール( 12Jg )の
ジクロロメタン( 300111+ )溶液に、塩化第
三級プデルジメチルシリル(31.4g)のジクロロメ
タン溶液を0℃で30分間かけて滴下する.1時間後、
反応混合物を酢酸エチル(11)、水( 400m11
)および塩化ナトリウム飽和水溶液( 200m )
の混合物中に注ぐ.有機層を分取して順次水および食塩
水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥する.溶媒を留去
して得られる油状物をシリカゲル(1.B)を使用する
クロマトグラフィーに付し、ヘキサンと酢酸エチルとの
混液( 1 : 1, V/V)で溶出して、(2S.
4R)−1−ベンジルオキシカルボニル−2−(第三級
ブチルジメチルシリルオキシ)メチル−4−メタンスル
ホニルオキシピロリジン(71g)を得る。
3H.s)、 4.56−4、80 (48.■)、
5.19−5.50 (4H.m)、 5.86
−6、04 (2H.a+) 鉦1jl土二す (2S.4R)−1−ベンジルオキシカルボニル−2−
ヒドロキシメチル−4−メタンスルホニルオキシピロリ
ジン(60g)およびイミダゾール( 12Jg )の
ジクロロメタン( 300111+ )溶液に、塩化第
三級プデルジメチルシリル(31.4g)のジクロロメ
タン溶液を0℃で30分間かけて滴下する.1時間後、
反応混合物を酢酸エチル(11)、水( 400m11
)および塩化ナトリウム飽和水溶液( 200m )
の混合物中に注ぐ.有機層を分取して順次水および食塩
水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥する.溶媒を留去
して得られる油状物をシリカゲル(1.B)を使用する
クロマトグラフィーに付し、ヘキサンと酢酸エチルとの
混液( 1 : 1, V/V)で溶出して、(2S.
4R)−1−ベンジルオキシカルボニル−2−(第三級
ブチルジメチルシリルオキシ)メチル−4−メタンスル
ホニルオキシピロリジン(71g)を得る。
IR(スジ3−ル) : 1710 am−’N
MR(CDCl2.8) : 0.08 (6H,s)
、 0.90 (9H,s)。
MR(CDCl2.8) : 0.08 (6H,s)
、 0.90 (9H,s)。
2.28−2.47 (2H,m)、 3.03 (3
H,s)、 3.52−4.27 (5H,m)、 5
.16 (2H,s)、 5.20−5.38(LH,
m)、 7.36 (5H,5)11匿U二社 (2S、4R)−1−ベンジルオキシカルボニルメゾル
ー4−メタンスルホニルオキシピロリジン( 10.2
46g )およびシアン化ナトリウム(3.6g)(7
)ジl f )L, スルホキシド( 100mm )
1B液ヲ92℃に3時間加熱する.反応混合物を水(
300m11 )と酢酸エチル( 30011 )と
の混合物中に注ぐ.有機層を分取して、残る水層を酢酸
エチル<200m11)で再抽出する.有機層を合わせ
て食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥する.溶媒
を留去して得られる油状物をシリカゲル( 20011
Q ’)を使用するクロマトグラフィーに付し、ヘキサ
ンと酢酸エチルとの混液(2:1、v/v )で溶出し
て、(2S,4S)−1−ベンジルオキシカルボニル−
−(第三級ブチルジメチルシリルオキシ)メチル−4−
シアノピロリジン(4.2g)を得る。
H,s)、 3.52−4.27 (5H,m)、 5
.16 (2H,s)、 5.20−5.38(LH,
m)、 7.36 (5H,5)11匿U二社 (2S、4R)−1−ベンジルオキシカルボニルメゾル
ー4−メタンスルホニルオキシピロリジン( 10.2
46g )およびシアン化ナトリウム(3.6g)(7
)ジl f )L, スルホキシド( 100mm )
1B液ヲ92℃に3時間加熱する.反応混合物を水(
300m11 )と酢酸エチル( 30011 )と
の混合物中に注ぐ.有機層を分取して、残る水層を酢酸
エチル<200m11)で再抽出する.有機層を合わせ
て食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥する.溶媒
を留去して得られる油状物をシリカゲル( 20011
Q ’)を使用するクロマトグラフィーに付し、ヘキサ
ンと酢酸エチルとの混液(2:1、v/v )で溶出し
て、(2S,4S)−1−ベンジルオキシカルボニル−
−(第三級ブチルジメチルシリルオキシ)メチル−4−
シアノピロリジン(4.2g)を得る。
IR (スジ■−ル) j 1710 am−
’NMR (CDC1s.I ) 二0.00 (6H
,s)、o.ss (9H.s)。
’NMR (CDC1s.I ) 二0.00 (6H
,s)、o.ss (9H.s)。
2、30−2.45 (2H,m>、 2.87−3.
10 (LH.m)。
10 (LH.m)。
3、40−3.55 (1)1.01)、 3.65−
4.18 (4H.Ill>。
4.18 (4H.Ill>。
5、12 (2H.s)、 7.35 (5H.s)1
産五]二刀 メチルリチウム(エーテル中1モル溶液、83.7戚)
のエーテル( 36IILG )溶液に、( 2 S.
4 S )−1−ベンジルオキシカルボニル−2−(第
三級ブチルジメチルシリルオキシ)メチル−4−シアノ
ピロリジン(l1g)のエーテル( 121111 )
溶液を0℃で滴下する.反応混合物を0℃で2時間、室
温で1時間攪拌する.次いで反応混合物に6N硫酸(
36111 )のジオキサン( 7211111 ”)
溶液を注意して加え、混合物を50−60″Cに1時間
加熱する。
産五]二刀 メチルリチウム(エーテル中1モル溶液、83.7戚)
のエーテル( 36IILG )溶液に、( 2 S.
4 S )−1−ベンジルオキシカルボニル−2−(第
三級ブチルジメチルシリルオキシ)メチル−4−シアノ
ピロリジン(l1g)のエーテル( 121111 )
溶液を0℃で滴下する.反応混合物を0℃で2時間、室
温で1時間攪拌する.次いで反応混合物に6N硫酸(
36111 )のジオキサン( 7211111 ”)
溶液を注意して加え、混合物を50−60″Cに1時間
加熱する。
エーテルを減圧下に留去後、残る溶液を水(12。
−)とテトラヒドロフラン( 120IQ )との混合
物中に注ぎ、0℃に冷却して4N水酸化ナトリウムでp
t+を9.0に調整する.この混合物にクロロギ酸アリ
ル( 14+1111 )を、4N水酸化ナトリウムで
声を8.0と9.0との間に調整しなから0℃で滴下す
る.反応混合物を酢酸エチル( 200mm )で抽出
し、有機層を分取して食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウ
ムで乾燥する.溶媒を留去して得られる油状物をシリカ
ゲルを使用するクロマトグラフィーに付し、ヘキサンと
酢酸エチルとの混液(4:1,v/v)で溶出して、(
2S)−4−アセデル−1−アリルオキシカルボニル−
2−ヒドロキシメチルピロリジン(2.24g)ヲ得る
。
物中に注ぎ、0℃に冷却して4N水酸化ナトリウムでp
t+を9.0に調整する.この混合物にクロロギ酸アリ
ル( 14+1111 )を、4N水酸化ナトリウムで
声を8.0と9.0との間に調整しなから0℃で滴下す
る.反応混合物を酢酸エチル( 200mm )で抽出
し、有機層を分取して食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウ
ムで乾燥する.溶媒を留去して得られる油状物をシリカ
ゲルを使用するクロマトグラフィーに付し、ヘキサンと
酢酸エチルとの混液(4:1,v/v)で溶出して、(
2S)−4−アセデル−1−アリルオキシカルボニル−
2−ヒドロキシメチルピロリジン(2.24g)ヲ得る
。
IR (スジ曹−ル) : 17GG−1720
. 3450 cm−’NMR (CDCl2.l
; ) :2. 17 (3H.s)、2.50−2−
80(2H.m)、 3.03−4.20 (6
H.m)、 4.57−4.70(2H.m)、5.
13−5.48 (2H.m)、 5.73−6.
22(IH.s) 飯a土二〇 (28)−4−アセデル−1−アリルオキシカルボニル
−2−ヒドロキシメチルピロリジン(2.11)および
イミダゾール( 770mg )のジクロロメタン(
20111 ) i液に、塩化第三級ブチルジメチルシ
リル(1.7g)のジクロロメタン(5m)溶液を0℃
で滴下する.1時間後、反応混合物を順次INmmおよ
び食塩水で洗浄して硫酸マグネシウムで乾燥する.溶媒
を留去して得られる油状物をシリカゲルを使用するクロ
マトグラフィーに付し、ヘキサンと酢酸エチルとの混液
( 2 : 1、v/v)で溶出して、(2S)−4−
アセデル−I−アリルオキシカルボニル−2−(第三級
ブチルジメチルシリルオキシ)メチルピロリジン(2.
725g)を得る。
. 3450 cm−’NMR (CDCl2.l
; ) :2. 17 (3H.s)、2.50−2−
80(2H.m)、 3.03−4.20 (6
H.m)、 4.57−4.70(2H.m)、5.
13−5.48 (2H.m)、 5.73−6.
22(IH.s) 飯a土二〇 (28)−4−アセデル−1−アリルオキシカルボニル
−2−ヒドロキシメチルピロリジン(2.11)および
イミダゾール( 770mg )のジクロロメタン(
20111 ) i液に、塩化第三級ブチルジメチルシ
リル(1.7g)のジクロロメタン(5m)溶液を0℃
で滴下する.1時間後、反応混合物を順次INmmおよ
び食塩水で洗浄して硫酸マグネシウムで乾燥する.溶媒
を留去して得られる油状物をシリカゲルを使用するクロ
マトグラフィーに付し、ヘキサンと酢酸エチルとの混液
( 2 : 1、v/v)で溶出して、(2S)−4−
アセデル−I−アリルオキシカルボニル−2−(第三級
ブチルジメチルシリルオキシ)メチルピロリジン(2.
725g)を得る。
IR (スジ倫−ル) : 1710 am−
1HMR (CDC1311; ) ’ 0.02 (
6H,s)、0.88 (9H.s)。
1HMR (CDC1311; ) ’ 0.02 (
6H,s)、0.88 (9H.s)。
2、20−2.32 (4H.a+)、 2.92−4
.10 (71(、m)。
.10 (71(、m)。
4、55−4.62. (2H劃>、 5.15−5.
40 (21.■)。
40 (21.■)。
5、85−6.00 (IM,+a)
飯m土二即
製造例3と実質的に同様にして、(3S、4 R)−4
−[2−((2S)−1−アリルオキシカルボニル−2
−ヒドロキシメチルピロリジン−4−イル)−2−オキ
ソエチル]−3−[(IR)−1−第三級ブデルジメチ
ルシリルオキシエチル]−2−オキソアゼチジンを収率
49.5%で得る。
−[2−((2S)−1−アリルオキシカルボニル−2
−ヒドロキシメチルピロリジン−4−イル)−2−オキ
ソエチル]−3−[(IR)−1−第三級ブデルジメチ
ルシリルオキシエチル]−2−オキソアゼチジンを収率
49.5%で得る。
IR(スジタール) : 1700−1710.
1750. 3250 am−’NMR(CDCl2
.δ) : 0.08 (6Ls>、 0.87 (9
Ls)。
1750. 3250 am−’NMR(CDCl2
.δ) : 0.08 (6Ls>、 0.87 (9
Ls)。
1.21 (3H,d、J=7Hz)、 1.80−2
.58 (2H,m)。
.58 (2H,m)。
2.68−4.31 (11H,m)、 4.53−4
.58 (2H,m)。
.58 (2H,m)。
5.03−5.38 (2H,m)、 5.68−6.
18 (2H,a+)11週U二以 (35,4R)−4−[2−((2S)−1−アリルオ
キシカルボニル−2−ヒドロキシメチルピロリジン−4
−イル)−2−オキソエチル]−3−[(IR)−1−
第三級ブチルジメチルシリルオキシエチルコー2−オキ
ソアゼチジン(1,64g)およびピリジン(2,81
111)のジクロロメタン(301Q )溶液に、塩化
第三級ブチルジメチルシリル(1,67g)のジクロロ
メタン(10111Q)溶液を一50°Cで滴下する。
18 (2H,a+)11週U二以 (35,4R)−4−[2−((2S)−1−アリルオ
キシカルボニル−2−ヒドロキシメチルピロリジン−4
−イル)−2−オキソエチル]−3−[(IR)−1−
第三級ブチルジメチルシリルオキシエチルコー2−オキ
ソアゼチジン(1,64g)およびピリジン(2,81
111)のジクロロメタン(301Q )溶液に、塩化
第三級ブチルジメチルシリル(1,67g)のジクロロ
メタン(10111Q)溶液を一50°Cで滴下する。
1時間後、反応混合物に塩化アリルオキサリル(634
4)を滴下し、次いで反応混合物を室温まで昇温せしめ
る。反応混合物を酢酸エチルで抽出し、有機層を順次I
N塩酸、炭酸水素ナトリウム飽和水溶液および食塩水で
洗浄する。有機層を硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を
留去して得られる残渣の油状物をシリカゲル(300m
Q )を使用するクロマトグラフィーに付し、ヘキサン
と酢酸エチルとの混液(4: 1、v/v)で溶出して
、2−[(3S、4R)−4−[2−((25)−1−
アリルオキシカルボニル−2−第三級ブチルジメチルシ
リルオキシメチルピロリジン−4−イル)−2−オキソ
エチル]−3−((IR)−1−第三級ブチルジメチル
シリルオキシエチル)−2−才キソアゼテジン−1−イ
ル]−2−オキソ酢酸アリル(t、s7g)を得る。
4)を滴下し、次いで反応混合物を室温まで昇温せしめ
る。反応混合物を酢酸エチルで抽出し、有機層を順次I
N塩酸、炭酸水素ナトリウム飽和水溶液および食塩水で
洗浄する。有機層を硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を
留去して得られる残渣の油状物をシリカゲル(300m
Q )を使用するクロマトグラフィーに付し、ヘキサン
と酢酸エチルとの混液(4: 1、v/v)で溶出して
、2−[(3S、4R)−4−[2−((25)−1−
アリルオキシカルボニル−2−第三級ブチルジメチルシ
リルオキシメチルピロリジン−4−イル)−2−オキソ
エチル]−3−((IR)−1−第三級ブチルジメチル
シリルオキシエチル)−2−才キソアゼテジン−1−イ
ル]−2−オキソ酢酸アリル(t、s7g)を得る。
IR(スジ1−ル) : 1710. 1750.
1810 cm−’NMR(CDC13,8) ’
0.08 (12H,s)、 o、 ss (18)
t。
1810 cm−’NMR(CDC13,8) ’
0.08 (12H,s)、 o、 ss (18)
t。
’s)、 1.23 (3M、d、J=7Hz)、 2
.13−2.34 (2H。
.13−2.34 (2H。
m)、 2.90−4.37 (IIH,m)、
4.48−4.60 (2H。
4.48−4.60 (2H。
m)、 4.71−4.78 (2H,m)、 5
.09−5.48 (4H,m)。
.09−5.48 (4H,m)。
5.68−6.16 (2)1.s)
毀321@ts−リ
(2S、4R)−1−(第三級ブトキシカルボニル)−
2−カルボキシ−4−ヒドロキシピロリジン(103g
)および炭酸カリウム(64,6K)のジメチルホルム
アミド(50011111)溶液に沃化メチル(33,
zmn )を0°Cで加え、混合物を3時間攪拌する0
反応混合物を水(、liと酢酸エチル(IR)との混合
物中に注ぎ、有機層を分取して順次水(500m11
)および食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥する
。溶媒を留去して得られる油状物をシリカゲル(800
1111)を使用するクロマトグラフィーに付し、ヘキ
サンと酢酸エチルとの混液(1:2、v/v )で溶出
して、(2S、4R)−1−(第三級ブトキシカルボニ
ル)−4,−ヒドロキシ−2−メトキシカルボニルピロ
リジン(105,2g)を得る。
2−カルボキシ−4−ヒドロキシピロリジン(103g
)および炭酸カリウム(64,6K)のジメチルホルム
アミド(50011111)溶液に沃化メチル(33,
zmn )を0°Cで加え、混合物を3時間攪拌する0
反応混合物を水(、liと酢酸エチル(IR)との混合
物中に注ぎ、有機層を分取して順次水(500m11
)および食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥する
。溶媒を留去して得られる油状物をシリカゲル(800
1111)を使用するクロマトグラフィーに付し、ヘキ
サンと酢酸エチルとの混液(1:2、v/v )で溶出
して、(2S、4R)−1−(第三級ブトキシカルボニ
ル)−4,−ヒドロキシ−2−メトキシカルボニルピロ
リジン(105,2g)を得る。
IR(スジI−ル) ’ 1670. 1745.
34’50 am−’NMR(CDC13,l;
) ’ 1.42 (9H1s)、2.00−2.40
(2H,m)、 3.42−3.70 (2H,m)、
3.74 (3H,s)。
34’50 am−’NMR(CDC13,l;
) ’ 1.42 (9H1s)、2.00−2.40
(2H,m)、 3.42−3.70 (2H,m)、
3.74 (3H,s)。
4.36−4.51 (2H,m)
袈tV旦二針
(2S、4R)−1−(第三級ブトキシカルボニル)−
4−ヒドロキシ−2−メトキシカルボニルピロリジン(
21,46g)およびイミダゾール(7,74g)のジ
クロロメタン(150mQ )溶液に、塩化第三級ブチ
ルジメチルシリル(14,67g )のジクロロメタン
(3011111)溶液を室温で滴下する。
4−ヒドロキシ−2−メトキシカルボニルピロリジン(
21,46g)およびイミダゾール(7,74g)のジ
クロロメタン(150mQ )溶液に、塩化第三級ブチ
ルジメチルシリル(14,67g )のジクロロメタン
(3011111)溶液を室温で滴下する。
2時間後、生成する沈殿を濾去し、濾液を順次水および
食塩水で洗浄する。溶媒を留去して得られる油状物をシ
リカゲル(500ffLl )を使用するクロマトグラ
フィーに付し、ヘキサンと酢酸エチルとの混液(2:1
、v/v )で溶出して、(2S、4 R)−4−(第
三級ブチルジメチルシリルオキシ)−1−(第三級ブト
キシカルボニル)−2−メトキシカルボニルピロリジン
(32,3g)を得る。
食塩水で洗浄する。溶媒を留去して得られる油状物をシ
リカゲル(500ffLl )を使用するクロマトグラ
フィーに付し、ヘキサンと酢酸エチルとの混液(2:1
、v/v )で溶出して、(2S、4 R)−4−(第
三級ブチルジメチルシリルオキシ)−1−(第三級ブト
キシカルボニル)−2−メトキシカルボニルピロリジン
(32,3g)を得る。
NMR(CDCl2.δ) : 0.06 (6H,s
)、 0.88 <98.s)。
)、 0.88 <98.s)。
1.42 (9Ls)、 1.94−2.27 (21
(、m)、 3.24−3.68 (2H,m)、
3.73 (3H,s)、 4.26−4.50
(2H,a+) 製、、LfU且二υ (2S、4R)−4−(第三級ブチルジメチルシリルオ
キシ)−1−(第三級ブトキシカルボニル )−2−メ
トキシカルボニルピロリジン(56g)のテトラヒドロ
フラン(400mQ )溶液に水素化アルミニウムリチ
ウム(6g)を0℃で徐々に加える。30分間攪拌後、
反応混合物に水(6−)、4N水酸化ナトリウム(,6
mm)および水(15mm )を滴下する。沈殿を濾去
し、溶媒を減圧下に留去して、(2S、4R)−4−(
第三級ブチルジメチルシリルオキシ)−1−(第三級ブ
トキシカルボニル)−2−ヒドロキシメチルピロリジン
(44,15g )を得る。
(、m)、 3.24−3.68 (2H,m)、
3.73 (3H,s)、 4.26−4.50
(2H,a+) 製、、LfU且二υ (2S、4R)−4−(第三級ブチルジメチルシリルオ
キシ)−1−(第三級ブトキシカルボニル )−2−メ
トキシカルボニルピロリジン(56g)のテトラヒドロ
フラン(400mQ )溶液に水素化アルミニウムリチ
ウム(6g)を0℃で徐々に加える。30分間攪拌後、
反応混合物に水(6−)、4N水酸化ナトリウム(,6
mm)および水(15mm )を滴下する。沈殿を濾去
し、溶媒を減圧下に留去して、(2S、4R)−4−(
第三級ブチルジメチルシリルオキシ)−1−(第三級ブ
トキシカルボニル)−2−ヒドロキシメチルピロリジン
(44,15g )を得る。
IR(スジタール) ’ 1700. 3400
cm−’NMR(CDCl2. l; ) : 0.
06 (6H,s)、 0.88 (9H,s)。
cm−’NMR(CDCl2. l; ) : 0.
06 (6H,s)、 0.88 (9H,s)。
1.47 (9H,s)、 3.30−3.72 (4
H,m)、 4.10−4.34 (2H,m) 振mす (2S、4R)−4−(第三級ブチルジメチルシリルオ
キシ)−1−(第三級ブトキシカルボニル)−2−ヒド
ロキシメチルピロリジン(5゜3g)および塩化メタン
スルホニル(1,49mm ) ty)ジクロロメタン
(4011111)溶液にトリエチルアミン(3,21
1111)を0℃で滴下する。1時間後、反応混合物を
順次IN塩酸、水および食塩水で洗浄する。有機層を硫
酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を留去して得られる油状
物をシリカゲル(250m11)を使用針るクロマトグ
ラフィーに付し、ヘキサンと酢酸エチルとの混液(2:
1、v/v)で溶出して、(2S、4R)−4−(第三
級ブチルジメチルシリルオキシ)−1−(第三級ブトキ
シカルボニル)−2−メタンスルホニルオキシメチルピ
ロリジン(6,06g)を得る。
H,m)、 4.10−4.34 (2H,m) 振mす (2S、4R)−4−(第三級ブチルジメチルシリルオ
キシ)−1−(第三級ブトキシカルボニル)−2−ヒド
ロキシメチルピロリジン(5゜3g)および塩化メタン
スルホニル(1,49mm ) ty)ジクロロメタン
(4011111)溶液にトリエチルアミン(3,21
1111)を0℃で滴下する。1時間後、反応混合物を
順次IN塩酸、水および食塩水で洗浄する。有機層を硫
酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を留去して得られる油状
物をシリカゲル(250m11)を使用針るクロマトグ
ラフィーに付し、ヘキサンと酢酸エチルとの混液(2:
1、v/v)で溶出して、(2S、4R)−4−(第三
級ブチルジメチルシリルオキシ)−1−(第三級ブトキ
シカルボニル)−2−メタンスルホニルオキシメチルピ
ロリジン(6,06g)を得る。
IR(スジ脅−ル) i 1695. 1740
cm−’NMR(CDCl2.δ) : 0.08
<6H,s)、 0.87 (9H,s)。
cm−’NMR(CDCl2.δ) : 0.08
<6H,s)、 0.87 (9H,s)。
1.46 (9H,s)、 1.93−2.10 (2
H,m)、 2.97(3H,s)、 3.32−3.
48 (2H,m)、 4.07−4.58(3)1.
m) 製造例15−5) (2S、4R)−4−(第三級ブチルジメチルシリルオ
キシ)−1−(第三級ブトキシカルボニル)−2−メタ
ンスルホニルオキシメチルピロリジン(6,0g)のテ
トラヒドロフラン(60mm )溶液に水素化アルミニ
ウムリチウム(t、ttg)をO′Cで徐々に加える0
次いで反応混合物を40°Cに昇温せしめ、1時間攪拌
する0反応混合物に水(1,umn )、4N水酸イL
ナトリウム(1,11111)および水(3,33ff
lfi )を滴下する。沈殿を濾去し、溶媒を減圧下に
留去して、(2R,4R)−4−(第三級ブチルジメチ
ルシリルオキシ)−1−(第三級ブトキシカルボニル)
−2−メチルピロリジン(4,0g)を得る。
H,m)、 2.97(3H,s)、 3.32−3.
48 (2H,m)、 4.07−4.58(3)1.
m) 製造例15−5) (2S、4R)−4−(第三級ブチルジメチルシリルオ
キシ)−1−(第三級ブトキシカルボニル)−2−メタ
ンスルホニルオキシメチルピロリジン(6,0g)のテ
トラヒドロフラン(60mm )溶液に水素化アルミニ
ウムリチウム(t、ttg)をO′Cで徐々に加える0
次いで反応混合物を40°Cに昇温せしめ、1時間攪拌
する0反応混合物に水(1,umn )、4N水酸イL
ナトリウム(1,11111)および水(3,33ff
lfi )を滴下する。沈殿を濾去し、溶媒を減圧下に
留去して、(2R,4R)−4−(第三級ブチルジメチ
ルシリルオキシ)−1−(第三級ブトキシカルボニル)
−2−メチルピロリジン(4,0g)を得る。
IR(スジ曹−ル) ’ 1705 cm−’N
MR(CDCl2.8 ) : 0.08 (6H,s
)、 0.87 (9H,s)。
MR(CDCl2.8 ) : 0.08 (6H,s
)、 0.87 (9H,s)。
2.21 (3H,d、J=7Hz)、 1.47 (
98,s)、 3.33−3.40 (2H,a+)、
3.63−4.35 (3H0m)振m互二〇 (2R,4R)−4−(第三級ブチルジメチルシリルオ
キシ)−1−(第三級ブトキシカルボニル)−2−メチ
ルピロリジン(3,9g)およびフッ化テトラブチルア
ンモニウム(テトラヒドロフラン中1モル溶液、12.
4111ffi)のテトラヒドロフラン(40mm )
溶液を0°Cで1時間攪拌する0反応混合物を酢酸エチ
ルで抽出し、有機層を分取して食塩水で洗浄し、硫酸マ
グネシウムで乾燥する。#媒を留去して得る油状物をシ
リカゲル(200絨)を使用するクロマトグラフィーに
付し、ヘキサンと酢酸エチルとの混液(1: 1、v/
v)で溶出して、(2R,4R)−1−(第三級ブトキ
シカルボニル)−4−ヒドロキシ−2−メチルピロリジ
ン(1,96g)を得る。
98,s)、 3.33−3.40 (2H,a+)、
3.63−4.35 (3H0m)振m互二〇 (2R,4R)−4−(第三級ブチルジメチルシリルオ
キシ)−1−(第三級ブトキシカルボニル)−2−メチ
ルピロリジン(3,9g)およびフッ化テトラブチルア
ンモニウム(テトラヒドロフラン中1モル溶液、12.
4111ffi)のテトラヒドロフラン(40mm )
溶液を0°Cで1時間攪拌する0反応混合物を酢酸エチ
ルで抽出し、有機層を分取して食塩水で洗浄し、硫酸マ
グネシウムで乾燥する。#媒を留去して得る油状物をシ
リカゲル(200絨)を使用するクロマトグラフィーに
付し、ヘキサンと酢酸エチルとの混液(1: 1、v/
v)で溶出して、(2R,4R)−1−(第三級ブトキ
シカルボニル)−4−ヒドロキシ−2−メチルピロリジ
ン(1,96g)を得る。
IR(ス!F−−ル) ” 1700. 3400
am−’NMR(C[)C13,ε):1.23
(3H,d、J=7Hz>、 1.47(98,s)、
L、S−1,79(LH,a+)、 2.00−2.
17 (IH。
am−’NMR(C[)C13,ε):1.23
(3H,d、J=7Hz>、 1.47(98,s)、
L、S−1,79(LH,a+)、 2.00−2.
17 (IH。
m)、 3.47 (2H,br s)、 3.91−
4.11 (LH,m)。
4.11 (LH,m)。
4.32=4.45 (IH,m)
袈1jll二ひ
(2R,4R)−1−(第三級ブトキシカルボニル)−
4−ヒドロキシ−2−メチルピロリジン(1,92g
)および塩化メタンスルホニル(955縛)のジクロロ
メタン(3011111)溶液にトリエチルアミン(1
,9911111)を0℃で滴下する。1時間後、反応
混合物を順次IN塩酸および食塩水で洗浄し、有機層を
硫酸マグネシウムで乾燥する。溶媒を留去して得られる
油状物をシリカゲル(20〇−)を使用するクロマト、
グラフィーに付し、ヘキサンと酢酸エチルとの混液(1
:1、v/v)で溶出して、(2R,4R)−1−(第
三級ブトキシカルボニル)−4−メタンスルホニルオキ
シ−2−メチルピロリジン(2,49g)を得る。
4−ヒドロキシ−2−メチルピロリジン(1,92g
)および塩化メタンスルホニル(955縛)のジクロロ
メタン(3011111)溶液にトリエチルアミン(1
,9911111)を0℃で滴下する。1時間後、反応
混合物を順次IN塩酸および食塩水で洗浄し、有機層を
硫酸マグネシウムで乾燥する。溶媒を留去して得られる
油状物をシリカゲル(20〇−)を使用するクロマト、
グラフィーに付し、ヘキサンと酢酸エチルとの混液(1
:1、v/v)で溶出して、(2R,4R)−1−(第
三級ブトキシカルボニル)−4−メタンスルホニルオキ
シ−2−メチルピロリジン(2,49g)を得る。
IR(スジ会−ル) : 1695. 1740
am−1HMR(’CDCl3.8 ) ’ 1.2
7 (3H,d、J=7Hz)、 1.47(9H,s
)、 1.78−1.93 (IH,m)、 2.34
−2.56(IH,m)、 3.03 (3H,s)、
3.49−3.61 (IH,5)−3,72−4,
16(2H,糟)、 5.12−5.28 (IH,m
)飯a旦二む (2R,4R)−1−(第三級ブトキシカルボニル)−
4−メタンスルホニルオキシ−2−メチルピロリジン(
2,3g)およびシアン化ナトリウム(1,37g)の
ジメチルホキシト(251111)溶液を90°Cに2
時間半加熱する0反応混合物を水(100mQ )およ
び酢酸エチル(100ffi11 )の混合物中に注ぐ
、有機層を分取して食塩水で洗浄し硫酸マグネシウムで
乾燥する0m媒を留去して得る油状物をシリカゲル(1
00fflJl )を使用するクロマトグラフィーに付
し、ヘキサンと酢酸エチルとの混液(4: 1、v/v
)で溶出して、(2R,4S)−1−(第三級ブトキシ
カルボニル)−4−シアノ−2−メチルピロリジン(1
,24g)を得る。
am−1HMR(’CDCl3.8 ) ’ 1.2
7 (3H,d、J=7Hz)、 1.47(9H,s
)、 1.78−1.93 (IH,m)、 2.34
−2.56(IH,m)、 3.03 (3H,s)、
3.49−3.61 (IH,5)−3,72−4,
16(2H,糟)、 5.12−5.28 (IH,m
)飯a旦二む (2R,4R)−1−(第三級ブトキシカルボニル)−
4−メタンスルホニルオキシ−2−メチルピロリジン(
2,3g)およびシアン化ナトリウム(1,37g)の
ジメチルホキシト(251111)溶液を90°Cに2
時間半加熱する0反応混合物を水(100mQ )およ
び酢酸エチル(100ffi11 )の混合物中に注ぐ
、有機層を分取して食塩水で洗浄し硫酸マグネシウムで
乾燥する0m媒を留去して得る油状物をシリカゲル(1
00fflJl )を使用するクロマトグラフィーに付
し、ヘキサンと酢酸エチルとの混液(4: 1、v/v
)で溶出して、(2R,4S)−1−(第三級ブトキシ
カルボニル)−4−シアノ−2−メチルピロリジン(1
,24g)を得る。
IR(スジルール) : 1710. 2250
cm″″INMR(CDC1a、S ) ’ 1.3
5 (3H,d、J=7Hz)、 1.47(9H,s
)、 1.82−2.00 (IH,m)、 2.41
−2.57(IH,ss)、 2.90−3.06
(IH,m)、 3.48−3.60<1)1.a
i)、 3.78−4.04 (2H,m)籠1Jll
二吋 製造例1l−2)と実質的に同様にして、(2R)−1
−アリルオキシカルボニル− −2−メチルピロリジンを収率99.3%で得る。
cm″″INMR(CDC1a、S ) ’ 1.3
5 (3H,d、J=7Hz)、 1.47(9H,s
)、 1.82−2.00 (IH,m)、 2.41
−2.57(IH,ss)、 2.90−3.06
(IH,m)、 3.48−3.60<1)1.a
i)、 3.78−4.04 (2H,m)籠1Jll
二吋 製造例1l−2)と実質的に同様にして、(2R)−1
−アリルオキシカルボニル− −2−メチルピロリジンを収率99.3%で得る。
IR (スジ1−ル) : 1710 am−
1HMR (CDC13.l; ) ’ 1.28 (
3H.d.J=7Hz>、 1.87−1、98 (L
H.a+)、 2.37−2.52 (IH.m)、
2.94−3、11 (IH.m)、 3.56−3.
65 (IH.a+)、 3.80−4、02 (2H
.m)、 4.58−4.61 (2H,m)、 5.
18−5、36 (2H.m)、 5.8シー6、04
(IH.m)級111辷」射 製造例2−1)と実質的に同様にして、(2R)−4−
アセチル−1−アリルオキシカルボニル−2−メチルピ
ロリジンを収率54.4%で得る。
1HMR (CDC13.l; ) ’ 1.28 (
3H.d.J=7Hz>、 1.87−1、98 (L
H.a+)、 2.37−2.52 (IH.m)、
2.94−3、11 (IH.m)、 3.56−3.
65 (IH.a+)、 3.80−4、02 (2H
.m)、 4.58−4.61 (2H,m)、 5.
18−5、36 (2H.m)、 5.8シー6、04
(IH.m)級111辷」射 製造例2−1)と実質的に同様にして、(2R)−4−
アセチル−1−アリルオキシカルボニル−2−メチルピ
ロリジンを収率54.4%で得る。
NMR <CDC1a.S ) ’ 1. 24 (3
H,d,J=7Hz>、 2− 20(3H.s)、
4.57−4.60 (2H.m)、 5.18−5.
34<2H.m)、 5.84−6.03 (IH.m
)1A1工辷」U 製造例3と実質的に同様にして、(3 S.4 R)−
4−[2−((2R)−t−アリルオキシカルボニル−
2−メチルピロリジン−4−イル)−2−オキソエチル
]−3−[(IR)−1−第三級ブデルジメチルシリル
オキシエチルコー2−オキソアゼチジンを収率55.3
%で得る。
H,d,J=7Hz>、 2− 20(3H.s)、
4.57−4.60 (2H.m)、 5.18−5.
34<2H.m)、 5.84−6.03 (IH.m
)1A1工辷」U 製造例3と実質的に同様にして、(3 S.4 R)−
4−[2−((2R)−t−アリルオキシカルボニル−
2−メチルピロリジン−4−イル)−2−オキソエチル
]−3−[(IR)−1−第三級ブデルジメチルシリル
オキシエチルコー2−オキソアゼチジンを収率55.3
%で得る。
IR (スジ遥−ル) : 1700. 17
60 am−’NMR (CDC1s.8 ) ’
0.06 (6H.s)、0.86 (9H,s)。
60 am−’NMR (CDC1s.8 ) ’
0.06 (6H.s)、0.86 (9H,s)。
1、22 (6H,d.J=7Hz)、 4.57−4
.60 (2H.m)。
.60 (2H.m)。
5、18−5.35 (2H.m)、 5.83−6.
08 (2H,m)1盪11ヒ」訂 製造例14−6)と実質的に同様にして、2−[(3S
.4R)−4−[2−((2R)−1−アリルオキシカ
ルボニル−2−メチルピロリジン−4−イル)−2−オ
キソエチルコー3−((IR)−1−第三級ブテルジメ
チルシリルオキンエチル)−2−才キソアゼチジン−1
−イル]ー2ーオキソ酢酸アリルを定量的に得る。
08 (2H,m)1盪11ヒ」訂 製造例14−6)と実質的に同様にして、2−[(3S
.4R)−4−[2−((2R)−1−アリルオキシカ
ルボニル−2−メチルピロリジン−4−イル)−2−オ
キソエチルコー3−((IR)−1−第三級ブテルジメ
チルシリルオキンエチル)−2−才キソアゼチジン−1
−イル]ー2ーオキソ酢酸アリルを定量的に得る。
IR (スジ縫−ル) ’ 1710. 17
50. 1810 cm−’NMR (CDCl2
.ε) ’ 0.08 (6H.s)、 0.87 (
9H.s)。
50. 1810 cm−’NMR (CDCl2
.ε) ’ 0.08 (6H.s)、 0.87 (
9H.s)。
1、20−1.30 (6H.m)、 1.58−1.
90 (2H.m)。
90 (2H.m)。
2、83−4.38 (9H.m)、 4.57−4.
80 (4H,m)。
80 (4H,m)。
5.18−5.45 (4H,m)、 5.84−6
.06 (2H,m)製1Jl見二す (2S、4R)−1−アリルオキシカルボニル−4−ヒ
ドロキシ−2−メトキシカルボニルピロリジン にヘキサフルオロプロペンジエチルアミン( 5.4I
Q )を0℃で加える.常温で12時間攪拌後、溶液を
炭酸水素ナトリウム飽和水溶液および食塩水で洗浄する
.溶液を乾燥し、溶媒を留去して残渣をシリカゲルを使
用するタロマドグラフィーに付し、n−ヘキサンと酢酸
エチルとの混液(3:1、v/v)で溶出して、(2S
)−1−アリルオキシカルボニル−4−フルオロ−2−
メトキシカルボニルピロリジン(2.5g)を得る。
.06 (2H,m)製1Jl見二す (2S、4R)−1−アリルオキシカルボニル−4−ヒ
ドロキシ−2−メトキシカルボニルピロリジン にヘキサフルオロプロペンジエチルアミン( 5.4I
Q )を0℃で加える.常温で12時間攪拌後、溶液を
炭酸水素ナトリウム飽和水溶液および食塩水で洗浄する
.溶液を乾燥し、溶媒を留去して残渣をシリカゲルを使
用するタロマドグラフィーに付し、n−ヘキサンと酢酸
エチルとの混液(3:1、v/v)で溶出して、(2S
)−1−アリルオキシカルボニル−4−フルオロ−2−
メトキシカルボニルピロリジン(2.5g)を得る。
IR (ニー)) : 1700 cm−’
NMR (CDCIs.l; ) ’ 2.1−2.7
(2H.m>、 3.75 (糺s)、 4.4−4
.7 (3H.m)、 3.0−5.4 (3H.m)
。
NMR (CDCIs.l; ) ’ 2.1−2.7
(2H.m>、 3.75 (糺s)、 4.4−4
.7 (3H.m)、 3.0−5.4 (3H.m)
。
5、8−6.1 (IH.m)
11五卦二狙
製造例12− 1>および12−3>と実質的に同様に
して,(2S)−1−アリルオキシカルボニル−2−ア
セチル−4−フルオロピリジンを収率50.9%で得る
。
して,(2S)−1−アリルオキシカルボニル−2−ア
セチル−4−フルオロピリジンを収率50.9%で得る
。
IR (ニート) : 1700 cm−1HMR
(CDCIs.l; ) ’ 2. 20 (3H.
s)= 4.62 (2H,d。
(CDCIs.l; ) ’ 2. 20 (3H.
s)= 4.62 (2H,d。
J=5Hz>、 4.8−5.6 (31,m)、 5
.6−6、1 (LH,m)振U見−拉 製造例3と実質的に同様にして、(3 S,4 R)−
4−[2−((2S)−1−アリルオキシカルボニル−
4−フルオロピロリジン−2−イル)−2−オキソエチ
ル]−3−[(IR)−1−第三級ブチルジメチルシリ
ルオキシエチル]−2−オキソアゼチジンを収率66、
6%で得る。
.6−6、1 (LH,m)振U見−拉 製造例3と実質的に同様にして、(3 S,4 R)−
4−[2−((2S)−1−アリルオキシカルボニル−
4−フルオロピロリジン−2−イル)−2−オキソエチ
ル]−3−[(IR)−1−第三級ブチルジメチルシリ
ルオキシエチル]−2−オキソアゼチジンを収率66、
6%で得る。
LR (CH2C12) : 、 1750. 170
0 CM”NMR (CDC13.S ) ’ 0.
06 (6H.s)、O、87 (9H.s)。
0 CM”NMR (CDC13.S ) ’ 0.
06 (6H.s)、O、87 (9H.s)。
1、27 <3H.d.J=6Hz>、 2.7−3、
2 (3H,m)。
2 (3H,m)。
4、5−4.7 (2H.m)、 5.0−5.5 (
3H.m)、 5.7−6、2(2H.ei) 製1D1■ 製造例3と実質的に同様にして、(3 S.4 R)−
4−[2−(1−アリルオキシカルボニJレビベリジン
−2−イル)−2−オキソエチル]−3−[(IR)−
1−第三級ブチルジメチルシリルオキシエチル]−2−
オキソアゼチジンを収率53.4%で得る。
3H.m)、 5.7−6、2(2H.ei) 製1D1■ 製造例3と実質的に同様にして、(3 S.4 R)−
4−[2−(1−アリルオキシカルボニJレビベリジン
−2−イル)−2−オキソエチル]−3−[(IR)−
1−第三級ブチルジメチルシリルオキシエチル]−2−
オキソアゼチジンを収率53.4%で得る。
IR (CH2C12) : 3400. 1760.
1700 cm−’NMR (CDC1a.8 )
:0. 04 (6H.s)、 o. 90 (9H.
s)。
1700 cm−’NMR (CDC1a.8 )
:0. 04 (6H.s)、 o. 90 (9H.
s)。
2、5−2.9 (3H.sa)、 j.61 (2H
.d,J=5Hz)、 5.1−5、3 (2H.a+
)、 5.8−6.1 (LH.m)裂2す 1−アリルオキシカルボニル−4−カルボキシピペリジ
ン(37g)のテトラヒドロフラン(400mQ )溶
液にトリエチルアミン( 311112 )およびクロ
ロギ酸イソブチル( 27!lit )を−30℃で加
える.0℃で30分間攪拌後、沈殿を濾去する.得られ
る溶液を水素化ホウ素ナトリウム(13g)の水( 1
00+111 )溶液に0°Cで滴下する.0°Cで1
時間攪拌後、塩化ナトリウムを加えて水層を飽和せしめ
、有機層を分取する.有機層を乾燥して溶媒を留去し、
次いで残渣をシリカゲルを使用するクロマトグラフィー
に付し、n−ヘキサンと酢酸エチルとの混液(1:1〜
1:2、v/v )で溶出して、1−アリルオキシカル
ボニル−4−ヒドロキシメチルピペリジン(24g)を
得る。
.d,J=5Hz)、 5.1−5、3 (2H.a+
)、 5.8−6.1 (LH.m)裂2す 1−アリルオキシカルボニル−4−カルボキシピペリジ
ン(37g)のテトラヒドロフラン(400mQ )溶
液にトリエチルアミン( 311112 )およびクロ
ロギ酸イソブチル( 27!lit )を−30℃で加
える.0℃で30分間攪拌後、沈殿を濾去する.得られ
る溶液を水素化ホウ素ナトリウム(13g)の水( 1
00+111 )溶液に0°Cで滴下する.0°Cで1
時間攪拌後、塩化ナトリウムを加えて水層を飽和せしめ
、有機層を分取する.有機層を乾燥して溶媒を留去し、
次いで残渣をシリカゲルを使用するクロマトグラフィー
に付し、n−ヘキサンと酢酸エチルとの混液(1:1〜
1:2、v/v )で溶出して、1−アリルオキシカル
ボニル−4−ヒドロキシメチルピペリジン(24g)を
得る。
IR にニート) : 3400”3500.
1700 am−’NMR (CDC13.8
> ’ 1.5−1.8 (4H.n+)、4.48
(2H。
1700 am−’NMR (CDC13.8
> ’ 1.5−1.8 (4H.n+)、4.48
(2H。
n+)、 5.1−5.4 (2H.m)、 5.8−
6.0 (LH.m)11五卦二狙 塩化オキサリル(7.7IQ)のジクロロメタン( 2
00111 )溶液にジメチルスルホキシド(7.7m
m)を−78℃で滴下する.−78℃で20分間攪拌後
、混合物に1−アリルオキシカルボニル−4−ヒドロキ
シメチルピペリジン(14g)のジクロロメタン( 2
011m )溶液を滴下する.−78℃で30分間攪拌
後、混合物にトリエチルアミン( 35111 ’)を
滴下し、この混合物を0℃で攪拌する.溶液を食塩水で
洗浄して乾燥する.溶媒を留去して得られる油状物をテ
トラヒドロフラン( 100m12 )に溶解する、こ
の溶液にテトラヒドロフラン中IN臭化エチルマグネシ
ウム溶液(3gmu )を0℃で加える。
6.0 (LH.m)11五卦二狙 塩化オキサリル(7.7IQ)のジクロロメタン( 2
00111 )溶液にジメチルスルホキシド(7.7m
m)を−78℃で滴下する.−78℃で20分間攪拌後
、混合物に1−アリルオキシカルボニル−4−ヒドロキ
シメチルピペリジン(14g)のジクロロメタン( 2
011m )溶液を滴下する.−78℃で30分間攪拌
後、混合物にトリエチルアミン( 35111 ’)を
滴下し、この混合物を0℃で攪拌する.溶液を食塩水で
洗浄して乾燥する.溶媒を留去して得られる油状物をテ
トラヒドロフラン( 100m12 )に溶解する、こ
の溶液にテトラヒドロフラン中IN臭化エチルマグネシ
ウム溶液(3gmu )を0℃で加える。
0°Cで1時間攪拌後、溶液に塩化アンモニウム飽和水
溶液を加え、有機層を分取する。有機層を乾燥して溶媒
を留去し、残渣をシリカゲルを使用するクロマトグラフ
ィーに付し、n−ヘキサンと酢酸エチルとの混液(2:
1、v/v)で溶出して、1−アリルオキシカルボニル
−4−ヒドロキシプロピルピペリジン(12,8g)を
得る。
溶液を加え、有機層を分取する。有機層を乾燥して溶媒
を留去し、残渣をシリカゲルを使用するクロマトグラフ
ィーに付し、n−ヘキサンと酢酸エチルとの混液(2:
1、v/v)で溶出して、1−アリルオキシカルボニル
−4−ヒドロキシプロピルピペリジン(12,8g)を
得る。
IRにニート) : 3450. taso
am−1HMR(CDCl2.8) : 0.91 (
3H,t、J=7Hz)、 4.4−4.6 (2)1
.m)、 5.0−5.4 (21(、m)、 5.6
−6.1(IH,m) 1産且■二n 製造例24−2)と実質的に同様にして、1−アリルオ
キシカルボニル−4−(1−オキソプロピル)ピペリジ
ンを収率35.9%で得る。
am−1HMR(CDCl2.8) : 0.91 (
3H,t、J=7Hz)、 4.4−4.6 (2)1
.m)、 5.0−5.4 (21(、m)、 5.6
−6.1(IH,m) 1産且■二n 製造例24−2)と実質的に同様にして、1−アリルオ
キシカルボニル−4−(1−オキソプロピル)ピペリジ
ンを収率35.9%で得る。
IR(ニート) ’ 1710 cra−’NM
R(CDCl2.S ) ’ 1.05 (38,t、
J=7Hz)、 1.4−2.0 (4H,a+)、
2.9−3.1 (3H,m)、 4.1−4.4(3
8,m>、 4.5−4.6 (2H,m)、 5
.1−5.4 (2H,m)。
R(CDCl2.S ) ’ 1.05 (38,t、
J=7Hz)、 1.4−2.0 (4H,a+)、
2.9−3.1 (3H,m)、 4.1−4.4(3
8,m>、 4.5−4.6 (2H,m)、 5
.1−5.4 (2H,m)。
5.8−6.1 (LH,m>
袈1土1q二〇
製造例3と実質的に同様にして、(3S、4 R)−4
−42−(1−アリルオキシカルボニル(ピペリジン−
′4−イル)−1−メチル−2−オキソエチル]−3−
[(IR)−1−第三級ブチルジメチルシリルオキシエ
チルコー2−オキソアゼチジンを得る。
−42−(1−アリルオキシカルボニル(ピペリジン−
′4−イル)−1−メチル−2−オキソエチル]−3−
[(IR)−1−第三級ブチルジメチルシリルオキシエ
チルコー2−オキソアゼチジンを得る。
2個の異性体(異性体AおよびB)をシリカゲルを使用
し、ヘキサンと酢酸エチルとの混液で溶出するクロマト
グラフィーにより分離し、異性体A(4,9g)および
異性体B(2゜Ig)を得る。
し、ヘキサンと酢酸エチルとの混液で溶出するクロマト
グラフィーにより分離し、異性体A(4,9g)および
異性体B(2゜Ig)を得る。
異性体A:
IR(CH2C12) ’ 1750.1690 am
″″INMR(CDCl2.δ) ’ 0.06 (3
H,s)、 0.92 (9H,s)。
″″INMR(CDCl2.δ) ’ 0.06 (3
H,s)、 0.92 (9H,s)。
2.6−3.1 (6)1.m)、 3.7−4.0
(2H,m)、 4.1−4.3(4H,m)、 4.
5−4.6 (2H,m)、 5.1−5.4 (2H
,m)。
(2H,m)、 4.1−4.3(4H,m)、 4.
5−4.6 (2H,m)、 5.1−5.4 (2H
,m)。
5.8−6.0 (2H,m)
異性体B:
IR(ニー)) ’ 3300. 1750.
1700 cm−1HMR(CDCl2.S)
: 0.06 (3H,s)、 0.94 (9H,s
)。
1700 cm−1HMR(CDCl2.S)
: 0.06 (3H,s)、 0.94 (9H,s
)。
2.5−3.1 (6H,m)、 4.5−4.7 (
2H,m)、 5.1−5.4 (2H,m)、 5.
8−6.0 (2H,m)1産±旦 N−(第三級ブトキシカルボニル−3−シアノアゼチジ
ン(205g)の製塩# (toom )および酢酸(
1000ffLQ )溶液を130°Cで6時間攪拌す
る。
2H,m)、 5.1−5.4 (2H,m)、 5.
8−6.0 (2H,m)1産±旦 N−(第三級ブトキシカルボニル−3−シアノアゼチジ
ン(205g)の製塩# (toom )および酢酸(
1000ffLQ )溶液を130°Cで6時間攪拌す
る。
溶媒を留去し、残渣にテトラヒドロフラン(too。
mQ )および水(1000+1112 )を加える。
溶液にクロロギ酸アリル(1671Q )を4N水酸化
ナトリウム水溶液によりpHを9.5〜10.5に保ち
なから5−tO℃で加える。水層を分取して酢酸エチル
(500m1! )で洗浄する。水溶液に酢酸エチル(
2000m1! )を加え、溶液を攪拌下漬塩酸でpH
1,5に調整する。有機層を酢酸エチル(toooot
I+>で抽出し、溶媒を留去して、1−アリルオキシカ
ルボニルアゼチジン−3−カルボン酸(215g)を得
る。
ナトリウム水溶液によりpHを9.5〜10.5に保ち
なから5−tO℃で加える。水層を分取して酢酸エチル
(500m1! )で洗浄する。水溶液に酢酸エチル(
2000m1! )を加え、溶液を攪拌下漬塩酸でpH
1,5に調整する。有機層を酢酸エチル(toooot
I+>で抽出し、溶媒を留去して、1−アリルオキシカ
ルボニルアゼチジン−3−カルボン酸(215g)を得
る。
NMR(CDC13,8) ’ 3.26−3.65
(m、IH)、4.22(d、、4H,C6Hz)、
4.57 (m、2H)、 5.10−5.43(
m、2H)、 5.67−6.17 (m、LH)、
7.33 (s、IH)級1ヱ11二U 製造例2l−1)と実質的に同様にして、チオモルホリ
ン−3−カルボン酸エチルから、4−(アリルオキシカ
ルボニル)チオモルホリン−3−カルボン酸エチルを収
率99.3%で得る。
(m、IH)、4.22(d、、4H,C6Hz)、
4.57 (m、2H)、 5.10−5.43(
m、2H)、 5.67−6.17 (m、LH)、
7.33 (s、IH)級1ヱ11二U 製造例2l−1)と実質的に同様にして、チオモルホリ
ン−3−カルボン酸エチルから、4−(アリルオキシカ
ルボニル)チオモルホリン−3−カルボン酸エチルを収
率99.3%で得る。
IR(ニー)) ’ 1740. 1705 C
l11−’NMR(CDCl2. S ) j 1.3
0 (3H,t、J=9..6H2)、 2.46(I
H,m)、 2.73 (LH,m)、 2.92 (
IH,dd。
l11−’NMR(CDCl2. S ) j 1.3
0 (3H,t、J=9..6H2)、 2.46(I
H,m)、 2.73 (LH,m)、 2.92 (
IH,dd。
J−5,4Hz、 18.6Hz)、 3.0−3.5
(2H,m)、 4.05−4.45 (3H,m)
、 4.6−4.65 (2H,m>、 5.1−5.
5(3H,m)、 5.8−6.1 (IH,m)
1産興毅二釘 4−(アリルオキシカルボニル)チオモルホリン−3−
カルボン酸エチル(15,4g)の4N水酸化ナトリウ
ム水溶液(3011111’)、メタノール(30m)
およびテトラヒドロフラン(7511I11)の混合物
溶液を90分間還流する。有機溶媒を留去して水溶液を
得る。水溶液を濃塩酸でpH2に調整し、酢酸エチル(
200m11 )で抽出して硫酸マグネシウムで乾燥し
、溶媒を減圧下に留去して、4−アリルオキシカルボニ
ル 酸( ta.og )をシロップ状物として得る。
(2H,m)、 4.05−4.45 (3H,m)
、 4.6−4.65 (2H,m>、 5.1−5.
5(3H,m)、 5.8−6.1 (IH,m)
1産興毅二釘 4−(アリルオキシカルボニル)チオモルホリン−3−
カルボン酸エチル(15,4g)の4N水酸化ナトリウ
ム水溶液(3011111’)、メタノール(30m)
およびテトラヒドロフラン(7511I11)の混合物
溶液を90分間還流する。有機溶媒を留去して水溶液を
得る。水溶液を濃塩酸でpH2に調整し、酢酸エチル(
200m11 )で抽出して硫酸マグネシウムで乾燥し
、溶媒を減圧下に留去して、4−アリルオキシカルボニ
ル 酸( ta.og )をシロップ状物として得る。
IR (ニー)) ’ 1750−1650.
am″″INMR (CDC13.l; ) ’ 2.
45−3.5 (5H.m>、4.3−4.5(LH.
m)、 4.6−4.65 (2H.m)、 5.2−
5.3 (2H。
am″″INMR (CDC13.l; ) ’ 2.
45−3.5 (5H.m>、4.3−4.5(LH.
m)、 4.6−4.65 (2H.m)、 5.2−
5.3 (2H。
m)、 5.3−5.4 (IH.m)、 5.8−6
.05 <LH,m)。
.05 <LH,m)。
9、62 (IH.br s)
1産璽毅二と
製造例22−4)と実質的に同様にして、5−[4−(
アリルオキシカルボニル)チオモルホリン−3−イル]
カルボニルー2.2ージメチル−1.3−シオキサンー
4.6−ジオンを収率99,9%で得る。
アリルオキシカルボニル)チオモルホリン−3−イル]
カルボニルー2.2ージメチル−1.3−シオキサンー
4.6−ジオンを収率99,9%で得る。
IR (ニー)) : 1780−1650
cm−’袈W−り 製造例22−5)と実質的に同様にして、3−アセデル
−4−(アリルオキシカルボニル)チオモルホリンを収
率75.1%で得る。
cm−’袈W−り 製造例22−5)と実質的に同様にして、3−アセデル
−4−(アリルオキシカルボニル)チオモルホリンを収
率75.1%で得る。
IR (ニー)) ’ 1730−1690
cm″″INMR (CDC13,8 ) ’ 2.2
1 (3H.s)、2.4−3.35 (5H。
cm″″INMR (CDC13,8 ) ’ 2.2
1 (3H.s)、2.4−3.35 (5H。
m)、 4.1−4.65 (3M,m)、 4.
9−5.05 (IH,m)。
9−5.05 (IH,m)。
5、2−5.4 (2H.m)、 5.85−6.0
5 (IH.m)袈m免二〇 3−アセチル−4−(アリルオキシカルボニル)チオモ
ルホリン(8.70g)およびトリエチルアミン( 4
. 95IQ ”)のジクロロメタン( 70111Q
)溶液に、トリフルオロメタンスルホン酸トリメチル
シリル( 6.86dl )を窒素雰囲気中−60°C
未満の温度で加え、混合物を0−5°Cで30分間攪拌
して対応するシリルエノールエーテル化合物を得る.一
方別に(3S.4R)−4−アセトキシ−3−[(IR
)−1−第三級ブチルジメチルシリルオキシエチル]−
2−オキソアゼチジン(10.21C)およびトリエチ
ルアミン( 4.951Q )のジクロロメタン( 7
0111 )溶液にトリフルオロメタンスルホン酸トリ
メチルシリル(6.86IQ)を窒素雰囲気中−60℃
未満の温度で加え、混合物を0−5°Cで30分間攪拌
して対応するN−シリル誘導体を得る.シリルエノール
エーテル化合物の溶液を一60°C未満の温度に冷却す
る.この溶液にN−シリル誘導体の溶液を加え、次いで
トリフルオロメタンスルホン酸トリメデルシリル( 3
. 451d )を加え、混合物を0−10°Cで3時
間攪拌する.溶液を水( 1401111 )と酢酸エ
チル( 280111fi )との混合物中に注ぐ.3
0分間攪拌後、溶液を炭酸水素ナトリウム飽和水溶液で
pH6. 5に11!!する.有機層を分取して食塩水
で洗浄して硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧濃縮してシ
ロップ状物を得る,シロップ状物をシリカゲル(170
g)を使用するカラムクロマトグラフィーに付し、ヘキ
サンと酢酸エチルと混液(4:6、v/v)で溶出して
、(3S,4R)−4−[2−(4−(アリルオキシカ
ルボニル)チオモルホリン−3−イル)−2−オキソエ
チル]−3−[(IR)−1−第三級ブチルジメチルシ
リルオキシエチル]−2−オキソアゼチジン(1、53
g)の異性体Aをシロップ状物として得る。
5 (IH.m)袈m免二〇 3−アセチル−4−(アリルオキシカルボニル)チオモ
ルホリン(8.70g)およびトリエチルアミン( 4
. 95IQ ”)のジクロロメタン( 70111Q
)溶液に、トリフルオロメタンスルホン酸トリメチル
シリル( 6.86dl )を窒素雰囲気中−60°C
未満の温度で加え、混合物を0−5°Cで30分間攪拌
して対応するシリルエノールエーテル化合物を得る.一
方別に(3S.4R)−4−アセトキシ−3−[(IR
)−1−第三級ブチルジメチルシリルオキシエチル]−
2−オキソアゼチジン(10.21C)およびトリエチ
ルアミン( 4.951Q )のジクロロメタン( 7
0111 )溶液にトリフルオロメタンスルホン酸トリ
メチルシリル(6.86IQ)を窒素雰囲気中−60℃
未満の温度で加え、混合物を0−5°Cで30分間攪拌
して対応するN−シリル誘導体を得る.シリルエノール
エーテル化合物の溶液を一60°C未満の温度に冷却す
る.この溶液にN−シリル誘導体の溶液を加え、次いで
トリフルオロメタンスルホン酸トリメデルシリル( 3
. 451d )を加え、混合物を0−10°Cで3時
間攪拌する.溶液を水( 1401111 )と酢酸エ
チル( 280111fi )との混合物中に注ぐ.3
0分間攪拌後、溶液を炭酸水素ナトリウム飽和水溶液で
pH6. 5に11!!する.有機層を分取して食塩水
で洗浄して硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧濃縮してシ
ロップ状物を得る,シロップ状物をシリカゲル(170
g)を使用するカラムクロマトグラフィーに付し、ヘキ
サンと酢酸エチルと混液(4:6、v/v)で溶出して
、(3S,4R)−4−[2−(4−(アリルオキシカ
ルボニル)チオモルホリン−3−イル)−2−オキソエ
チル]−3−[(IR)−1−第三級ブチルジメチルシ
リルオキシエチル]−2−オキソアゼチジン(1、53
g)の異性体Aをシロップ状物として得る。
IR (ニー)) : 3300−3250.
1770−1690 am−’溶出を続けて、(
38.4R)−4−42−(4−(アリルオキシカルボ
ニル)チオモルホリン−3ーイル)−2−オキソエチル
]−3−[(IR)−1−第三級ブチルジメチルシリル
オキシエチル]−2−オキソアゼチジン(1.89g)
の異性体Bをシロップ状物として得る。
1770−1690 am−’溶出を続けて、(
38.4R)−4−42−(4−(アリルオキシカルボ
ニル)チオモルホリン−3ーイル)−2−オキソエチル
]−3−[(IR)−1−第三級ブチルジメチルシリル
オキシエチル]−2−オキソアゼチジン(1.89g)
の異性体Bをシロップ状物として得る。
IR (ニート) : 3350−3250.
1770−1690 am’1産且毅二犯 製造例13−8)と実質的に同様にして、2−[(3S
.4R)−4−[2−(4−(アリルオキシカルボニル
)チオモルホリン−3−イル)−2−オキソエチル]−
3−((IR)−1−第三級ブチルジメチルシリルオキ
シエチル)−2−才キソアゼチジン−1−イル]ー2ー
オキソ酢酸アリルを収率99.7%で得る。
1770−1690 am’1産且毅二犯 製造例13−8)と実質的に同様にして、2−[(3S
.4R)−4−[2−(4−(アリルオキシカルボニル
)チオモルホリン−3−イル)−2−オキソエチル]−
3−((IR)−1−第三級ブチルジメチルシリルオキ
シエチル)−2−才キソアゼチジン−1−イル]ー2ー
オキソ酢酸アリルを収率99.7%で得る。
IR にニート) : 1810. 175
5. 1710−1690 cm−’1産透旦二旦 ピペラジン−2−カルボン酸・ジ塩酸塩( 20.Og
)の水( 100fflQ )およびテトラヒドロフラ
ン( 100Im )の混合物溶液に、クロロギ酸アリ
ル(22a+Q)のテトラヒドロフラン(20fflQ
)溶液ヲ、 4N水酸化ナトリウム水溶液でpHを8
.5〜9.5に保ちながら水冷攪拌下に加える。30分
間攪拌後、混合物を濃塩酸でpH2に調整して酢酸エチ
ルで抽出する。有機層を食塩水で洗浄して硫酸マグネシ
ウムで乾燥し、減圧濃縮して、1.4−ビス(アリルオ
キシカルボニル)ピペラジン−2−カルボン酸(z9.
65g )をシロップ状物として得る。
5. 1710−1690 cm−’1産透旦二旦 ピペラジン−2−カルボン酸・ジ塩酸塩( 20.Og
)の水( 100fflQ )およびテトラヒドロフラ
ン( 100Im )の混合物溶液に、クロロギ酸アリ
ル(22a+Q)のテトラヒドロフラン(20fflQ
)溶液ヲ、 4N水酸化ナトリウム水溶液でpHを8
.5〜9.5に保ちながら水冷攪拌下に加える。30分
間攪拌後、混合物を濃塩酸でpH2に調整して酢酸エチ
ルで抽出する。有機層を食塩水で洗浄して硫酸マグネシ
ウムで乾燥し、減圧濃縮して、1.4−ビス(アリルオ
キシカルボニル)ピペラジン−2−カルボン酸(z9.
65g )をシロップ状物として得る。
IR(ニー)) : 1745−1685 am
″″INMR(CDCl2.8) : 2.9−3.3
5 (3H劃>、 3.7−4.2(2H,m)、 4
.5−4.85 <6H,m)、 5.15−5.35
(4H,a+)、 5.8−6.0 (25,m)1産
±旦二釘 製造例22−4)と実質的に同様にして、5−[1゜4
−ビス(アリルオキシカルボニル)ピペラジン−2−イ
ル]カルボニル−2,2−ジメチル−1゜3−ジオキサ
ン−4,6−ジオンを定量的に得る。
″″INMR(CDCl2.8) : 2.9−3.3
5 (3H劃>、 3.7−4.2(2H,m)、 4
.5−4.85 <6H,m)、 5.15−5.35
(4H,a+)、 5.8−6.0 (25,m)1産
±旦二釘 製造例22−4)と実質的に同様にして、5−[1゜4
−ビス(アリルオキシカルボニル)ピペラジン−2−イ
ル]カルボニル−2,2−ジメチル−1゜3−ジオキサ
ン−4,6−ジオンを定量的に得る。
IR(ニー)) ’ 174G−1690crm−
’鼠1」I1二n 製造例22−5)と実質的に同様にして、2−アセデル
−1,4−ビス(アリルオキシカルボニル)ピペラジン
を収率71,6%で得る。
’鼠1」I1二n 製造例22−5)と実質的に同様にして、2−アセデル
−1,4−ビス(アリルオキシカルボニル)ピペラジン
を収率71,6%で得る。
IR<ニート) : 1730−1690 c
m″″INMR(CDC1a、&):2.25 (3H
,s)、 2.95−3.3(3H,m)、 3.8−
4.1 (2H,m)、 4.55−4.75 (6H
。
m″″INMR(CDC1a、&):2.25 (3H
,s)、 2.95−3.3(3H,m)、 3.8−
4.1 (2H,m)、 4.55−4.75 (6H
。
m)、 5.2−5.4 (4H,m)、 5.8−6
.05 (2H,m)1産五旦二y 製造例3と実質的に同様にして、(3S、4 R)−4
−[2−(1,4−ビス(アリルオキシカルボニル)ピ
ペラジン−2−イル)−2−オキソエチル]−3−[(
IR)−1−第三級ブチルジメチルシリルオキシエチル
ツー2−オキソアゼチジンを収率51.2%で得る。
.05 (2H,m)1産五旦二y 製造例3と実質的に同様にして、(3S、4 R)−4
−[2−(1,4−ビス(アリルオキシカルボニル)ピ
ペラジン−2−イル)−2−オキソエチル]−3−[(
IR)−1−第三級ブチルジメチルシリルオキシエチル
ツー2−オキソアゼチジンを収率51.2%で得る。
IR(ニー)) ’ 1770−1690 am
″″111五塁二旦 製造例13−8)と実質的に同様にして、2−[(3S
、4R)−4−[2−(1,4−ビス(アリルオキシカ
ルボニル)ピペラジン−2−イル)−2−オキソエチル
]−3−[(IR)−1−第三級ブチルジメチルシリル
オキシエチル)−2−オキソアゼチジン−1−イル]−
2−オキソ酢酸アリルを収率99.7%で得る。
″″111五塁二旦 製造例13−8)と実質的に同様にして、2−[(3S
、4R)−4−[2−(1,4−ビス(アリルオキシカ
ルボニル)ピペラジン−2−イル)−2−オキソエチル
]−3−[(IR)−1−第三級ブチルジメチルシリル
オキシエチル)−2−オキソアゼチジン−1−イル]−
2−オキソ酢酸アリルを収率99.7%で得る。
IR(ニー)) ’ 1810. 176(1−
1690ca+−’11医互二旦 (35)−4−ベンジルモルホリン−3−カルボン酸エ
チル(6,50()のメタノール(130IQ >溶液
を20%水酸化パラジウム−炭素(0,6g)を用い、
水素雰囲気中大気圧下常温で3時間水素添加する。触媒
を濾去し、メタノールを留去して、(3S)−モルホリ
ン−3−カルボン酸エチル(3,83g)をシロップ状
物として得る。
1690ca+−’11医互二旦 (35)−4−ベンジルモルホリン−3−カルボン酸エ
チル(6,50()のメタノール(130IQ >溶液
を20%水酸化パラジウム−炭素(0,6g)を用い、
水素雰囲気中大気圧下常温で3時間水素添加する。触媒
を濾去し、メタノールを留去して、(3S)−モルホリ
ン−3−カルボン酸エチル(3,83g)をシロップ状
物として得る。
IR(ニー)) : 1740 am−1HM
R(ε、CDCl5) ’ 1.29 (3H1t、J
−7,1Hz)、2.03(LH,br s)、 2.
8−3.2 (2H,m)、 3.5−3.7 (28
゜鵬)、 3.7−4.9 (28,謙)、 4
01 (1本dd。
R(ε、CDCl5) ’ 1.29 (3H1t、J
−7,1Hz)、2.03(LH,br s)、 2.
8−3.2 (2H,m)、 3.5−3.7 (28
゜鵬)、 3.7−4.9 (28,謙)、 4
01 (1本dd。
J=3.4Hz、 11.IHz)、 4.21 (2
H,q、JN7.1Hz)11旌召二組 (3S)−モルホリン−3−カルボン酸エチル(3,8
0g)のテトラヒドロフラン(40m11 )および水
(4011Q )の混合物溶液に、クロロギ酸アリル(
3,36111)のテトラヒドロフラン(3111)溶
液を、4N水酸化ナトリウム水溶液でpHを8.5〜9
.5に保ちながら水冷攪拌下に加える。30分間攪拌後
、混合物を酢酸エチル(1001111)で抽出して硫
酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を留去して、(3S)−
4−アリルオキシカルボニルモルホリン−3−カルボン
酸エチル(5,83g)をシロップ状物として得る。
H,q、JN7.1Hz)11旌召二組 (3S)−モルホリン−3−カルボン酸エチル(3,8
0g)のテトラヒドロフラン(40m11 )および水
(4011Q )の混合物溶液に、クロロギ酸アリル(
3,36111)のテトラヒドロフラン(3111)溶
液を、4N水酸化ナトリウム水溶液でpHを8.5〜9
.5に保ちながら水冷攪拌下に加える。30分間攪拌後
、混合物を酢酸エチル(1001111)で抽出して硫
酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を留去して、(3S)−
4−アリルオキシカルボニルモルホリン−3−カルボン
酸エチル(5,83g)をシロップ状物として得る。
IR(二 )> + 1740. 1705
cm−’NMR(& 、CDC13) ” 1.29
(3H,t、Jニア、1Hz)、3.2−4.0 (5
11,s)、 4.24 (2H,q、Jニア)1z)
、 4.3−4.8(4H0■)、 5.1−5.5
(2H,ei)、 5.8−6.0 (IH,+s)1
産輿B二n (38)−4−アリルオキシカルボニルモルホリン−3
−カルボン酸エチル(5,90g)のエタノール(15
m11 )および4N水酸化ナトリウム水溶液(15絨
)の混合物中溶液を30−40℃で1時間攪拌する。エ
タノールを留去して水溶液を得る。
cm−’NMR(& 、CDC13) ” 1.29
(3H,t、Jニア、1Hz)、3.2−4.0 (5
11,s)、 4.24 (2H,q、Jニア)1z)
、 4.3−4.8(4H0■)、 5.1−5.5
(2H,ei)、 5.8−6.0 (IH,+s)1
産輿B二n (38)−4−アリルオキシカルボニルモルホリン−3
−カルボン酸エチル(5,90g)のエタノール(15
m11 )および4N水酸化ナトリウム水溶液(15絨
)の混合物中溶液を30−40℃で1時間攪拌する。エ
タノールを留去して水溶液を得る。
水溶液を濃塩酸でpH2に調整し、酢酸エチル(100
1)で抽出して硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を減圧
下に留去して、(3S)−4−アリルオキシカルボニル
モルホリン− g)をシロップ状物として得る。
1)で抽出して硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を減圧
下に留去して、(3S)−4−アリルオキシカルボニル
モルホリン− g)をシロップ状物として得る。
IR (ニー)) : 1755−1660
am−’NMR (S,CDCIs) ’ 3,2−4
−0 (5H,m)、4.3−4.5(LH,t.J=
11Hz>、 4.5−4.7 (3H.m)、 5.
1−5.4(2H.m)、 5.8−6.1 (IH.
m)11盪荏二y ( 3 S)−4−アリルオキシカルボニルモルホリン
−3−カルボン酸(5.20g)および2.2−ジメチ
ル−1.3−ジオキサン−4.6−ジオン(3.5g)
のジクロロメタン( 5011111 )中温合物に、
ジシクロへキシルカルボジイミド(5.OOg)および
4−ジメチルアミノピリジン(2.96g)を順次水冷
下に加える.混合物を水冷下に2時間、常温で18時間
攪拌する.不溶物を濾去する.濾液をIN塩酸(501
11 ”)で2回、次いで食塩水(50111)で洗浄
して硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧濃縮して、5−[
(33)−4−アリルオキシカルボニルモルホリン−3
−イル]カルボニル−2、2−ジメチル−1.3−ジオ
キサン−4.6−ジオン(8.31g)をシロップ状物
として得る。
am−’NMR (S,CDCIs) ’ 3,2−4
−0 (5H,m)、4.3−4.5(LH,t.J=
11Hz>、 4.5−4.7 (3H.m)、 5.
1−5.4(2H.m)、 5.8−6.1 (IH.
m)11盪荏二y ( 3 S)−4−アリルオキシカルボニルモルホリン
−3−カルボン酸(5.20g)および2.2−ジメチ
ル−1.3−ジオキサン−4.6−ジオン(3.5g)
のジクロロメタン( 5011111 )中温合物に、
ジシクロへキシルカルボジイミド(5.OOg)および
4−ジメチルアミノピリジン(2.96g)を順次水冷
下に加える.混合物を水冷下に2時間、常温で18時間
攪拌する.不溶物を濾去する.濾液をIN塩酸(501
11 ”)で2回、次いで食塩水(50111)で洗浄
して硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧濃縮して、5−[
(33)−4−アリルオキシカルボニルモルホリン−3
−イル]カルボニル−2、2−ジメチル−1.3−ジオ
キサン−4.6−ジオン(8.31g)をシロップ状物
として得る。
IR (ニー)) : 1740−1660
cm−111旌召二坦 5−[(38)−4−アリルオキシカルボニルモルホリ
ン− ジメチル−1.3−ジオキサン−4.6−ジオン(8.
30g)の氷酢酸( 171nQ )および水( 25
11Q )の混合物中溶液を2時間還流する.冷後、混
合物を減圧濃縮してシロップ状物を得る.シロップ状物
の酢酸エチル( 100ml! )溶液を順次水(10
0IQ )、炭酸水素ナトリウム飽和水溶液( 100
m )および食塩水で洗浄する.溶液を硫酸マグネシウ
ムで乾燥し、溶媒を減圧下に留去してシロップ状物を得
る.シロップ状物をシリカゲル(40g)を使用するカ
ラムクロマトグラフィーに付し、ヘキサンと酢酸エチル
との混液(8:2、v/v )で溶出して、( 3 S
)−3−アセチル−4−アリルオキシカルボニルモルホ
リン(3.7g)をシロップ状物として得る。
cm−111旌召二坦 5−[(38)−4−アリルオキシカルボニルモルホリ
ン− ジメチル−1.3−ジオキサン−4.6−ジオン(8.
30g)の氷酢酸( 171nQ )および水( 25
11Q )の混合物中溶液を2時間還流する.冷後、混
合物を減圧濃縮してシロップ状物を得る.シロップ状物
の酢酸エチル( 100ml! )溶液を順次水(10
0IQ )、炭酸水素ナトリウム飽和水溶液( 100
m )および食塩水で洗浄する.溶液を硫酸マグネシウ
ムで乾燥し、溶媒を減圧下に留去してシロップ状物を得
る.シロップ状物をシリカゲル(40g)を使用するカ
ラムクロマトグラフィーに付し、ヘキサンと酢酸エチル
との混液(8:2、v/v )で溶出して、( 3 S
)−3−アセチル−4−アリルオキシカルボニルモルホ
リン(3.7g)をシロップ状物として得る。
IR (ニー)) : 1730−1690
ca+″″INMR (CDC13.8 > ’ 2
.23 (3H,s)、3.1−4.0 (51(。
ca+″″INMR (CDC13.8 > ’ 2
.23 (3H,s)、3.1−4.0 (51(。
m)、 4.4−4.7 <4H.a+)、 5.2−
5.4 (2H,ea)。
5.4 (2H,ea)。
5、8−6.0 (IH,m)
裂1ヱgユリ
製造例3と実質的に同様にして、<3 3,4 R)−
4−[2−((3S)−4−アリルオキシカルボニルモ
ルホリン− ル]−3−[(IR)−1−第三級ブチルジメチルシリ
ルオキシエチル]−2−オキソアゼチジンを収率71.
5%で得る。
4−[2−((3S)−4−アリルオキシカルボニルモ
ルホリン− ル]−3−[(IR)−1−第三級ブチルジメチルシリ
ルオキシエチル]−2−オキソアゼチジンを収率71.
5%で得る。
IR (ニー)) ’ 1760. 17
25. 1705 am−1HMR (CDC1
3. 8 ) : 0.0? <6H.s)、 0.8
7 (9H,s)。
25. 1705 am−1HMR (CDC1
3. 8 ) : 0.0? <6H.s)、 0.8
7 (9H,s)。
1、21 (3H.d.J=8Hz)
11億荏二n
製造例13− 8)と実質的に同様にして、2−[(3
S.4R)−4−[2−((3S)−4−アリルオキシ
カルボニルモルホリン−3−イル)−2−オキソエチル
]−3−((IR)−1−第三級ブチルジメチルシリル
オキシニブル)−2−オキソアゼチジン−1−イル]ー
2ーオキソ酢酸アリルを収率97、2%で得る。
S.4R)−4−[2−((3S)−4−アリルオキシ
カルボニルモルホリン−3−イル)−2−オキソエチル
]−3−((IR)−1−第三級ブチルジメチルシリル
オキシニブル)−2−オキソアゼチジン−1−イル]ー
2ーオキソ酢酸アリルを収率97、2%で得る。
IR (スジ確−ル) + 1810. 17
60−1690 cm−’NMR (CDCIs.
8 ) : 0.02 (3H.s)、 0.10 (
3)1.s)。
60−1690 cm−’NMR (CDCIs.
8 ) : 0.02 (3H.s)、 0.10 (
3)1.s)。
0、84 (9H.s)、 1.26 (3H.d.J
=8Hz)11五翌二U 製造例22−2)と実質的に同様にして、2−(ベンジ
ルアミノ)エタノールから2−( N−アリルオキシカ
ルボニル−N−ベンジルアミノ)エタノールを定量的に
得る。
=8Hz)11五翌二U 製造例22−2)と実質的に同様にして、2−(ベンジ
ルアミノ)エタノールから2−( N−アリルオキシカ
ルボニル−N−ベンジルアミノ)エタノールを定量的に
得る。
IR にート) i 345G−3350.
1710−1670 am−1HMR (CDC
1s.l; ) ’ 3.3−3.5 (2H,m)、
3.6−3.8(2H,m)、 4.57 (2)1.
s)、 4.6−4.7 (2H,m)。
1710−1670 am−1HMR (CDC
1s.l; ) ’ 3.3−3.5 (2H,m)、
3.6−3.8(2H,m)、 4.57 (2)1.
s)、 4.6−4.7 (2H,m)。
5、1−5.4 (2H.m)、 5.8−6.1 (
IH.m)、 7.2−7.4(5H.a+) に1」Ill二 基化オキサリル(13,8mQ)のジクロロメタン(2
7fi ) 溶液に、ジメチルスルホキシド(19,7
rnQ )のジクロロメタン(30+111り溶液を窒
素雰囲気中−60℃未満の温度で滴下する。混合物を同
条件で30分間攪拌後、2−(N−アリルオキシカルボ
ニル−N−ベンジルアミノ)エタノール(32,6g)
のジクロロメタン(301111)溶液を混合物に攪拌
下−60°C未満の温度で加える。30分後、トリエチ
ルアミン(58m11 )を混合物に同条件で加える。
IH.m)、 7.2−7.4(5H.a+) に1」Ill二 基化オキサリル(13,8mQ)のジクロロメタン(2
7fi ) 溶液に、ジメチルスルホキシド(19,7
rnQ )のジクロロメタン(30+111り溶液を窒
素雰囲気中−60℃未満の温度で滴下する。混合物を同
条件で30分間攪拌後、2−(N−アリルオキシカルボ
ニル−N−ベンジルアミノ)エタノール(32,6g)
のジクロロメタン(301111)溶液を混合物に攪拌
下−60°C未満の温度で加える。30分後、トリエチ
ルアミン(58m11 )を混合物に同条件で加える。
混合物を一60℃未満の温度で30分間攪拌し、反応温
度を常温まで上昇せしめる。混合物を水(30〇−)、
IN塩酸(300ffl11 )で2回、炭酸水素ナト
リウム飽和水溶液(300+142)および食塩水(3
0011Q )で順次洗浄して硫酸マグネシウムで乾燥
し、減圧濃縮して、2−(N−アリルオキシカルボニル
−N−ベンジルアミノ)アセトアルデヒド(32,9g
)をシロップ状物きして得る。
度を常温まで上昇せしめる。混合物を水(30〇−)、
IN塩酸(300ffl11 )で2回、炭酸水素ナト
リウム飽和水溶液(300+142)および食塩水(3
0011Q )で順次洗浄して硫酸マグネシウムで乾燥
し、減圧濃縮して、2−(N−アリルオキシカルボニル
−N−ベンジルアミノ)アセトアルデヒド(32,9g
)をシロップ状物きして得る。
IR<ニー)) : 1735−1680 cr
a−’NMR(CDC13,l; ) =3.95 (
2H1d、J=lOHz)、4.58(2H,s)、
4.6−4.7 (2H,n+)、 5.2−5.
4 (28,m)。
a−’NMR(CDC13,l; ) =3.95 (
2H1d、J=lOHz)、4.58(2H,s)、
4.6−4.7 (2H,n+)、 5.2−5.
4 (28,m)。
5.8−6.0 (LH,m)、 7.2−7.4
(5H,m)、 9.47(IH,d、J=10Hz
) 製1」ll二打 (トリメチルシリル)アセチレン(23,751nQ
)のテトラヒドロフラン(2501d )溶液に、ヘキ
サ2巾1.6 未満の温度で加える.1時間攪拌後、2−(N−アリル
オキシカルボニル− アセトアルデヒド(32.86g)のテトラヒドロフラ
ン( 30111 )溶液を混合物に一60°C未満の
温度で加える.溶液を同条件で1時間攪拌し、反応混合
物に塩化アンモニウム飽和水溶液( 10012 )を
−60°C未満の温度で加える.常温で1時間攪拌後、
混合物中に酢酸エチル( 3001n1! )を注ぐ.
溶液を食塩水( 15011111 )で2回洗浄して
硫酸マグネシウムで乾燥し減圧濃縮してシロップ状物を
得る.シロップ状物をシリカゲル(300g)を使用す
るカラムクロマトグラフィーに付し、ヘキサンと酢酸エ
チルとの混液( 9 : 1. V/V)で溶出して、
1−(N−アリルオキシカルボニル−N−ベンジルアミ
ノ)−4−)サメチルシリル−3−ブチン−2−オール
(19.77g)をシロップ状物として得る。
(5H,m)、 9.47(IH,d、J=10Hz
) 製1」ll二打 (トリメチルシリル)アセチレン(23,751nQ
)のテトラヒドロフラン(2501d )溶液に、ヘキ
サ2巾1.6 未満の温度で加える.1時間攪拌後、2−(N−アリル
オキシカルボニル− アセトアルデヒド(32.86g)のテトラヒドロフラ
ン( 30111 )溶液を混合物に一60°C未満の
温度で加える.溶液を同条件で1時間攪拌し、反応混合
物に塩化アンモニウム飽和水溶液( 10012 )を
−60°C未満の温度で加える.常温で1時間攪拌後、
混合物中に酢酸エチル( 3001n1! )を注ぐ.
溶液を食塩水( 15011111 )で2回洗浄して
硫酸マグネシウムで乾燥し減圧濃縮してシロップ状物を
得る.シロップ状物をシリカゲル(300g)を使用す
るカラムクロマトグラフィーに付し、ヘキサンと酢酸エ
チルとの混液( 9 : 1. V/V)で溶出して、
1−(N−アリルオキシカルボニル−N−ベンジルアミ
ノ)−4−)サメチルシリル−3−ブチン−2−オール
(19.77g)をシロップ状物として得る。
IR (ニー)) ’ 3450−3350.
2190. 1710−1680 cm−’
NMR (CDC13,l; ) ’ O− 17 (
9H.s)、3−3−3− 5 (2H。
2190. 1710−1680 cm−’
NMR (CDC13,l; ) ’ O− 17 (
9H.s)、3−3−3− 5 (2H。
m)、 4.4−4.7 (5H.a+)、 5.1−
5.3 (2H.m)。
5.3 (2H.m)。
5、8−6.0 <LH.m)、 7.1−7.3 (
5H.m)級遣ILニリ 硫酸第二水銀(3.55g)を1−(N−アリルオキシ
カルボニル−N−ベンジルアミノ)−4−トリメチルシ
リル−3−ブチン−2−オール(19.75g)の硫酸
(0.15mlF)、工f l, ングリコー ル(
60ml )およびテトラヒドロフラン( 12011
1 )の混合物中溶液に加える.混合物を30−40℃
で35時間攪拌する.炭酸水素ナトリウム(1g)を混
合物に加え、混合物を30−40℃で1時間攪拌する.
不溶物を濾去し、濾液を減圧濃縮してシロップ状物を得
る.シロップ状物の酢酸エチル( 2501Q )溶液
を水( 150mll )洗して硫酸マグネシウムで乾
燥し、減圧濃縮して油状物を得る.油状物をシリカゲル
(400g)を使用するカラムクロマトグラフィーに付
し、ヘキサンと酢酸エチルとの混液(5:5、v/v
)で溶出して、2−[ 2−(N−アリルオキシカルボ
ニル−N−ベンジルアミノ)−1−ヒトワキシエチル]
−2−メチル−1.3−ジオキソラン(11.6g)を
シロップ状物として得る。
5H.m)級遣ILニリ 硫酸第二水銀(3.55g)を1−(N−アリルオキシ
カルボニル−N−ベンジルアミノ)−4−トリメチルシ
リル−3−ブチン−2−オール(19.75g)の硫酸
(0.15mlF)、工f l, ングリコー ル(
60ml )およびテトラヒドロフラン( 12011
1 )の混合物中溶液に加える.混合物を30−40℃
で35時間攪拌する.炭酸水素ナトリウム(1g)を混
合物に加え、混合物を30−40℃で1時間攪拌する.
不溶物を濾去し、濾液を減圧濃縮してシロップ状物を得
る.シロップ状物の酢酸エチル( 2501Q )溶液
を水( 150mll )洗して硫酸マグネシウムで乾
燥し、減圧濃縮して油状物を得る.油状物をシリカゲル
(400g)を使用するカラムクロマトグラフィーに付
し、ヘキサンと酢酸エチルとの混液(5:5、v/v
)で溶出して、2−[ 2−(N−アリルオキシカルボ
ニル−N−ベンジルアミノ)−1−ヒトワキシエチル]
−2−メチル−1.3−ジオキソラン(11.6g)を
シロップ状物として得る。
IR (ニー)) + 3450−3400.”
1710−1680 cm−1HMR (CDC
l2.8> ’ 1.29 (3H.s)、 3.1−
3.3 (IH。
1710−1680 cm−1HMR (CDC
l2.8> ’ 1.29 (3H.s)、 3.1−
3.3 (IH。
br.s)、 3、3−3.6 (2H.m)、
3.6−3.8 (LH.m)。
3.6−3.8 (LH.m)。
3、8−4.0 (4H,m)、 4.5−4.9 (
4H.m)、 5.2−5.3(2H.m)、 5.8
−6.0 (IH,m)、 7.2−7.4 (5H,
m)1産轟至二旦 テトラキス(トリフェニルホスフィン)パラジウム(0
)(2g)を2−[ 2−(N−アリルオキシカルボニ
ル− ヒドロキシエチル]−2−メチル−1.3−ジオキソラ
ン(10.5g)、トリフェニルホスフィンco、ss
g)およびモルホリン(3119)のテトラヒドロフラ
ン(1oomu )中部合物に窒素気流中常温で加える
。混合物を同条件で2時間攪拌し、減圧濃縮して残渣を
得る。残渣をシリカゲル(150g)を使用するカラム
クロマトグラフィーに付し、メタノールとクロロホルム
との混液(2: 98.次いで5:95、v/v )で
溶出して、2−(2−ベンジルアミノ−1−ヒドロキシ
エチル)−2−メチル−1,3−ジオキソラン(5,6
0g)をシロップ状物として得る。
4H.m)、 5.2−5.3(2H.m)、 5.8
−6.0 (IH,m)、 7.2−7.4 (5H,
m)1産轟至二旦 テトラキス(トリフェニルホスフィン)パラジウム(0
)(2g)を2−[ 2−(N−アリルオキシカルボニ
ル− ヒドロキシエチル]−2−メチル−1.3−ジオキソラ
ン(10.5g)、トリフェニルホスフィンco、ss
g)およびモルホリン(3119)のテトラヒドロフラ
ン(1oomu )中部合物に窒素気流中常温で加える
。混合物を同条件で2時間攪拌し、減圧濃縮して残渣を
得る。残渣をシリカゲル(150g)を使用するカラム
クロマトグラフィーに付し、メタノールとクロロホルム
との混液(2: 98.次いで5:95、v/v )で
溶出して、2−(2−ベンジルアミノ−1−ヒドロキシ
エチル)−2−メチル−1,3−ジオキソラン(5,6
0g)をシロップ状物として得る。
IR(ニー)) ’ 3450−3250 c
m−INMR(CDC1a、 8 ) :1.29 (
3)1.s)、2.50 (2H。
m−INMR(CDC1a、 8 ) :1.29 (
3)1.s)、2.50 (2H。
br、s)、 2.70 (LH,dd、に11.2H
z、 J=16.2Hz)。
z、 J=16.2Hz)。
2.83 (IH,dd、J:5.0Hz、 16.2
Hz)、 3.69 (IH。
Hz)、 3.69 (IH。
dd、J=5.0Hz、 11.2)1z)、 3.8
1 (IH,s)、 3.96(4H,s)、 7.3
1 <5H,s)鼠11トl二り 2−(2−ベンジルアミノ−1−ヒドロキシエチル)−
2−メチル−1,3−ジオキソラン(5,55g)のテ
トラヒドロフラン(501Q )および水(50mQ
)の混合物中溶液に、塩化クロロアセチル(1,9mQ
)のテトラヒドロフラン(4−)溶液を水冷攪拌下、4
N水酸化ナトリウム水溶液でpHを8.5−9.5に保
ちながら加える。1時間攪拌後、混合物を酢酸エチル(
15011111)で抽出し、食塩水(50mQ)で洗
浄して硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧濃縮してシロッ
プ状物を得る。シロップ状物をシリカゲル(60g)を
使用するカラムクロマトグラフィーに付し、ヘキサンと
酢酸エチルとの混液(5:5、v/v )で溶出して、
2−[2−(N−ベンジル−N−クロロアセチルアミノ
)−1−ヒドロキシエチルゴー2−メチル−1,3−ジ
オキソラン(5,39g)をシロップ状物として得る。
1 (IH,s)、 3.96(4H,s)、 7.3
1 <5H,s)鼠11トl二り 2−(2−ベンジルアミノ−1−ヒドロキシエチル)−
2−メチル−1,3−ジオキソラン(5,55g)のテ
トラヒドロフラン(501Q )および水(50mQ
)の混合物中溶液に、塩化クロロアセチル(1,9mQ
)のテトラヒドロフラン(4−)溶液を水冷攪拌下、4
N水酸化ナトリウム水溶液でpHを8.5−9.5に保
ちながら加える。1時間攪拌後、混合物を酢酸エチル(
15011111)で抽出し、食塩水(50mQ)で洗
浄して硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧濃縮してシロッ
プ状物を得る。シロップ状物をシリカゲル(60g)を
使用するカラムクロマトグラフィーに付し、ヘキサンと
酢酸エチルとの混液(5:5、v/v )で溶出して、
2−[2−(N−ベンジル−N−クロロアセチルアミノ
)−1−ヒドロキシエチルゴー2−メチル−1,3−ジ
オキソラン(5,39g)をシロップ状物として得る。
IR(スジ鍮−ル) ’ 3400−3350.
1665 am−11産旌田二n 水素化ナトリウム(油中60%、0.75g)のテトラ
ヒドロフラン(5011m )中懸濁液に、2−C2−
(N−ベンジル−N−クロロアセチルアミノ)−1−ヒ
ドロキシエチルゴー2−メチル−1,3−ジオキソラン
(5,35g)のテトラヒドロフラン(15111)溶
液を水冷下に加える。混合物を4時間加熱還流し、氷水
(100I1111 )と酢酸エチル(150mR)と
の混合物中に注ぐ、有機層を分取して硫酸マグネシウム
で乾燥し、減圧濃縮してシロップ状物を得る。シロップ
状物をシリカゲル(50g)を使用するカラムクロマト
グラフィーに付し、ヘキサンと酢酸エチルとの混液(7
: 3、v/v)で溶出して、4−ベンジル−2−(2
−メチル−1゜3−ジオキソラン−2−イル)−5−オ
キソモルホリン(4,65g)をシロップ状物として得
る。
1665 am−11産旌田二n 水素化ナトリウム(油中60%、0.75g)のテトラ
ヒドロフラン(5011m )中懸濁液に、2−C2−
(N−ベンジル−N−クロロアセチルアミノ)−1−ヒ
ドロキシエチルゴー2−メチル−1,3−ジオキソラン
(5,35g)のテトラヒドロフラン(15111)溶
液を水冷下に加える。混合物を4時間加熱還流し、氷水
(100I1111 )と酢酸エチル(150mR)と
の混合物中に注ぐ、有機層を分取して硫酸マグネシウム
で乾燥し、減圧濃縮してシロップ状物を得る。シロップ
状物をシリカゲル(50g)を使用するカラムクロマト
グラフィーに付し、ヘキサンと酢酸エチルとの混液(7
: 3、v/v)で溶出して、4−ベンジル−2−(2
−メチル−1゜3−ジオキソラン−2−イル)−5−オ
キソモルホリン(4,65g)をシロップ状物として得
る。
IR(ニー)) ’ 1660−1645 am
−”NMR(CDCI & ) :1.31 (3H
,s)、 3.16 (1)1.dd。
−”NMR(CDCI & ) :1.31 (3H
,s)、 3.16 (1)1.dd。
3゜
J=4.4Hz、 16.0Hz)、 3.37 (I
H,dd、J=14.5Hz。
H,dd、J=14.5Hz。
16.0Hz>、 3.74 (LH,dd、J=4.
5Hz、 14.5Hz>。
5Hz、 14.5Hz>。
3.85−4.05 (4H,m)、 4.23 (I
H,d、J=22゜3Hz>。
H,d、J=22゜3Hz>。
4.42 (LH,d、J=22.3Hz)、 4.5
5 (18,d。
5 (18,d。
J=19゜8Hz>、 4.67 <LH,d、J=1
9.8Hz)、 7.25−7.40 (5H,m) 籠1jトl二U ボラン−硫化ジメチル錯体(2,2119)を4−ベン
ジル−2−(2−メチル−1,3−ジオキソラン−2−
イル)−5−オキソモルホリン(4,6g)のテトラヒ
ドロフラン(60fflQ )溶液に水冷下に加える。
9.8Hz)、 7.25−7.40 (5H,m) 籠1jトl二U ボラン−硫化ジメチル錯体(2,2119)を4−ベン
ジル−2−(2−メチル−1,3−ジオキソラン−2−
イル)−5−オキソモルホリン(4,6g)のテトラヒ
ドロフラン(60fflQ )溶液に水冷下に加える。
混合物を常温で40時間攪拌し、メタノール(5m)を
混合物に加える。2時間後、混合物を減圧濃縮してシロ
ップ状物を得る。シロップ状物を水(1001Q )と
酢酸エチル(toomn )との混合物中に注ぐ、有機
層を分取して硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧濃縮して
シロップ状物を得る。シロップ状物をシリカゲル(50
g)を使用するカラムクロマトグラフィーに付し、クロ
ロホルムで溶出して、4−ベンジル−2−(2−メチル
−1゜3−ジオキソラン−2−イル)モルホリン(2,
00g)をシロップ状物として得る。
混合物に加える。2時間後、混合物を減圧濃縮してシロ
ップ状物を得る。シロップ状物を水(1001Q )と
酢酸エチル(toomn )との混合物中に注ぐ、有機
層を分取して硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧濃縮して
シロップ状物を得る。シロップ状物をシリカゲル(50
g)を使用するカラムクロマトグラフィーに付し、クロ
ロホルムで溶出して、4−ベンジル−2−(2−メチル
−1゜3−ジオキソラン−2−イル)モルホリン(2,
00g)をシロップ状物として得る。
NMR(CDCI3.l; ) ’ 1.32 (3H
,s>、 1.9−2.2 (2H0m)、 2.63
(2H,d、J=15.2Hz)、 2.90 (2
H,d。
,s>、 1.9−2.2 (2H0m)、 2.63
(2H,d、J=15.2Hz)、 2.90 (2
H,d。
JJ4.8Hz)、 3.4−3.8 (4)1.11
1)、 3.8−.4.0(5H,a+)、 7.2−
7.4 (5H,m)11」Ill二 番−ベンジル−2−(2−メチル−1,3−ジオキソラ
ン−2−イル)モルホリン(4,25g)のメタノール
(42mQ )溶液を、水酸化パラジウム−炭素(1,
0g)を用い水素雰囲気中大気圧下常温で30時間水素
添加する。触媒を濾去し、濾液を減圧濃縮して油状物を
得る。油状物の水(5011111’)とテトラヒドロ
フラン(50m1! )との混合物中溶液に、クロロギ
酸アリル(1,819)のテトラヒドロフラン(4mQ
)溶液を、4N水酸化ナトリウム水溶液でpttを8.
5−9.5に保ちながら水冷攪拌下に加える。1時間攪
拌後、混合物を酢酸エチル(100IIIIF)で抽出
し、食塩水(50m11 )で洗浄して硫酸マグネシウ
ムで乾燥し、減圧濃縮してシロップ状物を得る。シロッ
プ状物をシリカゲル(50g’)を使用するカラムクロ
マトグラフィーに付し、メタノールとクロロホルムとの
混液(jH9g、v/v)で溶出して、4−アリルオキ
シカルボニル−2−(2−メチル−1,3−ジオキソラ
ン−2−イル)モルホリン(2,26g)を油状物とし
て得る。
1)、 3.8−.4.0(5H,a+)、 7.2−
7.4 (5H,m)11」Ill二 番−ベンジル−2−(2−メチル−1,3−ジオキソラ
ン−2−イル)モルホリン(4,25g)のメタノール
(42mQ )溶液を、水酸化パラジウム−炭素(1,
0g)を用い水素雰囲気中大気圧下常温で30時間水素
添加する。触媒を濾去し、濾液を減圧濃縮して油状物を
得る。油状物の水(5011111’)とテトラヒドロ
フラン(50m1! )との混合物中溶液に、クロロギ
酸アリル(1,819)のテトラヒドロフラン(4mQ
)溶液を、4N水酸化ナトリウム水溶液でpttを8.
5−9.5に保ちながら水冷攪拌下に加える。1時間攪
拌後、混合物を酢酸エチル(100IIIIF)で抽出
し、食塩水(50m11 )で洗浄して硫酸マグネシウ
ムで乾燥し、減圧濃縮してシロップ状物を得る。シロッ
プ状物をシリカゲル(50g’)を使用するカラムクロ
マトグラフィーに付し、メタノールとクロロホルムとの
混液(jH9g、v/v)で溶出して、4−アリルオキ
シカルボニル−2−(2−メチル−1,3−ジオキソラ
ン−2−イル)モルホリン(2,26g)を油状物とし
て得る。
IR(ニー)) ’ 1710−1690 cr
a−’NMR(CDC13,8) ’ 1.35 (3
H1s)、2.7−3.1 (2H1m)、 3.3
−3.6 (2H,m)、 3.9−4.2 (7H
,m)。
a−’NMR(CDC13,8) ’ 1.35 (3
H1s)、2.7−3.1 (2H1m)、 3.3
−3.6 (2H,m)、 3.9−4.2 (7H
,m)。
4.6−4.65 (2H,m)、 5.15−5.
4 (2H,m)。
4 (2H,m)。
5.85−6.05 (IH,!II)!1週芙ヒ]n
4−アリルオキシカルボニル−2−(2−メチル−1,
3−ジオキソラン−2−イル)モルホリン(2,20g
)のアセトン(22m1 )溶液を、り−トルエンスル
ホン酸・−水化物(1,lOg)の存在下、常温で5日
間攪拌する。混合物を減圧濃縮してシロップ状物を得る
。シロップ状物をシリカゲル(25g)を使用するカラ
ムクロマトグラフィーに付し、ヘキサンと酢酸エチルと
の混液(9:1、v/v )で溶出して、2−アセチル
−4−アリルオキシカルボニルモルホリン(1,37g
)をシロップ状物として得る。
3−ジオキソラン−2−イル)モルホリン(2,20g
)のアセトン(22m1 )溶液を、り−トルエンスル
ホン酸・−水化物(1,lOg)の存在下、常温で5日
間攪拌する。混合物を減圧濃縮してシロップ状物を得る
。シロップ状物をシリカゲル(25g)を使用するカラ
ムクロマトグラフィーに付し、ヘキサンと酢酸エチルと
の混液(9:1、v/v )で溶出して、2−アセチル
−4−アリルオキシカルボニルモルホリン(1,37g
)をシロップ状物として得る。
IR(ニー)) 7 1725−1675 cm
−1HMR(CDCl2.8) ’ 2.24 (3H
,s)、 2.8−3.1 (2H。
−1HMR(CDCl2.8) ’ 2.24 (3H
,s)、 2.8−3.1 (2H。
n+)、 3.59 (IH,dd、J=4.1Hz、
15.8Hz>、 3.8−4.05 (3H,m)
、 4.24 (1)1.br、d、J=17.2
Hz)。
15.8Hz>、 3.8−4.05 (3H,m)
、 4.24 (1)1.br、d、J=17.2
Hz)。
4.55−4.65 (2H,m)、 5.2−5.
4 (2H,a+)。
4 (2H,a+)。
5.8−6.0 (IH,a+)
毀111ヒュU
製造例3と実質的に同様にして、(3S、4 R)−4
−[2−(4−アリルオキシカルボニルモルホリン−2
−イル)−2−オキソエチル]−3−[(IR)−1−
第三級ブチルジメチルシリルオキシエチル]−2−オキ
ソアゼチジンを収率71.1%で得る。
−[2−(4−アリルオキシカルボニルモルホリン−2
−イル)−2−オキソエチル]−3−[(IR)−1−
第三級ブチルジメチルシリルオキシエチル]−2−オキ
ソアゼチジンを収率71.1%で得る。
IR(ニー)) : 1750. 1715−1
695 cm−1HMR(CDCl2.8) : 0
.07 (6H,s)、 0.88 (9H,s)。
695 cm−1HMR(CDCl2.8) : 0
.07 (6H,s)、 0.88 (9H,s)。
1.21 (3H,d、J=8.4Hz)、 2.7−
3.15 (5H,+a)。
3.15 (5H,+a)。
3.5−3.65 (IH,m)、 3.85−4.0
(4H,m)、 4.1−04.3 (2H,ea)
、 4.5−4.65 (2H,m)、 5.2−5.
4(2H,a+)、 5.8−6.05 (2H,m)
鳳J己シ阻二1針 製造例13−8)と実質的に同様にして、2−[(3S
、4R)−4−(2−(4−アリルオキシカルボニルモ
ルホリン−2−イル)−2−オキソエチルl−3−((
IR)−1−第三級ブチルジメチルシリルオキシニブル
)−2−才キソアゼチジン−1−イル]−2−オキソ酢
酸アリルを収率86.4%で得る。
(4H,m)、 4.1−04.3 (2H,ea)
、 4.5−4.65 (2H,m)、 5.2−5.
4(2H,a+)、 5.8−6.05 (2H,m)
鳳J己シ阻二1針 製造例13−8)と実質的に同様にして、2−[(3S
、4R)−4−(2−(4−アリルオキシカルボニルモ
ルホリン−2−イル)−2−オキソエチルl−3−((
IR)−1−第三級ブチルジメチルシリルオキシニブル
)−2−才キソアゼチジン−1−イル]−2−オキソ酢
酸アリルを収率86.4%で得る。
IR(ニーt) : 1805. 1750. 1
725−1690 am−1HMR(CDCl2.8
) : 0.03 (3H,s)、 0.07 (3H
,s)。
725−1690 am−1HMR(CDCl2.8
) : 0.03 (3H,s)、 0.07 (3H
,s)。
0.84 (9H,s)、 1.26 (3H,d、J
=8.5>、 2.8−3.15 (4H,m)、 3
.4−3.6 <2H,m)、 3.85−4.0(3
H,m)、 4.2−4.4 (2H,m)、’4
.55−4.7 (3H。
=8.5>、 2.8−3.15 (4H,m)、 3
.4−3.6 <2H,m)、 3.85−4.0(3
H,m)、 4.2−4.4 (2H,m)、’4
.55−4.7 (3H。
m)、 4.75−4.85 (2H,m)、 5.2
−5.5 (4H,m)。
−5.5 (4H,m)。
5.85−6.0 (2H,a+)
11旌旦二封
ヒドラジン・水化物(38,6g)を2−(1−ヒドロ
キシエチル)アクリル酸エチル(106g)のエタノー
ル(2011t )溶液にO″Cで滴下する0滴下後、
反応混合物を室温まで昇温せしめ、同温で4時間攪拌す
る。この反応混合物をシリカゲル<2.21>を使用す
るクロマトグラフィーに付し、順次クロロホルムおよび
クロロホルムとメタノールとの混液(8: 1−2 :
1−1 : 1、v/v)で溶出して4−(1−ヒド
ロキシエチル)−3−ピラゾリジノン(68g)を得る
。
キシエチル)アクリル酸エチル(106g)のエタノー
ル(2011t )溶液にO″Cで滴下する0滴下後、
反応混合物を室温まで昇温せしめ、同温で4時間攪拌す
る。この反応混合物をシリカゲル<2.21>を使用す
るクロマトグラフィーに付し、順次クロロホルムおよび
クロロホルムとメタノールとの混液(8: 1−2 :
1−1 : 1、v/v)で溶出して4−(1−ヒド
ロキシエチル)−3−ピラゾリジノン(68g)を得る
。
NMR(CDCIs、 l; ) : 1.25 (3
H,t、J=6Hz)、 3.0−4.4 (7H,m
) 11町印二釘 水素化ホウ素ナトリウム(36,14g)のテトラヒド
ロフラン(420fflll )中懸濁液に、三フフ化
ホウ素・ジエチルエーテル錯体(165I111 )を
0℃で滴下する。この反応混合物に4−(1−ヒドロキ
シエチル)−3−ピラゾリジノン(41,25g)のテ
トラヒドロフラン(20011Q)溶液を0℃で滴下し
、混合物を室温で1日間攪拌する0反応混合物にメタノ
ールを0℃で注意しながら加えて反応を停止せしめ、残
る沈殿を濾去する。濾液の溶媒を留去後、残渣をメタノ
ール(400111)と塩酸(60mQ )との混合物
で希釈し、これを室温で1日間攪拌する。溶媒を減圧下
に留去して残る溶液を水(4001m )とテトラヒド
ロフラン(5ooaIりとの混合物中に注ぎ、0℃に冷
却して4N水酸化ナトリウム水溶液でpH9,0に調整
する。この混合物にクロロギ酸アリル(84,1111
)を、4N水酸化ナトリウム水溶液でpHを8.0と8
.5との間に調整しなから0°Cで滴下する8反応混合
物を酢酸エチルで抽出して有機層を分取し、食塩水で洗
浄して硫酸マグネシウムで乾燥する。溶媒を留去して得
られる油状物をシリカゲルを使用するクロマトグラフィ
ーに付し、ヘキサンと酢酸エチルとの混液(1:2、v
/v )で溶出して、1.2−ビス(アリルオキシカル
ボニル)−4−(1−ヒドロキシエチル)ピラゾリジン
C57,86g ”)を得る。
H,t、J=6Hz)、 3.0−4.4 (7H,m
) 11町印二釘 水素化ホウ素ナトリウム(36,14g)のテトラヒド
ロフラン(420fflll )中懸濁液に、三フフ化
ホウ素・ジエチルエーテル錯体(165I111 )を
0℃で滴下する。この反応混合物に4−(1−ヒドロキ
シエチル)−3−ピラゾリジノン(41,25g)のテ
トラヒドロフラン(20011Q)溶液を0℃で滴下し
、混合物を室温で1日間攪拌する0反応混合物にメタノ
ールを0℃で注意しながら加えて反応を停止せしめ、残
る沈殿を濾去する。濾液の溶媒を留去後、残渣をメタノ
ール(400111)と塩酸(60mQ )との混合物
で希釈し、これを室温で1日間攪拌する。溶媒を減圧下
に留去して残る溶液を水(4001m )とテトラヒド
ロフラン(5ooaIりとの混合物中に注ぎ、0℃に冷
却して4N水酸化ナトリウム水溶液でpH9,0に調整
する。この混合物にクロロギ酸アリル(84,1111
)を、4N水酸化ナトリウム水溶液でpHを8.0と8
.5との間に調整しなから0°Cで滴下する8反応混合
物を酢酸エチルで抽出して有機層を分取し、食塩水で洗
浄して硫酸マグネシウムで乾燥する。溶媒を留去して得
られる油状物をシリカゲルを使用するクロマトグラフィ
ーに付し、ヘキサンと酢酸エチルとの混液(1:2、v
/v )で溶出して、1.2−ビス(アリルオキシカル
ボニル)−4−(1−ヒドロキシエチル)ピラゾリジン
C57,86g ”)を得る。
NMR(CDC1s、S ) :1.22 (3H,d
、J=7Hz)、 2.23−2.64 (IH,m)
、 3.08−4.24 (5H,n+)、 4.6−
4.75(41,m)、 5.10−5.41 (4H
,m)、 5.70−6.13(2)1.s) 1産輿ムニ刀 1.2−ビス(アリJしオキシカルボニル−(1−ヒド
ロキシエチル)ピラゾリジン(13g)のアセトン(
26011Q ) 溶液にジョーンズ試薬( 2.67
N, 34+u )を0°Cで滴下する.1時間攪拌後
、反応混合物に2−プロパツール(200119 )を
滴下し、反応混合物を0℃で1時間攪拌する.沈殿を濾
去し、濾液の溶媒を留去して得られる油状物を酢酸エチ
ルで抽出して有機層を分取し、食塩水で洗浄して硫酸マ
グネシウムで乾燥する.溶媒を留去して得られる油状物
をシリカゲル( 300+1111 )を使用するクロ
マトグラフィーに付し、ヘキサンと酢酸エチルとの混液
( 1 : 1, v/v)で溶出して、4−アセチル
−1.2−ビス(アリルオキシカルボニル NMR (CDCIs,l; ) ’ 2− 24 (
3H,s)、3. 34−3.62(3H.m)、 4
.02−4.26 (2H.+n)、 4.64 (4
1,brs)、 5.20−5.38 (4H.m)、
5.82−6.01 (2H.m)飯1」ト1ニリ 製造例3と実質的に同様にして、(3 S.4 R)−
4−[2−(1.2−ビス(アリルオキシカルボニル)
ピラゾリジン−4−イル)−2−オキソニブル]−3−
[(IR)−t−第三級ブチルジメチルシリルオキシエ
チル]−2−オキソアゼチジンを収率64.5%で得る
、 IR (スジ書−ル) : 1710. 17
50 ccm−’NMR (CDCIs.l; )
:o.os (6H.s)、 0.87 (9H.s)
。
、J=7Hz)、 2.23−2.64 (IH,m)
、 3.08−4.24 (5H,n+)、 4.6−
4.75(41,m)、 5.10−5.41 (4H
,m)、 5.70−6.13(2)1.s) 1産輿ムニ刀 1.2−ビス(アリJしオキシカルボニル−(1−ヒド
ロキシエチル)ピラゾリジン(13g)のアセトン(
26011Q ) 溶液にジョーンズ試薬( 2.67
N, 34+u )を0°Cで滴下する.1時間攪拌後
、反応混合物に2−プロパツール(200119 )を
滴下し、反応混合物を0℃で1時間攪拌する.沈殿を濾
去し、濾液の溶媒を留去して得られる油状物を酢酸エチ
ルで抽出して有機層を分取し、食塩水で洗浄して硫酸マ
グネシウムで乾燥する.溶媒を留去して得られる油状物
をシリカゲル( 300+1111 )を使用するクロ
マトグラフィーに付し、ヘキサンと酢酸エチルとの混液
( 1 : 1, v/v)で溶出して、4−アセチル
−1.2−ビス(アリルオキシカルボニル NMR (CDCIs,l; ) ’ 2− 24 (
3H,s)、3. 34−3.62(3H.m)、 4
.02−4.26 (2H.+n)、 4.64 (4
1,brs)、 5.20−5.38 (4H.m)、
5.82−6.01 (2H.m)飯1」ト1ニリ 製造例3と実質的に同様にして、(3 S.4 R)−
4−[2−(1.2−ビス(アリルオキシカルボニル)
ピラゾリジン−4−イル)−2−オキソニブル]−3−
[(IR)−t−第三級ブチルジメチルシリルオキシエ
チル]−2−オキソアゼチジンを収率64.5%で得る
、 IR (スジ書−ル) : 1710. 17
50 ccm−’NMR (CDCIs.l; )
:o.os (6H.s)、 0.87 (9H.s)
。
1、22 (3H.d.に6Hz)、 2.76−2
.90 (3H.m)。
.90 (3H.m)。
3、31−3.80 (3H.ae)、 3.86
−4.36 <4H.m)。
−4.36 <4H.m)。
4、60−4.70 (4H.a+)、 5.15−
5.43 (4H.m)。
5.43 (4H.m)。
5、70−6.30 (3H.m)
袈1Jトにυ
製造例13−8)と実質的に同様にして、2−[(3S
.4R)−4−[2−( 1.2−ビス(アリルオキシ
カルボニル)ピラゾリジン−4−イル)−3−((IR
)−1−第ゴ級ブデルジメチルシリルオキシエデル)−
2−オキソエチル]−2−才キソアゼチジン−1−イル
ゴー2−オキソ酢酸アリルを収率95%で得る。
.4R)−4−[2−( 1.2−ビス(アリルオキシ
カルボニル)ピラゾリジン−4−イル)−3−((IR
)−1−第ゴ級ブデルジメチルシリルオキシエデル)−
2−オキソエチル]−2−才キソアゼチジン−1−イル
ゴー2−オキソ酢酸アリルを収率95%で得る。
IR (スジ砕−ル) ’ 1705. 17
50. 1805. cm−’NMR (CDCI
s,8 ) ’ 0.07 (6H.s)、0.87
(9H.s)1、24 (3H.d.J=6Hz)、
2.93−3.74 (6H.m)。
50. 1805. cm−’NMR (CDCI
s,8 ) ’ 0.07 (6H.s)、0.87
(9H.s)1、24 (3H.d.J=6Hz)、
2.93−3.74 (6H.m)。
4、00−4.38 (4H.m)、 4.58−4.
81 (6H.m)。
81 (6H.m)。
5、20−5.44 (6H.a)、 5.78−6.
05 (3H.m)籠1juに〇 水素化ホウ素ナトリウム(18.1g)のテトラヒドロ
フラン(zaama )中懸濁液に三フフ化ホウ素・ジ
エチルエーテル錯体(831Q >を0℃で滴下する。
05 (3H.m)籠1juに〇 水素化ホウ素ナトリウム(18.1g)のテトラヒドロ
フラン(zaama )中懸濁液に三フフ化ホウ素・ジ
エチルエーテル錯体(831Q >を0℃で滴下する。
この反応混合物に4−(1−ヒドロキシエチル)=3−
ピラゾリジノン(20,65g)のテトラヒドロフラン
(100IQ )溶液をO″Cで滴下し、混合物を室温
で1日間攪拌する0反応混合物をメタノールにより0°
Cで反応停止せしめて残留する沈殿を濾去する。濾液の
溶媒を留去後、残渣をメタ/−ル(200IQ )と濃
塩酸(30IQ )との混合物で希釈し、室温で1日間
攪拌する。溶媒を減圧下に留去後、残る溶液を水(20
0111m )とテトラヒドロフラン(250m1 )
との混合物中に注ぎ、0℃に冷却して4N*酸化ナトリ
ウム水溶液でpH9,0に調整する。この混合物に塩化
ジメチルカルバミル(19I1142)およびクロロギ
酸アリル(20,21111)を、4N水酸化ナトリウ
ム水溶液でpHを8.0−8.5に調整しなから0°C
で順次滴下する0反応混合物を酢酸エチルで抽出し、有
機層を分取して食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾
燥する。溶媒を留去して得る油状物をシリカゲルを使用
するクロマトグラフィーに付し、順次ヘキサンと酢酸エ
チルとの混液(1:2、V/V )ならびに酢酸エチル
、ヘキサンおよびメタノールの混液c5:3.2、V/
V )で溶出して、2−アリルオキシカルボニル−1−
(ジメチルカルバモイル ドロキシエチル)ピラゾリジン(22.7g)を得る。
ピラゾリジノン(20,65g)のテトラヒドロフラン
(100IQ )溶液をO″Cで滴下し、混合物を室温
で1日間攪拌する0反応混合物をメタノールにより0°
Cで反応停止せしめて残留する沈殿を濾去する。濾液の
溶媒を留去後、残渣をメタ/−ル(200IQ )と濃
塩酸(30IQ )との混合物で希釈し、室温で1日間
攪拌する。溶媒を減圧下に留去後、残る溶液を水(20
0111m )とテトラヒドロフラン(250m1 )
との混合物中に注ぎ、0℃に冷却して4N*酸化ナトリ
ウム水溶液でpH9,0に調整する。この混合物に塩化
ジメチルカルバミル(19I1142)およびクロロギ
酸アリル(20,21111)を、4N水酸化ナトリウ
ム水溶液でpHを8.0−8.5に調整しなから0°C
で順次滴下する0反応混合物を酢酸エチルで抽出し、有
機層を分取して食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾
燥する。溶媒を留去して得る油状物をシリカゲルを使用
するクロマトグラフィーに付し、順次ヘキサンと酢酸エ
チルとの混液(1:2、V/V )ならびに酢酸エチル
、ヘキサンおよびメタノールの混液c5:3.2、V/
V )で溶出して、2−アリルオキシカルボニル−1−
(ジメチルカルバモイル ドロキシエチル)ピラゾリジン(22.7g)を得る。
IR (スジタール) : 16B0. 34
00 cm−INMR (CDC13.8 ) ’
1.19 (3H.d.J=6Hz)、 2.0−2、
64 (1h.m)、 3.0 (68,s)、 3.
3−3.9 (5H。
00 cm−INMR (CDC13.8 ) ’
1.19 (3H.d.J=6Hz)、 2.0−2、
64 (1h.m)、 3.0 (68,s)、 3.
3−3.9 (5H。
m)、 4.60−4.65 (2H.n)、 5.1
7−5.37 (2H,m)。
7−5.37 (2H,m)。
5、82−6.00 (1)1.m)
製1」Ill二
基化オキサリル( 7. 42dl )のジクロロメタ
ン( 250IQ )溶液にジメチルスルホキシド(
12.7aQ)を−70℃で滴下する.この反応混合物
に2−アリルオキシカルボニル− ル− ン(22g)のジクロロメタン( 40IQ )溶液を
一70℃で滴下し、次いでトリエチルアミン( 56.
51d )を−70°Cで滴下する.反応混合物を室
温まで昇温せしめる.沈殿を濾去し、濾液を減圧濃縮す
る。
ン( 250IQ )溶液にジメチルスルホキシド(
12.7aQ)を−70℃で滴下する.この反応混合物
に2−アリルオキシカルボニル− ル− ン(22g)のジクロロメタン( 40IQ )溶液を
一70℃で滴下し、次いでトリエチルアミン( 56.
51d )を−70°Cで滴下する.反応混合物を室
温まで昇温せしめる.沈殿を濾去し、濾液を減圧濃縮す
る。
残渣を酢酸エチルとIN塩酸との混合物中に注ぎ、有機
層を抽出し、食塩水で洗浄して硫酸マグネシウムで乾燥
する.溶媒を留去して得られる残渣の油状物をシリカゲ
ルを使用するクロマトグラフィーに付し、順次ヘキサン
と酢酸エチルとの混液(1:2、v/v)および酢酸エ
チルで溶出して、4−アセチル−2−アリルオキシカル
ボニル−1−ジメチルカルバモイルピラゾリジンg)を
得る。
層を抽出し、食塩水で洗浄して硫酸マグネシウムで乾燥
する.溶媒を留去して得られる残渣の油状物をシリカゲ
ルを使用するクロマトグラフィーに付し、順次ヘキサン
と酢酸エチルとの混液(1:2、v/v)および酢酸エ
チルで溶出して、4−アセチル−2−アリルオキシカル
ボニル−1−ジメチルカルバモイルピラゾリジンg)を
得る。
IR (スジ3−ル) : 1700 cm−
1HMR (CDC13,E ) ’ 2.20 (3
H,s)、3.00 (6M.s)3、30−3.96
(5H.m)、 4.56−4.65 (2H.m>
。
1HMR (CDC13,E ) ’ 2.20 (3
H,s)、3.00 (6M.s)3、30−3.96
(5H.m)、 4.56−4.65 (2H.m>
。
5、12−5.41 (2H.m)、 5.70−6.
13 (IH.m)製W−υ 製造例3と実質的に同様にして、(3 S.4 R)−
4−[2−(2−アリルオキシカルボニル−1−ジメチ
ルカルバモイルピラリジン−4−イル)−2−オキソエ
チル]−3−[(IR)−1−第三級ブチルジメチルシ
リルオキエチル]−2−オキソアゼチジンを収率35.
5%で得る。
13 (IH.m)製W−υ 製造例3と実質的に同様にして、(3 S.4 R)−
4−[2−(2−アリルオキシカルボニル−1−ジメチ
ルカルバモイルピラリジン−4−イル)−2−オキソエ
チル]−3−[(IR)−1−第三級ブチルジメチルシ
リルオキエチル]−2−オキソアゼチジンを収率35.
5%で得る。
IR (スジ3−ル) :1780. 1750
am−1HMR (CDC13.l; ) ’ 0
. 08 (6H,s)− 0.87 (9H,s)。
am−1HMR (CDC13.l; ) ’ 0
. 08 (6H,s)− 0.87 (9H,s)。
1、22 (3H.d.J=7)1z)、2.76−2
.90 (3H,s)。
.90 (3H,s)。
3、00 (6H.s)、 3.36−4.28
(7H.m)、 4.61−4、68 (2H.m
)、 5.12−5.38 (2H,m>、 5.83
−6、00 (IH.m)、 6、20−6.27 (
18,m)聚1111ニリ 製造例13−8>と実質的に同様にして、2−[(3S
.4R)−4−(2−(2−アリルオキシカルボニル−
1−ジメチルカルバモイルピラゾリジン−4−イル)−
2−オキソエテル)−3−((IR)−1−第三級ブチ
ルジメチルシリルオキシエテル)−2−才キソアゼチジ
ン−1−イル]ー2ーオキソ酢酸アリルを収率74.9
%で得る。
(7H.m)、 4.61−4、68 (2H.m
)、 5.12−5.38 (2H,m>、 5.83
−6、00 (IH.m)、 6、20−6.27 (
18,m)聚1111ニリ 製造例13−8>と実質的に同様にして、2−[(3S
.4R)−4−(2−(2−アリルオキシカルボニル−
1−ジメチルカルバモイルピラゾリジン−4−イル)−
2−オキソエテル)−3−((IR)−1−第三級ブチ
ルジメチルシリルオキシエテル)−2−才キソアゼチジ
ン−1−イル]ー2ーオキソ酢酸アリルを収率74.9
%で得る。
IR (スジヲール) ’ 1690. 17
50. 1805 am−’NMR (CDCIs
,8 ) ’ 0.07 (6H,s)、0.84 (
9H.s)。
50. 1805 am−’NMR (CDCIs
,8 ) ’ 0.07 (6H,s)、0.84 (
9H.s)。
1、25 (3H.d.J=6H)、 2.97 (3
H.s)、 2.99(3H.s)、 3.10−4.
00 (9H.m)、 4、30−4. 65(IH,
m>、 4.60−4.81 (4H,m>、 5
.20−5.50(4H,m>、 5.83−6.0
3 (2H,m)艮1Jlに〇 (2S)−5−ピロリドン−2−カルボン酸(75g)
のメタノール(58011Q )溶液に塩化チオニル(
150mm )をo ’cで滴下する0滴下後、反応混
合物を室温まで昇温せしめて2時間攪拌する。溶媒を減
圧下に留去して残渣を酢酸エチル(IP)、メタノール
(50誠)および水(l0IIIQ )の混合物で希釈
する。この混合物に炭酸カリウム(50g)を少量ずつ
分割して加え、混合物を2時間攪拌する。沈殿を濾去し
、濾液を硫酸マグネシウムで乾燥する。溶媒を留去して
、(2S)−5−ピロリドン−2−カルボン酸メチル(
82,5g)を油状物として得る。
H.s)、 2.99(3H.s)、 3.10−4.
00 (9H.m)、 4、30−4. 65(IH,
m>、 4.60−4.81 (4H,m>、 5
.20−5.50(4H,m>、 5.83−6.0
3 (2H,m)艮1Jlに〇 (2S)−5−ピロリドン−2−カルボン酸(75g)
のメタノール(58011Q )溶液に塩化チオニル(
150mm )をo ’cで滴下する0滴下後、反応混
合物を室温まで昇温せしめて2時間攪拌する。溶媒を減
圧下に留去して残渣を酢酸エチル(IP)、メタノール
(50誠)および水(l0IIIQ )の混合物で希釈
する。この混合物に炭酸カリウム(50g)を少量ずつ
分割して加え、混合物を2時間攪拌する。沈殿を濾去し
、濾液を硫酸マグネシウムで乾燥する。溶媒を留去して
、(2S)−5−ピロリドン−2−カルボン酸メチル(
82,5g)を油状物として得る。
IR(スジー−ル) : 1700. 1745
cm−’NMR(CDCI & ) : 2.2Q
−2,60(41(、m)、 3.783゜ (3H,s)、 4.23−4.30 (LH,m
)、 6.23 (LH,br−聚3!71@26
二針 (2S)−5−ピロリドン−2−カルボン酸メチル(8
0g)のテトラヒドロフラン(900mm )溶液に水
素化ナトリウム(油中60%、23.5g)を少量ずつ
分割して加える。添加後、反応混合物を60°Cに加熱
し、これに臭化ベンジル(69,8ffLQ ) ヲm
下する。3時間後、反応混合物を室温に冷却し、これに
水(100ffLll )を滴下する0反応混合物を酢
酸エチル(2i)と水(8001111)との混合物中
に注ぐ、有機層を分取して食塩水で洗浄し、硫酸マグネ
シウムで乾燥する。溶媒を留去して得られる油状物をシ
リカゲル(21)を使用するクロマトグラフィーに付し
、ヘキサンと酢酸エチルとの混液(1:1−1:2、v
/v )で溶出して、(2S)−1−ベンジル−5−ピ
ロリドン−2−カルボン酸メチル(100,8g)を得
る。
cm−’NMR(CDCI & ) : 2.2Q
−2,60(41(、m)、 3.783゜ (3H,s)、 4.23−4.30 (LH,m
)、 6.23 (LH,br−聚3!71@26
二針 (2S)−5−ピロリドン−2−カルボン酸メチル(8
0g)のテトラヒドロフラン(900mm )溶液に水
素化ナトリウム(油中60%、23.5g)を少量ずつ
分割して加える。添加後、反応混合物を60°Cに加熱
し、これに臭化ベンジル(69,8ffLQ ) ヲm
下する。3時間後、反応混合物を室温に冷却し、これに
水(100ffLll )を滴下する0反応混合物を酢
酸エチル(2i)と水(8001111)との混合物中
に注ぐ、有機層を分取して食塩水で洗浄し、硫酸マグネ
シウムで乾燥する。溶媒を留去して得られる油状物をシ
リカゲル(21)を使用するクロマトグラフィーに付し
、ヘキサンと酢酸エチルとの混液(1:1−1:2、v
/v )で溶出して、(2S)−1−ベンジル−5−ピ
ロリドン−2−カルボン酸メチル(100,8g)を得
る。
IR(スジm−4) 二 1690. 1745
am−’NMR(CDCI3. S ) : 2゜00
−2.63 (4H,m)、 3.67(3H,s)、
3.96−4.04 (2H,m)、 5.02 (
1)1.d。
am−’NMR(CDCI3. S ) : 2゜00
−2.63 (4H,m)、 3.67(3H,s)、
3.96−4.04 (2H,m)、 5.02 (
1)1.d。
J=14Hz)、 7.18−7.36 (5H,m)
製造例26−3) (23)−1−ベンジル−5−ピロリドン−2−カルボ
ン酸メチル(100g)のテトラヒドロフラン(1り溶
液に、水素化アルミニウムリチウム(16,3g )を
少量ずつ分割して注意しなからOoCで加える。30分
後、反応混合物に順次水(16,3mm )、4N水酸
化ナトリウム水溶液(16,31i11 )オよび水(
48,91111)を滴下する。沈殿を濾去し、濾液の
溶媒を減圧下に留去する。残渣をジクロロメタン(80
0m1l )に溶解し、これにイミダゾール(40,8
5g )を加える。この溶液に塩化第三級ブチルジメチ
ルシリル(7t、tg)のジクロロメタン(200−)
溶液を0℃で滴下する。3時間後、沈殿を濾去し、濾液
を酢酸エチル(2k)と水(800m1l )との混合
物中に注ぐ、有機層を分取して硫酸マグネシウムで乾燥
する。溶媒を留去して得られる油状物をシリカゲル(2
1)を使用するクロマトグラフィーに付し、ヘキサンと
酢酸エチルとの混液(4:1−1:4)で溶出して、(
5S)−1−ベンジル−5−第三級ブチルジメチルシリ
ルオキシメチル−2−ピロリドン(105,34g )
を得る。
製造例26−3) (23)−1−ベンジル−5−ピロリドン−2−カルボ
ン酸メチル(100g)のテトラヒドロフラン(1り溶
液に、水素化アルミニウムリチウム(16,3g )を
少量ずつ分割して注意しなからOoCで加える。30分
後、反応混合物に順次水(16,3mm )、4N水酸
化ナトリウム水溶液(16,31i11 )オよび水(
48,91111)を滴下する。沈殿を濾去し、濾液の
溶媒を減圧下に留去する。残渣をジクロロメタン(80
0m1l )に溶解し、これにイミダゾール(40,8
5g )を加える。この溶液に塩化第三級ブチルジメチ
ルシリル(7t、tg)のジクロロメタン(200−)
溶液を0℃で滴下する。3時間後、沈殿を濾去し、濾液
を酢酸エチル(2k)と水(800m1l )との混合
物中に注ぐ、有機層を分取して硫酸マグネシウムで乾燥
する。溶媒を留去して得られる油状物をシリカゲル(2
1)を使用するクロマトグラフィーに付し、ヘキサンと
酢酸エチルとの混液(4:1−1:4)で溶出して、(
5S)−1−ベンジル−5−第三級ブチルジメチルシリ
ルオキシメチル−2−ピロリドン(105,34g )
を得る。
IR(スジリール) : 1700 cra−’
NMR(CDCI3.8 ) : 0.08 (6H,
s)、 0.87 (98,s)。
NMR(CDCI3.8 ) : 0.08 (6H,
s)、 0.87 (98,s)。
1.80−2.62 (4H,m)、 3.48−3.
72 (3H,m>。
72 (3H,m>。
4.03 (IH,d、J=14Hz)、 5.00
(IH,d、J=14Hz)。
(IH,d、J=14Hz)。
7.29 (5)1.s)
製1ノ図辷]l
ジイソプロピルアミン(53mQ )のテトラヒドロフ
ラン(250IILII)溶液にn−ブチルリチウム(
n−ヘキサン中1.62N)を−70℃で滴下する。3
0分後、反応混合物に(5S)−1−ベンジル−5−第
三級ブチルジメチルシリルオキシメチル−2−ピロリド
ン(109g)のテトラヒドロフラン(100mm )
溶液を滴下し、次いでこの混合物にアセトアルデヒド(
3111Q )を滴下し、混合物を室温まで昇温せしめ
る。3時間後、反応混合物を酢酸エチル(1りとIN塩
酸(500mm )との混合物中に注ぐ、有機層を分取
して硫酸マグネシウムで乾燥し、濃縮する。残渣の油状
物をシリカゲル(5001ti)を使用するクロマトグ
ラフィーに付し、ヘキサンと酢酸エチルとの混液(1:
4−1:2)で溶出して活性画分を集める。溶媒を留去
して得られる(2S)−1−ベンジル−5−第三級ブチ
ルジメチルシリルオキシメチル−3−(1−ヒドロキシ
エチル)−2−ピロリドンの残渣の油状物をテトラヒド
ロフラン(3001Q )に溶解する。この溶液に水素
化ホウ素ナトリウム(37g)および三フッ化ホウ素・
ジエチルエーテル錯体(45011+ ”)のテトラヒ
ドロフラン(1,2jり中部濁液を0°Cで滴下する6
反応混合物を室温で2日間攪拌する0反応混合物をメタ
ノール(500111)により注意しなから0℃で反応
停止せしめ、残る沈殿を濾去する。濾液の溶媒を留去後
、残渣をメタノール(800111”)と濃塩酸(10
0all )の混合物で希釈し、混合物を室温で3日間
攪拌する。溶媒を減圧下に留去後、残渣の溶液を酢酸エ
チル(500m+1 )と水(500111)との混合
物中に注ぐ、水層を分取してpHを10.5に調整する
。水層を酢酸エチル(5001119)で抽出する。有
機層を分取して硫酸マグネシウムで乾燥する。溶媒を留
去して、(2S)−1−ベンジル−4−(1−ヒドロキ
シエチル)−2−ヒドロキシメチルピロリジン(58,
0g)を得る。
ラン(250IILII)溶液にn−ブチルリチウム(
n−ヘキサン中1.62N)を−70℃で滴下する。3
0分後、反応混合物に(5S)−1−ベンジル−5−第
三級ブチルジメチルシリルオキシメチル−2−ピロリド
ン(109g)のテトラヒドロフラン(100mm )
溶液を滴下し、次いでこの混合物にアセトアルデヒド(
3111Q )を滴下し、混合物を室温まで昇温せしめ
る。3時間後、反応混合物を酢酸エチル(1りとIN塩
酸(500mm )との混合物中に注ぐ、有機層を分取
して硫酸マグネシウムで乾燥し、濃縮する。残渣の油状
物をシリカゲル(5001ti)を使用するクロマトグ
ラフィーに付し、ヘキサンと酢酸エチルとの混液(1:
4−1:2)で溶出して活性画分を集める。溶媒を留去
して得られる(2S)−1−ベンジル−5−第三級ブチ
ルジメチルシリルオキシメチル−3−(1−ヒドロキシ
エチル)−2−ピロリドンの残渣の油状物をテトラヒド
ロフラン(3001Q )に溶解する。この溶液に水素
化ホウ素ナトリウム(37g)および三フッ化ホウ素・
ジエチルエーテル錯体(45011+ ”)のテトラヒ
ドロフラン(1,2jり中部濁液を0°Cで滴下する6
反応混合物を室温で2日間攪拌する0反応混合物をメタ
ノール(500111)により注意しなから0℃で反応
停止せしめ、残る沈殿を濾去する。濾液の溶媒を留去後
、残渣をメタノール(800111”)と濃塩酸(10
0all )の混合物で希釈し、混合物を室温で3日間
攪拌する。溶媒を減圧下に留去後、残渣の溶液を酢酸エ
チル(500m+1 )と水(500111)との混合
物中に注ぐ、水層を分取してpHを10.5に調整する
。水層を酢酸エチル(5001119)で抽出する。有
機層を分取して硫酸マグネシウムで乾燥する。溶媒を留
去して、(2S)−1−ベンジル−4−(1−ヒドロキ
シエチル)−2−ヒドロキシメチルピロリジン(58,
0g)を得る。
IR(スジ砕−ル) : 3350 cm−’N
MR(CDCl2. l; ) : l、03=1.1
8 (3H,m)、 1.65−4.12 (11H,
m)、 7.30 (5H,s)(以下余白) 飯X二υ (2S)−1−ベンジル−4−(1−ヒドロキンエチル
)−2−ヒドロキシメチルピロリジン(59g)をメタ
ノール(1N)および濃塩酸(18mQ )の混合物中
、パラジウム−炭素(50%湿潤、13g)および水酸
化パラジウム(7g)を触媒として6kg/CaI2の
水素圧下10時間水素添加する。
MR(CDCl2. l; ) : l、03=1.1
8 (3H,m)、 1.65−4.12 (11H,
m)、 7.30 (5H,s)(以下余白) 飯X二υ (2S)−1−ベンジル−4−(1−ヒドロキンエチル
)−2−ヒドロキシメチルピロリジン(59g)をメタ
ノール(1N)および濃塩酸(18mQ )の混合物中
、パラジウム−炭素(50%湿潤、13g)および水酸
化パラジウム(7g)を触媒として6kg/CaI2の
水素圧下10時間水素添加する。
触媒を濾去し、濾液を減圧濃縮する。残渣を水(200
mQ )とテトラヒドロフラン(200111)との混
合物に溶解し、O′Cに冷却して4N水酸化ナトリウム
水溶液でpHを9.0に調整する。この混合物にクロロ
ギ酸アリル(31111)を、4N水酸化ナトリウム水
溶液でpHを8.0と8.5との間に調整しなから0°
Cで滴下する0反応混合物を酢酸エチルで抽出し、有機
層を分取して食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥
する。溶媒を留去して得られる油状物をシリカゲル(8
001111”)を使用するクロマトグラフィーに付し
、ヘキサンと酢酸エチルとの混液(1:2、v/v )
で溶出して、(2S)−1−アリルオキシカルボニル−
4−(1−ヒドロキシエチル)−2−ヒドロキシメチル
ピロリジン(31,68g )を得る。
mQ )とテトラヒドロフラン(200111)との混
合物に溶解し、O′Cに冷却して4N水酸化ナトリウム
水溶液でpHを9.0に調整する。この混合物にクロロ
ギ酸アリル(31111)を、4N水酸化ナトリウム水
溶液でpHを8.0と8.5との間に調整しなから0°
Cで滴下する0反応混合物を酢酸エチルで抽出し、有機
層を分取して食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥
する。溶媒を留去して得られる油状物をシリカゲル(8
001111”)を使用するクロマトグラフィーに付し
、ヘキサンと酢酸エチルとの混液(1:2、v/v )
で溶出して、(2S)−1−アリルオキシカルボニル−
4−(1−ヒドロキシエチル)−2−ヒドロキシメチル
ピロリジン(31,68g )を得る。
NMR(CDCl2) ’ 1.18−1.26 (3
H,Ql)。1.48−2.05(3H,m)、 3.
13−4.12 (68,m)、 4.59−4.62
(2H,m)、 5.20−5.36. (2H,m)
、 5.85−6.02(IH,m) 1直五亜二剋 (2S)−1−アリルオキシカルボニル−4−(1−ヒ
ドロキシエチル)−2−ヒドロキシメチルピロリジン(
30g)のアセトン(300ffLIl )溶液にジョ
ーンズ試薬(2,67N、 zasm )を0℃で滴下
する。3時間攪拌後、反応混合物に2−プロパツール(
500111)を滴下し、混合物を0℃で1時間攪拌す
る。沈殿を濾去し、濾液の溶媒を留去して得られる残渣
の油状物を酢酸エチルで抽出し、有機層を分取して食塩
水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥する。溶媒を留去
して、(28)−4−アセチル−1−アリルオキシカル
ボニルピロリジン−2−カルボン酸(26,56g)を
得る。
H,Ql)。1.48−2.05(3H,m)、 3.
13−4.12 (68,m)、 4.59−4.62
(2H,m)、 5.20−5.36. (2H,m)
、 5.85−6.02(IH,m) 1直五亜二剋 (2S)−1−アリルオキシカルボニル−4−(1−ヒ
ドロキシエチル)−2−ヒドロキシメチルピロリジン(
30g)のアセトン(300ffLIl )溶液にジョ
ーンズ試薬(2,67N、 zasm )を0℃で滴下
する。3時間攪拌後、反応混合物に2−プロパツール(
500111)を滴下し、混合物を0℃で1時間攪拌す
る。沈殿を濾去し、濾液の溶媒を留去して得られる残渣
の油状物を酢酸エチルで抽出し、有機層を分取して食塩
水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥する。溶媒を留去
して、(28)−4−アセチル−1−アリルオキシカル
ボニルピロリジン−2−カルボン酸(26,56g)を
得る。
IR(スジ曹−ル) : 1700 cm−’N
MR(CDC13,E ) ’ 2−23 (3H9s
)、2.15−2.60(2H,m)、 3.63−
3.78 (2H,m)、 4.39−4.70(4
H,m)、 5.18−5.40 (21,m)、
5.84−6.05(IH,m) 袈1J冒6−7) (2S)−4−アセチル−1−アリルオキシカルボニル
ピロリジン−2−カルボン酸(23,27g)のテトラ
ヒドロフラン(230all )溶液に順次1−ヒドロ
キシベンゾトリアゾール・水化物(13,7g )、ジ
メチルアミン・塩酸塩(8,27g)および1−エチル
−3−(3−ジメチルアミノプロピル)カルボジイミド
(18,5IQ )を0℃で加える。2時間後、反応混
合物を酢酸エチルと水との混合物中に注ぎ、有機層を分
取して炭酸水素ナトリウム飽和水溶液および食塩水で順
次2回ずつ洗浄する。溶媒を硫酸マグネシウムで乾燥し
、減圧下に留去する。残渣をシリカゲル(600111
)を使用するクロマトグラフィーに付し、ジクロロメタ
ンとアセトンとの混液(6:1−4:1、v/v )で
溶出して、(2S)−4−アセチル−1−アリルオキシ
カルボニル− ピロリジン(l1g)を得る。
MR(CDC13,E ) ’ 2−23 (3H9s
)、2.15−2.60(2H,m)、 3.63−
3.78 (2H,m)、 4.39−4.70(4
H,m)、 5.18−5.40 (21,m)、
5.84−6.05(IH,m) 袈1J冒6−7) (2S)−4−アセチル−1−アリルオキシカルボニル
ピロリジン−2−カルボン酸(23,27g)のテトラ
ヒドロフラン(230all )溶液に順次1−ヒドロ
キシベンゾトリアゾール・水化物(13,7g )、ジ
メチルアミン・塩酸塩(8,27g)および1−エチル
−3−(3−ジメチルアミノプロピル)カルボジイミド
(18,5IQ )を0℃で加える。2時間後、反応混
合物を酢酸エチルと水との混合物中に注ぎ、有機層を分
取して炭酸水素ナトリウム飽和水溶液および食塩水で順
次2回ずつ洗浄する。溶媒を硫酸マグネシウムで乾燥し
、減圧下に留去する。残渣をシリカゲル(600111
)を使用するクロマトグラフィーに付し、ジクロロメタ
ンとアセトンとの混液(6:1−4:1、v/v )で
溶出して、(2S)−4−アセチル−1−アリルオキシ
カルボニル− ピロリジン(l1g)を得る。
IR (スジ1−ル) : 1650. 17
05 cva−’NMR (CDC13,S ) ’
2−20 (3H.s)、1.99−2.53(2H
.醜)、 2.95−3.13 (6H.m)、 3.
40−4.00(3H,a+)、 4.50−4.85
・(31,m)、、 5.15−5.35(2)1.a
+)、 5.75−6.00 (IH.m)11五並二
犯 製造例3と実質的に同様にして、(3 S,4 R)−
4−[2−((23)−1−アリルオキシカルボニル−
2−ジメチルカルバモイルピロリジン−4−イル)−2
−オキソエチル]−3−[(IR)−1−第三級ブチル
ジメチルシリルオキシエチル]−2−オキソアゼチジン
を収率55.6%で得る。
05 cva−’NMR (CDC13,S ) ’
2−20 (3H.s)、1.99−2.53(2H
.醜)、 2.95−3.13 (6H.m)、 3.
40−4.00(3H,a+)、 4.50−4.85
・(31,m)、、 5.15−5.35(2)1.a
+)、 5.75−6.00 (IH.m)11五並二
犯 製造例3と実質的に同様にして、(3 S,4 R)−
4−[2−((23)−1−アリルオキシカルボニル−
2−ジメチルカルバモイルピロリジン−4−イル)−2
−オキソエチル]−3−[(IR)−1−第三級ブチル
ジメチルシリルオキシエチル]−2−オキソアゼチジン
を収率55.6%で得る。
IR (スジー−ル) : 1650. 17
00. 1750 am−’NMR (CDCl2
. 8 ) : 0.08 (6H.s)、 0.87
(9H.s)。
00. 1750 am−’NMR (CDCl2
. 8 ) : 0.08 (6H.s)、 0.87
(9H.s)。
1、21 (3H.d.J=7Hz)、 1.8−2.
50 (2H.m)。
50 (2H.m)。
2、60−3.20 (2H,m)、 2.96 <3
H.s)、 3.12(3H.s)、 3.25−4.
23 (6H.m)、 4.52−4.65<2H.m
)、 4.77−4.86 (IH.m)、 5.
11−5.36(2H.m)、 5.77−6、10
(2H.m)飯1」υ見二録 製造例13−8>と実質的に同様にして、2−1m(3
S.4R)−4−[2−((2S)−1−アリルオキシ
カルボニル−2−ジメチルカルバモイルピロリジン−4
−イル)−2−オキソエチル]−3−((IR)−1−
第三級ブチルジメチルシリルオキシエチル)−2−才キ
ソアゼチジン−1−イル]ー2ーオキソ酢酸アリルを収
率89%で得る。
H.s)、 3.12(3H.s)、 3.25−4.
23 (6H.m)、 4.52−4.65<2H.m
)、 4.77−4.86 (IH.m)、 5.
11−5.36(2H.m)、 5.77−6、10
(2H.m)飯1」υ見二録 製造例13−8>と実質的に同様にして、2−1m(3
S.4R)−4−[2−((2S)−1−アリルオキシ
カルボニル−2−ジメチルカルバモイルピロリジン−4
−イル)−2−オキソエチル]−3−((IR)−1−
第三級ブチルジメチルシリルオキシエチル)−2−才キ
ソアゼチジン−1−イル]ー2ーオキソ酢酸アリルを収
率89%で得る。
IR (スジ書−ル) : 1650. 17
00. 1755. 1805 cra−’NM
R (CDCl2.8 ) ’ 0.08 (6H,s
)、0.87 (9H,s)。
00. 1755. 1805 cra−’NM
R (CDCl2.8 ) ’ 0.08 (6H,s
)、0.87 (9H,s)。
1、23 (3H.d.J=7Hz)、 2.0−2.
4 (2H.a+)、 2.97(3H,s)、 3.
13 (3Ls)、 3.00−4.33 (6H.w
i)。
4 (2H.a+)、 2.97(3H,s)、 3.
13 (3Ls)、 3.00−4.33 (6H.w
i)。
4、57−4.84 (5H.a+)、 5.18−5
.45 (4)1.m)。
.45 (4)1.m)。
5、78−6.05 (2H.m)
聚産五互二U
製造例28−1)と実質的に同様にして、1−第三級プ
チルオキシカルボニル−2−才,キソピロリジンから1
−第三級プチルオキシカルボニル−3−(1−ヒドロキ
シエチル)−2−オキソピロリジンを得る。
チルオキシカルボニル−2−才,キソピロリジンから1
−第三級プチルオキシカルボニル−3−(1−ヒドロキ
シエチル)−2−オキソピロリジンを得る。
IR にート) : 3400. 1780.
1710 cm−’NMR (CDCl2,S
) ’ 1. 1−1. 4 (3H,am)、1.
53(9H.s) 飯W二υ 1−第三級プチルオキシカルボニル−3−(1−ヒドロ
キシエチル)−2−オキソピロリジン(15g)のジク
ロロメタン(200111 )溶液に、3。
1710 cm−’NMR (CDCl2,S
) ’ 1. 1−1. 4 (3H,am)、1.
53(9H.s) 飯W二υ 1−第三級プチルオキシカルボニル−3−(1−ヒドロ
キシエチル)−2−オキソピロリジン(15g)のジク
ロロメタン(200111 )溶液に、3。
4−ジヒドロ−2H−ピラン(11.9誠)およびp−
トルエンスルホン酸(1.2g)ヲo℃で加える.同温
で1時間攪拌後、溶液を順次炭酸水素ナトリウム飽和水
溶液および食塩水で洗浄する.r#液を乾燥して溶媒を
留去し、得られる残渣をシリカゲルを使用するクロマト
グラフィーに付し、n−ヘキサンと酢酸エチルとの混液
(2:1−3:1、V/V )で溶出して1−第三級ブ
チルオキシカルボニル−3−(1−(テトラヒドロピラ
ン−2−イルオキシ)エチル)−2−オキソピロリジン
( 18.4K )を得る。
トルエンスルホン酸(1.2g)ヲo℃で加える.同温
で1時間攪拌後、溶液を順次炭酸水素ナトリウム飽和水
溶液および食塩水で洗浄する.r#液を乾燥して溶媒を
留去し、得られる残渣をシリカゲルを使用するクロマト
グラフィーに付し、n−ヘキサンと酢酸エチルとの混液
(2:1−3:1、V/V )で溶出して1−第三級ブ
チルオキシカルボニル−3−(1−(テトラヒドロピラ
ン−2−イルオキシ)エチル)−2−オキソピロリジン
( 18.4K )を得る。
IR(ニーt) ’ 1780. 1710 a
m−1HMR(CDC13,S ) ’ l−52(9
H1s)、1.1−1.4 (3H1m)、 3.4
−4.0 (4H,m)、 4.1−4.4 (18
,m)。
m−1HMR(CDC13,S ) ’ l−52(9
H1s)、1.1−1.4 (3H1m)、 3.4
−4.0 (4H,m)、 4.1−4.4 (18
,m)。
4.6−4.8 (IH,m)
振1JトL二拉
1−第三級ブチルオキシカルボニル−3−(1−(テト
ラヒドロピラン−2−イルオキシ)エチル)−2−オキ
ソピロリジン(18,4g )のテトラヒドロフラン(
16011111)溶液に、テトラヒドロフラン中IN
臭化メチルマグネシウム(LOOIQ )を0°Cで加
える。30分間攪拌後、溶液に塩化アンモニウム飽和水
溶液を加える。有機層を分取して硫酸マグネシウムで乾
燥し、溶媒を減圧下に留去する。残渣をテトラヒドロフ
ラン(100ffLIl )とメタノール(100IQ
)との混合物に溶解し、水素化ホウ素ナトリウム(5
,8g)を溶液に0℃で加える。同温で1時間攪拌後、
溶媒を留去して酢酸エチルで抽出する。有機層を順次I
N塩酸、炭酸水素ナトリウム飽和水溶液および食塩水で
洗浄する。溶液を乾燥して溶媒を留去し、得られる残渣
をシリカゲルを使用するクロマトグラフィーに付し、ヘ
キサンと酢酸エチルとの混液(2:1、V/V )で溶
出して、N−第三級プチルオキシカルボニル−N−(3
−(1−ヒドロキシエチル)−4−(テトラヒドロピラ
ン−2−イルオキシ)ペンデル)アミン(13,5g)
を得る。
ラヒドロピラン−2−イルオキシ)エチル)−2−オキ
ソピロリジン(18,4g )のテトラヒドロフラン(
16011111)溶液に、テトラヒドロフラン中IN
臭化メチルマグネシウム(LOOIQ )を0°Cで加
える。30分間攪拌後、溶液に塩化アンモニウム飽和水
溶液を加える。有機層を分取して硫酸マグネシウムで乾
燥し、溶媒を減圧下に留去する。残渣をテトラヒドロフ
ラン(100ffLIl )とメタノール(100IQ
)との混合物に溶解し、水素化ホウ素ナトリウム(5
,8g)を溶液に0℃で加える。同温で1時間攪拌後、
溶媒を留去して酢酸エチルで抽出する。有機層を順次I
N塩酸、炭酸水素ナトリウム飽和水溶液および食塩水で
洗浄する。溶液を乾燥して溶媒を留去し、得られる残渣
をシリカゲルを使用するクロマトグラフィーに付し、ヘ
キサンと酢酸エチルとの混液(2:1、V/V )で溶
出して、N−第三級プチルオキシカルボニル−N−(3
−(1−ヒドロキシエチル)−4−(テトラヒドロピラ
ン−2−イルオキシ)ペンデル)アミン(13,5g)
を得る。
IR(ニー)) : 3400. 1700
am−1■R(CDCIs、S ) ’ 1.43 (
9H1s)、1.1−1.4 (6H。
am−1■R(CDCIs、S ) ’ 1.43 (
9H1s)、1.1−1.4 (6H。
m)、 3.0−3.3 (2H,a+)、 4.5−
4.7 (LH,m)。
4.7 (LH,m)。
4.7−5.1 (IH,m)
11NFニリ
製造例1O−2)と実質的に同様にして、N−第三級プ
チルオキシカル−ボニル−N−(3−(1−メタンスル
ホニルオキシエチル)−4−(テトラヒドロピラン−2
−イルオキシ)ペンチル)アミンを得る。
チルオキシカル−ボニル−N−(3−(1−メタンスル
ホニルオキシエチル)−4−(テトラヒドロピラン−2
−イルオキシ)ペンチル)アミンを得る。
IR(ニート) ’ 3350. 1700
am−1HMR(CDC13,l; ) ’ 1.1−
1.4 (6H1m)、1.44 (9H0s)、
2.95−3.1 (3%(、tm)、 4.5−
5.3 (21(、m)11jトL二υ N−1三級ブチルオキシカルボニルーN−(3−(1−
メタンスルホニルオキシエチル)−4−(テトラヒドロ
ピラン−2−イルオキシ)ペンチル)アミン(17g)
のジメチルホルムアミド(20〇−)溶液に、水素化ナ
トリウム(油中60%、6.6区)を0℃で加える。3
8℃で4時間攪拌後、溶液ヲ酢酸エチル(4001Q
)と水(4QQmll )との混合物中に注ぐ、有機層
を水、IN塩酸、炭酸水素ナトリウム飽和水溶液および
食塩水で順次洗浄する。
am−1HMR(CDC13,l; ) ’ 1.1−
1.4 (6H1m)、1.44 (9H0s)、
2.95−3.1 (3%(、tm)、 4.5−
5.3 (21(、m)11jトL二υ N−1三級ブチルオキシカルボニルーN−(3−(1−
メタンスルホニルオキシエチル)−4−(テトラヒドロ
ピラン−2−イルオキシ)ペンチル)アミン(17g)
のジメチルホルムアミド(20〇−)溶液に、水素化ナ
トリウム(油中60%、6.6区)を0℃で加える。3
8℃で4時間攪拌後、溶液ヲ酢酸エチル(4001Q
)と水(4QQmll )との混合物中に注ぐ、有機層
を水、IN塩酸、炭酸水素ナトリウム飽和水溶液および
食塩水で順次洗浄する。
溶液を乾燥して溶媒を留去し、次いで残渣をシリカゲル
を使用するクロマトグラフィーに付し、ヘキサンと酢酸
エチルとの混液(3: 1. v/v)で溶出して、1
−第三級プチルオキシカルボニル−2−メチル−3−(
1−テトラヒドロピラニルオキシエチル)ピロリジン(
10,5g)を得る。
を使用するクロマトグラフィーに付し、ヘキサンと酢酸
エチルとの混液(3: 1. v/v)で溶出して、1
−第三級プチルオキシカルボニル−2−メチル−3−(
1−テトラヒドロピラニルオキシエチル)ピロリジン(
10,5g)を得る。
IR(ニー←) : 1690 cta−’NM
R(CDC13,l; ) ’ 1.1−1.4 (6
H1m)、1− as (9Ls)、 4.5−4.8
(IH,m)裂1tlL二り 1−第三級プチルオキシカルボニル−2−メチル−3−
(1−テトラヒドロピラニルオキシエチル)ピロリジン
(10,2g)の酢酸(100戚)溶液に6N塩酸(r
ooai )を常温で加える。12時間攪拌後、溶媒を
留去する。残渣をテトラヒドロフランC5QmQ )と
水(50111)との混合物に溶解する。
R(CDC13,l; ) ’ 1.1−1.4 (6
H1m)、1− as (9Ls)、 4.5−4.8
(IH,m)裂1tlL二り 1−第三級プチルオキシカルボニル−2−メチル−3−
(1−テトラヒドロピラニルオキシエチル)ピロリジン
(10,2g)の酢酸(100戚)溶液に6N塩酸(r
ooai )を常温で加える。12時間攪拌後、溶媒を
留去する。残渣をテトラヒドロフランC5QmQ )と
水(50111)との混合物に溶解する。
溶液にクロロギ酸アリル(4,1ff111)を、30
%水酸化ナトリウム水溶液でpHを9−10にv14t
しながら0℃で滴下する。混合物を酢酸エチルで抽出し
、次いで有機層を食塩水で洗浄して硫酸マグネシウムで
乾燥する。!媒を留去して、1−第三級プチルオキシカ
ルボニル−3−(1−ヒドロキシエチル)−2−メチル
ピロリジン(7,45g)を得る。
%水酸化ナトリウム水溶液でpHを9−10にv14t
しながら0℃で滴下する。混合物を酢酸エチルで抽出し
、次いで有機層を食塩水で洗浄して硫酸マグネシウムで
乾燥する。!媒を留去して、1−第三級プチルオキシカ
ルボニル−3−(1−ヒドロキシエチル)−2−メチル
ピロリジン(7,45g)を得る。
IR(ニー)) : 3400. 1680
am−’NMR(CDC13,8> ’ 1.1−1.
4 (6H1m)、3.2−4.0(4H,m)、 4
.4−4.7 <2H,m)、 5.1−5.4 (2
H,m)。
am−’NMR(CDC13,8> ’ 1.1−1.
4 (6H1m)、3.2−4.0(4H,m)、 4
.4−4.7 <2H,m)、 5.1−5.4 (2
H,m)。
5.8−6.0 (IH,m)
製造例27−7)
製造例24−3)と実質的に同様にして、3−アセチル
−1−アリルオキシカルボニル− ピロリジンを収率73.2%で得る。
−1−アリルオキシカルボニル− ピロリジンを収率73.2%で得る。
IR (ニー)) : 1690−1710
cm−’NMR (CDCI3.8 > ’ 1.
2−1. 4 (3H.m)、2.21 (3H。
cm−’NMR (CDCI3.8 > ’ 1.
2−1. 4 (3H.m)、2.21 (3H。
s)、 2.75−2.90 (IH.m)、 4.5
−4.6 (2H.m>。
−4.6 (2H.m>。
5、1−5.4 (2H,n)、 5.8−6.0 (
LH.m>1産五p二犯 製造例3と実質的に同様にして、(3 S.4 R)−
4−[2−(1−アリルオキシカルボニル−2−メチル
ピロリジン−3−イル)−2−オキソエチルコー3−[
(IR)−1−第三級ブチルジメチルシリルオキシエチ
ル]−2−オキソアゼテジンを収率59.6%で得る。
LH.m>1産五p二犯 製造例3と実質的に同様にして、(3 S.4 R)−
4−[2−(1−アリルオキシカルボニル−2−メチル
ピロリジン−3−イル)−2−オキソエチルコー3−[
(IR)−1−第三級ブチルジメチルシリルオキシエチ
ル]−2−オキソアゼテジンを収率59.6%で得る。
IR (ニート) 7 3250. 17
50. 1700 cm−1HMR (CDCI
3. l; ) : 0.06, 0.07 (68.
それぞれs)、 0.87 (9H.s)、 1.1−
1.4 (6H.m)、 2.6−3、0 (3H.m
)、 4.5−4.6 (2H.m)、 5.1−5.
4(2)1.m)、 5.8−6.1 (2H.m)振
1jll−リ リチウムジイソプロピルアミド( 4. 78 10−
3モル)のテトラヒドロフラン溶液に、1−ベンジル−
4−(第三級ブチルジメチルシリルオキシメチル)−2
−オキソピロリジン(1.0g)のテトラヒドロフラン
( 2001m )溶液を窒素雰囲気中−78°Cで加
える.混合物を一78℃で30分間攪拌し、反応混合物
にアセトアルデヒド(5I111りを加える。
50. 1700 cm−1HMR (CDCI
3. l; ) : 0.06, 0.07 (68.
それぞれs)、 0.87 (9H.s)、 1.1−
1.4 (6H.m)、 2.6−3、0 (3H.m
)、 4.5−4.6 (2H.m)、 5.1−5.
4(2)1.m)、 5.8−6.1 (2H.m)振
1jll−リ リチウムジイソプロピルアミド( 4. 78 10−
3モル)のテトラヒドロフラン溶液に、1−ベンジル−
4−(第三級ブチルジメチルシリルオキシメチル)−2
−オキソピロリジン(1.0g)のテトラヒドロフラン
( 2001m )溶液を窒素雰囲気中−78°Cで加
える.混合物を一78℃で30分間攪拌し、反応混合物
にアセトアルデヒド(5I111りを加える。
−78°Cで30分間攪拌後、溶液を氷水中に注ぎ、水
相を塩化ナトリウムで飽和せしめる.有機相を分取して
水相を酢酸エチルで抽出する.有機相を合わせて硫酸マ
グネシウムで乾燥し、濃縮する。残 ′渣をシリカゲ
ルを使用するクロマトグラフィーに付シ、n−ヘキサン
と酢酸エチルとの混液(3:1−2:1,v/v)で溶
出して、1−ベンジル−3−(1−ヒドロキシエチル)
−4−(第三級ブチルジメチルシリルオキシメチル)−
2−オキソピロリジン(1.01g)を得る。
相を塩化ナトリウムで飽和せしめる.有機相を分取して
水相を酢酸エチルで抽出する.有機相を合わせて硫酸マ
グネシウムで乾燥し、濃縮する。残 ′渣をシリカゲ
ルを使用するクロマトグラフィーに付シ、n−ヘキサン
と酢酸エチルとの混液(3:1−2:1,v/v)で溶
出して、1−ベンジル−3−(1−ヒドロキシエチル)
−4−(第三級ブチルジメチルシリルオキシメチル)−
2−オキソピロリジン(1.01g)を得る。
IR (ニート) : 3400. 166
5 am−’NMR (CDCI3. 8 )
+ 0.08 (6)1.s)、 0.85
(9H.s)。
5 am−’NMR (CDCI3. 8 )
+ 0.08 (6)1.s)、 0.85
(9H.s)。
3、0−3.4 (4H.m)、 3.5−3.7
(2H.m>、 3.9−4.4(IH,m)、 4
.45 (LH.br s)、 7.1−7.4 (5
H.m)臀」Jしl−針 製造例26−4)と実質的に同様にして、水素化ホウ素
ナトリウムと三フッ化ホウ素との懸濁液と反応移せ、次
いで塩酸と反応させることにより、1−ベンジル−3−
( 1−ヒドロキシエチル)−4−(ヒドロキシメチル
)ピロリジンを定量的に得る。
(2H.m>、 3.9−4.4(IH,m)、 4
.45 (LH.br s)、 7.1−7.4 (5
H.m)臀」Jしl−針 製造例26−4)と実質的に同様にして、水素化ホウ素
ナトリウムと三フッ化ホウ素との懸濁液と反応移せ、次
いで塩酸と反応させることにより、1−ベンジル−3−
( 1−ヒドロキシエチル)−4−(ヒドロキシメチル
)ピロリジンを定量的に得る。
IR (ニー)) ’ 3350 c+m−1
HMR (D20. l; ’) : 1.1−1.3
(31.13.4−4。1(7H.m)、 7.2
−7.4 (5H.m)籠」1128m吋 製造例26−5)と実質的に同様にして、1−アリルオ
キシカルボニル−3−( 1−ヒドロキシエチル)−4
−(ヒドロキシエチル)ピロリジンを収率87,0%で
得る。
HMR (D20. l; ’) : 1.1−1.3
(31.13.4−4。1(7H.m)、 7.2
−7.4 (5H.m)籠」1128m吋 製造例26−5)と実質的に同様にして、1−アリルオ
キシカルボニル−3−( 1−ヒドロキシエチル)−4
−(ヒドロキシエチル)ピロリジンを収率87,0%で
得る。
IR (ニー)) : 3400. 16
80 cm−’NMR (CDCI3,ε) 7 1
.1−1.4 (3H.m)、 4.5−4.6(2H
.a+)、 5.1−5.5 (2H,a+)、 5.
8−6.0 (IH.m)袈m−1 製造例14−1)と実質的に同様にして、塩化第三級ブ
チルジメチルシリル約1当量と反応させることにより、
1−アリルオキシカルボニル−4−(第三級ブチルジメ
チルシリルオキシメチル)−3−(1−ヒドロキシエチ
ル)ピロリジンを収率30、9%で得る。
80 cm−’NMR (CDCI3,ε) 7 1
.1−1.4 (3H.m)、 4.5−4.6(2H
.a+)、 5.1−5.5 (2H,a+)、 5.
8−6.0 (IH.m)袈m−1 製造例14−1)と実質的に同様にして、塩化第三級ブ
チルジメチルシリル約1当量と反応させることにより、
1−アリルオキシカルボニル−4−(第三級ブチルジメ
チルシリルオキシメチル)−3−(1−ヒドロキシエチ
ル)ピロリジンを収率30、9%で得る。
IR (ニー)) : 3400. 169
0 cm−’NMR (CDCI 3. l;
) 二 0.0g (6H.s)、 0.91
(9H.s)。
0 cm−’NMR (CDCI 3. l;
) 二 0.0g (6H.s)、 0.91
(9H.s)。
1、24 (31,d.J=7Hz)、 4.5−4.
7 (2H.m)。
7 (2H.m)。
5、1−5.4 (2H.DI)、 5.8−6.0
(IH.IIl)1産五訃二股 製造例24−3)と実質的に同様にして、3−アセチル
−1−アリルオキシカルボニル−4−(第三級ブチルジ
メチルシリルオキシメチル)ピロリジンを収率92.4
%で得る。
(IH.IIl)1産五訃二股 製造例24−3)と実質的に同様にして、3−アセチル
−1−アリルオキシカルボニル−4−(第三級ブチルジ
メチルシリルオキシメチル)ピロリジンを収率92.4
%で得る。
IR (ニー)) ! 1705 c+m−’
NMR (CDCI3.8 ) ’ 0.08 (6H
.s)、0.90 (9H.s)。
NMR (CDCI3.8 ) ’ 0.08 (6H
.s)、0.90 (9H.s)。
2、17 (3H.s)、 3.0−3.4 (2H.
m)、 3.5−3.8(5H,醜)、 4.5−4
.6 (2H.m)、 5.1−5.3 (2H
。
m)、 3.5−3.8(5H,醜)、 4.5−4
.6 (2H.m)、 5.1−5.3 (2H
。
m)、 5.8−6.0 (LM、醜)振1Jll二
の 製造例3と実質的に同様にして、(3S、4 R)−4
−[2−(1−アリルオキシカルボニル−4−(第三級
ブチルジメデルシリルオキシメチル)ピロリジン−3−
イル)−2−オキソエチル]−3−[(IR)−1−第
三級ブチルジメチルシリルオキシエチル]−2−オキソ
アゼチジンを収率54.8%で得る。
の 製造例3と実質的に同様にして、(3S、4 R)−4
−[2−(1−アリルオキシカルボニル−4−(第三級
ブチルジメデルシリルオキシメチル)ピロリジン−3−
イル)−2−オキソエチル]−3−[(IR)−1−第
三級ブチルジメチルシリルオキシエチル]−2−オキソ
アゼチジンを収率54.8%で得る。
IR(ニー)) : 3250. 1750.
1700 cm−’NMR(CDCIs、 &
) : 0.07.0.06 (68,それぞれs)、
0.86.0.88 (9H,それぞれs)、 1.
24(3H,d、JニアHz)、 3.4−3.8 (
4H,m)、 3.9−4.2(2H,s)、 4.5
−4.6 (2H,m)、 5.1−5.3 (21,
m)。
1700 cm−’NMR(CDCIs、 &
) : 0.07.0.06 (68,それぞれs)、
0.86.0.88 (9H,それぞれs)、 1.
24(3H,d、JニアHz)、 3.4−3.8 (
4H,m)、 3.9−4.2(2H,s)、 4.5
−4.6 (2H,m)、 5.1−5.3 (21,
m)。
5.8−6.0(IH,m)、 6.03 (IH
,br s)1産轟毅二旦 (R)−チアゾリジン−4−カルボン酸(20,0g)
の水(100111)とテトラヒドロフラン(loom
a)との混合物溶液に、塩化4−ニトロベンジルオキシ
カルボニル(32,4g)のテトラヒドロフラン(60
111F )溶液を、4N水酸化ナトリウム水溶液でp
Hを8.5−9.0の間に保ちながら水冷攪拌下に加え
る。30分間攪拌後、濃塩酸でpH1にMJR1!シ、
酢酸エチルで抽出して硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒
を減圧下に留去して、(R)−3−(4−ニトロベンジ
ルオキシカルボニル)チアゾリジン−4−カルボン酸(
54,5g)を粗製シロップ状物として得る。
,br s)1産轟毅二旦 (R)−チアゾリジン−4−カルボン酸(20,0g)
の水(100111)とテトラヒドロフラン(loom
a)との混合物溶液に、塩化4−ニトロベンジルオキシ
カルボニル(32,4g)のテトラヒドロフラン(60
111F )溶液を、4N水酸化ナトリウム水溶液でp
Hを8.5−9.0の間に保ちながら水冷攪拌下に加え
る。30分間攪拌後、濃塩酸でpH1にMJR1!シ、
酢酸エチルで抽出して硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒
を減圧下に留去して、(R)−3−(4−ニトロベンジ
ルオキシカルボニル)チアゾリジン−4−カルボン酸(
54,5g)を粗製シロップ状物として得る。
IRに−ト) : 1720−1680 am
−’飯JLI!IM−二社 製造例2O−3)と実質的に同様にして、5−[(4R
)−3−(4−ニトロベンジルオキシカルボニル)チア
ゾリジン−4−イル]カルボニル−2゜2−ジメチル−
1,3−ジオキサン−4,6−ジオンを収率75.4%
で得る。
−’飯JLI!IM−二社 製造例2O−3)と実質的に同様にして、5−[(4R
)−3−(4−ニトロベンジルオキシカルボニル)チア
ゾリジン−4−イル]カルボニル−2゜2−ジメチル−
1,3−ジオキサン−4,6−ジオンを収率75.4%
で得る。
IR(CHCIs) ’ 1725−1660 am’
籠1」■ll二 部造例20−4>と実質的に同様にして、(4R)−4
−アセチル−3−(4−ニトロベンジルオキシカルボニ
ル)チアゾリジンを収率56.5%で得る。
籠1」■ll二 部造例20−4>と実質的に同様にして、(4R)−4
−アセチル−3−(4−ニトロベンジルオキシカルボニ
ル)チアゾリジンを収率56.5%で得る。
IR(スジ励−ル) : 1725. 1690
cra″″INMR(CDCIs、δ) : 2.2
5 (3)1.s)、 3.1−3.45 (2B。
cra″″INMR(CDCIs、δ) : 2.2
5 (3)1.s)、 3.1−3.45 (2B。
a)、 4.5−5.0 (3H,Ia)、 5
.29 (2H,s)、 7.45−7.6 (2
H4)、 8.15−8.25 (2B、11>籠1
jIl二〇 製造例2O−5)と実質的に同様にして、(3s。
.29 (2H,s)、 7.45−7.6 (2
H4)、 8.15−8.25 (2B、11>籠1
jIl二〇 製造例2O−5)と実質的に同様にして、(3s。
4R)−3−[(IR)−1−第三級ブチルジメチルシ
リルオキシエチル]−4−[:2−[(4R)−3−(
4−ニトロベンジルオキシカルボニル)チアゾリジン−
4−イル)−2−オキソエチル]−2−才キソアゼチジ
ンを収率61.8%で得る。
リルオキシエチル]−4−[:2−[(4R)−3−(
4−ニトロベンジルオキシカルボニル)チアゾリジン−
4−イル)−2−オキソエチル]−2−才キソアゼチジ
ンを収率61.8%で得る。
IR(CHCIs) :1755.1705 cm−’
NMR(CDCIs、l; ) :0.05 (6H1
s)、0.85 (9H9s)。
NMR(CDCIs、l; ) :0.05 (6H1
s)、0.85 (9H9s)。
1.18 (3H,d、J=5.6Hz)11五社二坦
製造例2O−6)と実質的に同様にして、2−[(3S
、4R)−3−((IR)−1−第三級ブチルジメチル
シリルオキシエチル)−4−[2−((4R)−3−(
4−ニトロベンジルオキシカルボニル)チアゾリジン−
4−イル)−2−オキソエチル]−2−才キソアゼデジ
ン−1−イル]−2−オキソ酢酸4−ニトロベンジルを
収率80.7%で得る。
、4R)−3−((IR)−1−第三級ブチルジメチル
シリルオキシエチル)−4−[2−((4R)−3−(
4−ニトロベンジルオキシカルボニル)チアゾリジン−
4−イル)−2−オキソエチル]−2−才キソアゼデジ
ン−1−イル]−2−オキソ酢酸4−ニトロベンジルを
収率80.7%で得る。
IR(CHC13) ’ 1805.1755−168
5 am−1鉦1麿1g二口 (2S、3.R)−2−(ベンジルオキシカルボニルア
ミノ よび1−ヒドロキシベンゾチアゾール(53.5g)の
テトラヒドロフラン( 8001jL)中部濁液に、1
−(3−’,;メゾルアミノプロピル)−3−エチルカ
ルボジイミド・塩酸塩(75.6g)を−10〜0℃で
少量ずつ分割して加え、混合物を同温で1時間攪拌する
.この冷混合物を濃アンモニア水(8001Il)にO
−10”cで滴下する.混合物を0−10℃で2時間攪
拌し、この混合物に酢酸エチル(1.61)を加える.
有機層を水、IN塩酸、炭酸水素ナトリウム飽和水溶液
および食塩水で順次洗浄して硫酸マグネシウムで乾燥し
、減圧濃縮してシロップ状物を得る.シロップ状物を粉
末化して、(2S、3R)−2−(ベンジルオキシカル
ボニルアミノ)−3−ヒドロキシブチルアミド(71,
3g)を固体として得る。
5 am−1鉦1麿1g二口 (2S、3.R)−2−(ベンジルオキシカルボニルア
ミノ よび1−ヒドロキシベンゾチアゾール(53.5g)の
テトラヒドロフラン( 8001jL)中部濁液に、1
−(3−’,;メゾルアミノプロピル)−3−エチルカ
ルボジイミド・塩酸塩(75.6g)を−10〜0℃で
少量ずつ分割して加え、混合物を同温で1時間攪拌する
.この冷混合物を濃アンモニア水(8001Il)にO
−10”cで滴下する.混合物を0−10℃で2時間攪
拌し、この混合物に酢酸エチル(1.61)を加える.
有機層を水、IN塩酸、炭酸水素ナトリウム飽和水溶液
および食塩水で順次洗浄して硫酸マグネシウムで乾燥し
、減圧濃縮してシロップ状物を得る.シロップ状物を粉
末化して、(2S、3R)−2−(ベンジルオキシカル
ボニルアミノ)−3−ヒドロキシブチルアミド(71,
3g)を固体として得る。
mp : 96−98℃
IR(Xジ費−ル) : 3450−3200.
1660−1650 am−1mMR(CDC13,
l; ) :1.10 (3H1d、に5.6Hz>、
4.0−4.2 (2H,m)、 4.29 (2H
,br、s)、 5.06 (2H。
1660−1650 am−1mMR(CDC13,
l; ) :1.10 (3H1d、に5.6Hz>、
4.0−4.2 (2H,m)、 4.29 (2H
,br、s)、 5.06 (2H。
s)、 6.29 (LH,d、J=8.3Hz)、
6.62 (LH,s)。
6.62 (LH,s)。
6.84 (LH,s)、 7.29 (5H,s)袈
1」01二針 (2S、3R)−2−ベンジルオキシカルボニル−3−
ヒドロキシブチルアミド(71,1g)のテトラヒドロ
フラン(1,4jり溶液に、ボラン−硫化ジメデル錯体
(85IQ )を水冷攪拌下に加え、混合物を常温で2
日間攪拌する。fl!合物にメタノール(2201d
)を氷冷下に滴下する。混合物を減圧濃縮して残渣を得
る。残渣をメタノールに溶解する。この溶液に塩化水素
(37,5g)のメタノール(250ffi11 )溶
液を加え、溶液を常温で24時間攪拌する。溶液を減圧
濃縮してシロップ状物を得る。
1」01二針 (2S、3R)−2−ベンジルオキシカルボニル−3−
ヒドロキシブチルアミド(71,1g)のテトラヒドロ
フラン(1,4jり溶液に、ボラン−硫化ジメデル錯体
(85IQ )を水冷攪拌下に加え、混合物を常温で2
日間攪拌する。fl!合物にメタノール(2201d
)を氷冷下に滴下する。混合物を減圧濃縮して残渣を得
る。残渣をメタノールに溶解する。この溶液に塩化水素
(37,5g)のメタノール(250ffi11 )溶
液を加え、溶液を常温で24時間攪拌する。溶液を減圧
濃縮してシロップ状物を得る。
シロップ状物の水(350111)とテトラヒドロフラ
ン(35011J+)との混合物溶液に、クロロギ酸ベ
ンジル(40,1m )のテトラヒドロフラン< 12
011111 )溶液を、4N水酸化ナトリウム水溶液
でpHを8.5−9.5の間に保ちながら水冷攪拌下に
加える。30分間攪拌後、混合物を酢酸エチル(700
1Q )で抽出して硫酸7グネシウムで乾燥し、溶媒を
減圧下に留去してシロップ状物を得る。シロップ状物を
シリカゲル(7tog)を使用するカラムクロマトグラ
フィーに付し、メタノールとクロロホルムとの混液(1
:99、v/v )で溶出して、(2R,3R)−1,
2−ビス(ベンジルオキシカルボニルアミノ)−3−ヒ
ドロキシブタン(74,16g )をシロップ状物とし
て得る。
ン(35011J+)との混合物溶液に、クロロギ酸ベ
ンジル(40,1m )のテトラヒドロフラン< 12
011111 )溶液を、4N水酸化ナトリウム水溶液
でpHを8.5−9.5の間に保ちながら水冷攪拌下に
加える。30分間攪拌後、混合物を酢酸エチル(700
1Q )で抽出して硫酸7グネシウムで乾燥し、溶媒を
減圧下に留去してシロップ状物を得る。シロップ状物を
シリカゲル(7tog)を使用するカラムクロマトグラ
フィーに付し、メタノールとクロロホルムとの混液(1
:99、v/v )で溶出して、(2R,3R)−1,
2−ビス(ベンジルオキシカルボニルアミノ)−3−ヒ
ドロキシブタン(74,16g )をシロップ状物とし
て得る。
IR(ニー)) + 3450−3300. 1
720−1680 am−’NMR(CD≦13・S
)“1・16 (3M・d、J“6・山)11λ並二丑 (2R,3R)−1,2−ビス(ベンジルオキシカルボ
ニルアミノ)−3−ヒドロキシブタン(80,5g)の
メタノール(8001111’)溶液を、パラジウム−
炭素(10%、8g)の存在下水素雰囲気中大気圧下常
温で5時間水素添加する。触媒を濾去し、濾液を減圧濃
縮してシロップ状物を得る。
720−1680 am−’NMR(CD≦13・S
)“1・16 (3M・d、J“6・山)11λ並二丑 (2R,3R)−1,2−ビス(ベンジルオキシカルボ
ニルアミノ)−3−ヒドロキシブタン(80,5g)の
メタノール(8001111’)溶液を、パラジウム−
炭素(10%、8g)の存在下水素雰囲気中大気圧下常
温で5時間水素添加する。触媒を濾去し、濾液を減圧濃
縮してシロップ状物を得る。
シロップ状物の水(400m11 )とテトラヒドロフ
ラン(400ffl11 )との混合物溶液にクロロギ
酸アリル(45,8111)のテトラヒドロフラン(9
0絨)溶液を、4N水酸化ナトリウムでpHを8.5−
9.5に保ちながら水冷攪拌下に加える。1時間攪拌後
、混合物を酢酸エチル(800ff1m )で抽出し、
食塩水(400IIIQ)で洗浄して硫酸マグネシウム
で乾燥し、減圧濃縮してシロップ状物を得る。シロップ
状物をシリカゲル(600g)を使用するカラムクロマ
トグラフィーに付し、メタノールとクロロホルムとの混
液(1:99、v/v )で溶出して、(2R,3R)
−1,2−ビス(アリルオキシカルボニルアミノ)−3
−ヒドロキシブタン(41,78g )をシロップ状物
として得る。
ラン(400ffl11 )との混合物溶液にクロロギ
酸アリル(45,8111)のテトラヒドロフラン(9
0絨)溶液を、4N水酸化ナトリウムでpHを8.5−
9.5に保ちながら水冷攪拌下に加える。1時間攪拌後
、混合物を酢酸エチル(800ff1m )で抽出し、
食塩水(400IIIQ)で洗浄して硫酸マグネシウム
で乾燥し、減圧濃縮してシロップ状物を得る。シロップ
状物をシリカゲル(600g)を使用するカラムクロマ
トグラフィーに付し、メタノールとクロロホルムとの混
液(1:99、v/v )で溶出して、(2R,3R)
−1,2−ビス(アリルオキシカルボニルアミノ)−3
−ヒドロキシブタン(41,78g )をシロップ状物
として得る。
LRに−ト) i 3400−3300. 17
30−1675 cm−’NMR(CDC13,8)
’ 1.19 (3H1d、J:6.4Hz>鳳1」
しl−す 製造例24−2)と実質的に同様にして、(2R)−1
,2−ビス(アリルオキシカルボニルアミノ)−3−オ
キツブタンを収率79.3%で得る。
30−1675 cm−’NMR(CDC13,8)
’ 1.19 (3H1d、J:6.4Hz>鳳1」
しl−す 製造例24−2)と実質的に同様にして、(2R)−1
,2−ビス(アリルオキシカルボニルアミノ)−3−オ
キツブタンを収率79.3%で得る。
IR(ニー)) : 3450. 173G−1
680cra−’NMR(CDCl2.8) + 2.
31 (31(、s)魁j11和:」l 製造例3と実質的に同様にして、(3S、4 R)−4
−4(3R)−3,4−ビス(アリルオキシカルボニル
アミノ)−2−オキツブチル]−3−[(IR)−1−
第三級ブチルジメチルシリルオキシエチル]−2−オキ
ソアゼチジンを収率66.9%で得る。
680cra−’NMR(CDCl2.8) + 2.
31 (31(、s)魁j11和:」l 製造例3と実質的に同様にして、(3S、4 R)−4
−4(3R)−3,4−ビス(アリルオキシカルボニル
アミノ)−2−オキツブチル]−3−[(IR)−1−
第三級ブチルジメチルシリルオキシエチル]−2−オキ
ソアゼチジンを収率66.9%で得る。
IR(ニー)) + 3325. 1755−1
700 am−1mMR(CDCl2.8> + 0
.05 (6H,s)、 0.85 (9H,s)。
700 am−1mMR(CDCl2.8> + 0
.05 (6H,s)、 0.85 (9H,s)。
1.18 (3H,d、J=6.3Hz)飯1Jす見二
虹 製造例13−8>と実質的に同様にして、2−[(3S
、4R)−4−((3R)−3,4−ビス(アリルオキ
シカルボニルアミノ)−2−才キソブチル]−3−((
IR)−1−第三級ブチルジメチルシリルオキシエチル
)−2−オキソアゼチジン−l−イル]−2−オキソ酢
酸アリルを収率88.6%で得る。
虹 製造例13−8>と実質的に同様にして、2−[(3S
、4R)−4−((3R)−3,4−ビス(アリルオキ
シカルボニルアミノ)−2−才キソブチル]−3−((
IR)−1−第三級ブチルジメチルシリルオキシエチル
)−2−オキソアゼチジン−l−イル]−2−オキソ酢
酸アリルを収率88.6%で得る。
IR(ニー)) ’ 3350. 1805.
1760−1685 am−1HMR(CDC1a、
8 ) :0.03 (3H,s)、 0.07 (3
H1s)。
1760−1685 am−1HMR(CDC1a、
8 ) :0.03 (3H,s)、 0.07 (3
H1s)。
0.84 (9H,s)、 1.23 (3H,d、J
=7.2)1z)11λ廷二n 実施例6と実質的に同様にして、(S R,65)−3
−[(15)−1,2−ビス(アリルオキシカルボニル
アミノ 1−第三級ブチルジメチルシリルオキシエチル]−7−
オキソ−1−アザビシクロ[3.2.0]ヘプト−2−
エン−2−カルボン酸アリルを収率70.8%で得る。
=7.2)1z)11λ廷二n 実施例6と実質的に同様にして、(S R,65)−3
−[(15)−1,2−ビス(アリルオキシカルボニル
アミノ 1−第三級ブチルジメチルシリルオキシエチル]−7−
オキソ−1−アザビシクロ[3.2.0]ヘプト−2−
エン−2−カルボン酸アリルを収率70.8%で得る。
IR (CHCL3) : 3340, 1775.1
725−1700 am−INMR (CDC13,S
) ’ 0.07 (6H.s)、0.90 (9H
.s)。
725−1700 am−INMR (CDC13,S
) ’ 0.07 (6H.s)、0.90 (9H
.s)。
1、16 (3H.d.J=6.2Hz>鼠1jすl1
鼾 実施例7と実質的に同様にして、(5 R.6 S)−
3−[ ( I S)−1.2−ビス(アリルオキシカ
ルボニルアミノ 1−ヒドロキシエチル]−7−オキソ−1−アザビシク
ロ[3.2.0]ヘプト−2−エン−2−カルボン酸ア
リルを収率65.0%で得る。
鼾 実施例7と実質的に同様にして、(5 R.6 S)−
3−[ ( I S)−1.2−ビス(アリルオキシカ
ルボニルアミノ 1−ヒドロキシエチル]−7−オキソ−1−アザビシク
ロ[3.2.0]ヘプト−2−エン−2−カルボン酸ア
リルを収率65.0%で得る。
IR (スジB−ル) : 3400−3300
. 1775−1760. 1725−1685
cm−’ NMR (CDCl2.6) : 1.3j (3H.
d.J=6.3Hz>1産■厘二狽 実施例9と実質的に同様にして、(S R.6 S)−
3−[(Is)−1.2−ジアミノエチル]−6−[(
IR)−1−ヒドロキシエチル]−7−オキソ−1−ア
ザビシクロ[3.2.0]ヘプト−2−エン−2−カル
ボン酸を定量的に得る。
. 1775−1760. 1725−1685
cm−’ NMR (CDCl2.6) : 1.3j (3H.
d.J=6.3Hz>1産■厘二狽 実施例9と実質的に同様にして、(S R.6 S)−
3−[(Is)−1.2−ジアミノエチル]−6−[(
IR)−1−ヒドロキシエチル]−7−オキソ−1−ア
ザビシクロ[3.2.0]ヘプト−2−エン−2−カル
ボン酸を定量的に得る。
IR <ヌジ■−ル) ’ 1765−1745
cm−1叉jIi91に〇 ? 2−[(38,4R)−4−(2−(1−アリルオキシ
カルボニル−1.2,3.6−テトラヒドロピリジン−
4ーイル)−2−オキソエチル)−3−((IR)−1
−第三級ブチルジメチルシリルオキシエチル)−2−才
キソアゼチジン−1−イル]ー2ートリフェニルホスホ
ラニリデン酢酸アリル(2.0g)を脱気したトルエン
( 40IQ )に溶解し、溶液を8時間加熱還流する
.溶媒を留去して得られる残渣をシリカゲル(50g)
を使用するクロマトグラフィーに付し、n−ヘキサンと
酢酸エチルとの混液(19:1−7;3、v/v )で
溶出して、(5R.6S)−3−(1−アリルオキシカ
ルボニル−1.2,3.6−テトラヒドロビリジン−4
ーイル)−a−[(iR)−1−第三級ブチルジメチル
シリルオキシエチル]−7−オキソ−1−アザビシクロ
[3.2.0]ヘプト−2−エン−2ーカルボン酸アリ
ル(0.94g)を得る。
cm−1叉jIi91に〇 ? 2−[(38,4R)−4−(2−(1−アリルオキシ
カルボニル−1.2,3.6−テトラヒドロピリジン−
4ーイル)−2−オキソエチル)−3−((IR)−1
−第三級ブチルジメチルシリルオキシエチル)−2−才
キソアゼチジン−1−イル]ー2ートリフェニルホスホ
ラニリデン酢酸アリル(2.0g)を脱気したトルエン
( 40IQ )に溶解し、溶液を8時間加熱還流する
.溶媒を留去して得られる残渣をシリカゲル(50g)
を使用するクロマトグラフィーに付し、n−ヘキサンと
酢酸エチルとの混液(19:1−7;3、v/v )で
溶出して、(5R.6S)−3−(1−アリルオキシカ
ルボニル−1.2,3.6−テトラヒドロビリジン−4
ーイル)−a−[(iR)−1−第三級ブチルジメチル
シリルオキシエチル]−7−オキソ−1−アザビシクロ
[3.2.0]ヘプト−2−エン−2ーカルボン酸アリ
ル(0.94g)を得る。
IR (CH2C12) ’ 1775. 1700
am’NMR (CDC13.8 ) :0. 10
(6H,s)、0.91 (9H.s)。
am’NMR (CDC13.8 ) :0. 10
(6H,s)、0.91 (9H.s)。
1、26 (3H.d.J=6Hz)、 2.13−2
.70 (2H.m)。
.70 (2H.m)。
2、87−3.20 (3H,m)、 3.23−3.
90 <28.m)。
90 <28.m)。
4、00−4.36 (4H.m)、 4.50−4.
82 (4H,m)。
82 (4H,m)。
5、10−5.55 (4)1,m)、 5.65−6
.20 (3H.m)大ILL二針 実施例!−1)と実質的に同様にして、(5R。
.20 (3H.m)大ILL二針 実施例!−1)と実質的に同様にして、(5R。
63)−3−(1ニアリルオキシカルボニル−3−ビロ
リン−3−イル)−6−[(IR)−1−第三級ブチル
ジメチルシリルオキシエチル]−7−オキソ−1−アザ
ビシクロ[3,2,0]ヘプト−2−エン−2−カルボ
ン酸アリルを収率77.0%で得る。
リン−3−イル)−6−[(IR)−1−第三級ブチル
ジメチルシリルオキシエチル]−7−オキソ−1−アザ
ビシクロ[3,2,0]ヘプト−2−エン−2−カルボ
ン酸アリルを収率77.0%で得る。
1R(CHCI3) ’ 1780.1700 cmN
MR(CHCI3.ε):0110 (6)1.s)、
0.90 (9H,s)。
MR(CHCI3.ε):0110 (6)1.s)、
0.90 (9H,s)。
1.25 (3H,d、J=6.0)1z)、 2.9
0−3.20 (3H,m)。
0−3.20 (3H,m)。
4.00−4.40 (6H,m)、 4.50−4.
80 (4H,a+)。
80 (4H,a+)。
5.08−5.52 <4H,m)、 5.66−6.
20 <3H,m)大ffi二口 (SR,6S)−3−(1−アリルオキシカルボニル−
1,2,3,6−テトラヒドロピリジン−4−イル)−
6−[(IR)−1−第三級ブチルジメチルシリルオキ
シエチル]−7−オキソ−l−アザビシクロ[3,2,
0]ヘプト−2−エン−2−カルボン酸アリル(0,9
4g)のテトラヒドロフラン(381QQ )溶液に、
酢酸(1,65a11! )およびフッ化テトラブチル
アンモニウムのテトラヒドロフラン溶液(LM、9.6
1111)を0℃で滴下する。常温で8時間放置後、反
応混合物を酢酸エチル(300mlt )と水C3,0
0111)との混合物中に加える。炭酸水素ナトリウム
水溶液でpHを7付近にmv後、有機層を分取して順次
水および食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥でる
。溶媒を留去して得られる残渣をシリカゲル(25g)
を使用するクロマトグラフィーに付し、n−ヘキサンと
酢酸エチルとの混液(9:1−3ニア、v/v )で溶
出して、(SR,6S)−3−(1−アリルオキシカル
ボニル−1,2,3,6−テトラヒドロビリジン−4−
イル)−6−[(IR)−1−ヒドロキシエチル]−7
−オキソ−1−アザビシクロ[3,2,01ヘプト−2
−エン−2−カルボン酸アリル(281mg)を得る。
20 <3H,m)大ffi二口 (SR,6S)−3−(1−アリルオキシカルボニル−
1,2,3,6−テトラヒドロピリジン−4−イル)−
6−[(IR)−1−第三級ブチルジメチルシリルオキ
シエチル]−7−オキソ−l−アザビシクロ[3,2,
0]ヘプト−2−エン−2−カルボン酸アリル(0,9
4g)のテトラヒドロフラン(381QQ )溶液に、
酢酸(1,65a11! )およびフッ化テトラブチル
アンモニウムのテトラヒドロフラン溶液(LM、9.6
1111)を0℃で滴下する。常温で8時間放置後、反
応混合物を酢酸エチル(300mlt )と水C3,0
0111)との混合物中に加える。炭酸水素ナトリウム
水溶液でpHを7付近にmv後、有機層を分取して順次
水および食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥でる
。溶媒を留去して得られる残渣をシリカゲル(25g)
を使用するクロマトグラフィーに付し、n−ヘキサンと
酢酸エチルとの混液(9:1−3ニア、v/v )で溶
出して、(SR,6S)−3−(1−アリルオキシカル
ボニル−1,2,3,6−テトラヒドロビリジン−4−
イル)−6−[(IR)−1−ヒドロキシエチル]−7
−オキソ−1−アザビシクロ[3,2,01ヘプト−2
−エン−2−カルボン酸アリル(281mg)を得る。
IR(CH2C12) + 1780.1700 ef
fi″″1NMR(CDC13,8) ’ 1.38
(3H,d、J=7Hz>、 2−15−2.50 (
2H,+a)、 3.05 (2H,d、J=9Hz
>、 3.19(IH,dd、J:3. 7Hz)、
3.30−3.96 (2H,+++)。
fi″″1NMR(CDC13,8) ’ 1.38
(3H,d、J=7Hz>、 2−15−2.50 (
2H,+a)、 3.05 (2H,d、J=9Hz
>、 3.19(IH,dd、J:3. 7Hz)、
3.30−3.96 (2H,+++)。
3.96−4.40 (4H,m)、 4.50−4
.88 (4H,m)。
.88 (4H,m)。
5.10−5.60 (4H,m)、 5.65−6
.23 (3H,m)叉111し1針 O 実施例2−1)と実質的に同様にして、(5R365)
−3−(1−アリルオキシカルボニル−3−ピロリン−
3−イル)−6−[(IR)−1−ヒドロキシエチル]
−7−オキソ−1−アザビシクロ[3,2,0]ヘプト
−2−エン−2−カルボン酸アリルを収率57.2%で
得る。
.23 (3H,m)叉111し1針 O 実施例2−1)と実質的に同様にして、(5R365)
−3−(1−アリルオキシカルボニル−3−ピロリン−
3−イル)−6−[(IR)−1−ヒドロキシエチル]
−7−オキソ−1−アザビシクロ[3,2,0]ヘプト
−2−エン−2−カルボン酸アリルを収率57.2%で
得る。
IR(CHCI ) 71780.1700 am−1
NMR(CDC13,l; ) ’ 1.33 (3H
1d、J=6.0Hz)、2.63(IH,br s
)、 3.12 (2H,m)、 3.22
(IH,dd。
NMR(CDC13,l; ) ’ 1.33 (3H
1d、J=6.0Hz)、2.63(IH,br s
)、 3.12 (2H,m)、 3.22
(IH,dd。
J:3.0 and 6.0)1z)、 4.0
0−4.90 <lOH,m>。
0−4.90 <lOH,m>。
5.00−5.60 (4H,m)、 5.60−6
.20 (3H,m)叉1ヱILニリ (SR,6S)−3−(1−アリルオキシカルボニル−
1,2,3,6−テトラヒドロピリジン−4−イル)−
6−[(IR)−1−ヒドロキシエチル]−7−オキソ
−1−アザビシクロ[3,2゜0]ヘプト−2−エン−
2−カルボン酸アリル(0,280g )のテトラヒド
ロフラン(9誠)溶液に、順次トリフェニルホスフィン
(0,094g)、5.5−ジメチル−1,3−シクロ
ヘキサンジオン(ジメドン)(0,201g)およびテ
トラキス(・トリフェニルホスフィン)パラジウム(0
)(41,5a+g)ヲ加える。常温で1時間攪拌後、
混合物を冷水(50mQ )と酢酸エチル(30111
)との混合物中に注ぐ。
.20 (3H,m)叉1ヱILニリ (SR,6S)−3−(1−アリルオキシカルボニル−
1,2,3,6−テトラヒドロピリジン−4−イル)−
6−[(IR)−1−ヒドロキシエチル]−7−オキソ
−1−アザビシクロ[3,2゜0]ヘプト−2−エン−
2−カルボン酸アリル(0,280g )のテトラヒド
ロフラン(9誠)溶液に、順次トリフェニルホスフィン
(0,094g)、5.5−ジメチル−1,3−シクロ
ヘキサンジオン(ジメドン)(0,201g)およびテ
トラキス(・トリフェニルホスフィン)パラジウム(0
)(41,5a+g)ヲ加える。常温で1時間攪拌後、
混合物を冷水(50mQ )と酢酸エチル(30111
)との混合物中に注ぐ。
水層を分取して酢酸エチル(3oma )で2回洗浄し
、減圧濃縮して有機溶媒を除去する。残渣を酸性酸化ア
ルミニウム(3戚)を使用するクロマトグラフィーに付
し、水で溶出する。所望の化合物を含む画分を集め、非
イオン吸着stm’ダイヤイオンHP−20」(商標、
三菱化成工業社製)(20mN)を使用するクロマトグ
ラフィーに付し、水で溶出する。所望の化合物を含む画
分を集め、凍結乾燥して、(5R,6S)−6−[(I
R)−1−ヒドロキシエチル]−7−オキソ−3−(1
゜2.3.6−テトラヒドロピリジン−4−イル)−1
−アザビシクロ[3,2,O]ヘプト−2−エン−2−
カルボン酸(68mg)を得る。
、減圧濃縮して有機溶媒を除去する。残渣を酸性酸化ア
ルミニウム(3戚)を使用するクロマトグラフィーに付
し、水で溶出する。所望の化合物を含む画分を集め、非
イオン吸着stm’ダイヤイオンHP−20」(商標、
三菱化成工業社製)(20mN)を使用するクロマトグ
ラフィーに付し、水で溶出する。所望の化合物を含む画
分を集め、凍結乾燥して、(5R,6S)−6−[(I
R)−1−ヒドロキシエチル]−7−オキソ−3−(1
゜2.3.6−テトラヒドロピリジン−4−イル)−1
−アザビシクロ[3,2,O]ヘプト−2−エン−2−
カルボン酸(68mg)を得る。
IR(スジ1−ル) : 3250. 1745
cta−’NMR(020,8> ’ 1.31 (3
H1d、J=7Hz)、2.20−2.88<2H,m
)、 2.88−3.20 (2H,m)、 3.20
−3.56(3H,a+)、 3.70−3.95 (
2H,m)、 4.02−4.40<2H,m)、 5
.55−5.83 (LH,+a)太1」LL二針 O 実施例3−1)と実質的に同様にして、(5R96S)
−6−[:(IR)−1−ヒドロキシエチル]−7−オ
キソ−3−(3−ピロリン−3−イル)−1−アザビシ
クロ[3,2,0]ヘプト−2−エン−2−カルボン酸
を収率79.0%で得る。
cta−’NMR(020,8> ’ 1.31 (3
H1d、J=7Hz)、2.20−2.88<2H,m
)、 2.88−3.20 (2H,m)、 3.20
−3.56(3H,a+)、 3.70−3.95 (
2H,m)、 4.02−4.40<2H,m)、 5
.55−5.83 (LH,+a)太1」LL二針 O 実施例3−1)と実質的に同様にして、(5R96S)
−6−[:(IR)−1−ヒドロキシエチル]−7−オ
キソ−3−(3−ピロリン−3−イル)−1−アザビシ
クロ[3,2,0]ヘプト−2−エン−2−カルボン酸
を収率79.0%で得る。
IR(スジ■−ル) ’ 3300. 1760
am’NMR(D20.8 ) ’ 1.29 (3
H1d、J4.0Hz)、3.10(18,d、J=1
1.0Hz)、 3.00−3.22 (2H,m)。
am’NMR(D20.8 ) ’ 1.29 (3
H1d、J4.0Hz)、3.10(18,d、J=1
1.0Hz)、 3.00−3.22 (2H,m)。
3.46 (IH,dd、J=3、Oand 6.0H
z)、 3.90−4.85(6H,a+)、 5.8
9 (IH,m)火jLIL± 自 (3S、4R)−4−[2−(1−アリルオキシカルボ
ニルピロリジン−3−イル)−2−オキソエチル]−3
−[(IR)−1−第三級ブチルジメチルシリルオキシ
エチル]−2−オキソアゼデシン(2,13g)および
トリエチルアミン(1,4111)のジクロロメタン(
30ff1)溶液に、塩化アリルオキサリル(1,1g
)を窒素雰囲気中−20℃で加え、この混合物を一20
℃で30分間攪拌する0反応混合物を水と酢酸エチルと
の混合物中に加える。
z)、 3.90−4.85(6H,a+)、 5.8
9 (IH,m)火jLIL± 自 (3S、4R)−4−[2−(1−アリルオキシカルボ
ニルピロリジン−3−イル)−2−オキソエチル]−3
−[(IR)−1−第三級ブチルジメチルシリルオキシ
エチル]−2−オキソアゼデシン(2,13g)および
トリエチルアミン(1,4111)のジクロロメタン(
30ff1)溶液に、塩化アリルオキサリル(1,1g
)を窒素雰囲気中−20℃で加え、この混合物を一20
℃で30分間攪拌する0反応混合物を水と酢酸エチルと
の混合物中に加える。
有機層を分取して順次水、炭酸水素ナトリウム水溶液お
よび食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥して溶媒
を留去する。残渣のキシレン(301d”)溶液に亜燐
酸トリエチル(5,2111)を加える。この混合物を
窒素雰囲気中90℃に15時間加熱し、次いで混合物に
ヒドロキノン(0,9g)を加え、混合物を窒素雰囲気
中130°Cに2時間加熱する。溶媒を留去して得る残
渣をシリカゲルを使用するクロマトグラフィーに付し、
n−ヘキサンと酢酸エチルとの混液(4: 1. v/
v)で溶出して、(5R,6S)−3−(1−アリルオ
キシカルボニルピロリジン−3−イル)−6−[(IR
)−1−第三級ブチルジメチルシリルオキシエチル]−
7−オキソ−1−アザビシクロ[3,2,0コヘブトー
2−エン−2−カルボン酸アリル(2,9g)を得る。
よび食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥して溶媒
を留去する。残渣のキシレン(301d”)溶液に亜燐
酸トリエチル(5,2111)を加える。この混合物を
窒素雰囲気中90℃に15時間加熱し、次いで混合物に
ヒドロキノン(0,9g)を加え、混合物を窒素雰囲気
中130°Cに2時間加熱する。溶媒を留去して得る残
渣をシリカゲルを使用するクロマトグラフィーに付し、
n−ヘキサンと酢酸エチルとの混液(4: 1. v/
v)で溶出して、(5R,6S)−3−(1−アリルオ
キシカルボニルピロリジン−3−イル)−6−[(IR
)−1−第三級ブチルジメチルシリルオキシエチル]−
7−オキソ−1−アザビシクロ[3,2,0コヘブトー
2−エン−2−カルボン酸アリル(2,9g)を得る。
IR(C12C12) i 1775.1690−17
10 am−1HMR(CDCl2.8 ) : 0.
14 (6H,s)、 0.81 <9H,s)。
10 am−1HMR(CDCl2.8 ) : 0.
14 (6H,s)、 0.81 <9H,s)。
1.9−2.2 (2H,m)、 2.8−3.8 (
6H,m)、 3.9−4.2(4H,m)、 4.
3−4.9 (4B、m)、 5.1−5.4 (4
8,m)。
6H,m)、 3.9−4.2(4H,m)、 4.
3−4.9 (4B、m)、 5.1−5.4 (4
8,m)。
5.8−6.0 (211,a+)
実施例4と実質的に同様にして下記化合物を得る。
衷1ヱIL二〇
1R(C12C12) ? 1765.1690 am
−’NMR(CDCI3.δ) : 0.03 (6H
,s)、 0.92 (9H,s)。
−’NMR(CDCI3.δ) : 0.03 (6H
,s)、 0.92 (9H,s)。
1.22 (3H,d、J:6Hz>、 1.60−
2.39 (4H,m)。
2.39 (4H,m)。
4.42−4.83 (4H,m)、 5.19−5
.43 (4H,m)。
.43 (4H,m)。
5.64−6.18 (2H,m)
IR(CH2C12) : 1780.1710 cm
、−’NMR(CDC1g、8 ) ’ 0.03 (
12H0s)、0.93 (18H1s)、 2.5
2−2.97 (2H,ai)、 2.98−3.0
2 (IH。
、−’NMR(CDC1g、8 ) ’ 0.03 (
12H0s)、0.93 (18H1s)、 2.5
2−2.97 (2H,ai)、 2.98−3.0
2 (IH。
■)、 3.20−3.43 (IH,ai)、
4.48−4.81 (4H。
4.48−4.81 (4H。
a)、 5.00−5.58 (4H,m)、 5
.62−8.00 (2H,m)叉1」IL二n ■ IR(CH2C12) =1770.1690 cra
−’NMR(CDCI3.8 ) : 0.03 (6
H,s)、 0.90 (9)1.s)。
.62−8.00 (2H,m)叉1」IL二n ■ IR(CH2C12) =1770.1690 cra
−’NMR(CDCI3.8 ) : 0.03 (6
H,s)、 0.90 (9)1.s)。
2.50−2.95 (4H,ai>、 2.98−
3.05 (IH,m)。
3.05 (IH,m)。
4.50−4.70 (4H,m)、 5.10−5
.62 (4H,m)。
.62 (4H,m)。
5.85−6.02 (2H,m)
衷1jIL−1
1R(C12C12) : 1770.1690 ct
a−’NMR(CDCI2.8 ) i 0.03 (
6H,s)、 0.90 (9H,s)。
a−’NMR(CDCI2.8 ) i 0.03 (
6H,s)、 0.90 (9H,s)。
1.13 (3H,d、J=6Hz)、 2.4−3
.0 (5H,ai)。
.0 (5H,ai)。
3.2−3.5 (LH,m)、 3.9−4.2 (
4)1.ai)、 4.4−4.8(4H1龜>、 5
.0−5.4 (41(、m)、 5.6−6.0 (
2H,m)衷JIL二1 IR(CHCla) ’ 1765.1710.168
0 am−’NMR(CDCI3.8 ) : 0.0
g (6H,s)、 0.88 (9)1.s)。
4)1.ai)、 4.4−4.8(4H1龜>、 5
.0−5.4 (41(、m)、 5.6−6.0 (
2H,m)衷JIL二1 IR(CHCla) ’ 1765.1710.168
0 am−’NMR(CDCI3.8 ) : 0.0
g (6H,s)、 0.88 (9)1.s)。
1.30 (3H,d、J=7Hz)、 2.15−
2.40 (2H,m)。
2.40 (2H,m)。
2.98 (2H,d、J=9Hz)、 3.10
(IH,dd、J=3゜6Hz)、 3.40−3.
65 (2H,m)、 3.90−4.25 (4H
。
(IH,dd、J=3゜6Hz)、 3.40−3.
65 (2H,m)、 3.90−4.25 (4H
。
m)、 4.50−4.75 (4H,m)、 5
.05−5.55 (4H,m)。
.05−5.55 (4H,m)。
5.67−6.15 (3H,m)
衷111L二〇
IR(CHCla) + 1775.1695 cta
″″INMR(CDCI3.5 ) 70.08 (6
H,s)、 0.12 (6H,s)。
″″INMR(CDCI3.5 ) 70.08 (6
H,s)、 0.12 (6H,s)。
0.92 <18H,s)、 1.28 (3H,d
、J=7Hz)、 2.95−3.20 (2H,
s)、 3.50−4.50 (7H,m)、
4.50−4.80 (4H,m)、 5.10−
5.52 <48.sa)、 5.70−6.20
(311,s+) 支履■1 2−[(3S、4R)−4−(2−(1−ベンジルオキ
シカルボニル− ドロピリジン−4−イル)−2−オキソエチル)−3−
((IR)−1−トリメチルシリルオキシエチル)−2
−才キソアゼチジン−1−イル]ー2ーオキソ酢#4ー
ニトロベンジル(4.73g)および亜燐酸トリエチル
(6.2111)のトルエン( 70mQ )溶液を窒
素雰囲気中2時間加熱還流する.この溶液にヒドロキノ
ン(800mg)を加え、さらに6時間還流を続ける.
溶媒を減圧下に留去して得られる残渣をシリカゲル(
400G+11 )を使用するクロマトグラフィーに付
し、ヘキサンと酢酸エチルとの混液( 4 : 1、v
/v)で溶出して、(5 R,6 S)−3−(1−ベ
ンジルオキシカルボニル−1.2。
、J=7Hz)、 2.95−3.20 (2H,
s)、 3.50−4.50 (7H,m)、
4.50−4.80 (4H,m)、 5.10−
5.52 <48.sa)、 5.70−6.20
(311,s+) 支履■1 2−[(3S、4R)−4−(2−(1−ベンジルオキ
シカルボニル− ドロピリジン−4−イル)−2−オキソエチル)−3−
((IR)−1−トリメチルシリルオキシエチル)−2
−才キソアゼチジン−1−イル]ー2ーオキソ酢#4ー
ニトロベンジル(4.73g)および亜燐酸トリエチル
(6.2111)のトルエン( 70mQ )溶液を窒
素雰囲気中2時間加熱還流する.この溶液にヒドロキノ
ン(800mg)を加え、さらに6時間還流を続ける.
溶媒を減圧下に留去して得られる残渣をシリカゲル(
400G+11 )を使用するクロマトグラフィーに付
し、ヘキサンと酢酸エチルとの混液( 4 : 1、v
/v)で溶出して、(5 R,6 S)−3−(1−ベ
ンジルオキシカルボニル−1.2。
3、6−テトラヒドロピリジン−4ーイル)−6−[(
IR)−1−トリメチルシリルオキシエチルコー7−才
キソー1−アザビシクロ[3.2.0]ヘプト−2−エ
ン−2−カルボン酸4−ニトロベンジル(3.77g)
を得る。
IR)−1−トリメチルシリルオキシエチルコー7−才
キソー1−アザビシクロ[3.2.0]ヘプト−2−エ
ン−2−カルボン酸4−ニトロベンジル(3.77g)
を得る。
IR (スジ■−ル) ’ 1660−1745
am−1HMR (CDCl2.8 > ’ 1、
09 (9H,s)、1. 23 (3H.d。
am−1HMR (CDCl2.8 > ’ 1、
09 (9H,s)、1. 23 (3H.d。
J=7Hz>、 2.04−2.39 (2H,m)、
2.90−3.20(3)1.m)、 3.28−3
.67 (2H.m)、 3.90−4.26(4H.
m)、 5.08 (2H.s)、 5.26 (2H
.d,J=8Hz)。
2.90−3.20(3)1.m)、 3.28−3
.67 (2H.m)、 3.90−4.26(4H.
m)、 5.08 (2H.s)、 5.26 (2H
.d,J=8Hz)。
5、66−5.76 (11(、m)、 7.27 (
5H,s)、 7.47−7、58 (2H.m)、
8.07−8.17 (2H.m)衷盈贋l H (5R.6S)−3−(1−アリルオキシカルボニルピ
ロリジン−3−イル)−6−[(IR)−1−第三級ブ
チルジメチルシリルオキシエチル]−7−オキソ−1−
アザビシクロ[3.2.O]ヘプト−2−エン−2−カ
ルボン酸アリル( 2.9g)のテトラヒドロフラン(
3011111 )溶液に、酢酸( 3. 3fll
11 )およびテトラヒドロフラン中フッ化テトラブチ
ルアンモニウムIM溶液( 28.7ml )を窒素雰
囲気中θ℃で加える.常温で7時間、さらに5°Cで1
4時間放置後、反応混合物を酢酸エチルと水との混合物
中に加える.次酸水素ナトリウム水溶液でpH7付近に
調整後、有機層を分取して順次水および食塩水で洗浄し
、硫酸マグネシウムで乾燥する.溶媒を留去して得られ
る残渣をシリカゲルを使用するクロマトグラフィーに付
し、n −ヘキサンと酢酸エチルとの混液( 1 :
2、v/v)で溶出して、(5R,6S)−3−’(1
−アリルオキシカルボニルピロリジン−3−イル)−6
−[(IR)−1−ヒドロキシエチル]−7−オキソ−
1−アザビシクロ[3.2.Oコヘブトー2−エン−2
−カルボン酸アリル(0.94g)を得る。
5H,s)、 7.47−7、58 (2H.m)、
8.07−8.17 (2H.m)衷盈贋l H (5R.6S)−3−(1−アリルオキシカルボニルピ
ロリジン−3−イル)−6−[(IR)−1−第三級ブ
チルジメチルシリルオキシエチル]−7−オキソ−1−
アザビシクロ[3.2.O]ヘプト−2−エン−2−カ
ルボン酸アリル( 2.9g)のテトラヒドロフラン(
3011111 )溶液に、酢酸( 3. 3fll
11 )およびテトラヒドロフラン中フッ化テトラブチ
ルアンモニウムIM溶液( 28.7ml )を窒素雰
囲気中θ℃で加える.常温で7時間、さらに5°Cで1
4時間放置後、反応混合物を酢酸エチルと水との混合物
中に加える.次酸水素ナトリウム水溶液でpH7付近に
調整後、有機層を分取して順次水および食塩水で洗浄し
、硫酸マグネシウムで乾燥する.溶媒を留去して得られ
る残渣をシリカゲルを使用するクロマトグラフィーに付
し、n −ヘキサンと酢酸エチルとの混液( 1 :
2、v/v)で溶出して、(5R,6S)−3−’(1
−アリルオキシカルボニルピロリジン−3−イル)−6
−[(IR)−1−ヒドロキシエチル]−7−オキソ−
1−アザビシクロ[3.2.Oコヘブトー2−エン−2
−カルボン酸アリル(0.94g)を得る。
LR (Cl(2C12> : 3300−3
400. 1770−1780。
400. 1770−1780。
1680−1710 am−1
NMR (CDC13,S ) :1. 8−2− 2
(2H,m)、28−3. 9(78,m)、 to
−t.z (2H,m)、 ’4.5−5.0 (4)
1,m)。
(2H,m)、28−3. 9(78,m)、 to
−t.z (2H,m)、 ’4.5−5.0 (4)
1,m)。
5、1−5.7 (4H.m)、 5.8−6.1 (
2H.m>実施例7と実質的に同様にして下記化合物を
得る。
2H.m>実施例7と実質的に同様にして下記化合物を
得る。
大ins二〇
R
IR (C12C12) F 3300−3400.
1775. 1690−1710 cm−’ NMR (CDC13,S ) ’ 1. 56−2.
22 C4H− m) 、4. 02−4。40 (2
1(、m)、 4.40−4.88 (4H,m)、
5.09−5、47 (4H.m)、 5.78−6.
12 (2H,m)叉1」1L二υ IR(CH2C12) ’ 3400.1770,16
80−1710 am−’NMR(CDC13,S )
’ 1.31 (3H1d、J:6Hz>、3.18
−3.77 (2H,m)、 4.17−4.30
(2H,m)、 4.31−4.85 (4H,m)
、 5.08−5.61 (4H,m)、 5.
72−6.08 (2H,m) 衷m−υ 0■ IR(C12C12) ’ 3400.1775.16
90−1705 am−INMR(CDCIs、S )
’ 2.60−3.20 (3■9m)、4.42−
4.83 <4H,m)、 5.18−5.60 <4
H,a+)、 5.81−6.07 (2H,m) 犬遍」IL二〇 H LR(CH2C12) ’ 3100. 17
80. 1690 cm−1HMR(CDC13,
l; ) :1.33 (3H1d、J=6Hz>、2
.6−3.4(6H,m)、 4.0−4.3 (4
H,m)、 4.4−4.9 (48゜m)、 5
.0−5.5 (4H,m)、 5.8−6.0 (
2H,m)1R(CHCL3) ’ 3400.176
0,1700.taao amNMR(CDC13,E
) ’ L−33(3H1d、J”7Hz)、2.1
0−2.40 (3H,m)、 3.02 (2H,
d、J+:9Hz)、 3.15(LH,dd、J=
7. 3Hz)、 3.55 (2H,m)、 4
.00−4.30 (4H,m)、 4.45−4.
80 (4H,m)、 5.05−5.50 (4H
,m)、 5.65−6.15 (3H,m)叉m二
虹 0)I IR(CHCL3) : 3400.1775.168
0 am−1HMR(CDC13,8> ’ 1.34
(3H0d、JニアHz>、2.80(2)1.br
s)、 3.00−3.30 (2H,m)、
3.50−4.00(3H,m)、 4.00−5.
00 (9H,sa)、 5.10−5.55(4H
,m)、 5.70−6.20 (3H,m)大![
L二n 0)I IR(Xジ望−ル) : 3100−3400.
1685−1740 cm−1HMR(CDCIs、
δ) : 1.34 (3H,d、J=7Hz>、 2
.15−2.44 (2H,m)、 2.97−3.
84 (5H,m)、 3.97−4.33 (4H
,m)、 5.14 (2H,s)、 5.31
(2M、d。
1775. 1690−1710 cm−’ NMR (CDC13,S ) ’ 1. 56−2.
22 C4H− m) 、4. 02−4。40 (2
1(、m)、 4.40−4.88 (4H,m)、
5.09−5、47 (4H.m)、 5.78−6.
12 (2H,m)叉1」1L二υ IR(CH2C12) ’ 3400.1770,16
80−1710 am−’NMR(CDC13,S )
’ 1.31 (3H1d、J:6Hz>、3.18
−3.77 (2H,m)、 4.17−4.30
(2H,m)、 4.31−4.85 (4H,m)
、 5.08−5.61 (4H,m)、 5.
72−6.08 (2H,m) 衷m−υ 0■ IR(C12C12) ’ 3400.1775.16
90−1705 am−INMR(CDCIs、S )
’ 2.60−3.20 (3■9m)、4.42−
4.83 <4H,m)、 5.18−5.60 <4
H,a+)、 5.81−6.07 (2H,m) 犬遍」IL二〇 H LR(CH2C12) ’ 3100. 17
80. 1690 cm−1HMR(CDC13,
l; ) :1.33 (3H1d、J=6Hz>、2
.6−3.4(6H,m)、 4.0−4.3 (4
H,m)、 4.4−4.9 (48゜m)、 5
.0−5.5 (4H,m)、 5.8−6.0 (
2H,m)1R(CHCL3) ’ 3400.176
0,1700.taao amNMR(CDC13,E
) ’ L−33(3H1d、J”7Hz)、2.1
0−2.40 (3H,m)、 3.02 (2H,
d、J+:9Hz)、 3.15(LH,dd、J=
7. 3Hz)、 3.55 (2H,m)、 4
.00−4.30 (4H,m)、 4.45−4.
80 (4H,m)、 5.05−5.50 (4H
,m)、 5.65−6.15 (3H,m)叉m二
虹 0)I IR(CHCL3) : 3400.1775.168
0 am−1HMR(CDC13,8> ’ 1.34
(3H0d、JニアHz>、2.80(2)1.br
s)、 3.00−3.30 (2H,m)、
3.50−4.00(3H,m)、 4.00−5.
00 (9H,sa)、 5.10−5.55(4H
,m)、 5.70−6.20 (3H,m)大![
L二n 0)I IR(Xジ望−ル) : 3100−3400.
1685−1740 cm−1HMR(CDCIs、
δ) : 1.34 (3H,d、J=7Hz>、 2
.15−2.44 (2H,m)、 2.97−3.
84 (5H,m)、 3.97−4.33 (4H
,m)、 5.14 (2H,s)、 5.31
(2M、d。
J=8Hz)、 5.69−5.84 (18,m)
、 7.33 (5H,s)。
、 7.33 (5H,s)。
7.50−7.62 (2H,m)、 8.12−8
.23 (2H,m)大J11且 H (SR,6S)−3−(1−アリルオキシカルボニルピ
ロリジン−3−イル)−6−[(IR)−1−ヒドロキ
シエチル]−7−オキソ−1−アザビシクロ[3,2,
0]ヘプト−2−エン−2−力ルボン酸アリル(0,9
4g)のテトラヒドロフラン(14M )とエタノール
(21111)との混合物溶液に、順次トリフェニルホ
スフィン(130mg) 、ジメドン(o、sag)お
よびテトラキス(ドラフェニルホスフィン)パラジウム
(0) (280mg) ヲ加える。常温で1時間攪拌
して得られる沈殿を濾取し、テトラヒドロフランで洗浄
して、(5R,6S)−6−[(IR)−1−ヒドロキ
シエチル]−7−オキンー3−(ピロリジン−3−イル
)−1−アザビシクロ[3,2,0]ヘプト−2−エン
−2−カルボン酸(480a+g)を得る。
.23 (2H,m)大J11且 H (SR,6S)−3−(1−アリルオキシカルボニルピ
ロリジン−3−イル)−6−[(IR)−1−ヒドロキ
シエチル]−7−オキソ−1−アザビシクロ[3,2,
0]ヘプト−2−エン−2−力ルボン酸アリル(0,9
4g)のテトラヒドロフラン(14M )とエタノール
(21111)との混合物溶液に、順次トリフェニルホ
スフィン(130mg) 、ジメドン(o、sag)お
よびテトラキス(ドラフェニルホスフィン)パラジウム
(0) (280mg) ヲ加える。常温で1時間攪拌
して得られる沈殿を濾取し、テトラヒドロフランで洗浄
して、(5R,6S)−6−[(IR)−1−ヒドロキ
シエチル]−7−オキンー3−(ピロリジン−3−イル
)−1−アザビシクロ[3,2,0]ヘプト−2−エン
−2−カルボン酸(480a+g)を得る。
IR(スジ1−4) : 1760 am−1HM
R(D20.S ) :1.38 (3H,d、J=6
Hz>、 1.8−2.6(3H,m)、 4.0−4
.3 (28,m)実施例9と実質的に同様にして下記
化合物を得る。
R(D20.S ) :1.38 (3H,d、J=6
Hz>、 1.8−2.6(3H,m)、 4.0−4
.3 (28,m)実施例9と実質的に同様にして下記
化合物を得る。
叉m見二〇
0)I
IR(スジ1−ル) ’ 1760 crm−’
NMR(D20.8 ) ’ 1.31 (3H1d、
J=6Hz)、t、go−2,52(4H,m)、
2.90−3.52 (4H,m>、 4.00−4
.50 (3H,m) 太m見二針 IR(スジーール) j 1760 cra−’
NMR(D20.l; ) ’ 1.28 (3)1.
d、J=6Hz)、 t、go−2,60(2H,m)
、 3.95−4.35 (28,m)衷111見二
打 H IR(スジ1−ル) ’ 1725(755cab
−’NMR(D20.l; ) ’ t、 za (3
H1d、J=7Hz)、1.53−2.61(5)1.
m)、 2.80−4.24 (9H,m)太1」
l見二〇 H IR(スジa−L> : 1760 am−1H
MR(D20,8 ) ’ 1−29 (3H,d、J
=6Hz>、 1.3−2.2(4H,m)、 3.
9−4.4 (2H,m)衷W立二υ O IR(スジ日−ル) ’ 3300. 1750.
1580 cm’NMR(D20.S ) ’ 1
.28 (3H0d、J =7Hz >、2.52 (
2H。
NMR(D20.8 ) ’ 1.31 (3H1d、
J=6Hz)、t、go−2,52(4H,m)、
2.90−3.52 (4H,m>、 4.00−4
.50 (3H,m) 太m見二針 IR(スジーール) j 1760 cra−’
NMR(D20.l; ) ’ 1.28 (3)1.
d、J=6Hz)、 t、go−2,60(2H,m)
、 3.95−4.35 (28,m)衷111見二
打 H IR(スジ1−ル) ’ 1725(755cab
−’NMR(D20.l; ) ’ t、 za (3
H1d、J=7Hz)、1.53−2.61(5)1.
m)、 2.80−4.24 (9H,m)太1」
l見二〇 H IR(スジa−L> : 1760 am−1H
MR(D20,8 ) ’ 1−29 (3H,d、J
=6Hz>、 1.3−2.2(4H,m)、 3.
9−4.4 (2H,m)衷W立二υ O IR(スジ日−ル) ’ 3300. 1750.
1580 cm’NMR(D20.S ) ’ 1
.28 (3H0d、J =7Hz >、2.52 (
2H。
a+)、 3.03 (2H,dd、Jニア、 8
Hz)、 3.15−3.45(4H,m)、 3
.85−4.35 (3H,m)、 5.94 (I
H,m)IR(スジ發−ル) ’ 3300. 1
760. 1590 cm−1HMR(D20.8
) : 1.28 (3H,d、J=6.0Hz)、
3.00−3.20 (2H,m)、 3.45 (I
H,dd、J=3および6)1z)、 3.70−4
.50 (7H,m)、 5.78 (IH,m)火
】d」■ nM (5R,6S)−3−(1−ベンジJしオキシカルボニ
ル−1,2,3,6−テトラヒドロピリジン−4−イル
)−6−[(IR)−1−ヒドロキシエチル]−7−オ
キソ−1−アザビシクロ[3゜2.0]ヘプト−2−エ
ン−2−カルボン酸4−ニトロベンジル(500mg)
の0.1M燐酸塩緩衝液(p)t6.93.20−)溶
液に、20重量%パラジウム−炭素(50%湿潤)を加
え、溶液を水素雰囲気中大気圧下常温で5時間攪拌する
。触媒を濾去し、濾液を減圧下濃縮して得られる残渣の
溶液をrダイヤイオンHP−20」(100g )を使
用するクロマトグラフィーに付し、順次水および水とア
セトンとの混液(50: 1−20: 1、v/v )
で溶出する。所望の化合物を含む画分を集め、凍結乾燥
して、(5R,6S)−6−[(IR)−1−ヒドロキ
シエチルコー7一才キソー3−(ピペリジン−4−イル
)−1−アザビシクロ[3,2,0]ヘプト−2−エン
−2−カルボン酸(150mg)を得る。
Hz)、 3.15−3.45(4H,m)、 3
.85−4.35 (3H,m)、 5.94 (I
H,m)IR(スジ發−ル) ’ 3300. 1
760. 1590 cm−1HMR(D20.8
) : 1.28 (3H,d、J=6.0Hz)、
3.00−3.20 (2H,m)、 3.45 (I
H,dd、J=3および6)1z)、 3.70−4
.50 (7H,m)、 5.78 (IH,m)火
】d」■ nM (5R,6S)−3−(1−ベンジJしオキシカルボニ
ル−1,2,3,6−テトラヒドロピリジン−4−イル
)−6−[(IR)−1−ヒドロキシエチル]−7−オ
キソ−1−アザビシクロ[3゜2.0]ヘプト−2−エ
ン−2−カルボン酸4−ニトロベンジル(500mg)
の0.1M燐酸塩緩衝液(p)t6.93.20−)溶
液に、20重量%パラジウム−炭素(50%湿潤)を加
え、溶液を水素雰囲気中大気圧下常温で5時間攪拌する
。触媒を濾去し、濾液を減圧下濃縮して得られる残渣の
溶液をrダイヤイオンHP−20」(100g )を使
用するクロマトグラフィーに付し、順次水および水とア
セトンとの混液(50: 1−20: 1、v/v )
で溶出する。所望の化合物を含む画分を集め、凍結乾燥
して、(5R,6S)−6−[(IR)−1−ヒドロキ
シエチルコー7一才キソー3−(ピペリジン−4−イル
)−1−アザビシクロ[3,2,0]ヘプト−2−エン
−2−カルボン酸(150mg)を得る。
IR(スジ■−ル) : 1725−1755
can−’NMR(C20,8) :1.26 (3H
3d、J=7Hz)、1.53−2.61(5H,m)
、 2.80−4.24 (9H,m)K直五B u (5R,6S)−6−[(IR)−1−ヒドロキシエチ
ル]−7−オキソ−3−(ピロリジン−3−イル)−1
−アザビシクロ[3,2,0]ヘプト−2−エン−2−
カルボン酸(250mg )の水(12,5IQ )溶
液にホルムイミド酸ベンジル・塩酸塩(0,48g)を
、30%水酸化ナトリウム水溶液で關を8.5に1ie
IILなから0℃で加える。同温で30分間放置後、溶
液をIN塩酸でpH6,5に調整し、酢酸エチルで洗浄
して減圧濃縮する。残渣を非イオン吸着樹a1ダイヤイ
オンHP−20,を使用するクロマトグラフィーに付し
、3%イソプロピルアルコール水溶液で溶出する。所望
の化合物を含む画分を集め、凍結乾燥して、(SR,6
S)−3−(1−ホルムイミドイルピロリジン−3−イ
ル)−6−[(IR)−1−ヒドロキシエチル]−7−
オキソ−1−アザビシクロ[3,2,Oコヘプトー2−
エン−2−カルボン酸(120mg)を得る。
can−’NMR(C20,8) :1.26 (3H
3d、J=7Hz)、1.53−2.61(5H,m)
、 2.80−4.24 (9H,m)K直五B u (5R,6S)−6−[(IR)−1−ヒドロキシエチ
ル]−7−オキソ−3−(ピロリジン−3−イル)−1
−アザビシクロ[3,2,0]ヘプト−2−エン−2−
カルボン酸(250mg )の水(12,5IQ )溶
液にホルムイミド酸ベンジル・塩酸塩(0,48g)を
、30%水酸化ナトリウム水溶液で關を8.5に1ie
IILなから0℃で加える。同温で30分間放置後、溶
液をIN塩酸でpH6,5に調整し、酢酸エチルで洗浄
して減圧濃縮する。残渣を非イオン吸着樹a1ダイヤイ
オンHP−20,を使用するクロマトグラフィーに付し
、3%イソプロピルアルコール水溶液で溶出する。所望
の化合物を含む画分を集め、凍結乾燥して、(SR,6
S)−3−(1−ホルムイミドイルピロリジン−3−イ
ル)−6−[(IR)−1−ヒドロキシエチル]−7−
オキソ−1−アザビシクロ[3,2,Oコヘプトー2−
エン−2−カルボン酸(120mg)を得る。
IR(スジタール) : 1750. 1700
cm−’NMR(C20,8) : 1.2g (3
H,dJ=6Hz)、 1.8−2.4(2H,m)、
2.7−3.0 (2)1.m)、 7139 (I
H,br s)実施例12と実質的に同様にして下記化
合物を得る。
cm−’NMR(C20,8) : 1.2g (3
H,dJ=6Hz)、 1.8−2.4(2H,m)、
2.7−3.0 (2)1.m)、 7139 (I
H,br s)実施例12と実質的に同様にして下記化
合物を得る。
犬1」■l−u
I
IR(スジ窪−ル) : 1760. 1705
am’NMR(C20,δ) : 1.29 <3H
,d、、C6Hz>、 1.60−2.45 (4H,
m)、 2.55−3.12 (2H,m)、 7
.67゜7.92 (18,それぞれbrs) 夾U IR(スジ望−ル) : 1760. 1705
col−’NMR(C20,S ) ’ 1.’25
(3H9d、J=6Hz)、2.00−2.52 (
2)1.m)、 2.52−3.10 (2)1.m
)、 7.72゜7.98 (IH,それぞれbrs
) 衷1Jll二針 R IR(スジ■−ル) ’ 1755. 1710
cmb−1MMR(C20,l; ) ’ 126
(3H,d、J=6Hz)、 t、 20−2.20(
4H,ai)、 7.71 (IH,br s)衷W
ニリ 0M IR(スジ一−ル) : 1755. 1705
am−’NMR(C20,ε) : 1.28 (3
H,d、J=6Hz)、 1.3−2.2(4H,m)
、 7.72 (LH,br s)太1ヱU土−口 実施例4と実質的に同様にして、(S R,65)−3
−[(3S)−1−アリルオキシカルボニルピロリジン
−3−イル]−6−[(IR)−1−第三級ブチルジメ
チルシリルオキシエチル]−7−オキソ−1−アザビシ
クロ[3,2,01ヘプト−2−エン−2−カルボン酸
アリルを収率84.1%で得る。
am’NMR(C20,δ) : 1.29 <3H
,d、、C6Hz>、 1.60−2.45 (4H,
m)、 2.55−3.12 (2H,m)、 7
.67゜7.92 (18,それぞれbrs) 夾U IR(スジ望−ル) : 1760. 1705
col−’NMR(C20,S ) ’ 1.’25
(3H9d、J=6Hz)、2.00−2.52 (
2)1.m)、 2.52−3.10 (2)1.m
)、 7.72゜7.98 (IH,それぞれbrs
) 衷1Jll二針 R IR(スジ■−ル) ’ 1755. 1710
cmb−1MMR(C20,l; ) ’ 126
(3H,d、J=6Hz)、 t、 20−2.20(
4H,ai)、 7.71 (IH,br s)衷W
ニリ 0M IR(スジ一−ル) : 1755. 1705
am−’NMR(C20,ε) : 1.28 (3
H,d、J=6Hz)、 1.3−2.2(4H,m)
、 7.72 (LH,br s)太1ヱU土−口 実施例4と実質的に同様にして、(S R,65)−3
−[(3S)−1−アリルオキシカルボニルピロリジン
−3−イル]−6−[(IR)−1−第三級ブチルジメ
チルシリルオキシエチル]−7−オキソ−1−アザビシ
クロ[3,2,01ヘプト−2−エン−2−カルボン酸
アリルを収率84.1%で得る。
IR(CH2C12) ’ 1780.1710 cm
−’NMR(CDC13,8) :O−07(6H9s
)、O−88(9H9s)。
−’NMR(CDC13,8) :O−07(6H9s
)、O−88(9H9s)。
1.68−2.21 (2H,m)、 2.64−3
.72 (7H,m)。
.72 (7H,m)。
4.01−4.22 (3H,m)、 4.58−4
.82 (4H,m)。
.82 (4H,m)。
5.18−5.45 (4H,m)、 5.87−6
.71 (2H,m)叉1」l土二社 鵞 実施例4と実質的に同様にして、(S R,65)−3
−[(3R)−1−アリルオキシカルボニルピロリジン
−3−イル]−6−[(IR)−1−第三級ブチルジメ
チルシリルオキシエチル]−7−オキソ−1−アザビシ
クロ[3,2,0]ヘプト−2−エン−2−カルボン酸
アリルを収率71.0%で得る。
.71 (2H,m)叉1」l土二社 鵞 実施例4と実質的に同様にして、(S R,65)−3
−[(3R)−1−アリルオキシカルボニルピロリジン
−3−イル]−6−[(IR)−1−第三級ブチルジメ
チルシリルオキシエチル]−7−オキソ−1−アザビシ
クロ[3,2,0]ヘプト−2−エン−2−カルボン酸
アリルを収率71.0%で得る。
IR(C12C12) : 1780.1710 co
b−1MMR(CDCl2.8 ) : 0.08 (
6H,s)、 0.90 (91,s)。
b−1MMR(CDCl2.8 ) : 0.08 (
6H,s)、 0.90 (91,s)。
1.69−2.24 (2H,m)、 2.72−3.
73 <7H,l11)。
73 <7H,l11)。
4、52−4.86 (4H,m)、 5.17−5.
52 (4H,+a)。
52 (4H,+a)。
5.84−6.13 (2H,ai)
夾W土二υ
実施例4と実質的に同様にして、(5R,65)−3−
(1−アリルオキシカルボニルアゼデシン−3−イル)
−6−[(IR)−1−第三級ブチルジメチルシリルオ
キシエチル]−7−オキソ−1−アザビシクロ[3,2
,0]ヘプト−2−エン−2−カルボン酸アリルを収率
76.6%で得る。
(1−アリルオキシカルボニルアゼデシン−3−イル)
−6−[(IR)−1−第三級ブチルジメチルシリルオ
キシエチル]−7−オキソ−1−アザビシクロ[3,2
,0]ヘプト−2−エン−2−カルボン酸アリルを収率
76.6%で得る。
IR(CM2C12) ’ 1780.1710 cr
a−’NMR(CDCl2.8 ) 70.04 (6
H,s)、 0.91 (9H,s)。
a−’NMR(CDCl2.8 ) 70.04 (6
H,s)、 0.91 (9H,s)。
1.22 (3H,d、J=6Hz>、 2.89−3
.12 (3H,m)。
.12 (3H,m)。
5.10−5.39 (4H,m)、 5.76−5.
88 (2H,m)叉1Jul二口 0)I 実施例7と実質的に同様にして、(S R,65)−3
−[(3S)−1−アリルオキシカルボニルピロリジン
−3−イル]−6−[(IR)−1−ヒドロキシエチル
コー7−才キソー1−アザビシクロ[3,2,Oコヘプ
トー2−エン−2−カルボン酸アリルを収率59.6%
で得る。
88 (2H,m)叉1Jul二口 0)I 実施例7と実質的に同様にして、(S R,65)−3
−[(3S)−1−アリルオキシカルボニルピロリジン
−3−イル]−6−[(IR)−1−ヒドロキシエチル
コー7−才キソー1−アザビシクロ[3,2,Oコヘプ
トー2−エン−2−カルボン酸アリルを収率59.6%
で得る。
IR(ニート) ’ 3400. 1775. 1
690(710am−’NMR(CDCl2.8) :
1.34 (3H,d、J:6Hz>、 2.60−
3.80 (7H,a+)、 4.47−4.83 (
4H,m)、 5.15−5.62 (4H,m)、
5.80−6.07 (2H,m)実施例7と実質的に
同様にして、(5R,65)−3−[(3R)−1−ア
リルオキシカルボニルピロリジン−3−イルコー6−[
(IR)−1−ヒドロキシエチル]−7−オキソ−1−
アザビシクロ[3,2,0]ヘプト−2−エン−2−カ
ルボン酸アリルを収率49.7%で得る。
690(710am−’NMR(CDCl2.8) :
1.34 (3H,d、J:6Hz>、 2.60−
3.80 (7H,a+)、 4.47−4.83 (
4H,m)、 5.15−5.62 (4H,m)、
5.80−6.07 (2H,m)実施例7と実質的に
同様にして、(5R,65)−3−[(3R)−1−ア
リルオキシカルボニルピロリジン−3−イルコー6−[
(IR)−1−ヒドロキシエチル]−7−オキソ−1−
アザビシクロ[3,2,0]ヘプト−2−エン−2−カ
ルボン酸アリルを収率49.7%で得る。
IR(CH2C12) ’ 3400.1780.17
10 am−’NMR(CDC1s、l; ) :t、
34 (3H,d、J=6Hz>、 2.73−3.
80 (7H,m)、 4.04−4.35 (2H,
m)、 4.50−5、QO(4H,m)、 5.18
−5.54 (4H,m)、 5.80−6.02 (
2H,a+) K箆区長二刀 H 実施例7と実質的に同様にして、(S R,65)−3
−(1−アリルオキシカルボニルアゼチジン−3−イル
)−6−[(IR)−1−ヒドロキシエチルコー7一才
キソー1−アザビシクロ[3゜2.0]ヘプト−2−エ
ン−2−カルボン酸アリルを収率62,4%で得る。
10 am−’NMR(CDC1s、l; ) :t、
34 (3H,d、J=6Hz>、 2.73−3.
80 (7H,m)、 4.04−4.35 (2H,
m)、 4.50−5、QO(4H,m)、 5.18
−5.54 (4H,m)、 5.80−6.02 (
2H,a+) K箆区長二刀 H 実施例7と実質的に同様にして、(S R,65)−3
−(1−アリルオキシカルボニルアゼチジン−3−イル
)−6−[(IR)−1−ヒドロキシエチルコー7一才
キソー1−アザビシクロ[3゜2.0]ヘプト−2−エ
ン−2−カルボン酸アリルを収率62,4%で得る。
IR(ニー)) ’ 3400. 1780. 1
690−1710 cm−1HMR(CDCl2.8
) ’ 2.95−3.25 (3H,m)、5.2
0−5.43 (4H,m)、 5.82−6.00
(2H,m)叉111對ヨユ 0M 実施例9と実質的に同様にして、(S R,65)−6
−[(IR)−1−ヒドロキシエチル]−7−オキソ−
3−[(3S)−ピロリジン−3−イル]−1−アザビ
シクロ[3,2,Oコムブト−2−エン−2−カルボン
酸を収率91.0%で得ル。
690−1710 cm−1HMR(CDCl2.8
) ’ 2.95−3.25 (3H,m)、5.2
0−5.43 (4H,m)、 5.82−6.00
(2H,m)叉111對ヨユ 0M 実施例9と実質的に同様にして、(S R,65)−6
−[(IR)−1−ヒドロキシエチル]−7−オキソ−
3−[(3S)−ピロリジン−3−イル]−1−アザビ
シクロ[3,2,Oコムブト−2−エン−2−カルボン
酸を収率91.0%で得ル。
IR(スジ1−ル) : 1750 crm−’
NMR(C20,E ) ’ 1.29 (3H1d、
J’6Hz)、1.80−2.23 (2H,m)、
4.00−4.40 (21,a+)叉zeta二社 0M 実施例9と実質的に同様にして、(5R,65)−6−
[(IR)−1−ヒドロキシエチル]−7−オキソ−3
−[(3R)−ピロリジン−3−イル]−1−アザビシ
クロ[3,2,0]ヘプト−2−エン−2−カルボン酸
を収率93.0%で得る。
NMR(C20,E ) ’ 1.29 (3H1d、
J’6Hz)、1.80−2.23 (2H,m)、
4.00−4.40 (21,a+)叉zeta二社 0M 実施例9と実質的に同様にして、(5R,65)−6−
[(IR)−1−ヒドロキシエチル]−7−オキソ−3
−[(3R)−ピロリジン−3−イル]−1−アザビシ
クロ[3,2,0]ヘプト−2−エン−2−カルボン酸
を収率93.0%で得る。
IR(スジ確−ル) : 1750 ctm−’
NMR(C20,8> ’ 1.28 (3H1d、J
:6Hz>、1.98−2.22 (28,鋤) 衷m見二n nM 実施例9と実質的に同様にして、(S R,65)−3
−(アゼチジン−3−イル)−6−[(IR)−ヒドロ
キシエチル]−7−オキソ−1−アザビシクロ[3,2
,0]ヘプト−2−エン−2−カルボン酸を収率78.
3%で得る。
NMR(C20,8> ’ 1.28 (3H1d、J
:6Hz>、1.98−2.22 (28,鋤) 衷m見二n nM 実施例9と実質的に同様にして、(S R,65)−3
−(アゼチジン−3−イル)−6−[(IR)−ヒドロ
キシエチル]−7−オキソ−1−アザビシクロ[3,2
,0]ヘプト−2−エン−2−カルボン酸を収率78.
3%で得る。
IR(スジクール) 7 1750 ctm−’N
MR(D20.S ) :1.28 (3H,dJ=6
Hz)叉1」lL−リ 0M 実施例12と実質的に同様にして、(5R,65)−3
−[(3S)−1−ホルムイミドイルピロリジン−3−
イル]−6−[(IR)−1−ヒドロキシエチル]−7
−オキソ−1−アザビシクロ[3,2,0]ヘプト−2
−エン−2−カルボン酸を収率56.0%で得る。
MR(D20.S ) :1.28 (3H,dJ=6
Hz)叉1」lL−リ 0M 実施例12と実質的に同様にして、(5R,65)−3
−[(3S)−1−ホルムイミドイルピロリジン−3−
イル]−6−[(IR)−1−ヒドロキシエチル]−7
−オキソ−1−アザビシクロ[3,2,0]ヘプト−2
−エン−2−カルボン酸を収率56.0%で得る。
IR(スジー−ル) + 1750. 1710
am−1MMR(D20.S ) ’ 1.27 (
3H,d、J=6Hz)、 1.80−2.37(21
,sa)、 2.69−3.01 <2H,m)、 7
.90(IH,br s) 衷m二針 H 実施例12と実質的に同様にして、(S R,65)−
3−[(3R)−t−ホルムイミドイルピロリジン−3
−イル]−6−[(IR)−1−ヒドロキシエチル]−
7−オキソ−1−アザビシクロ[3,2゜0]ヘプト−
2−エン−2−カルボン酸を収率43.0%で得る。
am−1MMR(D20.S ) ’ 1.27 (
3H,d、J=6Hz)、 1.80−2.37(21
,sa)、 2.69−3.01 <2H,m)、 7
.90(IH,br s) 衷m二針 H 実施例12と実質的に同様にして、(S R,65)−
3−[(3R)−t−ホルムイミドイルピロリジン−3
−イル]−6−[(IR)−1−ヒドロキシエチル]−
7−オキソ−1−アザビシクロ[3,2゜0]ヘプト−
2−エン−2−カルボン酸を収率43.0%で得る。
IR(スジー−ル) + 1750. 1710
csa−1MMR(DzO9l; ) ’ L−27
(3H0d、J=6Hz)、1.80−2.35(2H
,−)、 2.72−3.00 (2H,−)、
7.89(IH,br s) 衷Xi!iUL二υ 0M 実施例12と実質的に同様にして、(S R,65)−
3−(1−ホルムイミドイルアゼチジン−3−イル)−
6−[(IR”)−1−ヒドロキシエチル]−7−オキ
ソ−1−アザビシクロ[3,2,0]ヘプト−2−エン
−2−カルボン酸を収率23.5%で得る。
csa−1MMR(DzO9l; ) ’ L−27
(3H0d、J=6Hz)、1.80−2.35(2H
,−)、 2.72−3.00 (2H,−)、
7.89(IH,br s) 衷Xi!iUL二υ 0M 実施例12と実質的に同様にして、(S R,65)−
3−(1−ホルムイミドイルアゼチジン−3−イル)−
6−[(IR”)−1−ヒドロキシエチル]−7−オキ
ソ−1−アザビシクロ[3,2,0]ヘプト−2−エン
−2−カルボン酸を収率23.5%で得る。
IR(スジ繕−ル) : 1750. 1710
am−1MMR(D20.l; ) ’ 1.28
(3H,d、J=6Hz>、 3. LO(2H,d、
J=9Hz)、 3.30−3.50 (LH,m)、
7.69(IH,br s) 衷m (sR,as)−a−[IR)−t−ヒドロキシエチル
]−7−オキソ−3−(ピロリジン−3−イル)−1−
アザビシクロ[3,z、(Bヘプト−2−エン−2−カ
ルボン# (180mg )の燐酸塩、緩衝液(pH6
,8,15IIIQ)中溶液を30%炭酸カリウム水溶
液でptta、s付近に0℃で調整する。この溶液に3
0%炭酸カリウム水溶液でpH8,5付近に調整しなが
ら、アセトイミド酸エチル嚇塩酸塩(835mg)を4
分割して加える。0℃で10分間攪拌後、溶液をIN塩
酸でpH7,0にm*する。混合物を酢最エチル(27
011)とテトラヒドロフラン(3011111>との
混合物で洗浄後、水層を濃縮する。この溶液を非イオン
吸着114m’ タ4 ヤ4 オンHP−20J (4
0mQ )を使用するクロマトグラフィーに付し、アセ
トニトリルと水との混液(2: 9g、V/V )で溶
出する。目的化合物を含む両分を集め、凍結乾燥して、
(SR,6S)−3−(1−アセトイミドイルピロリジ
ン−3−イル)−6−[(IR)−1−ヒドロキシエチ
ル]−7−オキソ−1−アザビシクロ[3,2,0]ヘ
プト−2−エン−2−カルボン酸(80mg)を得る。
am−1MMR(D20.l; ) ’ 1.28
(3H,d、J=6Hz>、 3. LO(2H,d、
J=9Hz)、 3.30−3.50 (LH,m)、
7.69(IH,br s) 衷m (sR,as)−a−[IR)−t−ヒドロキシエチル
]−7−オキソ−3−(ピロリジン−3−イル)−1−
アザビシクロ[3,z、(Bヘプト−2−エン−2−カ
ルボン# (180mg )の燐酸塩、緩衝液(pH6
,8,15IIIQ)中溶液を30%炭酸カリウム水溶
液でptta、s付近に0℃で調整する。この溶液に3
0%炭酸カリウム水溶液でpH8,5付近に調整しなが
ら、アセトイミド酸エチル嚇塩酸塩(835mg)を4
分割して加える。0℃で10分間攪拌後、溶液をIN塩
酸でpH7,0にm*する。混合物を酢最エチル(27
011)とテトラヒドロフラン(3011111>との
混合物で洗浄後、水層を濃縮する。この溶液を非イオン
吸着114m’ タ4 ヤ4 オンHP−20J (4
0mQ )を使用するクロマトグラフィーに付し、アセ
トニトリルと水との混液(2: 9g、V/V )で溶
出する。目的化合物を含む両分を集め、凍結乾燥して、
(SR,6S)−3−(1−アセトイミドイルピロリジ
ン−3−イル)−6−[(IR)−1−ヒドロキシエチ
ル]−7−オキソ−1−アザビシクロ[3,2,0]ヘ
プト−2−エン−2−カルボン酸(80mg)を得る。
IR(スジ1−ル) ’ 3350. 1760
crn−’NMR(020,E / : 1.2
7 (3H,d、J=7.2Hz)、 l−8−
2,3(2H,m)、 2.25 (3H,s)、 2
.90 (2H,d一様。
crn−’NMR(020,E / : 1.2
7 (3H,d、J=7.2Hz)、 l−8−
2,3(2H,m)、 2.25 (3H,s)、 2
.90 (2H,d一様。
J=9.0Hz)、 3.3−4.2 (8H,m)K
五λU二U 相 (SR,6S)−6−[(IR)−1−ヒドロキシエチ
ル]−7−オキンー3−CCs5)−ピロリジン−3−
イル]−1−アザビシクロ[3゜2.0]ヘプト−2−
エン−2−カルボン酸(1,0g)の水(3011)溶
液にアセトイミド酸エチル・塩酸塩(2,8g)を、3
0%水酸化ナトリウム水溶液でp)18.5に調整しな
から0℃で加える。同温で30分間攪拌後、溶液をIN
塩酸でpus、 5に調整し、酢酸エチルで洗浄して減
圧濃縮する。残渣を非イオン吸着樹脂rダイヤイオンH
P−20Jを使用するクロマトグラフィーに付し、3%
イソプロピルアルコール水溶液で溶出する。所望の化合
物を含む両分を集め、凍結乾燥して、(5R,6S ’
)−3−[(3S)−1−アセトイミドイルピロリジン
−3−イル]−6−[(IR)−1−ヒドロキシエチル
]−7−オキンー!−アザビシクロ[31,0]ヘプト
−2−エン−2−カルボン酸(550■g)を得る。
五λU二U 相 (SR,6S)−6−[(IR)−1−ヒドロキシエチ
ル]−7−オキンー3−CCs5)−ピロリジン−3−
イル]−1−アザビシクロ[3゜2.0]ヘプト−2−
エン−2−カルボン酸(1,0g)の水(3011)溶
液にアセトイミド酸エチル・塩酸塩(2,8g)を、3
0%水酸化ナトリウム水溶液でp)18.5に調整しな
から0℃で加える。同温で30分間攪拌後、溶液をIN
塩酸でpus、 5に調整し、酢酸エチルで洗浄して減
圧濃縮する。残渣を非イオン吸着樹脂rダイヤイオンH
P−20Jを使用するクロマトグラフィーに付し、3%
イソプロピルアルコール水溶液で溶出する。所望の化合
物を含む両分を集め、凍結乾燥して、(5R,6S ’
)−3−[(3S)−1−アセトイミドイルピロリジン
−3−イル]−6−[(IR)−1−ヒドロキシエチル
]−7−オキンー!−アザビシクロ[31,0]ヘプト
−2−エン−2−カルボン酸(550■g)を得る。
IR(スジ1−ル) + 1750 cm+−1
HMR(D20.l; ) :1−28 (3H1d、
J:6Hz>、2−27(3H,s)、 1.8−2.
4 (2H,m)、 2.78−3.07(2H,m) 叉111主二社 O 実施例19−1)と実質的に同様にして、(5R168
)−3−[(3R)−1−アセトイミドイルピロリジン
−3−イル]−6−[(IR)−1−ヒドロキシエチル
]−7−オキンー1−アザビシクロ[3,2,0]ヘプ
ト−2−エン−2−カルボン酸を収率22.5%で得る
。
HMR(D20.l; ) :1−28 (3H1d、
J:6Hz>、2−27(3H,s)、 1.8−2.
4 (2H,m)、 2.78−3.07(2H,m) 叉111主二社 O 実施例19−1)と実質的に同様にして、(5R168
)−3−[(3R)−1−アセトイミドイルピロリジン
−3−イル]−6−[(IR)−1−ヒドロキシエチル
]−7−オキンー1−アザビシクロ[3,2,0]ヘプ
ト−2−エン−2−カルボン酸を収率22.5%で得る
。
IR(スジ1−ル) : 1750 am−1H
MR(D20.8 ) ’ 1−28 (3H,d、J
=6Hz)、 2.27(3M、s)、 1.70−2
.42 (2H,+a)、 2.75−3.05(2H
,m) 叉1」ul二拉 OM 実施例19−1)と実質的に同様にして、(5R265
)−3−(1−アセトイミドイルアゼチジン−3−イル
)−6−[(IR)−1−ヒドロキシエチル]−7−オ
キソ−1−アザビシクロ[3゜2.0]ヘプト−2−エ
ン−2−カルボン酸を収率29.5%で得る。
MR(D20.8 ) ’ 1−28 (3H,d、J
=6Hz)、 2.27(3M、s)、 1.70−2
.42 (2H,+a)、 2.75−3.05(2H
,m) 叉1」ul二拉 OM 実施例19−1)と実質的に同様にして、(5R265
)−3−(1−アセトイミドイルアゼチジン−3−イル
)−6−[(IR)−1−ヒドロキシエチル]−7−オ
キソ−1−アザビシクロ[3゜2.0]ヘプト−2−エ
ン−2−カルボン酸を収率29.5%で得る。
IR(スジ書−ル) ’ 1750 am−’N
MR(D20.l; ) ’ 1.28 (3H,dj
=6Hz)、 2、o8(3H,s)、 3.02−3
.22 (2H,m)実施例6と実質的に同様にして、
(5R,65)−3−[(23)−1−アリルオキシカ
ルボニル−2−メトキシメチルピロリジン−4−イル]
−6−[(IR)−1−第三級ブチルジメチルシリルオ
キシエチル]−7−オキソ−1−アザビシクロ[3,2
,0]ヘプト−2−エン−2−カルボン酸アリルを収率
62.8%で得る。
MR(D20.l; ) ’ 1.28 (3H,dj
=6Hz)、 2、o8(3H,s)、 3.02−3
.22 (2H,m)実施例6と実質的に同様にして、
(5R,65)−3−[(23)−1−アリルオキシカ
ルボニル−2−メトキシメチルピロリジン−4−イル]
−6−[(IR)−1−第三級ブチルジメチルシリルオ
キシエチル]−7−オキソ−1−アザビシクロ[3,2
,0]ヘプト−2−エン−2−カルボン酸アリルを収率
62.8%で得る。
IR(スジ曹−ル) : 1710. 1780
am−’NMR(CDCIs、 8 ) 70.07
(6H,s)、 0.88 (6H,s)。
am−’NMR(CDCIs、 8 ) 70.07
(6H,s)、 0.88 (6H,s)。
1.24 (3H,d、JニアHz)、 3.33 (
3H,s)、 4.08−4.40 (4H,m)、
4.59−4.83 (4H,m)、 5.19−5.
47 (4H,m)、 5.87−6.04 (2H,
m)裏直斑毅二釘 実施例6と実質的に同様にして、(SR,6S)−3−
[(2S)−t−アリルオキシカルボニル−2−第三級
ブチルジメチルシリルオキシメチルピロリジン−4−イ
ル]−6−[(IR)−1−第三級ブチルジメチルシリ
ルオキシエチル]−7−オキソ−1−アザビシクロ[3
,2,0]ヘプト−2−エン−2−カルボン酸アリルを
収率62.8%で得る。
3H,s)、 4.08−4.40 (4H,m)、
4.59−4.83 (4H,m)、 5.19−5.
47 (4H,m)、 5.87−6.04 (2H,
m)裏直斑毅二釘 実施例6と実質的に同様にして、(SR,6S)−3−
[(2S)−t−アリルオキシカルボニル−2−第三級
ブチルジメチルシリルオキシメチルピロリジン−4−イ
ル]−6−[(IR)−1−第三級ブチルジメチルシリ
ルオキシエチル]−7−オキソ−1−アザビシクロ[3
,2,0]ヘプト−2−エン−2−カルボン酸アリルを
収率62.8%で得る。
IR(スジ3−ル) ’ 1710. 1750.
1790 ctm−’NMR(CDCIs、δ):
0.08 (12H,s)、 0.88 <188゜s
)、 1.23 (3H,d、J=7Hz>、 1.9
0−2.22 (2H。
1790 ctm−’NMR(CDCIs、δ):
0.08 (12H,s)、 0.88 <188゜s
)、 1.23 (3H,d、J=7Hz>、 1.9
0−2.22 (2H。
m)、 2.72−4.24 (11H,ae)、 4
.50−4.70 (4H。
.50−4.70 (4H。
m)、 5.11−5.47 (4H,m)、 5.6
8−6.03 (2H,m)叉1Jトに拉 実施例6と実質的に同様にして、(5R,65)−3−
[(2R)−1−アリルオキシカルボニル[(IR)−
1−第三級ブチルジメチルシリルオキシエチル]−7−
オキソ−1−アザビシクロ[3.2.0]ヘプト−2−
エン−2−カルボン酸アリルを収率72.3%で得る。
8−6.03 (2H,m)叉1Jトに拉 実施例6と実質的に同様にして、(5R,65)−3−
[(2R)−1−アリルオキシカルボニル[(IR)−
1−第三級ブチルジメチルシリルオキシエチル]−7−
オキソ−1−アザビシクロ[3.2.0]ヘプト−2−
エン−2−カルボン酸アリルを収率72.3%で得る。
IR (スジミール) : 1710. 17
80 am−1HMR (CDCIs.S ) :0
. 07 (6H.s)、0.88 (9H.s)。
80 am−1HMR (CDCIs.S ) :0
. 07 (6H.s)、0.88 (9H.s)。
1、24 (6H.d.J=7Hz>、 4.50−4
.82 (4)1.m)。
.82 (4)1.m)。
5、17−5.50 (4H.m)、 5.87−6、
03 <28.m)衷mニリ JO 実施例7と実質的に同様にして、(5 R.6 S)3
−[(2−S)−t−アリルオキシカルボニル−2−メ
トキシメチルピロリジン−4−イルコ−6−[(IR)
−1−ヒドロキシエチル]−7−オキソ−1−アザビシ
クロ[3,2,0]ヘプト−2−エン−2−カルボン酸
アリルを収率64.3%で得る。
03 <28.m)衷mニリ JO 実施例7と実質的に同様にして、(5 R.6 S)3
−[(2−S)−t−アリルオキシカルボニル−2−メ
トキシメチルピロリジン−4−イルコ−6−[(IR)
−1−ヒドロキシエチル]−7−オキソ−1−アザビシ
クロ[3,2,0]ヘプト−2−エン−2−カルボン酸
アリルを収率64.3%で得る。
IR(スジミール) : 1705. 1780
cm″″INMR(CDC13= 8 ) :1.2
6 (3H,m>、3.33 (3H1s)。
cm″″INMR(CDC13= 8 ) :1.2
6 (3H,m>、3.33 (3H1s)。
4.50−4.80 (4H,m)、 5.21−5
.36 (4H,m)。
.36 (4H,m)。
5.84−6.02 (2H,m)
衷1」しに幻
)IO
実施例7と実質的に同様にして、(S R,6S)〜3
−[(2S)−1−アリルオキシカルボニル−2ブチ三
級プチルジメチルシリルオキシメチルピロリジン−4−
イル]−6−[(IR)−1−第三級ブチルジメチルシ
リルオキシエチル]−7−オキソ−1−アザビシクロ[
3,2,0]ヘプト−2−エン−2−カルボン酸アリル
から、(SR,6S)−3−[(2S)−1−アリルオ
キシカルボニル−2−ヒドロキシメチルピロリジン−4
−イル]−6−[(I R)−,1−ヒドロキシエチル
]−7−オキソ−1−アザビシクロ[3,2,O]ヘプ
ト−2−エン−2−カルボン酸アリルを収率52.6%
で得る。
−[(2S)−1−アリルオキシカルボニル−2ブチ三
級プチルジメチルシリルオキシメチルピロリジン−4−
イル]−6−[(IR)−1−第三級ブチルジメチルシ
リルオキシエチル]−7−オキソ−1−アザビシクロ[
3,2,0]ヘプト−2−エン−2−カルボン酸アリル
から、(SR,6S)−3−[(2S)−1−アリルオ
キシカルボニル−2−ヒドロキシメチルピロリジン−4
−イル]−6−[(I R)−,1−ヒドロキシエチル
]−7−オキソ−1−アザビシクロ[3,2,O]ヘプ
ト−2−エン−2−カルボン酸アリルを収率52.6%
で得る。
IR(スジミール) : 1695. 1770.
3400 am″″INMR(CDC1s、l;
) :1.28 (3H1d、J=7Hz>、1.50
−1.73 (2H,m)、 4.52−4.73 (
4H,m)、 5.16−5.45 (4H,m)、
5.70−6.12 (2H,m)夾111に1粒 O 実施例7と実質的に同様にして、(S R,65)−3
−[(2R)−1−アリルオキシカルボニル−2−メチ
ルピロリジン−4−イル]−6−[(IR)−1−ヒド
ロキシエチル]−7−オキソ−1−アザビシクロ[3,
2,Oコヘプトー2−エン−2−カルボン酸アリルを収
率93,6%で得る。
3400 am″″INMR(CDC1s、l;
) :1.28 (3H1d、J=7Hz>、1.50
−1.73 (2H,m)、 4.52−4.73 (
4H,m)、 5.16−5.45 (4H,m)、
5.70−6.12 (2H,m)夾111に1粒 O 実施例7と実質的に同様にして、(S R,65)−3
−[(2R)−1−アリルオキシカルボニル−2−メチ
ルピロリジン−4−イル]−6−[(IR)−1−ヒド
ロキシエチル]−7−オキソ−1−アザビシクロ[3,
2,Oコヘプトー2−エン−2−カルボン酸アリルを収
率93,6%で得る。
IR(スジタール) : 1700. 1785.
3400 cm”NMR(CDCl2. S )
: 1.20−1.40 (6H劃)、 4.58−4
.78 (4H,m)、 5.17−5.35 (4H
,m)、 5J2−6.05 (2H,a+) K直旌召二旦 実施例9と実質的に同様にして、(S R,8S>−6
−[(IR)−1−ヒドロキシエチル]−3−4(2S
)−2−メトキシメチルピロリジン−4−イル]−7−
オキソー1−アザビシクロ[3゜2.0]ヘプト−2−
エン−2−カルボン酸を収率98.0%で得る。
3400 cm”NMR(CDCl2. S )
: 1.20−1.40 (6H劃)、 4.58−4
.78 (4H,m)、 5.17−5.35 (4H
,m)、 5J2−6.05 (2H,a+) K直旌召二旦 実施例9と実質的に同様にして、(S R,8S>−6
−[(IR)−1−ヒドロキシエチル]−3−4(2S
)−2−メトキシメチルピロリジン−4−イル]−7−
オキソー1−アザビシクロ[3゜2.0]ヘプト−2−
エン−2−カルボン酸を収率98.0%で得る。
IR(スジ1−ル) + 1750 cab−’
NMR(C20,δ) : 1.2G−1,27(3H
,m)、 1.91−2.13(2H,m)、 3.3
5 (3H,s)罠五l〃二刀 O 実施例9と実質的に同様にして、(5R,6S)−6−
[(IR)−1−ヒドロキシエチル]−3−[(23)
−2−ヒドロキシメチルピロリジン−4−イル]−7−
オキンー1−アザビシクロ[3,2,0]ヘプト−2−
エン−2−カルボン酸を収率72.3%で得る。
NMR(C20,δ) : 1.2G−1,27(3H
,m)、 1.91−2.13(2H,m)、 3.3
5 (3H,s)罠五l〃二刀 O 実施例9と実質的に同様にして、(5R,6S)−6−
[(IR)−1−ヒドロキシエチル]−3−[(23)
−2−ヒドロキシメチルピロリジン−4−イル]−7−
オキンー1−アザビシクロ[3,2,0]ヘプト−2−
エン−2−カルボン酸を収率72.3%で得る。
IR(スジー−ル) : 1750 cra−”
NMR(C20,8> ’ 1.24 (3H,d、J
=7Hz)、 i、 60−2−31(2H,m)、
2.87−4.28 (LIH,m)叉1ヱg二n ■0 実施例9と実質的に同様にして、(5R,65)−6−
[(IR)−1−ヒドロキシエチル]−3−[(2R)
−2−メチルピロリジン−4−イル]−7=オキソー1
−アザビシクロ[3,2,0]ヘプト−2−エン−2−
カルボン酸ヲ収率64.4%で得る。
NMR(C20,8> ’ 1.24 (3H,d、J
=7Hz)、 i、 60−2−31(2H,m)、
2.87−4.28 (LIH,m)叉1ヱg二n ■0 実施例9と実質的に同様にして、(5R,65)−6−
[(IR)−1−ヒドロキシエチル]−3−[(2R)
−2−メチルピロリジン−4−イル]−7=オキソー1
−アザビシクロ[3,2,0]ヘプト−2−エン−2−
カルボン酸ヲ収率64.4%で得る。
IR(スジ1−ル) ’ 1760 am−1H
MR(C20,8) ’ t、 21 (3H0d、J
=7Hz)、1.33(3H,d、J=7Hz) 犬jiM23−リ OOH 実施例12と実質的に同様にして、(5R,65)−3
−[(2S)−1−ホルムイミドイル−2−メトキシメ
チルピロリジン−4−イル]−6−[(IR)−1−ヒ
ドロキシエチル]−7−オキンー1−アザビシクロ[3
,2,0]ヘプト−2−エン−2−カルボン酸を収率1
1%で得る。
MR(C20,8) ’ t、 21 (3H0d、J
=7Hz)、1.33(3H,d、J=7Hz) 犬jiM23−リ OOH 実施例12と実質的に同様にして、(5R,65)−3
−[(2S)−1−ホルムイミドイル−2−メトキシメ
チルピロリジン−4−イル]−6−[(IR)−1−ヒ
ドロキシエチル]−7−オキンー1−アザビシクロ[3
,2,0]ヘプト−2−エン−2−カルボン酸を収率1
1%で得る。
IR(スジ望−’) ’ 1750 am−1H
MR(C20,l; ) ’ t、 24 (3H,d
、J=7Hz>、 t、 94−2.10(2H,m)
、 3.36 (3H,s)、 7.78−7.93
(IH,m>夫直五猥二組 実施例12と実質的に同様にして、(5R,65)−3
−[(2S)−1−ホルムイミドイル−2−ヒドロキシ
メチルピロリジン−4−イルコー6−[(IR)−1−
ヒドロキシエチル]−7−オキソ−1−アザビシクロ[
3,2,0コヘプト−2−エン−2−カルボン酸を収率
66%で得る。
MR(C20,l; ) ’ t、 24 (3H,d
、J=7Hz>、 t、 94−2.10(2H,m)
、 3.36 (3H,s)、 7.78−7.93
(IH,m>夫直五猥二組 実施例12と実質的に同様にして、(5R,65)−3
−[(2S)−1−ホルムイミドイル−2−ヒドロキシ
メチルピロリジン−4−イルコー6−[(IR)−1−
ヒドロキシエチル]−7−オキソ−1−アザビシクロ[
3,2,0コヘプト−2−エン−2−カルボン酸を収率
66%で得る。
IR(スジ1−ル) : 1750 cm−’N
MR(C20,δ) : 1.24 (3H,d、、C
7Hz>、 7.97(IH,br s) K五且η二剋 O 実施例12と実質的に同様にして、(5R,65)−3
−[(2R)−1−ホルムイミドイル−2−メチルピロ
リジン−4−イル]−6−[(IR)−1−ヒドロキシ
エチル]−7−オキソ−1−アザビシクロ[3,2,O
コヘプトー2−エン−2−カルボン酸を収率47.9%
で得る。
MR(C20,δ) : 1.24 (3H,d、、C
7Hz>、 7.97(IH,br s) K五且η二剋 O 実施例12と実質的に同様にして、(5R,65)−3
−[(2R)−1−ホルムイミドイル−2−メチルピロ
リジン−4−イル]−6−[(IR)−1−ヒドロキシ
エチル]−7−オキソ−1−アザビシクロ[3,2,O
コヘプトー2−エン−2−カルボン酸を収率47.9%
で得る。
IR(スジ違−ル) : 1755 am″″I
NMR(DzOll; ) ’ 1.24 (6H1d
、J”7Hz>、7.7ロー7−93(IH,m) 実施例4と実質的に同様にして下記化合物を得る。
NMR(DzOll; ) ’ 1.24 (6H1d
、J”7Hz>、7.7ロー7−93(IH,m) 実施例4と実質的に同様にして下記化合物を得る。
叉1J冒に〇
(5R,6S)−3−”[(2S)−1−アリルオキシ
カルボニル−4−フルオロピロリジン−2−イル]−6
−[(IR)−1−第三級ブチルジメチルシリルオキシ
エチル]−7−オキソ−1−アザビシクロ[3,2,0
]ヘプト−2−エン−2−カルボン酸アリル IR(CH2C12) :1770.1700 cm−
’NMR(CDCIs、S ) ’ 0.06 (6H
1s)、0.90 (9H9s)。
カルボニル−4−フルオロピロリジン−2−イル]−6
−[(IR)−1−第三級ブチルジメチルシリルオキシ
エチル]−7−オキソ−1−アザビシクロ[3,2,0
]ヘプト−2−エン−2−カルボン酸アリル IR(CH2C12) :1770.1700 cm−
’NMR(CDCIs、S ) ’ 0.06 (6H
1s)、0.90 (9H9s)。
2.7−3.2 (3H,+++)、 4.3−4.8
(4H,m)、 5.0−5.6(5H,m)、 5
.8−6.1’ (2H,m)叉m土二針 (SR,6S)−3−(1−アリルレオキシ力ルボニす
ピペリジレ−2−イル)−6−[(IR)−1−第三級
ブチルジメチルシリルオキシエチル]−7−オキソ−1
−アザビシクロ[3,2,0]ヘプト−2−カルボン酸
アリル IRにニート) : 1780. 1700
am−’NMR(CDC13,S > ’ 0.0
3 (6H9s)、0.90 (9H1s)。
(4H,m)、 5.0−5.6(5H,m)、 5
.8−6.1’ (2H,m)叉m土二針 (SR,6S)−3−(1−アリルレオキシ力ルボニす
ピペリジレ−2−イル)−6−[(IR)−1−第三級
ブチルジメチルシリルオキシエチル]−7−オキソ−1
−アザビシクロ[3,2,0]ヘプト−2−カルボン酸
アリル IRにニート) : 1780. 1700
am−’NMR(CDC13,S > ’ 0.0
3 (6H9s)、0.90 (9H1s)。
2.5−3.0 (3H,m)、 4.5−4.8 (
4H,+n)、 5.1−5.4 (4H,m)、 5
.8−6.1 (2H,m)大1」せ11拉 (3S、4R)−4−[2−(1−アリルオキシカルボ
ニルピペリジン°−4−イル)−1−メチル−2−オキ
ソエチル]−3−[(IR)−1−第三級ブチルジメチ
ルシリルオキシエチル]−2−オキソアゼチジンの異性
体Aを出発原料として、(SR,6S)−3−(1−ア
リルオキシカルボニルピペリジン−4−イル)−6−[
(IR)−1−第三級ブチルジメチルシリルオキシエチ
ルコー4−メチル−7−オキソ−1−アザビシクロ[3
,2,0]ヘプト−2−工ン−2−カルボン酸アリルの
異性体A IR(ニート) : 1780. 1700 a
m−1HMR(CDC13,8) ’ 0.06 (3
H9s)、0.92 (9H9s)。
4H,+n)、 5.1−5.4 (4H,m)、 5
.8−6.1 (2H,m)大1」せ11拉 (3S、4R)−4−[2−(1−アリルオキシカルボ
ニルピペリジン°−4−イル)−1−メチル−2−オキ
ソエチル]−3−[(IR)−1−第三級ブチルジメチ
ルシリルオキシエチル]−2−オキソアゼチジンの異性
体Aを出発原料として、(SR,6S)−3−(1−ア
リルオキシカルボニルピペリジン−4−イル)−6−[
(IR)−1−第三級ブチルジメチルシリルオキシエチ
ルコー4−メチル−7−オキソ−1−アザビシクロ[3
,2,0]ヘプト−2−工ン−2−カルボン酸アリルの
異性体A IR(ニート) : 1780. 1700 a
m−1HMR(CDC13,8) ’ 0.06 (3
H9s)、0.92 (9H9s)。
1.2−1.4 (6H,m)、 1.5−1.8
(4H,m)、 4.5−5.0(4H,m)、
5.1−5.6 (4H,m)、 5.8−6.0
(2H,m)太11トに1 (3S、4R)−4−42−(1−アリルオキシカルボ
ニルピペリジン− ル−2−オキソエチル]−3−[(IR)−1−第三級
ブチルジメチルシリルオキシエチルコー2−オキソアゼ
チジンの異性体Bを出発原料として、(5R.6S)−
3−(1−アリルオキシカルボニルピペリジン−4−イ
ル) − 6 − [ (I R)−1−第三級ブチル
ジメチルシリルオキシエチルコー4−メチル−7−オキ
ソ−1−アザビシクロ[3.2.01ヘプト−2−エン
−2−カルボン酸アリルの異性体B IR (ニー)) ’ 1780. 1700
am−1HMR (CDCl2,δ) : 0.0
6 (糺s)、 0.90 (9Hl)。
(4H,m)、 4.5−5.0(4H,m)、
5.1−5.6 (4H,m)、 5.8−6.0
(2H,m)太11トに1 (3S、4R)−4−42−(1−アリルオキシカルボ
ニルピペリジン− ル−2−オキソエチル]−3−[(IR)−1−第三級
ブチルジメチルシリルオキシエチルコー2−オキソアゼ
チジンの異性体Bを出発原料として、(5R.6S)−
3−(1−アリルオキシカルボニルピペリジン−4−イ
ル) − 6 − [ (I R)−1−第三級ブチル
ジメチルシリルオキシエチルコー4−メチル−7−オキ
ソ−1−アザビシクロ[3.2.01ヘプト−2−エン
−2−カルボン酸アリルの異性体B IR (ニー)) ’ 1780. 1700
am−1HMR (CDCl2,δ) : 0.0
6 (糺s)、 0.90 (9Hl)。
4、5−4.9 (4H.m)、 5.2−5.6 (
48,m)、 5.8−6.0(2H.m) 実施例6と実質的に同様にして下記化合物を得る。
48,m)、 5.8−6.0(2H.m) 実施例6と実質的に同様にして下記化合物を得る。
衷m二n
(SR.BS)−3−[4−(アリルオキシカルボニル
)チオモルホリン−3−イル]−6−[(IR)−t−
第三級ブチルジメチルシリルオキシエチル]−7−オキ
ソ−1−アザビシクロ[3,2,0]ヘプト−2−エン
−2−カルボン酸アリル IR(ニー)) : 1780. 1710−
L700 am−1衷1j冒に1吋 (5R,6S)−3−[1,4−ビス(アリルオキシカ
ルボニル [(IR)−1−第三級ブチルジメチルシリルオキシエ
チル]−7−オキソ−1−アザビシクロ[3.2.O]
ヘプト−2−エン−2ーカルボン酸アリル IR (ニー)) : 1780. 17
20−1690 am−1東1Jト1ニハ (5R.BS)−3−[(3R)−4−アリルオキシカ
ルボニルモルホリン−3−イル]−6−[(IR)−1
−第三級ブチルジメチルシリルオキシエチル]−7−オ
キソ−1−アザビシクロ[3.2.O]ヘプト−2−エ
ン−2ーカルボン酸アリル IR (ニー)) : 1785. 1705
am−’NMR (CDC13.l; ) ’ 0
.08 (6H.s)、0.89 (9H.s)衷1」
トに村 (5R.6S)−3−(4−アリルオキシカルボニルモ
ルホリン− −1−第三級ブチルジメチルシリルオキシエチル]−7
−オキソ−1−アザビシクロ[3.2。
)チオモルホリン−3−イル]−6−[(IR)−t−
第三級ブチルジメチルシリルオキシエチル]−7−オキ
ソ−1−アザビシクロ[3,2,0]ヘプト−2−エン
−2−カルボン酸アリル IR(ニー)) : 1780. 1710−
L700 am−1衷1j冒に1吋 (5R,6S)−3−[1,4−ビス(アリルオキシカ
ルボニル [(IR)−1−第三級ブチルジメチルシリルオキシエ
チル]−7−オキソ−1−アザビシクロ[3.2.O]
ヘプト−2−エン−2ーカルボン酸アリル IR (ニー)) : 1780. 17
20−1690 am−1東1Jト1ニハ (5R.BS)−3−[(3R)−4−アリルオキシカ
ルボニルモルホリン−3−イル]−6−[(IR)−1
−第三級ブチルジメチルシリルオキシエチル]−7−オ
キソ−1−アザビシクロ[3.2.O]ヘプト−2−エ
ン−2ーカルボン酸アリル IR (ニー)) : 1785. 1705
am−’NMR (CDC13.l; ) ’ 0
.08 (6H.s)、0.89 (9H.s)衷1」
トに村 (5R.6S)−3−(4−アリルオキシカルボニルモ
ルホリン− −1−第三級ブチルジメチルシリルオキシエチル]−7
−オキソ−1−アザビシクロ[3.2。
0]ヘプト−2−エン−2−カルボン酸アリルIR
<ニート) ; 1780. 1710−17
00 am−’衷1」トにn (SR.6S)−3−[ 1.2−ビス(アリルオキシ
カルボニル)ピラゾリジン−4−イル]−6−[(IR
)−1−第三級ブチルジメチルシリルオキシエチル]−
7−オキソ−1−アザビシクロ[3.2.0]ヘプト−
2−エン−2−カルボン酸アリル IR (スジ謄−ル) ? 1710. 17
80 cm+−1HMR (CDCl2. 8 )
? 0.08 (6H.s)、 0.88 (9H,s
)。
<ニート) ; 1780. 1710−17
00 am−’衷1」トにn (SR.6S)−3−[ 1.2−ビス(アリルオキシ
カルボニル)ピラゾリジン−4−イル]−6−[(IR
)−1−第三級ブチルジメチルシリルオキシエチル]−
7−オキソ−1−アザビシクロ[3.2.0]ヘプト−
2−エン−2−カルボン酸アリル IR (スジ謄−ル) ? 1710. 17
80 cm+−1HMR (CDCl2. 8 )
? 0.08 (6H.s)、 0.88 (9H,s
)。
1、23 (3H.d.に6Hz)、 2.73−2.
80 (2H.m)。
80 (2H.m)。
3、06−3.11 (2H.wi)、 3.50−3
.92 (28.醜)。
.92 (28.醜)。
4、04−4.62 (4H.m)、 4.58−4.
81 (6H.m)。
81 (6H.m)。
5、20−5.47 (6H.m)、 5.80−6.
02 <3H.m)衷1己涜狭二1吋 (5R,6S)−3−[2−アリルオキシカルボニル−
1−(ジメチルカルバモイル ジン−4−イルコー6−[(IR)−1−第三級ブチル
ジメチルシリルオキシエチル]−7−オキソ−1−アザ
ビシクロ[:3.2.O]ヘプト−2−エン−2−カル
ボン酸アリル IR (スジタール) : 1695, 17
75 am−’NMR (CDC13.S > ’
0.07 (6H,s)、0−88 (9H.s)。
02 <3H.m)衷1己涜狭二1吋 (5R,6S)−3−[2−アリルオキシカルボニル−
1−(ジメチルカルバモイル ジン−4−イルコー6−[(IR)−1−第三級ブチル
ジメチルシリルオキシエチル]−7−オキソ−1−アザ
ビシクロ[:3.2.O]ヘプト−2−エン−2−カル
ボン酸アリル IR (スジタール) : 1695, 17
75 am−’NMR (CDC13.S > ’
0.07 (6H,s)、0−88 (9H.s)。
1、25 (3H,d.J=6Hz)、 2.99 (
s.6H)、 4.61−4、78 (4H.m)、
5.19−5.48 (4H.m)、 5.83−6、
05 (2H.m) 夾鳳旦1忙」U (SR.6S)−3−[(2S)−1−アリルオキシカ
ルボニル−2−ジメチルカルバモイルピロリジン− 三級ブチルジメチルシリル才キジエチルコー7−才キソ
ー1−アザビシクロ[3.2.O]ヘプト−2−エン−
2−カルボン酸アリル IR (スジ替−ル) ’ 1655. 17
10. 1780 am−1HMR (CDCl2
,ε) : 0.08 (6H.s)、 0.87 (
9H,s)。
s.6H)、 4.61−4、78 (4H.m)、
5.19−5.48 (4H.m)、 5.83−6、
05 (2H.m) 夾鳳旦1忙」U (SR.6S)−3−[(2S)−1−アリルオキシカ
ルボニル−2−ジメチルカルバモイルピロリジン− 三級ブチルジメチルシリル才キジエチルコー7−才キソ
ー1−アザビシクロ[3.2.O]ヘプト−2−エン−
2−カルボン酸アリル IR (スジ替−ル) ’ 1655. 17
10. 1780 am−1HMR (CDCl2
,ε) : 0.08 (6H.s)、 0.87 (
9H,s)。
1、23 (3H.d.J=7Hz>、 2.04−2
.10 (2H.++)。
.10 (2H.++)。
2、98 (3H.s)、 3.08 (3H.s)、
4.57−4.82<5)1.+a)、 5.19
−5.50 (4H,m)、 5.80−6.05
(2H.a+) 実施例4と実質的に同様にして下記化合物を得る。
4.57−4.82<5)1.+a)、 5.19
−5.50 (4H,m)、 5.80−6.05
(2H.a+) 実施例4と実質的に同様にして下記化合物を得る。
東1d涜狭二上吋
(5R.6S)−3−(1−アリルオキシカルボニル−
2−メチルピロリジン−3−イル)−6−[(IR)−
1−第三級ブチルジメチルシリルオキシエチル]−7−
オキソ−1−アザビシクロ[3.2.O]ヘプト−2−
エン−2−カルボン酸アリル IR (ニー)) ’ 1775. 170
5 cm−1HMR (CDCl2.l; ) ’
0.08 (6H.s)、0.91 (9H.s)。
2−メチルピロリジン−3−イル)−6−[(IR)−
1−第三級ブチルジメチルシリルオキシエチル]−7−
オキソ−1−アザビシクロ[3.2.O]ヘプト−2−
エン−2−カルボン酸アリル IR (ニー)) ’ 1775. 170
5 cm−1HMR (CDCl2.l; ) ’
0.08 (6H.s)、0.91 (9H.s)。
1、1−1.4 (6H.m)、 2.76−2.83
(2H.rm)。
(2H.rm)。
3、06−3.10 (LH.m>、 4.5−4.8
(4H.m)。
(4H.m)。
5、2−5.5 (4H.m)、 5.8−6、0
(2H,m)東111七ユ旦 漏 (5R,6S)−3−[ 1−アリルオキシカルボニル
−(4−第三級ブチルジメチルシリルオキシメチル)ピ
ロリジン−3−イルコーa−[(IR)−1−第三級ブ
チルジメチルシリルオキシニブル]−7−オキソ−1−
アザビシクロ[3.2。
(2H,m)東111七ユ旦 漏 (5R,6S)−3−[ 1−アリルオキシカルボニル
−(4−第三級ブチルジメチルシリルオキシメチル)ピ
ロリジン−3−イルコーa−[(IR)−1−第三級ブ
チルジメチルシリルオキシニブル]−7−オキソ−1−
アザビシクロ[3.2。
0]ヘプト−2−エン−2−カルボン酸アリルIR
(ニー)) : 1780. 1705 c
m−1HMR (CDCl2.ε) i 0.090.
0.075 (6H.それぞれs)、 0.88.
0.91 (9M.それぞれs)、 1.22(3H.
d.J=7Hz)、 2.8−3.4 (5H.m)、
3.5−3.8(41(、m)、 4.5−4.9
(4H.m)、 5、2−5.6 (4)1.
m)。
(ニー)) : 1780. 1705 c
m−1HMR (CDCl2.ε) i 0.090.
0.075 (6H.それぞれs)、 0.88.
0.91 (9M.それぞれs)、 1.22(3H.
d.J=7Hz)、 2.8−3.4 (5H.m)、
3.5−3.8(41(、m)、 4.5−4.9
(4H.m)、 5、2−5.6 (4)1.
m)。
5、8−6.0 (2H.a+)
大」lシ役二上り
(SR,6S)−6−[(IR)−1−第三級ブチルジ
メチルシリルオキシエチル]−3−[(4R)−3−(
4−ニトロベンジルオキシカルボニル)チアゾリジン−
4−イル]−7−オキソー1−アザビシクロ[3,2,
0]ヘプト−2−エン−2−カルボン酸4−ニトロベン
ジルIR(ニー)) : 1775. 172
0. 1705 am−’実施例7と実質的に同様
にして下記化合物を得る。
メチルシリルオキシエチル]−3−[(4R)−3−(
4−ニトロベンジルオキシカルボニル)チアゾリジン−
4−イル]−7−オキソー1−アザビシクロ[3,2,
0]ヘプト−2−エン−2−カルボン酸4−ニトロベン
ジルIR(ニー)) : 1775. 172
0. 1705 am−’実施例7と実質的に同様
にして下記化合物を得る。
太mニリ
(5R,6S)−3−[(2S)−1−アリルオキシカ
ルボニル−4−フルオロピロリジン−2−イル]−6−
[(IR)−1−ヒドロキシエチル]−7−オキソ−1
−アザビシクロ[3,2,0コヘプトー2−エン−2−
カルボン酸アリルIR(ニー)) ’ 3350.
1770. 1700 am−1HMR(CD
Cl2.8) : 2.7−3.2 (3H,m)、
4.4−4.8(41(、m)、 5.0−5.6 (
5H,m)、 5.8−6.1 (2H,m)X直輿亜
二刀 (5R,6S)−3−(1−アリルオキシカルボニルピ
ペリジン−2−イル)−6−[(IR)−1−ヒドロキ
シエチル]−7−オキソ−1−アザビシクロ[3,2,
O]ヘプト−2−エン−2−カルボン酸アリル LR(CH2C12) ’ 3400.1780.17
00 arm−’NMR(CDC13,l; ) ’
2.7−3.3 (3H1a+)、4.5−4.9(4
H,III)、 5.1−5.4 (4H,m)、 5
.8−6.1 (2H,m)叉m二拉 (5R,6S)−3−(1−アリルオキシカルボニルピ
ペリジン−4−イル)−6−[(IR)−1−第三級ブ
チルジメチルシリルオキシエチル]−4−メチル−7−
オキソ−1−アザビシクロ[3,2,0]ヘプト−2−
エン−2−カルボン酸アリルの異性体Aを出発原料とし
て、(5R,6S)−3−(1−アリルオキシカルボニ
ルピペリジン−4−イル)−6−[(IR)−1−ヒド
ロキシエチル]−4−メチル−7−オキソ−1−アザビ
シクロ[3,2,0]ヘプト−2−エン−2−力ルボン
酸アリルの異性体A IR(ニー)) ’ 1760. 1700 c
m−1に五旌亜二U (SR,15S)−3−(1−アリルオキシカルボニル
ピペリジン−4−イル)−8−((IR)−1−第三級
ブチルジメチルシルオキシエチル]−4−メチル−7−
オキソ−1−アザビシクロ[3,2,0]ヘプト−2−
エン−2−カルボン酸アリルの異性体Bを出発原料とし
て、(S R,6S)−3−(1−アリルオキシカルボ
ニルピペリジン−エチル]−4−メチル−7−オキソ−
1−アザビシクロ[3.2.0]ヘプト−2−エン−2
−カルボン酸アリルの異性体B IR (ニー)) : 1760. 168
0 am−1HMR (CDCl2.8) 7 2.
8−3.0 <2H.m)、 3.0−3.6(2H.
m)、 4.5−4.9 (4H.m)、 5.2−5
.5 (4H.m)。
ルボニル−4−フルオロピロリジン−2−イル]−6−
[(IR)−1−ヒドロキシエチル]−7−オキソ−1
−アザビシクロ[3,2,0コヘプトー2−エン−2−
カルボン酸アリルIR(ニー)) ’ 3350.
1770. 1700 am−1HMR(CD
Cl2.8) : 2.7−3.2 (3H,m)、
4.4−4.8(41(、m)、 5.0−5.6 (
5H,m)、 5.8−6.1 (2H,m)X直輿亜
二刀 (5R,6S)−3−(1−アリルオキシカルボニルピ
ペリジン−2−イル)−6−[(IR)−1−ヒドロキ
シエチル]−7−オキソ−1−アザビシクロ[3,2,
O]ヘプト−2−エン−2−カルボン酸アリル LR(CH2C12) ’ 3400.1780.17
00 arm−’NMR(CDC13,l; ) ’
2.7−3.3 (3H1a+)、4.5−4.9(4
H,III)、 5.1−5.4 (4H,m)、 5
.8−6.1 (2H,m)叉m二拉 (5R,6S)−3−(1−アリルオキシカルボニルピ
ペリジン−4−イル)−6−[(IR)−1−第三級ブ
チルジメチルシリルオキシエチル]−4−メチル−7−
オキソ−1−アザビシクロ[3,2,0]ヘプト−2−
エン−2−カルボン酸アリルの異性体Aを出発原料とし
て、(5R,6S)−3−(1−アリルオキシカルボニ
ルピペリジン−4−イル)−6−[(IR)−1−ヒド
ロキシエチル]−4−メチル−7−オキソ−1−アザビ
シクロ[3,2,0]ヘプト−2−エン−2−力ルボン
酸アリルの異性体A IR(ニー)) ’ 1760. 1700 c
m−1に五旌亜二U (SR,15S)−3−(1−アリルオキシカルボニル
ピペリジン−4−イル)−8−((IR)−1−第三級
ブチルジメチルシルオキシエチル]−4−メチル−7−
オキソ−1−アザビシクロ[3,2,0]ヘプト−2−
エン−2−カルボン酸アリルの異性体Bを出発原料とし
て、(S R,6S)−3−(1−アリルオキシカルボ
ニルピペリジン−エチル]−4−メチル−7−オキソ−
1−アザビシクロ[3.2.0]ヘプト−2−エン−2
−カルボン酸アリルの異性体B IR (ニー)) : 1760. 168
0 am−1HMR (CDCl2.8) 7 2.
8−3.0 <2H.m)、 3.0−3.6(2H.
m)、 4.5−4.9 (4H.m)、 5.2−5
.5 (4H.m)。
5、8−6.1 (2H,m)
及五皿並二犯
O
(5R,68)−3−[4−(アリルオキシカルボニル
)チオモルホリン−3−イル]−6 −[(IR)−1
−ヒドロキシエチル]−7−オキソ−1−アザビシクロ
[3.2.01ヘプト−2−エン−2−力Jレボン酸ア
リル IR (ニー)) : 3500−3350.
1780. 1710−1690 am−’大
1jll二即 (5R,6S)−3−[1.4−ビス(アリルオキシカ
ルボニル [(IR)−1−ヒドロキシエチル]−7−オキソ−1
−アザビシクロ[3.2.0]ヘプト−2−エン−2−
カルボン酸アリル IR (ニート) : 3500−3400.
1775. 1710−1690 cm−
1衷1J聾にn )IO (SR,6S)−3−[(3R)−4−アリルオキシカ
ルボニルモルホリン−3−イル]−6−[ ( IR)
−1−ヒドロキシエチル]−7−オキソ−1−アザビシ
クロ[3.2.0]ヘプト−2−エン−2−カルボン酸
アリル IR <ニート) : 3500−3350.
1780. 1705 am−1(5R.6
S)−3−[4−アリルオキシカルボニルモルホリン− −1−ヒドロキシエチル]−7−オキソ−1−アザビシ
クロ[3.2.0]ヘプト−2−エン−2ーカルボン酸
アリル IR (二4) : 3400−3200.
1775. 1710−1690 am−1
衷1j11二計 JO (SR.6S)−3−[ 1.2−ビス(アリルオキシ
カルボニル)ピラゾリジン−4−イル]−6−[(1’
R)−1−ヒドロキシエチル]−7−オキソ−1−アザ
ビシクロ[3.2.0]ヘプト−2−エン−2−カルボ
ン酸アリル IR (スジ讐−ル) : 1710. 17
80. 3450 am−1HMR (CDC1a
.S ) ’ t. 24 (3H.d.J:6Hz)
、2.74−2、86 (2H,m)、 3.06−3
.18 (2H.m)、 3.50−3、90 (2H
.m)、 4.06−4.50 (4H.m)、 4.
60−4、80 (6H.lI+)、 5.20−5.
50 (6H.m)、 5.80−6、00 (3H.
m) 叉J己シ匝二士U MO (S R,65)−3−[: 2−アリルオキシカルボ
ニル−1−(ジメチルカルバモイル ジン−4−イル]−6−[(IR)−1−ヒドロキシエ
チル]−7−オキソ−1−アザビシクロ[3.2.0]
ヘプト−2−エン−2−力Jレボン酸アリル IR (スジミール) ’ 1690. 17
70 am−1HMR (CDC13.8 ) ’
1.33 (3H.d,J=6Hz)、2.84−2、
95 (2H.m)、 3.00 (s.6H)、 3
.12−3.31(2H,n)、 3.44−3.73
(2H,m)、 3.80−3.98(LH,m)、
4.10−4.47 <3H.m)、 4.61−4
.87(4H.m)、 5.20−5.47 (4H.
m)、 5.82−6.07(2H.m) 叉1己シ臣二1D R (SR.6S)−3−[(2S)−1−アリルオキシカ
ルボニル−2−ジメチルカルバモイルピロリジン− ドロキシエチル]−7−オキソ−1−アザビシクロ[3
.2.0]ヘプト−2−エン−2−カルボン酸アリル IR (スジ費−ル) : 1640. 170
0. 1775。
)チオモルホリン−3−イル]−6 −[(IR)−1
−ヒドロキシエチル]−7−オキソ−1−アザビシクロ
[3.2.01ヘプト−2−エン−2−力Jレボン酸ア
リル IR (ニー)) : 3500−3350.
1780. 1710−1690 am−’大
1jll二即 (5R,6S)−3−[1.4−ビス(アリルオキシカ
ルボニル [(IR)−1−ヒドロキシエチル]−7−オキソ−1
−アザビシクロ[3.2.0]ヘプト−2−エン−2−
カルボン酸アリル IR (ニート) : 3500−3400.
1775. 1710−1690 cm−
1衷1J聾にn )IO (SR,6S)−3−[(3R)−4−アリルオキシカ
ルボニルモルホリン−3−イル]−6−[ ( IR)
−1−ヒドロキシエチル]−7−オキソ−1−アザビシ
クロ[3.2.0]ヘプト−2−エン−2−カルボン酸
アリル IR <ニート) : 3500−3350.
1780. 1705 am−1(5R.6
S)−3−[4−アリルオキシカルボニルモルホリン− −1−ヒドロキシエチル]−7−オキソ−1−アザビシ
クロ[3.2.0]ヘプト−2−エン−2ーカルボン酸
アリル IR (二4) : 3400−3200.
1775. 1710−1690 am−1
衷1j11二計 JO (SR.6S)−3−[ 1.2−ビス(アリルオキシ
カルボニル)ピラゾリジン−4−イル]−6−[(1’
R)−1−ヒドロキシエチル]−7−オキソ−1−アザ
ビシクロ[3.2.0]ヘプト−2−エン−2−カルボ
ン酸アリル IR (スジ讐−ル) : 1710. 17
80. 3450 am−1HMR (CDC1a
.S ) ’ t. 24 (3H.d.J:6Hz)
、2.74−2、86 (2H,m)、 3.06−3
.18 (2H.m)、 3.50−3、90 (2H
.m)、 4.06−4.50 (4H.m)、 4.
60−4、80 (6H.lI+)、 5.20−5.
50 (6H.m)、 5.80−6、00 (3H.
m) 叉J己シ匝二士U MO (S R,65)−3−[: 2−アリルオキシカルボ
ニル−1−(ジメチルカルバモイル ジン−4−イル]−6−[(IR)−1−ヒドロキシエ
チル]−7−オキソ−1−アザビシクロ[3.2.0]
ヘプト−2−エン−2−力Jレボン酸アリル IR (スジミール) ’ 1690. 17
70 am−1HMR (CDC13.8 ) ’
1.33 (3H.d,J=6Hz)、2.84−2、
95 (2H.m)、 3.00 (s.6H)、 3
.12−3.31(2H,n)、 3.44−3.73
(2H,m)、 3.80−3.98(LH,m)、
4.10−4.47 <3H.m)、 4.61−4
.87(4H.m)、 5.20−5.47 (4H.
m)、 5.82−6.07(2H.m) 叉1己シ臣二1D R (SR.6S)−3−[(2S)−1−アリルオキシカ
ルボニル−2−ジメチルカルバモイルピロリジン− ドロキシエチル]−7−オキソ−1−アザビシクロ[3
.2.0]ヘプト−2−エン−2−カルボン酸アリル IR (スジ費−ル) : 1640. 170
0. 1775。
3350−3400 am−1
NMR (CDC13.S ) ’ 1.34 (3H
.d.J=7Hz>、2.05−2、10 (2H.I
ll>、 2.98 (3H.s)、 3.09
(3H.s)。
.d.J=7Hz>、2.05−2、10 (2H.I
ll>、 2.98 (3H.s)、 3.09
(3H.s)。
2、87−3.15 (2H.m)、 3.30−3
.50 (IH.m)。
.50 (IH.m)。
3、82−3.94 (IH.m)、 4.08−4
.40 (4H.m)。
.40 (4H.m)。
4、 56−4、82 (5H.m)、 5.15−5
.50 (4)1.m)。
.50 (4)1.m)。
5、84−6.02 (2H,m)
叉】d漕臣二上社
MO
(5R,6S)−3−(1−アリルオキシカルボニル−
−[(IR)−1−ヒドロキシエチル]−7−オキソ−
1−アザビシクロ[3.2.0]ヘプト−2−工ン−2
−カルボン酸アリル IR にート) : 3400. 175
0. 1680−1700 am−’NMR (
C20.l; ) ’ 1.1−1.4 (6H.@)
、2.75−2.90(2H.m)、 3.11−3.
20 (IH.m)、 4.5−4.9(4H.m)、
5.1−5.5 (4H.n+)、 5.8−6.8
(2H.m)東1己シ臣二1υ (SR.6S)−3−[1−アリルオキシカルボニル−
4−(ヒドロキシメチル)ピロリジン−3−イル]−6
−[(IR)−1−ヒドロキシエチル]−7−オキソ−
1−アザビシクロ[3.2。
1−アザビシクロ[3.2.0]ヘプト−2−工ン−2
−カルボン酸アリル IR にート) : 3400. 175
0. 1680−1700 am−’NMR (
C20.l; ) ’ 1.1−1.4 (6H.@)
、2.75−2.90(2H.m)、 3.11−3.
20 (IH.m)、 4.5−4.9(4H.m)、
5.1−5.5 (4H.n+)、 5.8−6.8
(2H.m)東1己シ臣二1υ (SR.6S)−3−[1−アリルオキシカルボニル−
4−(ヒドロキシメチル)ピロリジン−3−イル]−6
−[(IR)−1−ヒドロキシエチル]−7−オキソ−
1−アザビシクロ[3.2。
0]ヘプト−2−エン−2−カルボン酸アリルIR
(ニー)) : 3400. 1770.
1680−1710 cm−’NMR (CDCl
2.l; ) ’ 1.2−1.4 (3H.m)、4
.5−4.9(4H.m)、 5.1−5.5 (4H
,m)、 5、8−6.0 <2H.m)寒mヒュl (5R,6S)−6−[(IR)−1−ヒドロキシエチ
ル]−3−[(4R)−3−(4−二トロペンジル才キ
シ力ルボニル)デアシリジン−4−イルコーク−オキソ
−1−アザビシクロ[3゜20コヘプト−2−エン−2
−カルボン酸4−二トロベンジル 1R(CHCL3) :L770.1720.1705
am実施例9と実質的に同様にして下記化合物を得る
。
(ニー)) : 3400. 1770.
1680−1710 cm−’NMR (CDCl
2.l; ) ’ 1.2−1.4 (3H.m)、4
.5−4.9(4H.m)、 5.1−5.5 (4H
,m)、 5、8−6.0 <2H.m)寒mヒュl (5R,6S)−6−[(IR)−1−ヒドロキシエチ
ル]−3−[(4R)−3−(4−二トロペンジル才キ
シ力ルボニル)デアシリジン−4−イルコーク−オキソ
−1−アザビシクロ[3゜20コヘプト−2−エン−2
−カルボン酸4−二トロベンジル 1R(CHCL3) :L770.1720.1705
am実施例9と実質的に同様にして下記化合物を得る
。
叉1jトに口
(5R,6S)−3−[:(2S)−4−フルオロピロ
リジン−2−イル]−6−[(IR)−1−ヒドロキシ
エチル]−7−オキソ−1−アザビシクロ[3,2,0
]ヘプト−2−エン−2−カルボン酸 IR(スジ費−ル) ’ 1750 am−1H
MR(C20,S ) ’ 1.27 <38.d、J
=6Hz)、3.02(2H,d、J=9Hz)、 5
.1−5.8(IH,m)叉U二針 (5R,6S)−6−[(IR)−1−ヒドロキシエチ
ル]−7−オキソ−3−(ピペリジン−2−イル)−1
−アザビシクロ[3,2,0]ヘプト−2−エン−2−
カルボン酸 IR(スジ蕾−ル) : 1750 crm−’
NMR(C20,8> ’ 1.26 (3H,d、J
=6Hz)、 t、 2−2−1(6H,m)、 3.
01 (2H,d、、C9Hz>叉111にυ (SR,6S)−3−(1−アリルオキシカルボニルピ
ペリジン− −1−ヒドロキシエチルツー4−メチル−7−オキソ−
1−アザビシクロ[3.2.0コヘプト−2−エン−2
−カルボン酸アリルの異性体Aを出発原料として、(S
R.6S)−6−[(IR)−1−ヒドロキシエチル]
−4−メチル−7−オキソ−3−(ピペリジン−4−イ
ル)−1−アザビシ口[3.2.0]ヘプト−2−エン
−2−カルボン酸の異性体A IR (スジ■−ル) : 1750 crm
−”NMR (C20. S ) :Ll−1.4 (
6H劃>、 1.4−2.2(5H.m) 衷1」ll二〇 (5R.6S)−3−(1−アリルオキシカルボニルピ
ペリジン−4−イル)−6−[(IR)−1−ヒドロキ
シエチル]−4−メチル−7−オキソ−1−アザビシク
ロ[3.2.0]ヘプト−2−エン−2ーカルボン酸ア
リルの異性体Bを出発原料として、(5R.6S)−6
−[(IR)−1−ヒドロキシエチル]−4−メチル−
7−オキソ−3−(ピペリジン−4−イル)−1−アザ
ビシクロ[3.2.01ヘプト−2−エン−2ーカルボ
ン酸の異性体B IR (スジ碧−ル) : 1740 cm−
1NMR(DzO9l; ) ’ l−15(3H,d
、J=7)1z)、 1.29(3H,d、J=6)1
z)、 1.7−2.2 (4H,m)、 3.0
−3.6(7H,m)、 4.0−4.4 (2H,
m)衷1jll二n (5R,6S)−6−[(IR)−1−ヒドロキシエチ
ル]−3−(チオモルホリン−3−イル)−7−オキソ
−1−アザビシクロ[3,2,0]ヘプト−2−エン−
2−カルボン酸 IR(KBr) : 1760−1750 am−’N
MR(Dzo、8 ) :t、 27 (3H1d、J
:8Hz)FAB−MS : 299 (M++1)衷
1111−射 (5R,6S)−6−[(IR)−1−ヒドロキシエチ
ル]−3−(ピペラジン−2−イル)−7−オキソ−1
−アザビシクロ[3,2,0]ヘプト−2−エン−2−
カルボン酸 IR(エタノール) = 1760−1750
am″″IFAB−MS : 282 (M”+1)太
1Jトl−n ■0 (SR,6S)−6−[(IR)−1−ヒドロキシエチ
ル]−3−[(3R)−モルホリン−3−イル]−7−
オキソー1−アザビシクロ[3゜2.0]ヘプト−2−
エン−2−カルボン酸IR(KBr) : 176
0−1735 ccm−’NMR(D20.S )
’ 1.28 (3H,d、J=8Hz)衷W二吋 (SR,6S)−6−[(IR)−1−ヒドロキシエチ
ル]−3−(モルホリン−2−イル)−7−オキソ−1
−アザビシクロ[3,2,0]ヘプト−2−エン−2−
カルボン酸 IR(Xジー−ル) + 1760−1750
cIII−’FAB−MS : 283 (M +1)
U−對 (SR,6S)−6−[(IR)−1−ヒドロキシエチ
ル]−3−(ピラゾリジン−4−イル)−7−オキソ−
1−アザビシクロ[3,2,0]ヘプト−2−エン−2
−カルボン酸 IR(スジ運−ル) ’ 1750 ca+″″
INMR(DzOoS ) ’ 1−28 (3H1d
、J”6Hz>、2.6−4.35 (14H,a+) 火】dシ担二1吋 前 (5R,6S)−3−[1−(ジメチルカルバモイル)
ピラゾリジン−4−イル]−6−[(IR)−1−ヒド
ロキシエチル]−7−オキソ−1−アザビシクロ[3,
2,0]ヘプト−2−エン−2−カルボン酸 IR(Xジ”−’) ’ 1760 am−’N
MR(D20.l; ) ’ 1.27 (3H1d、
J:6Hz)、2.90(6H,s) 叉1■野狙二10 0M (S R,65)−3−[(25)−2−ジメチルカル
バモイルピロリジン− [(IR)−1−ヒドロキシエチル]−7−オキソ−1
−アザビシクロ[3.2.0]ヘプト−2−エン−2ー
カルボン酸 IR (スジ貸−ル) : 1755 am’
″INMR (D20.δ) : 1.28 (3H.
d.J=7Hz)、 2.99(3H,s)、 3.
05 (3H.s)叉1己涜狙二1社 O (5R.6S)−6−[(IR)−1−ヒドロキシエチ
ル]−3−(2−メチルピロリジン−3−イル)−7−
オキソ−1−アザビシクロ[3。
リジン−2−イル]−6−[(IR)−1−ヒドロキシ
エチル]−7−オキソ−1−アザビシクロ[3,2,0
]ヘプト−2−エン−2−カルボン酸 IR(スジ費−ル) ’ 1750 am−1H
MR(C20,S ) ’ 1.27 <38.d、J
=6Hz)、3.02(2H,d、J=9Hz)、 5
.1−5.8(IH,m)叉U二針 (5R,6S)−6−[(IR)−1−ヒドロキシエチ
ル]−7−オキソ−3−(ピペリジン−2−イル)−1
−アザビシクロ[3,2,0]ヘプト−2−エン−2−
カルボン酸 IR(スジ蕾−ル) : 1750 crm−’
NMR(C20,8> ’ 1.26 (3H,d、J
=6Hz)、 t、 2−2−1(6H,m)、 3.
01 (2H,d、、C9Hz>叉111にυ (SR,6S)−3−(1−アリルオキシカルボニルピ
ペリジン− −1−ヒドロキシエチルツー4−メチル−7−オキソ−
1−アザビシクロ[3.2.0コヘプト−2−エン−2
−カルボン酸アリルの異性体Aを出発原料として、(S
R.6S)−6−[(IR)−1−ヒドロキシエチル]
−4−メチル−7−オキソ−3−(ピペリジン−4−イ
ル)−1−アザビシ口[3.2.0]ヘプト−2−エン
−2−カルボン酸の異性体A IR (スジ■−ル) : 1750 crm
−”NMR (C20. S ) :Ll−1.4 (
6H劃>、 1.4−2.2(5H.m) 衷1」ll二〇 (5R.6S)−3−(1−アリルオキシカルボニルピ
ペリジン−4−イル)−6−[(IR)−1−ヒドロキ
シエチル]−4−メチル−7−オキソ−1−アザビシク
ロ[3.2.0]ヘプト−2−エン−2ーカルボン酸ア
リルの異性体Bを出発原料として、(5R.6S)−6
−[(IR)−1−ヒドロキシエチル]−4−メチル−
7−オキソ−3−(ピペリジン−4−イル)−1−アザ
ビシクロ[3.2.01ヘプト−2−エン−2ーカルボ
ン酸の異性体B IR (スジ碧−ル) : 1740 cm−
1NMR(DzO9l; ) ’ l−15(3H,d
、J=7)1z)、 1.29(3H,d、J=6)1
z)、 1.7−2.2 (4H,m)、 3.0
−3.6(7H,m)、 4.0−4.4 (2H,
m)衷1jll二n (5R,6S)−6−[(IR)−1−ヒドロキシエチ
ル]−3−(チオモルホリン−3−イル)−7−オキソ
−1−アザビシクロ[3,2,0]ヘプト−2−エン−
2−カルボン酸 IR(KBr) : 1760−1750 am−’N
MR(Dzo、8 ) :t、 27 (3H1d、J
:8Hz)FAB−MS : 299 (M++1)衷
1111−射 (5R,6S)−6−[(IR)−1−ヒドロキシエチ
ル]−3−(ピペラジン−2−イル)−7−オキソ−1
−アザビシクロ[3,2,0]ヘプト−2−エン−2−
カルボン酸 IR(エタノール) = 1760−1750
am″″IFAB−MS : 282 (M”+1)太
1Jトl−n ■0 (SR,6S)−6−[(IR)−1−ヒドロキシエチ
ル]−3−[(3R)−モルホリン−3−イル]−7−
オキソー1−アザビシクロ[3゜2.0]ヘプト−2−
エン−2−カルボン酸IR(KBr) : 176
0−1735 ccm−’NMR(D20.S )
’ 1.28 (3H,d、J=8Hz)衷W二吋 (SR,6S)−6−[(IR)−1−ヒドロキシエチ
ル]−3−(モルホリン−2−イル)−7−オキソ−1
−アザビシクロ[3,2,0]ヘプト−2−エン−2−
カルボン酸 IR(Xジー−ル) + 1760−1750
cIII−’FAB−MS : 283 (M +1)
U−對 (SR,6S)−6−[(IR)−1−ヒドロキシエチ
ル]−3−(ピラゾリジン−4−イル)−7−オキソ−
1−アザビシクロ[3,2,0]ヘプト−2−エン−2
−カルボン酸 IR(スジ運−ル) ’ 1750 ca+″″
INMR(DzOoS ) ’ 1−28 (3H1d
、J”6Hz>、2.6−4.35 (14H,a+) 火】dシ担二1吋 前 (5R,6S)−3−[1−(ジメチルカルバモイル)
ピラゾリジン−4−イル]−6−[(IR)−1−ヒド
ロキシエチル]−7−オキソ−1−アザビシクロ[3,
2,0]ヘプト−2−エン−2−カルボン酸 IR(Xジ”−’) ’ 1760 am−’N
MR(D20.l; ) ’ 1.27 (3H1d、
J:6Hz)、2.90(6H,s) 叉1■野狙二10 0M (S R,65)−3−[(25)−2−ジメチルカル
バモイルピロリジン− [(IR)−1−ヒドロキシエチル]−7−オキソ−1
−アザビシクロ[3.2.0]ヘプト−2−エン−2ー
カルボン酸 IR (スジ貸−ル) : 1755 am’
″INMR (D20.δ) : 1.28 (3H.
d.J=7Hz)、 2.99(3H,s)、 3.
05 (3H.s)叉1己涜狙二1社 O (5R.6S)−6−[(IR)−1−ヒドロキシエチ
ル]−3−(2−メチルピロリジン−3−イル)−7−
オキソ−1−アザビシクロ[3。
2、0]ヘプト−2−エン−2−カルボン酸IR (
スジ1−ル) : 1755 cea−1HMR
(D20.ε) : 1.1−1.4 (6H.m)
、 1.8−2.4(2H,■>、 2.7−3.0
(2H.m)叉】■野狙二1u (SR,6S)−6−[(IR)−1−ヒドロキシエチ
ル]−3−[4−(ヒドロキシメチル)ピロリジン−3
−イル]ー7ーオキソー1ーアザビシクロ[3.2.O
コヘプトー2−エン−2ーカルボン酸 IR (スジー−ル) : 1750 cm−
INMR ( D20.l; ) 1 、 2−1
− 3 ( 3H,m )、2.1−2− 8(2)1
.m) 衷IIシ狙二上り O (5R.6S)−6−[(IR)−1−ヒドロキシエチ
ル]−3−[(4R)−3−(4−二トロベンジル才キ
シ力ルボニル)チアゾリジン−4−イル]ー7ーオキソ
ーlーアザビシクロ[3。
スジ1−ル) : 1755 cea−1HMR
(D20.ε) : 1.1−1.4 (6H.m)
、 1.8−2.4(2H,■>、 2.7−3.0
(2H.m)叉】■野狙二1u (SR,6S)−6−[(IR)−1−ヒドロキシエチ
ル]−3−[4−(ヒドロキシメチル)ピロリジン−3
−イル]ー7ーオキソー1ーアザビシクロ[3.2.O
コヘプトー2−エン−2ーカルボン酸 IR (スジー−ル) : 1750 cm−
INMR ( D20.l; ) 1 、 2−1
− 3 ( 3H,m )、2.1−2− 8(2)1
.m) 衷IIシ狙二上り O (5R.6S)−6−[(IR)−1−ヒドロキシエチ
ル]−3−[(4R)−3−(4−二トロベンジル才キ
シ力ルボニル)チアゾリジン−4−イル]ー7ーオキソ
ーlーアザビシクロ[3。
2、0]ヘプト−2−エン−2−カルボン酸4−ニトロ
ベンジル(2.0Hg)のテトラヒドロフラン( 3o
ma )と燐酸塩緩衝液( pH6.5) ( 30a
Q )との混合物溶液を、水酸化パラジウム−炭酸(2
0%、0、6g)を用い、水素雰囲気中大気圧下常温で
3時間水素漁加する.触媒を濾去し、濾液を減圧濃縮し
て水溶液を得る.水溶液を酢酸エチルで洗浄し、シリカ
ゲル(75g)を使用するカラムクロマトグラフィーに
付してアセトニトリルと水との混液( 75 : 25
、v/v )で溶出する.目的化合物を含む両分を集め
、凍結乾燥して、(5R.6S)−6−[(IR)−1
−ヒドロキシエチル]−3−[(4R)−チアゾリジン
−4−イル]ー7ーオキソー1ーアザビシクロ[3.2
.0]ヘプト−2−エン−2ーカルボン酸(0.06g
)を固体として得る。
ベンジル(2.0Hg)のテトラヒドロフラン( 3o
ma )と燐酸塩緩衝液( pH6.5) ( 30a
Q )との混合物溶液を、水酸化パラジウム−炭酸(2
0%、0、6g)を用い、水素雰囲気中大気圧下常温で
3時間水素漁加する.触媒を濾去し、濾液を減圧濃縮し
て水溶液を得る.水溶液を酢酸エチルで洗浄し、シリカ
ゲル(75g)を使用するカラムクロマトグラフィーに
付してアセトニトリルと水との混液( 75 : 25
、v/v )で溶出する.目的化合物を含む両分を集め
、凍結乾燥して、(5R.6S)−6−[(IR)−1
−ヒドロキシエチル]−3−[(4R)−チアゾリジン
−4−イル]ー7ーオキソー1ーアザビシクロ[3.2
.0]ヘプト−2−エン−2ーカルボン酸(0.06g
)を固体として得る。
IR(スジツール) ’ 1750 crrr−
’NMR(D20. δ ) : 1.28
(3H,d、J=6.7Hz)FAB−MS : 30
7 (M”+Na)(以下余白) 叉1j整Lニリ 実施例12と実施的に同様にして、(S R,6S)−
3−[(2S)−1−ホルムイミドイル−4−フルオロ
ピロリジン−2−イル]−6−[(IR)−1−ヒドロ
キシエチル]−7−オキソ−1−アザビシクロ[3,2
,0]ヘプト−2−エン−2−カルボン酸を収率20.
0%で得る。
’NMR(D20. δ ) : 1.28
(3H,d、J=6.7Hz)FAB−MS : 30
7 (M”+Na)(以下余白) 叉1j整Lニリ 実施例12と実施的に同様にして、(S R,6S)−
3−[(2S)−1−ホルムイミドイル−4−フルオロ
ピロリジン−2−イル]−6−[(IR)−1−ヒドロ
キシエチル]−7−オキソ−1−アザビシクロ[3,2
,0]ヘプト−2−エン−2−カルボン酸を収率20.
0%で得る。
IR(スジ望−ル) : 1750 am−1H
MR(D20.S ) ’ 1.27 (3H,d、J
=6Hz)、 7.8−8.1(IH,a+) 東mfi27二社 実施例12と実質的に同様にして、(S R,6S)−
3−(1−ホルムイミドイルピペリジン−2−イル)−
si(IR)−x−ヒドロキシエチル]−7−オキソ−
1−アザビシクロ[3,2゜0]ヘプト−2−エン−2
−カルボン酸を収率53.7%で得る。
MR(D20.S ) ’ 1.27 (3H,d、J
=6Hz)、 7.8−8.1(IH,a+) 東mfi27二社 実施例12と実質的に同様にして、(S R,6S)−
3−(1−ホルムイミドイルピペリジン−2−イル)−
si(IR)−x−ヒドロキシエチル]−7−オキソ−
1−アザビシクロ[3,2゜0]ヘプト−2−エン−2
−カルボン酸を収率53.7%で得る。
IR(スジ薊−ル) + 1755 c+a−’
NMR(D20. S ) : l、26 (3H,d
、に6Hz)、 1.2−2.2(6H,m)、 7.
61.7.72 (IH,それぞれS)叉1jlL二υ 実施例12と実質的に同様にして、ホルムイミド酸ベン
ジル・塩酸塩の代りにN−シアノホルムイミド酸エチル
・塩酸塩を使用することにより、(SR,6S)−3−
[(3S)−1−(N−シアノホルムイミドイル)ピロ
リジン−3−イル]−6−[(IR)−1−ヒドロキシ
エチル]−7−オキソ−1−アザビシクロ[3,2,0
]ヘプト−2−エン−2−カルボン酸を収率61.9%
で得る。
NMR(D20. S ) : l、26 (3H,d
、に6Hz)、 1.2−2.2(6H,m)、 7.
61.7.72 (IH,それぞれS)叉1jlL二υ 実施例12と実質的に同様にして、ホルムイミド酸ベン
ジル・塩酸塩の代りにN−シアノホルムイミド酸エチル
・塩酸塩を使用することにより、(SR,6S)−3−
[(3S)−1−(N−シアノホルムイミドイル)ピロ
リジン−3−イル]−6−[(IR)−1−ヒドロキシ
エチル]−7−オキソ−1−アザビシクロ[3,2,0
]ヘプト−2−エン−2−カルボン酸を収率61.9%
で得る。
IR(スジ*−4) : 1740−1750
cIll−’NMR(D20.l; ) ’ 1.28
(3H1d、J4Hz>、1.8−2.6(2H,n
a)、 2.90 (2H,d、J=7Hz)、 3.
4−4.4 (8)t。
cIll−’NMR(D20.l; ) ’ 1.28
(3H1d、J4Hz>、1.8−2.6(2H,n
a)、 2.90 (2H,d、J=7Hz)、 3.
4−4.4 (8)t。
m)、 8.34.8.37 (IH,それぞれS)叉
1JIL二〇 実施例12と実質的に同様にして、N−メチルアセトイ
ミド酸エチル・塩酸塩を代りに使用することにより、(
5R,6S)−6−[(IR)−1−ヒドロキシエチル
]−3−[(3S)−1−(N−メチルアセトイミドイ
ル)ピロリジン−3−イル]−7−オキソー1−アザビ
シクロ[3゜2.0 ]]ヘプトー2−エンー2−カル
ボンを収率14.4%で得る。
1JIL二〇 実施例12と実質的に同様にして、N−メチルアセトイ
ミド酸エチル・塩酸塩を代りに使用することにより、(
5R,6S)−6−[(IR)−1−ヒドロキシエチル
]−3−[(3S)−1−(N−メチルアセトイミドイ
ル)ピロリジン−3−イル]−7−オキソー1−アザビ
シクロ[3゜2.0 ]]ヘプトー2−エンー2−カル
ボンを収率14.4%で得る。
IR(スジリール) + 1740−1750
am−1HMR(C20,S ) ’ 1.25 (3
M、d、J=6Hz)、 2−22 (3H1s)、
3.01 (3H,s) 衷1jlL二υ 実施例27−4>と実質的に同様にして、(5R163
)−6−4(IR)−1−ヒドロキシエチル]−3−[
(3S)−1−(N−メチルホルムイミドイル)ピロリ
ジン−3−イル]−7−オキソー1−アザビシクロ[3
,2,01ヘプト−2−エン−2−カルボン酸を収率4
0.7%で得る。
am−1HMR(C20,S ) ’ 1.25 (3
M、d、J=6Hz)、 2−22 (3H1s)、
3.01 (3H,s) 衷1jlL二υ 実施例27−4>と実質的に同様にして、(5R163
)−6−4(IR)−1−ヒドロキシエチル]−3−[
(3S)−1−(N−メチルホルムイミドイル)ピロリ
ジン−3−イル]−7−オキソー1−アザビシクロ[3
,2,01ヘプト−2−エン−2−カルボン酸を収率4
0.7%で得る。
MS : 30g (M”+1)
IR(スジ費−ル) 7 1750 cm−1HM
R(C20,8) ’ 1.25 (3H2d、J=6
Hz)、2.88 (2)1゜d、C9Hz)、 3.
09 (3H,s)、 7.92 (LH,br、s)
叉IJIL二り 実施例12と実質的に同様にして、2−メトキシ−1−
ピロリンを代りに使用することにより、(5R,6Sン
−6−[(IR)−1−ヒドロキシエチルコー7一才キ
ソ−3−[(3S)−1−(1−ビロリン−2−イル)
ピロリジン−3−イル〕−1−アザビシクロ[3,2,
O]ヘプト−2−エン−2−カルボン酸を収率41.5
%で得る。
R(C20,8) ’ 1.25 (3H2d、J=6
Hz)、2.88 (2)1゜d、C9Hz)、 3.
09 (3H,s)、 7.92 (LH,br、s)
叉IJIL二り 実施例12と実質的に同様にして、2−メトキシ−1−
ピロリンを代りに使用することにより、(5R,6Sン
−6−[(IR)−1−ヒドロキシエチルコー7一才キ
ソ−3−[(3S)−1−(1−ビロリン−2−イル)
ピロリジン−3−イル〕−1−アザビシクロ[3,2,
O]ヘプト−2−エン−2−カルボン酸を収率41.5
%で得る。
IR(スジルール) ’ 1750 am−1H
MR(C20,8) ’ 1.23 <3H,d、J=
6Hz>、 1.6−2−4(4H,l11)、 2.
7−3.1 (4H,m)、 3.2−3.8 (7H
,m)。
MR(C20,8) ’ 1.23 <3H,d、J=
6Hz>、 1.6−2−4(4H,l11)、 2.
7−3.1 (4H,m)、 3.2−3.8 (7H
,m)。
3.8−4.3 (3H,m)
衷IJ■Lニハ
A
実施例12と実質的に同様にして、N−(ヒドロキシエ
トキシエチル)ホルムイミド酸エチル・塩酸塩を代りに
使用することにより、(S R,6S)−6−[(IR
)−1−ヒドロキシエトキシ−3−[(3S)−1−[
N−(2−(2−ヒドロキシエトキシ)エチル)ホルム
イミドイルコビロリジン−3−イル]−7−オキソー1
−アザビシクロ[3,2,0]ヘプト−2−エン−2−
カルボンVa<異性体AおよびB)を得る。2個の異性
体を、アセトニトリル930%水を溶出液としてシリカ
ゲルを使用するクロマトグラフィーより分離して、異性
体A (100,0mg)を得る。
トキシエチル)ホルムイミド酸エチル・塩酸塩を代りに
使用することにより、(S R,6S)−6−[(IR
)−1−ヒドロキシエトキシ−3−[(3S)−1−[
N−(2−(2−ヒドロキシエトキシ)エチル)ホルム
イミドイルコビロリジン−3−イル]−7−オキソー1
−アザビシクロ[3,2,0]ヘプト−2−エン−2−
カルボンVa<異性体AおよびB)を得る。2個の異性
体を、アセトニトリル930%水を溶出液としてシリカ
ゲルを使用するクロマトグラフィーより分離して、異性
体A (100,0mg)を得る。
IR(スh−ル> : 1750 ctm−”N
MR(D20.8 ) ’ 1.28 (3H,dJ=
6Hz>、 1.8−2−4(2H,m)、 2.8
0. 3.00 (2H,m)、 8.03(IH,
m) 溶出を続けて異性体B (330,0mg)を得る。
MR(D20.8 ) ’ 1.28 (3H,dJ=
6Hz>、 1.8−2−4(2H,m)、 2.8
0. 3.00 (2H,m)、 8.03(IH,
m) 溶出を続けて異性体B (330,0mg)を得る。
MS : 382 (M”+1>
IR(Xジ”−’) ’ 1750 crm−1
HMR(D20.l; ) ’ 1−28 (3H,d
J=6Hz>、 1.8−2.4(2H,m)、 2.
8−3.0 (2H,m)、 8.02.8.05 (
18゜それぞれS) 大1」トL二鉦 n 実施例27−4)と実質的に同様にして、(5R965
)−3−[(3S)−1−(N−エチルボルムイミドイ
ル)ピロリジン−3−イル]−a −[(IR)−1−
ヒドロキシエチルコー7一才キソー1−アザビシクロ[
3,2,0]ヘプト−2−エン−2−カルボン酸を収率
59.2%で得る。
HMR(D20.l; ) ’ 1−28 (3H,d
J=6Hz>、 1.8−2.4(2H,m)、 2.
8−3.0 (2H,m)、 8.02.8.05 (
18゜それぞれS) 大1」トL二鉦 n 実施例27−4)と実質的に同様にして、(5R965
)−3−[(3S)−1−(N−エチルボルムイミドイ
ル)ピロリジン−3−イル]−a −[(IR)−1−
ヒドロキシエチルコー7一才キソー1−アザビシクロ[
3,2,0]ヘプト−2−エン−2−カルボン酸を収率
59.2%で得る。
MS i 322(M”+1>
IR(スジ曹−ル) : 1750 cta−’
NMR(D20,8 ) ’ t、 28 (,3H,
d、J=6Hz)、 1−23 <3H1t、J−7H
z>、 1.8−2.4 (2H,m)、 2.8−3
.0 (28゜m)、 7.9g、 8.00 (11
,それぞれS)夾轟犬互二狙 Jn 実施例12と実質的に同様にして、ホルムイミド酸ヘン
シル・塩酸塩の代りにN、N−ジメチルホルムアミドと
硫酸ジメチルとの反応混合物(11当量)を使用するこ
とにより、(SR,6S)−3−[(33)−1−((
N、N−ジメチルイミニオ)メチル)ピロリジン−3−
イル]−6−[(IR)−1−ヒドロキシエチル]−7
−オキソ−1−アザビシクロ[3,2,0]ヘプト−2
−エン−2−カルボキシレートを収率45.0%で得る
。
NMR(D20,8 ) ’ t、 28 (,3H,
d、J=6Hz)、 1−23 <3H1t、J−7H
z>、 1.8−2.4 (2H,m)、 2.8−3
.0 (28゜m)、 7.9g、 8.00 (11
,それぞれS)夾轟犬互二狙 Jn 実施例12と実質的に同様にして、ホルムイミド酸ヘン
シル・塩酸塩の代りにN、N−ジメチルホルムアミドと
硫酸ジメチルとの反応混合物(11当量)を使用するこ
とにより、(SR,6S)−3−[(33)−1−((
N、N−ジメチルイミニオ)メチル)ピロリジン−3−
イル]−6−[(IR)−1−ヒドロキシエチル]−7
−オキソ−1−アザビシクロ[3,2,0]ヘプト−2
−エン−2−カルボキシレートを収率45.0%で得る
。
MS : 322 (M”+1>
IR(スジ會−ル) : 1740 cm−1H
MR(D20.E ) :1.25 (3H1d、J=
6Hz)、1.8−2.4(2H,m)、 3.20
(3H,s)、 3.31 (3H,s)、 7.72
(IH,br s) 火蓋」旦ヒ」並 n 実施例12と実質的に同様にして、2−フルオロアセト
イミド酸エチル・塩酸塩を代りに使用することにより、
(SR,6S)−3−[(3S)−1−(2−フルオ、
ロアセトイミドイル)ピロリジン−3−イル]−6−[
(IR)−1−ヒドロキシエチル]−7−オキソ−1−
アザビシクロ[3゜2.01ヘプト−2−エン−2−カ
ルボン酸を収率42.1%で得る。
MR(D20.E ) :1.25 (3H1d、J=
6Hz)、1.8−2.4(2H,m)、 3.20
(3H,s)、 3.31 (3H,s)、 7.72
(IH,br s) 火蓋」旦ヒ」並 n 実施例12と実質的に同様にして、2−フルオロアセト
イミド酸エチル・塩酸塩を代りに使用することにより、
(SR,6S)−3−[(3S)−1−(2−フルオ、
ロアセトイミドイル)ピロリジン−3−イル]−6−[
(IR)−1−ヒドロキシエチル]−7−オキソ−1−
アザビシクロ[3゜2.01ヘプト−2−エン−2−カ
ルボン酸を収率42.1%で得る。
MS : 326 (M +1)
IR<スジー−ルン : 1750 cra−’N
MR(D20.S > =1−26 (3H,d、J=
6Hz)、 1.7−2.4(2H,m)、 2.8
7 (2H,d、J=9Hz)火蓋11辷ユΩ JO 実施例27−4)と実質的に同様にして、(5R16S
)−8−[(IR)−1−ヒドロキシエチル]−3−[
(3S)−1−(N−イソプロピルホルムイミドイル)
ピロリジン−3−イル]−7−オキソー1−アザビシク
ロ[3,2,0コヘプトー2−−r−ン−2−カルボン
酸を収率28.6%で得る。
MR(D20.S > =1−26 (3H,d、J=
6Hz)、 1.7−2.4(2H,m)、 2.8
7 (2H,d、J=9Hz)火蓋11辷ユΩ JO 実施例27−4)と実質的に同様にして、(5R16S
)−8−[(IR)−1−ヒドロキシエチル]−3−[
(3S)−1−(N−イソプロピルホルムイミドイル)
ピロリジン−3−イル]−7−オキソー1−アザビシク
ロ[3,2,0コヘプトー2−−r−ン−2−カルボン
酸を収率28.6%で得る。
MS : 336 (M”+1)
IR(スジ霞−ル) : 1750 cIII−1HM
R(D20.8 ) ’ 1.26 (3H1
d、J=6Hz)、 1−27 <6H1d、J=6
Hz)、 1.7−2.4 (2H,m)、 2
.88 (2H,d。
R(D20.8 ) ’ 1.26 (3H1
d、J=6Hz)、 1−27 <6H1d、J=6
Hz)、 1.7−2.4 (2H,m)、 2
.88 (2H,d。
J=9Hz)、 7.97 (LH,br、s)叉」
d漕J二1針 O 実施例12と実質的に同様にして、N−(デアゾール−
2−イル)ホルムイミド酸メチル・塩酸塩を代りに使用
することにより、(SR,6S)−6−[(IR)−1
−ヒドロキシエチル]−7−オキソ−3−[(3S)−
1−(N−(チアゾール−2−イル)ホルムイミドイル
)ピロリジン−3−イル]−1−アザビシクロ[3,2
,O]ヘプト−2−エン−2−カルボン酸を収率7o、
7%で得る。
d漕J二1針 O 実施例12と実質的に同様にして、N−(デアゾール−
2−イル)ホルムイミド酸メチル・塩酸塩を代りに使用
することにより、(SR,6S)−6−[(IR)−1
−ヒドロキシエチル]−7−オキソ−3−[(3S)−
1−(N−(チアゾール−2−イル)ホルムイミドイル
)ピロリジン−3−イル]−1−アザビシクロ[3,2
,O]ヘプト−2−エン−2−カルボン酸を収率7o、
7%で得る。
IR(スジ偕−息) : 1740 crm−’
NMR(D20.l; ) ’ 1.28 (3H1d
、J=6Hz)、K 7−2.4(2H,m)、 2
.88 (2H,d、J=9Hz)、 6.97 (
IH,d。
NMR(D20.l; ) ’ 1.28 (3H1d
、J=6Hz)、K 7−2.4(2H,m)、 2
.88 (2H,d、J=9Hz)、 6.97 (
IH,d。
J=4Hz)、 7.30 (IH,d、J=4Hz
)、 8.29 (IH。
)、 8.29 (IH。
br、s)
東1碧1ヒュ打
O
実施例27−9)と実質的に同様にして、1−メチル−
2−ピロリジノンと硫酸ジメチル(1:1当量)との反
応混合物を代りに使用することにより、(5R,6S)
−6−[(IR)−1−ヒドロキシエチル]−3−[(
3S)−1−(1−メチル−2−(1−ピロリニオ))
ピロリジン−3−イルコーグ−オキソ−1−アザビシク
ロ[3゜2.0]ヘプト−2−エン−2−カルボキシレ
ートを収率26.3%で得る。
2−ピロリジノンと硫酸ジメチル(1:1当量)との反
応混合物を代りに使用することにより、(5R,6S)
−6−[(IR)−1−ヒドロキシエチル]−3−[(
3S)−1−(1−メチル−2−(1−ピロリニオ))
ピロリジン−3−イルコーグ−オキソ−1−アザビシク
ロ[3゜2.0]ヘプト−2−エン−2−カルボキシレ
ートを収率26.3%で得る。
MS : 348 (M”+1)
IR(スジー−L> : 1750 cab−1
HMR(D20.E ) ” 1.28 (3H1d、
J:6Hz)、1.6−2.5(5H,m)、 3.2
9 (3H,s)、 3.4−4.4 (8H,m)寒
11ユヒ」封 O 実施例27−9)と実質的に同様にして、1−ホルミル
ピロリジンと硫酸ジメチルとの混合物(1:1当量)を
代りに使用することにより上記化合物を収率49.5%
で得る。
HMR(D20.E ) ” 1.28 (3H1d、
J:6Hz)、1.6−2.5(5H,m)、 3.2
9 (3H,s)、 3.4−4.4 (8H,m)寒
11ユヒ」封 O 実施例27−9)と実質的に同様にして、1−ホルミル
ピロリジンと硫酸ジメチルとの混合物(1:1当量)を
代りに使用することにより上記化合物を収率49.5%
で得る。
MS : 348 (M+÷1)
IR(スジー−ル) : 1750 cab−’
NMR(D20.8 ) ’ t、 28 (3H1d
、J=6Hz)、I−5−2,5(6H,am)、
2.89 (2H,d、J=9Hz>、 7.92
(IH。
NMR(D20.8 ) ’ t、 28 (3H1d
、J=6Hz)、I−5−2,5(6H,am)、
2.89 (2H,d、J=9Hz>、 7.92
(IH。
br、s)
火」IシJ二1肚
Jn
実施例12と実質的に同様にして、(S R,6S)−
6−[(IR)−1−ヒドロキシエチルコ−3−[(3
R)−1−(N−メチルホルムイミドイル)ピロリジン
−3−イル]−7−オキソー1−アザビシクロ[3,2
,0]ヘプト−2−エン−2−カルボン酸を収率13.
0%で得る。
6−[(IR)−1−ヒドロキシエチルコ−3−[(3
R)−1−(N−メチルホルムイミドイル)ピロリジン
−3−イル]−7−オキソー1−アザビシクロ[3,2
,0]ヘプト−2−エン−2−カルボン酸を収率13.
0%で得る。
IR(スジ書−ル) : 1750. 1700
cm−’NMR(D20.8 ) ? 1.28 (
3H,d、J=7.4)、 1.9−2.3(2H,m
)、 2.88 (2H,@)、 3.10 (3H,
s)、 7.92(LH,br、(s) 叉】l野J二16) ln 実施例12と実質的に同様にして、(S R,6S)−
6−4(IR)−1−ヒドロキシエチル]−3−[1−
(N−メチルホルムイミドイル)アゼデシン−3−イル
]−7−オキソー1−アザビシクロ[3,2,0]ヘプ
ト−2−エン−2−カルボン酸を収率25.7%で得る
。
cm−’NMR(D20.8 ) ? 1.28 (
3H,d、J=7.4)、 1.9−2.3(2H,m
)、 2.88 (2H,@)、 3.10 (3H,
s)、 7.92(LH,br、(s) 叉】l野J二16) ln 実施例12と実質的に同様にして、(S R,6S)−
6−4(IR)−1−ヒドロキシエチル]−3−[1−
(N−メチルホルムイミドイル)アゼデシン−3−イル
]−7−オキソー1−アザビシクロ[3,2,0]ヘプ
ト−2−エン−2−カルボン酸を収率25.7%で得る
。
IR(スジ■−ル) : 1755. 1700
ci’NMR(DzOlf; ) ” 1.28 (
3H1d、J=6Hz)、3.03 (3)1゜s)、
3.07 (2H,d、J=9)1z)、 3.28
−3.44 (LH。
ci’NMR(DzOlf; ) ” 1.28 (
3H1d、J=6Hz)、3.03 (3)1゜s)、
3.07 (2H,d、J=9)1z)、 3.28
−3.44 (LH。
m)、 7.66 (1)1.br !1)叉1■1J
二1u Jn 実施例12と実質的に同様にして、(S R,6S)−
3−(1−ジメチルカルバモイル−2−ホルムイミドイ
ルピロリジン−4−イル)−6−[(IR)−1−ヒド
ロキシエチル]−7−オキソ−1−アザビシクロ[3,
2,0]ヘプト−2−エン−2−カルボン酸を収率32
.4%で得る。
二1u Jn 実施例12と実質的に同様にして、(S R,6S)−
3−(1−ジメチルカルバモイル−2−ホルムイミドイ
ルピロリジン−4−イル)−6−[(IR)−1−ヒド
ロキシエチル]−7−オキソ−1−アザビシクロ[3,
2,0]ヘプト−2−エン−2−カルボン酸を収率32
.4%で得る。
IR(スジ迦−ル) : 1760 am−1H
MR(DzOol; ) :1.27 (3H,d、J
=6Hz)、 3.0 <68゜s)、 2.78−4
.30 (10H,m)、 8.13 (s、LH>克
」己シJ二1吋 OS+ 実施例12と実質的に同様にして、(S R,6S)−
3−[(2S)−2−ジメチルカルバモイル−1−ホル
ムイミドイルピロリジン−4−イル]−6−[(IR)
−1−ヒドロキシエチル]−7−オキソ−1−アザビシ
クロ[3,2,O]ヘプト−2−エン−2−カルボン酸
を定量的に得る。
MR(DzOol; ) :1.27 (3H,d、J
=6Hz)、 3.0 <68゜s)、 2.78−4
.30 (10H,m)、 8.13 (s、LH>克
」己シJ二1吋 OS+ 実施例12と実質的に同様にして、(S R,6S)−
3−[(2S)−2−ジメチルカルバモイル−1−ホル
ムイミドイルピロリジン−4−イル]−6−[(IR)
−1−ヒドロキシエチル]−7−オキソ−1−アザビシ
クロ[3,2,O]ヘプト−2−エン−2−カルボン酸
を定量的に得る。
IR(スジー−ル) : 1750 cm−1H
MR(D20.δ) : 1.26 (3H,d、Jニ
アHz)、 2.99 (3H。
MR(D20.δ) : 1.26 (3H,d、Jニ
アHz)、 2.99 (3H。
s)、 3.05 (3H,s)、 7.92 (a、
IH)東11旦ヒュ對 賛O 実施例12と実質的に同様にして、(5R,6S)−3
−(1−ホルムイミドイル−2−メチルピロリジン−3
−イル)−6−[(IR)−1−ヒドロキシエチル]−
7−オキソ−1−アザビシクロ[3,2,0]ヘプト−
2−エン−2−カルボン酸を収率28.3%で得る。
IH)東11旦ヒュ對 賛O 実施例12と実質的に同様にして、(5R,6S)−3
−(1−ホルムイミドイル−2−メチルピロリジン−3
−イル)−6−[(IR)−1−ヒドロキシエチル]−
7−オキソ−1−アザビシクロ[3,2,0]ヘプト−
2−エン−2−カルボン酸を収率28.3%で得る。
IR(スジーール) ’ 1750. 1700
cm−1HMR(DzOll; ) ’ 1.1−1
−4 (6H1m) 、1.8−2.4 (2H1m)
、 2.7−3.0 (2H,m)、 7.82 (I
H,br、s)叉11魁J二1吋 実施例12と実質的に同様にして、(S R,6S)−
3−[1−ホルムイミドイル−4−(ヒドロキシメチル
)ピロリジン−3−イル]−6−[(IR)−1−ヒド
ロキシエチル]−7−オキソ−1−アザビシクロ[3,
2,Oコヘプトー2−エン−2−カルボン酸を収率19
.6%で得る。
cm−1HMR(DzOll; ) ’ 1.1−1
−4 (6H1m) 、1.8−2.4 (2H1m)
、 2.7−3.0 (2H,m)、 7.82 (I
H,br、s)叉11魁J二1吋 実施例12と実質的に同様にして、(S R,6S)−
3−[1−ホルムイミドイル−4−(ヒドロキシメチル
)ピロリジン−3−イル]−6−[(IR)−1−ヒド
ロキシエチル]−7−オキソ−1−アザビシクロ[3,
2,Oコヘプトー2−エン−2−カルボン酸を収率19
.6%で得る。
IR(スジ1−ル) ’ 1750. 1705c
a+ −’NMR(D20.δ) : 1.2−13
(3H,m)、 2.8−3.0 (28゜m)、
7.97 (IH,br、s)実施例12と実質的に同
様にして、2−ヒドロキシアセトイミド酸エチル・塩酸
塩を代りに使用することにより、(5R,6S)−3−
[(3S)−1−(2−ヒドロキシアセトイミドイル)
ピロリジン−3−イル)−6,−[(IR)−1−ヒド
ロキシエチル]−7−オキ゛ソー1−アザビシクロ[3
,2,O]ヘプト−2−エン−2−カルボン酸を収率3
2.0%で得る。
a+ −’NMR(D20.δ) : 1.2−13
(3H,m)、 2.8−3.0 (28゜m)、
7.97 (IH,br、s)実施例12と実質的に同
様にして、2−ヒドロキシアセトイミド酸エチル・塩酸
塩を代りに使用することにより、(5R,6S)−3−
[(3S)−1−(2−ヒドロキシアセトイミドイル)
ピロリジン−3−イル)−6,−[(IR)−1−ヒド
ロキシエチル]−7−オキ゛ソー1−アザビシクロ[3
,2,O]ヘプト−2−エン−2−カルボン酸を収率3
2.0%で得る。
IR(スジツール) : 1750 am−1H
MR(020,l; ) ’ 1.25 (3H1d、
に6Hz)、1.6−2.7<28.m)、 2.8−
3.0 (2H,m)、 4.47 <2H,5)K1
九±」釘 O 実施例12と実質的に同様にして、2−カルバモイルア
セトイミド酸エチル・塩酸塩を代りに使用することによ
り、(5R,6S)−3−[:(3S)−1−(2−カ
ルバモイルアセトイミドイル1−ヒドロキシエチル]−
7−オキソ−1−アザビシクロ[3.2.0]ヘプト−
2−エン−2ーカルボン酸を収率31、6%で得る。
MR(020,l; ) ’ 1.25 (3H1d、
に6Hz)、1.6−2.7<28.m)、 2.8−
3.0 (2H,m)、 4.47 <2H,5)K1
九±」釘 O 実施例12と実質的に同様にして、2−カルバモイルア
セトイミド酸エチル・塩酸塩を代りに使用することによ
り、(5R,6S)−3−[:(3S)−1−(2−カ
ルバモイルアセトイミドイル1−ヒドロキシエチル]−
7−オキソ−1−アザビシクロ[3.2.0]ヘプト−
2−エン−2ーカルボン酸を収率31、6%で得る。
IR (スジー−ル) : 1750. 16
90 c+m−1HMR (D20.8 ) ’ 1
.26 (3H,d.J=6Hz>、1.5−2.6(
3H.m)、 2.7−3.0 (2H.m)、 3.
0−4.4 (9H.m)X11ヱヒ」U Jn 実施例12と実質的に同様にして、( 5 R, 6S
)−6−[(IR)−1−ヒドロキシエチル]−3−[
(4R)−3−ホルムイミドイルチアゾリジン−4−イ
ル]ー7ーオキソー1ーアザビシクロ[3.2.0]ヘ
プト−2−エン−2−カルボン酸を収率72,7%で得
る。
90 c+m−1HMR (D20.8 ) ’ 1
.26 (3H,d.J=6Hz>、1.5−2.6(
3H.m)、 2.7−3.0 (2H.m)、 3.
0−4.4 (9H.m)X11ヱヒ」U Jn 実施例12と実質的に同様にして、( 5 R, 6S
)−6−[(IR)−1−ヒドロキシエチル]−3−[
(4R)−3−ホルムイミドイルチアゾリジン−4−イ
ル]ー7ーオキソー1ーアザビシクロ[3.2.0]ヘ
プト−2−エン−2−カルボン酸を収率72,7%で得
る。
IR (Xジs4) ’ 1755−1735
cm−’NMR (D20.S ) ’ 1− 28
(3H,d.J:6. 2Hz)FAB−MS :
350 (M”+K)、 312 (M”+1)犬i久
塁 O (SR.6S)−6−[(IR)−’1ーヒドロキシエ
チル]−3−(ピラゾリジン−4−イル)−7−オキソ
−1−アザビシクロ[3.2.0]ヘプト−2−エン−
2ーカルボン酸( ’1 00mg )を燐酸塩緩衝液
(9H4,0,1011N )に溶解し、溶液のpHを
0.IN塩酸でpH6,0に0℃で調製する。溶液の9
8を0、IN水酸化ナトリウム水溶液でpH7,0に0
℃で調整する。この溶液にホルムイミド酸エチル・塩酸
塩(36omg)を、IN水酸化ナトリウム水溶液でp
Hを8.0と8.2との間に調整しながら、少量ずつ分
割して0℃で注意して加える。添加後、pHを0.IN
塩酸により0℃で6.8に調整する。混合物を減圧濃縮
して得られる残渣をシリカゲル(30!IQ )を使用
するクロマトグラフィーに付し、アセトニトリルと水と
の混液(4: 1、v/v)で溶出して、(5R,6S
)−3−[6,7−シヒドロー5H−ピラゾロ[1,2
−il[1,2,4] −8−(4−トリアゾリオ)]
−6−[(IR)−1−ヒドロキシエチル]−7−オキ
ソ−1−アザビシクロ[3゜2.0]ヘプト−2−エン
−2−カルボキシレート(34,lag )を得る。
cm−’NMR (D20.S ) ’ 1− 28
(3H,d.J:6. 2Hz)FAB−MS :
350 (M”+K)、 312 (M”+1)犬i久
塁 O (SR.6S)−6−[(IR)−’1ーヒドロキシエ
チル]−3−(ピラゾリジン−4−イル)−7−オキソ
−1−アザビシクロ[3.2.0]ヘプト−2−エン−
2ーカルボン酸( ’1 00mg )を燐酸塩緩衝液
(9H4,0,1011N )に溶解し、溶液のpHを
0.IN塩酸でpH6,0に0℃で調製する。溶液の9
8を0、IN水酸化ナトリウム水溶液でpH7,0に0
℃で調整する。この溶液にホルムイミド酸エチル・塩酸
塩(36omg)を、IN水酸化ナトリウム水溶液でp
Hを8.0と8.2との間に調整しながら、少量ずつ分
割して0℃で注意して加える。添加後、pHを0.IN
塩酸により0℃で6.8に調整する。混合物を減圧濃縮
して得られる残渣をシリカゲル(30!IQ )を使用
するクロマトグラフィーに付し、アセトニトリルと水と
の混液(4: 1、v/v)で溶出して、(5R,6S
)−3−[6,7−シヒドロー5H−ピラゾロ[1,2
−il[1,2,4] −8−(4−トリアゾリオ)]
−6−[(IR)−1−ヒドロキシエチル]−7−オキ
ソ−1−アザビシクロ[3゜2.0]ヘプト−2−エン
−2−カルボキシレート(34,lag )を得る。
IR(スジー−ル) + 1750 cta−”
NMR(D20.l; ) ’ 1.28 (3H,d
、J=6Hz)、 2.6−4.33(108,m)、
8.94 (s、111)x1■1輩 前 (5R,6’5)−3−(1−アリルオキシカルボニル
ピロリジン−3−イル)−6−[(IR)−1−ヒドロ
キシエチル]−7−オキソ−1−アザビシクロ[3,2
,0]ヘプト−2−エン−2−カルボン酸アリル(1,
24K)のテトラヒドロフラン(201d )とエタノ
ール(5all)との混合物溶液に、トリフェニルホス
フィン(0,16g)、2−エチルヘキサン酸ナトリウ
ム(1,1g)およびテトラキス(トリフェニルホスフ
ィン)パラジウム(0) (0,37g )を加える。
NMR(D20.l; ) ’ 1.28 (3H,d
、J=6Hz)、 2.6−4.33(108,m)、
8.94 (s、111)x1■1輩 前 (5R,6’5)−3−(1−アリルオキシカルボニル
ピロリジン−3−イル)−6−[(IR)−1−ヒドロ
キシエチル]−7−オキソ−1−アザビシクロ[3,2
,0]ヘプト−2−エン−2−カルボン酸アリル(1,
24K)のテトラヒドロフラン(201d )とエタノ
ール(5all)との混合物溶液に、トリフェニルホス
フィン(0,16g)、2−エチルヘキサン酸ナトリウ
ム(1,1g)およびテトラキス(トリフェニルホスフ
ィン)パラジウム(0) (0,37g )を加える。
常温で1時間攪拌後、反応混合物をジクロロメタンで洗
浄して溶媒を減圧下に留去する。残渣を非イオン吸着t
sm「ダイヤイオンHP−20Jを使用するクロマトグ
ラフィーに付し、水とアセトニトリルとの混液(95:
5、v/v )で溶出する。所望の化合物を含む画分を
集め、凍結乾燥して、(SR,6S)−3−(1−アリ
ルピロリジン−3−イル)−6−[(IR)−1−ヒド
ロキシエチル]−7−オキソ−1−アザビシクロ[3,
2,0]ヘプト−2−エン−2−カルボンa (500
mg )を得る。
浄して溶媒を減圧下に留去する。残渣を非イオン吸着t
sm「ダイヤイオンHP−20Jを使用するクロマトグ
ラフィーに付し、水とアセトニトリルとの混液(95:
5、v/v )で溶出する。所望の化合物を含む画分を
集め、凍結乾燥して、(SR,6S)−3−(1−アリ
ルピロリジン−3−イル)−6−[(IR)−1−ヒド
ロキシエチル]−7−オキソ−1−アザビシクロ[3,
2,0]ヘプト−2−エン−2−カルボンa (500
mg )を得る。
IR(スジ1−ル) : 1750 cmm−’
NMR(D20,8 ) ’ 1−26 (3
H1d、J=6Hz)、 L−7−2−4(2H,m)
、 5.3−6.1 (3H,@)東五五堕 n (5R,6S)−3−(1−アリルピロリジン−3−イ
ル)−a−[(IR)−t−ヒドロキシエチル]−7−
オキソ−1−アザビシクロ[3゜2.0]ヘプト−2−
エン−2−カルボン酸(500mg)の水(2誠)、ア
セトニトリル(3011111)およびメタノール(t
oam )の混合物溶液に沃化メチル(15m )を加
える。 40℃で30分間攪拌後、溶媒を減圧下に留去
する。残渣をシリカゲルを使用するクロマトグラフィー
に付し、アセトニトリルと水との混液(7:3、v/v
)で溶出する。所望の化合物を含む両分を集め、凍結
乾燥して、(5R965)−3−(1−アリル−1−メ
チル−3−ピロリジニオ)−6−[(IR)−1−ヒド
ロキシエチル]−7−オキソ−1−アザビシクロ[3゜
2.01ヘプト−2−エン−2−カルボキシレート(1
60smg)を得る。
NMR(D20,8 ) ’ 1−26 (3
H1d、J=6Hz)、 L−7−2−4(2H,m)
、 5.3−6.1 (3H,@)東五五堕 n (5R,6S)−3−(1−アリルピロリジン−3−イ
ル)−a−[(IR)−t−ヒドロキシエチル]−7−
オキソ−1−アザビシクロ[3゜2.0]ヘプト−2−
エン−2−カルボン酸(500mg)の水(2誠)、ア
セトニトリル(3011111)およびメタノール(t
oam )の混合物溶液に沃化メチル(15m )を加
える。 40℃で30分間攪拌後、溶媒を減圧下に留去
する。残渣をシリカゲルを使用するクロマトグラフィー
に付し、アセトニトリルと水との混液(7:3、v/v
)で溶出する。所望の化合物を含む両分を集め、凍結
乾燥して、(5R965)−3−(1−アリル−1−メ
チル−3−ピロリジニオ)−6−[(IR)−1−ヒド
ロキシエチル]−7−オキソ−1−アザビシクロ[3゜
2.01ヘプト−2−エン−2−カルボキシレート(1
60smg)を得る。
M5 : 321 (lf”+1)
IR(スジーール) + 1750 am″″I
NMR(D20.S ) ” L−26(3H1d、J
=6Hz>、1.8−2.6(2H,s+)、3.11
(3)1.s)、 5.5−6.2 (3H,
m)叉1Jす1二U ■0 (SR,6S)−3−[(13)−1,2−ジアミノエ
チル]−6−[(IR)−1−ヒドロキシエチル]−7
−オキソ−1−アザビシクロ[3゜2.0]ヘプト−2
−エン−2−カルボン酸(1,00g)の水(room
)とテトラヒドロフラン(10゜−)との混合物溶液
に、アセトイミド酸エチル・塩酸塩(1,0Og)を、
炭酸カリウム飽和水溶液でpHを8.0と8.5との間
に保ちながら水冷攪拌下に加える。2時間攪拌後、混合
物を101d容まで減圧濃縮する。水溶液をシリカゲル
(100g)を使用するカラムクロマトグラフィーに付
し、水とアセトニトリルとの混液(6:4、V/V )
で溶出する。
NMR(D20.S ) ” L−26(3H1d、J
=6Hz>、1.8−2.6(2H,s+)、3.11
(3)1.s)、 5.5−6.2 (3H,
m)叉1Jす1二U ■0 (SR,6S)−3−[(13)−1,2−ジアミノエ
チル]−6−[(IR)−1−ヒドロキシエチル]−7
−オキソ−1−アザビシクロ[3゜2.0]ヘプト−2
−エン−2−カルボン酸(1,00g)の水(room
)とテトラヒドロフラン(10゜−)との混合物溶液
に、アセトイミド酸エチル・塩酸塩(1,0Og)を、
炭酸カリウム飽和水溶液でpHを8.0と8.5との間
に保ちながら水冷攪拌下に加える。2時間攪拌後、混合
物を101d容まで減圧濃縮する。水溶液をシリカゲル
(100g)を使用するカラムクロマトグラフィーに付
し、水とアセトニトリルとの混液(6:4、V/V )
で溶出する。
目的化合物を含む両分を集めて減圧濃縮し、凍結乾燥し
て固体を得る。固体の水(1offLQ )溶液を「ダ
イヤイオンHP−20,を使用するカラムクロマトグラ
フィーに付し、水で溶出する。目的化合物を含む両分を
集めて減圧濃縮し、凍結乾燥して、(SR,6S)−6
−[(IR)−1−ヒドロキシエチル]−3−[(4S
)−2−メチル−2−イミダシリン−4−イルコーク−
オキソ−1−アザビシクロ[3,2,0]ヘプト−2−
エン−2−カルホン酸(0,08g)を固体として得る
。
て固体を得る。固体の水(1offLQ )溶液を「ダ
イヤイオンHP−20,を使用するカラムクロマトグラ
フィーに付し、水で溶出する。目的化合物を含む両分を
集めて減圧濃縮し、凍結乾燥して、(SR,6S)−6
−[(IR)−1−ヒドロキシエチル]−3−[(4S
)−2−メチル−2−イミダシリン−4−イルコーク−
オキソ−1−アザビシクロ[3,2,0]ヘプト−2−
エン−2−カルホン酸(0,08g)を固体として得る
。
IR(スジ曽−ル) : 1755−1730
am−’NMR(D20.ε) : 1.28 (3H
,d、J:6.2Hz)、 2.22(3H,s) FAB−MS : 280 (M”+1>大JLI上二
針 実施例3l−1)と実質的に同様にして、(5R16S
)−6−[(IR)−1−ヒドロキシエチル]−3−[
(4S)−2−イミダシリン−4−イル]−7−オキソ
ー1−アザビシクロ[3,2゜0]ヘプト−2−エン−
2−カルボン酸を収率1.9%で得る。
am−’NMR(D20.ε) : 1.28 (3H
,d、J:6.2Hz)、 2.22(3H,s) FAB−MS : 280 (M”+1>大JLI上二
針 実施例3l−1)と実質的に同様にして、(5R16S
)−6−[(IR)−1−ヒドロキシエチル]−3−[
(4S)−2−イミダシリン−4−イル]−7−オキソ
ー1−アザビシクロ[3,2゜0]ヘプト−2−エン−
2−カルボン酸を収率1.9%で得る。
NMR(D20.l; ) ’ 1.28 (3H9d
、に6−2Hz)、 8−18(IH,s) FAB−MS ! 266 (M +1)gl」Il二
Ω 実施例27−22>と実質的に同様にして、(5R16
8)−3−[1−(2−カルバモイルアセトイミドイル
)アゼチジン−3−イル]−6−[(IR)−1−ヒド
ロキシエチル]−7−オキソ−1−アザビシクロ[3,
2,0]ヘプト−2−エン−2−カルボン酸を収率25
.1%で得る。
、に6−2Hz)、 8−18(IH,s) FAB−MS ! 266 (M +1)gl」Il二
Ω 実施例27−22>と実質的に同様にして、(5R16
8)−3−[1−(2−カルバモイルアセトイミドイル
)アゼチジン−3−イル]−6−[(IR)−1−ヒド
ロキシエチル]−7−オキソ−1−アザビシクロ[3,
2,0]ヘプト−2−エン−2−カルボン酸を収率25
.1%で得る。
IR(スジ曹−ル) : 1750. 1600
c+++−1HMR(D20.8 > ’ 1.30
(3H,d、J=6Hz)、 2.95−3.45(
3H,+s)、 3.95−4.70 (9H,m)裏
m二υ 実施例27−12)と実質的に同様にして、(SR96
s)−a−4(IR)−x−ヒドロキシエチルコー7一
才キソー3−[1−(N−(t、3.4−デアジアゾー
ル−2−イル)ホルムイミドイル)アゼチジン−3−イ
ル]−1−アザビシクロ[3,2,03ヘプト−2−エ
ン−2−カルボン酸を収率32.7%で得る。
c+++−1HMR(D20.8 > ’ 1.30
(3H,d、J=6Hz)、 2.95−3.45(
3H,+s)、 3.95−4.70 (9H,m)裏
m二υ 実施例27−12)と実質的に同様にして、(SR96
s)−a−4(IR)−x−ヒドロキシエチルコー7一
才キソー3−[1−(N−(t、3.4−デアジアゾー
ル−2−イル)ホルムイミドイル)アゼチジン−3−イ
ル]−1−アザビシクロ[3,2,03ヘプト−2−エ
ン−2−カルボン酸を収率32.7%で得る。
IR(スジヲール) : 1750. 1600
am−’NMR(D20.8 ) ’ 1.30 <
314.d、J=6Hz)、 2−98−3.48(3
H,n)、 3.94−4.70 (10H,m)、
8.08 (18,s)。
am−’NMR(D20.8 ) ’ 1.30 <
314.d、J=6Hz)、 2−98−3.48(3
H,n)、 3.94−4.70 (10H,m)、
8.08 (18,s)。
8.85 (IH,s)
及直皿翌二剋
O
実施例27−6)と実質的に同様にして、(5R16S
)−6−[(IR)−1−ヒドロキシエチル]−7−オ
キソ−3−[1−(1−ピロリン−2−イル)アゼチジ
ン−3−イルコー1−アザビシクロ[3,2,0]ヘプ
ト−2−エン−2−カルボン酸を収率43.6%で得る
。
)−6−[(IR)−1−ヒドロキシエチル]−7−オ
キソ−3−[1−(1−ピロリン−2−イル)アゼチジ
ン−3−イルコー1−アザビシクロ[3,2,0]ヘプ
ト−2−エン−2−カルボン酸を収率43.6%で得る
。
IR(スジ良−ル) : 1750. 1680.
、 1580 cm−’NMR(D20.ε): 1
.28 (3H,d、J=6Hz)、 1.80−4.
70(16B、+m)
、 1580 cm−’NMR(D20.ε): 1
.28 (3H,d、J=6Hz)、 1.80−4.
70(16B、+m)
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1)式: ▲数式、化学式、表等があります▼ [式中、R^1はカルボキシ基、保護されたカルボキシ
基またはカルボキシラト基、R^2はヒドロキシ(低級
)アルキル基または保護されたヒドロキシ(低級)アル
キル基、R^3は水素または低級アルキル基、Aは式: ▲数式、化学式、表等があります▼または▲数式、化学
式、表等があります▼ {式中、▲数式、化学式、表等があります▼はさらに別
のヘテロ原子 を含んでいてもよいN−含有脂肪族複素環基、R^4は
水素、ヒドロキシ基、保護されたヒドロキシ基、ヒドロ
キシ(低級)アルキル基、保護されたヒドロキシ(低級
)アルキル基、低級アルキル基、低級アルコキシ(低級
)アルキル基、ハロゲン、カルバモイル基、モノ−もし
くはジ(低級)アルキルカルバモイル基またはイミノ保
護基、R^5は水素、低級アルケニル基、カルバモイル
基、モノ−もしくはジ(低級)アルキルカルバモイル基
、イミノ保護基、または式: ▲数式、化学式、表等があります▼または▲数式、化学
式、表等があります▼ (式中、R^6は水素または、適当な置換基で置換され
ていてもよい低級アルキル基、R^7は水素、低級アル
キル基、シアノ基、ヒドロキシ(低級)アルコキシ(低
級)アルキル基または複素環基、R^8は低級アルキル
基を意味するか、またはR^7はR^6もしくはR^8
と結合して低級アルキレン基を形成する)で示される基
、mおよびnはそれぞれ0ないし3の整数を意味する}
で示される基を意味する]で示される化合物または医薬
として許容されるその塩類。 2)R^1がカルボキシ基、医薬として許容されるエス
テル化されたカルボキシ基またはカルボキシラト基、R
^2がヒドロキシ(低級)アルキル基、アシルオキシ(
低級)アルキル基、アル(低級)アルキルオキシ(低級
)アルキル基またはトリ置換シリルオキシ(低級)アル
キル基、式:▲数式、化学式、表等があります▼がその
環内に非共役二重結合のみ を有する窒素原子1ないし4個を含む4ないし6員複素
単環基、窒素原子1ないし4個を含む飽和4ないし6員
複素単環基、酸素原子1ないし2個および窒素原子1な
いし3個を含む飽和4ないし6員複素単環基、またはイ
オウ原子1ないし2個および窒素原子1ないし3個を含
む飽和4ないし6員複素単環基、R^4が水素、ヒドロ
キシ基、アシルオキシ基、アル(低級)アルキルオキシ
基、トリ置換シリルオキシ基、ヒドロキシ(低級)アル
キル基、アシルオキシ(低級)アルキル基、アル(低級
)アルキルオキシ(低級)アルキル基、トリ置換シリル
オキシ(低級)アルキル基、低級アルキル基、低級アル
コキシ(低級)アルキル基、ハロゲン、カルバモイル基
、モノ−もしくはジ(低級)アルキルカルバモイル基ま
たはアシル基、R^5が水素、低級アルケニル基、カル
バモイル基、モノ−もしくはジ(低級)アルキルカルバ
モイル基、アシル基、または式: ▲数式、化学式、表等があります▼または▲数式、化学
式、表等があります▼ (式中、R^6は水素または、ヒドロキシ基、カルバモ
イル基およびハロゲンよりなる群から選択された適当な
置換基1ないし3個で置換されていてもよい(低級)ア
ルキル基、R^7が水素、低級アルキル基、シアノ基、
ヒドロキシ(低級)アルコキシ(低級)アルキル基、窒
素原子1ないし4個を含む不飽和5もしくは6員複素単
環基、窒素原子1ないし4個を含む飽和5もしくは6員
複素単環基、窒素原子1ないし5個を含む不飽和縮合8
ないし10員複素環基、酸素原子1ないし2個および窒
素原子1ないし3個を含む不飽和5もしくは6員複素単
環基、酸素原子1ないし2個および窒素原子1ないし3
個を含む飽和5もしくは6員複素単環基、酸素原子1な
いし2個および窒素原子1ないし3個を含む不飽和縮合
8ないし10員複素環基、イオウ原子1ないし2個およ
び窒素原子1ないし3個を含む不飽和5もしくは6員複
素単環基、イオウ原子1ないし2個および窒素原子1な
いし3個を含む飽和5もしくは6員複素単環基、イオウ
原子1個を含む不飽和5もしくは6員複素単環基、また
はイオウ原子1ないし2個および窒素原子1ないし3個
を含む不飽和縮合8ないし10員複素環基、R^8が低
級アルキル基を意味するか、またはR^7がR^6もし
くはR^8と結合して低級アルキレン基を形成する)で
示される基を意味し、mおよびnがぞれぞれ0ないし3
の整数である請求項1)記載の化合物。 3)R^1がカルボキシ基、低級アルケニルオキシカル
ボニル基、フェニル(またはニトロフェニル)(低級)
アルコキシカルボニル基またはカルボキシラト基、R^
2がヒドロキシ(低級)アルキル基、フェニル(または
ニトロフェニル)(低級)アルコキシカルボニルオキシ
(低級)アルキル基またはトリ(低級)アルキルシリル
オキシ(低級)アルキル基、式:▲数式、化学式、表等
があります▼が窒素原子 1ないし4個を含む飽和4ないし6員複素単環基、酸素
原子1ないし2個および窒素原子1ないし3個を含む飽
和4ないし6員複素単環基、イオウ原子1ないし2個お
よび窒素原子1ないし3個を含む飽和4ないし6員複素
単環基、または式:▲数式、化学式、表等があります▼
または▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、m^1およびn^1はそれぞれ0ないし3の整
数、m^2およびn^2はそれぞれ0ないし2の整数で
あるが、1≦m^1+n^1≦3および0≦m^2+n
^2≦2を条件とする)で示される複素環基、R^4が
水素、ヒドロキシ基、フェニル(またはニトロフェニル
)(低級)アルコキシカルボニルオキシ基、トリ(低級
)アルキルシリルオキシ基、ヒドロキシ(低級)アルキ
ル基、フェニル(またはニトロフェニル)(低級)アル
コキシカルボニルオキシ(低級)アルキル基、トリ(低
級)アルキルシリルオキシ(低級)アルキル基、低級ア
ルキル基、低級アルコキシ(低級)アルキル基、ハロゲ
ン、カルバモイル基、モノ−もしくはジ(低級)アルキ
ルカルバモイル基、フェニル(またはニトロフェニル)
(低級)アルコキシカルボニル基または低級アルケニル
オキシカルボニル基、R^5が水素、低級アルケニル基
、カルバモイル基、モノ−もしくはジ(低級)アルキル
カルバモイル基、フェニル(またはニトロフェニル)(
低級)アルコキシカルボニル基、低級アルケニルオキシ
カルボニル基、または式: ▲数式、化学式、表等があります▼または▲数式、化学
式、表等があります▼ [式中、R^6が水素、低級アルキル基、ヒドロキシ(
低級)アルキル基、カルバモイル(低級)アルキル基ま
たはハロ(低級)アルキル基、R^7が水素、低級アル
キル基、シアノ基、ヒドロキシ(低級)アルコキシ(低
級)アルキル基、ピロリル基、ピロリニル基、イミダゾ
リル基、ピラゾリル基、ピリジル基およびそのN−オキ
シド、ピリミジル基、ピラジニル基、ピリダジニル基、
トリアゾリル基、テトラゾリル基、ジヒドロトリアジニ
ル基、アゼチジニル基、ピロリジニル基、イミダゾリジ
ニル基、ピペリジニル基、ピラゾリジニル基、ピペラジ
ニル基、インドリル基、イソインドリル基、インドリジ
ニル基、ベンズイミダゾリル基、キノリル基、イソキノ
リル基、インダゾリル基、ベンゾトリアゾリル基、テト
ラゾロピリジル基、テトラゾロピリダジニル基、ジヒド
ロトリアゾロピリダジニル基、オキサゾリル基、イソオ
キサゾリル基、オキサジアゾリル基、モルホリニル基、
ベンズオキサゾリル基、ベンズオキサンアゾリル基、チ
アゾリル基、チアゾリニル基、チアジアゾリル基、チア
ゾリジニル基、チエニル基、ベンゾチアゾリル基、また
はベンゾチアジアゾリル基、R^8が低級アルキル基を
意味するか、またはR^7がR^6もしくはR^8と結
合して低級アルキレン基を形成する]で示される基、m
およびnがそれぞれ0ないし3の整数である請求項2)
記載の化合物。 4)R^1がカルボキシ基、C_2−C_4アルケニル
オキシカルボニル基、フェニル(またはニトロフェニル
)(C_1−C_4)アルコキシカルボニル基またはカ
ルボキシラト基、R^2がヒドロキシ(C_1−C_4
)アルキル基、フェニル(またはニトロフェニル)(C
_1−C_4)アルコキシカルボニルオキシ(C_1−
C_4)アルキル基またはトリ(C_1−C_4)アル
キルシリルオキシ(C_1−C_4)アルキル基、R^
3が水素またはC_1−C_4アルキル基、式:▲数式
、化学式、表等があります▼がアゼチジニル基、ピ ロリジニル基、イミダゾリジニル基、ピペリジニル基、
ピラゾリジニル基、ピペラジニル基、モルホリニル基、
チアゾリジニル基、イソチアゾリジニル基、チアジアゾ
リジニル基、チオモルホリニル基または式: ▲数式、化学式、表等があります▼または▲数式、化学
式、表等があります▼ (式中、m^1およびn^1がそれぞれ0ないし3の整
数、m^2およびn^2はそれぞれ0ないし2の整数で
あるが、1≦m^1+n^1≦3および0≦m^2+n
^2≦2を条件とする)で示される基、R^4が水素、
ヒドロキシ基、フェニル(またはニトロフェニル)(C
_1−C_4)アルコキシカルボニルオキシ基、トリ(
C_1_−C_4)アルキルシリルオキシ基、ヒドロキ
シ(C_1−C_4)アルキル基、フェニル(またはニ
トロフェニル)(C_1−C_4)アルコキシカルボニ
ルオキシ(C_1−C_4)アルキル基、トリ(C_1
−C_4)アルキルシリルオキシ(C_1−C_4)ア
ルキル基、C_1−C_4アルキル基、C_1−C_4
アルコキシ(C_1−C_4)アルキル基、ハロゲン、
カルバモイル基、モノ−もしくはジ(C_1−C_4)
アルキルカルバモイル基、フェニル(またはニトロフェ
ニル)(C_1−C_4)アルコキシカルボニル基また
はC_2−C_4アルケニルオキシカルボニル基、R^
5水素、C_2−C_4アルケニル基、カルバモイル基
、モノ−もしくはジ(C_1−C_4)アルキルカルバ
モイル基、フェニル(またはニトロフェニル)(C_1
−C_4アルコキシカルボニル基、C_2−C_4アル
ケニルオキシカルボニル基または式: ▲数式、化学式、表等があります▼または▲数式、化学
式、表等があります▼ [式中、R^6は水素、C_1−C_4アルキル基、ヒ
ドロキシ(C_1−C_4)アルキル基、カルバモイル
(C_1−C_4)アルキル基またはハロ(C_1−C
_4)アルキル基、R^7が水素、C_1−C_4アル
キル基、シアノ基、ヒドロキシ(C_1−C_4)アル
コキシ(C_1−C_4)アルキル基、チアゾリル基、
チアゾリニル基、チアジアゾリル基、チアゾリジニル基
、イソチアゾリジニル基またはチアジアゾリジニル基、
R^8がC_1−C_4アルキル基を意味するか、また
はR^7がR^6もしくはR^8と結合してC_1−C
_4アルキレン基を形成する]で示される基、mおよび
nがそれぞれ0ないし3の整数である請求項3)記載の
化合物。 5)式:▲数式、化学式、表等があります▼がピロリニ
ル基、イミ ダゾリニル基、テトラヒドロピリジル基、アゼチジニル
基、ピロリジニル基、ピペリジニル基、ピラゾリジニル
基、ピペラジニル基、モルホリニル基、チアゾリジニル
基またはチオモルホリニル基、R^5が水素、C_2−
C_4アルケニル基、C_2−C_4アルケニルオキシ
カルボニル基、フェニル(またはニトロフェニル)(C
_1−C_4)アルコキシカルボニル基、ジ(C_1−
C_4)アルキルカルバモイル基、(C_1−C_4)
アルカンイミドイル基、N−(C_1−C_6)アルキ
ル(C_1−C_4)アルカンイミドイル基、N−[ヒ
ドロキシ(C_1−C_4)アルコキシ(C_1−C_
4)アルキル](C_1−C_4)アルカンイミドイル
基、N−シアノ(C_1−C_4)アルカンイミドイル
基、N−チアゾリル(またはチアゾリニルまたはチアジ
アゾリルまたはチアゾリジニルまたはイソチアゾリジニ
ルまたはチアジアゾリジニル(C_1−C_4)アルカ
ンイミドイル基、C−ヒドロキシ(またはハロまたはカ
ルバモイル)(C_1−C_4)アルカンイミドイル基
、N,N−ジ(C_1−C_4)アルキルイミノ(C_
1−C_4)アルキル基、または式:▲数式、化学式、
表等があります▼、▲数式、化学式、表等があります▼ もしくは▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、R^6は水素またはC_1−C_4アルキル基
、R^8はC_1−C_4アルキル基、lはそれぞれ5
員または6員N−含有複素環を形成する3ないし5の整
数である)で示される化合物である請求項4)記載の化
合物。 6)R^1がカルボキシ基またはカルボキシラト基、R
^2がヒドロキシ(C_1−C_4)アルキル基、R^
4が水素、ヒドロキシ基、ヒドロキシ(C_1−C_4
)アルキル基、C_1−C4アルキル基、C_1−C_
4アルコキシ(C_1−C_4)アルキル基、ハロゲン
またはジ(C_1−C_4)アルキルカルバモイル基で
ある請求項5)記載の化合物。 7)R^2が1−ヒドロキシエチル基、R^3が水素ま
たはメチル基、R^4が水素、ヒドロキシ基、ヒドロキ
シメチル基、メチル基、メトキシメチル基、フルオロ基
またはジメチルカルバモイル基、R^5が水素、アリル
基、アリルオキシカルボニル基、ベンジルオキシカルボ
ニル基、ジメチルカルバモイル基、ホルムイミドイル基
、アセトイミドイル基、N−メチル(またはエチルまた
はイソプロピル)ホルムイミドイル基、N−メチルアセ
トイミドイル基、N−[2−(2−ヒドロキシエトキシ
)エチル]ホルムイミドイル基、N−シアノホルムイミ
ドイル基、N−(チアゾール−2−イル)ホルムイミド
イル基、N−(1,3,4−チアジアゾール−2−イル
)ホルムイミドイル基、2−ヒドロキシ(またはフルオ
ロまたはカルバモイル)アセトイミドイル基、N,N−
ジメチルイミニオメチル基、1−ピロリン−2−イル基
、1−メチル−2−(1−ピロリニオ)基または式:▲
数式、化学式、表等があります▼ で示される化合物である請求項6)記載の化合物。 8)(a)式: ▲数式、化学式、表等があります▼ [式中、R^1はカルボキシ基、保護されたカルボキシ
基またはカルボキシラト基、R^2はヒドロキシ(低級
)アルキル基または保護されたヒドロキシ(低級)アル
キル基、R^3は水素または低級アルキル基、Aは式: ▲数式、化学式、表等があります▼または▲数式、化学
式、表等があります▼ {式中、▲数式、化学式、表等があります▼はさらに別
のヘテロ原子 を含んでいてもよいN−含有脂肪族複素環基、R^4は
水素、ヒドロキシ基、保護されたヒドロキシ基、ヒドロ
キシ(低級)アルキル基、保護されたヒドロキシ(低級
)アルキル基、低級アルキル基、低級アルコキシ(低級
)アルキル基、ハロゲン、カルバモイル基、モノ−また
はジ(低級)アルキルカルバモイル基またはイミノ保護
基、R^5は水素、低級アルケニル基、カルバモイル基
、モノ−もしくはジ(低級)アルキルカルバモイル基、
イミノ保護基、または式: ▲数式、化学式、表等があります▼または▲数式、化学
式、表等があります▼ (式中、R^6は水素または、適当な置換基で置換され
ていてもよい低級アルキル基、R^7は水素、低級アル
キル基、シアノ基、ヒドロキシ(低級)アルコキシ(低
級)アルキル基または複素環基、R^8は低級アルキル
基を意味するか、またはR^7はR^6もしくはR^3
と結合して低級アルキレン基を形成する)で示される基
、mおよびnはそれぞれ0ないし3の整数を意味する}
で示される基を意味し、R^9はアリール基または低級
アルコキシ基を意味する]で示される化合物またはその
塩類を環化して、式: ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、R^1、R^2、R^3およびAはそれぞれ前
と同じ意味)で示される化合物を得るか;または(b)
式: ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、R^2、R^3およびAはそれぞれ前と同じ意
味であり、R^1_aは保護されたカルボキシ基を意味
する)で示される化合物またはその塩類をR^1_aの
カルボキシ保護基の脱離反応に付して、式:▲数式、化
学式、表等があります▼ (式中、R^2、R^3およびAはそれぞれ前と同じ意
味)で示される化合物またはその塩類を得るか;または (c)式: ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、R^1、R^3およびAはそれぞれ前と同じ意
味であり、R^2_aは保護されたヒドロキシ(低級)
アルキル基を意味する)で示される化合物またはその塩
類を、R^2_aのヒドロキシ保護基の脱離反応に付し
て、式: ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、R^1、R^3およびAはそれぞれ前と同じ意
味であり、R^2_bはヒドロキシ(低級)アルキル基
を意味する)で示される化合物またはその塩類を得るか
;または (d)式: ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、R^1、R^2、R^3、R^4および式:▲
数式、化学式、表等があります▼はそれぞれ前と同じ意
味であり、 R^5_aはイミノ保護基を意味する)で示される化合
物またはその塩類をR^5_aのイミノ保護基の脱離反
応に付して、式: ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、R^1、R^2、R^3、R^4および式:▲
数式、化学式、表等があります▼はそれぞれ前と同じ意
味)で示さ れる化合物またはその塩類を得るか;または(e)式: ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、R^1、R^2、R^3、R^4、R^5、m
およびnはそれぞれ前と同じ意味)で示される化合物ま
たはその塩類を還元して、式: ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、R^1、R^2、R^3、R^4、R^5、m
およびnはそれぞれ前と同じ意味)で示される化合物ま
たはその塩類を得るか;または (f)式: ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、R^1、R^2、R^3、R^4および式:▲
数式、化学式、表等があります▼はそれぞれ前と同じ意
味)で示さ れる化合物またはその塩類を式: R^1^0−O−R^5_b [式中、R^5_bは式: ▲数式、化学式、表等があります▼または▲数式、化学
式、表等があります▼ (式中、R^6、R^7およびR^8はそれぞれ前と同
じ意味)で示される基、R^1^0は低級アルキル基ま
たはアル(低級)アルキル基を意味する]で示される化
合物またはその塩類と反応させて、式:▲数式、化学式
、表等があります▼ (式中、R^1、R^2、R^3、R^4、R^5_b
および式:▲数式、化学式、表等があります▼はそれぞ
れ前と同じ意味)で示 される化合物またはその塩類を得るか;または(g)式
: ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、R^1、R^2、R^3、R^5および式:▲
数式、化学式、表等があります▼はそれぞれ前と同じ意
味であり、 R^4_aは保護されたヒドロキシ基または保護された
ヒドロキシ(低級)アルキル基を意味する]で示される
化合物またはその塩類をR^4_aのヒドロキシ保護基
の脱離反応に付して、式: ▲数式、化学式、表等があります▼ [式中、R^1、R^2、R^3、R^5および式:▲
数式、化学式、表等があります▼はそれぞれ前と同じ意
味であり、 R^4_bはヒドロキシ基またはヒドロキシ(低級)ア
ルキル基を意味する]で示される化合物またはその塩類
を得るか;または (h)式: ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、R^1、R^2、R^3、R^4および式:▲
数式、化学式、表等があります▼はそれぞれ前と同じ意
味であり、 R^5_cは低級アルケニル基を意味する)で示される
化合物またはその塩類を、補集剤約1当量の存在下パラ
ジウム化合物と反応させて、式: ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、R^1、R^2、R^3、R^4、R^5_c
および式:▲数式、化学式、表等があります▼はそれぞ
れ前と同じ意味)で示 される化合物またはその塩類を得るか;または(i)式
: ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、R^1、R^2、R^3、R^4、R^5_c
および式:▲数式、化学式、表等があります▼はそれぞ
れ前と同じ意味)で示 される化合物またはその塩類を低級アルキル化剤と反応
させて、式: ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、R^2、R^3、R^4、R^5_cおよび式
:▲数式、化学式、表等があります▼はそれぞれ前と同
じ意味であり、 R^1^1は低級アルキル基を意味する)で示される化
合物またはその塩類を得るか;または (j)式: ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、R^1、R^2、R^3、mおよびnはそれぞ
れ前と同じ意味)で示される化合物またはその塩類を、
式: ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、R^1^0は前と同じ意味)で示される化合物
またはその塩類と反応させて、式: ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、R^2、R^3、mおよびnはそれぞれ前と同
じ意味)で示される化合物を得るか;または(k)式: ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、R^1、R^2、R^3、mおよびnはそれぞ
れ前と同じ意味)で示される化合物またはその塩類を、
式: ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、R^6およびR^1^0はそれぞれ前と同じ意
味)で示される化合物またはその塩類と反応させて、式
: ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、R^1、R^2、R^3、R^6、mおよびn
はそれぞれ前と同じ意味)で示される化合物またはその
塩類を得ることを特徴とする式: ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、R^1、R^2、R^3およびAはそれぞれ前
と同じ意味)で示される化合物またはその塩類の製造法
。 9)式: ▲数式、化学式、表等があります▼ [式中、R^1はカルボキシ基、保護されたカルボキシ
基またはカルボキシラト基、R^2はヒドロキシ(低級
)アルキル基または保護されたヒドロキシ(低級)アル
キル基、R^3は水素または低級アルキル基、Aは式: ▲数式、化学式、表等があります▼または▲数式、化学
式、表等があります▼ {式中、▲数式、化学式、表等があります▼はさらに別
のヘテロ原子 を含んでいてもよいN−含有脂肪複素環基、R^4は水
素、ヒドロキシ基、保護されたヒドロキシ基、ヒドロキ
シ(低級)アルキル基、保護されたヒドロキシ(低級)
アルキル基、低級アルキル基、低級アルコキシ(低級)
アルキル基、ハロゲン、カルバモイル基、モノ−もしく
はジ(低級)アルキルカルバモイル基またはイミノ保護
基、R^5は水素、低級アルケニル基、カルバモイル基
、モノ−もしくはジ(低級)アルキルカルバモイル基、
イミノ保護基、または式: ▲数式、化学式、表等があります▼または▲数式、化学
式、表等があります▼ (式中、R^6は水素または、適当な置換基で置換され
ていてもよい低級アルキル基、R^7は水素、低級アル
キル基、シアノ基、ヒドロキシ(低級)アルコキシ(低
級)アルキル基または複素環基、R^8は低級アルキル
基を意味するか、またはR^7はR^6もしくはR^8
と結合して低級アルキレン基を形成する)で示される基
、mおよびnはそれぞれ0ないし3の整数を意味する}
で示される基を意味する]で示される化合物または医薬
として許容されるその塩類を有効成分として含有する抗
菌剤。
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