JPH02289591A - 光学活性な配位子を含有する錯体、その製法及びその使用法 - Google Patents
光学活性な配位子を含有する錯体、その製法及びその使用法Info
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F7/00—Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table
- C07F7/28—Titanium compounds
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D407/00—Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, at least one ring having oxygen atoms as the only ring hetero atoms, not provided for by group C07D405/00
- C07D407/14—Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, at least one ring having oxygen atoms as the only ring hetero atoms, not provided for by group C07D405/00 containing three or more hetero rings
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D317/00—Heterocyclic compounds containing five-membered rings having two oxygen atoms as the only ring hetero atoms
- C07D317/08—Heterocyclic compounds containing five-membered rings having two oxygen atoms as the only ring hetero atoms having the hetero atoms in positions 1 and 3
- C07D317/10—Heterocyclic compounds containing five-membered rings having two oxygen atoms as the only ring hetero atoms having the hetero atoms in positions 1 and 3 not condensed with other rings
- C07D317/14—Heterocyclic compounds containing five-membered rings having two oxygen atoms as the only ring hetero atoms having the hetero atoms in positions 1 and 3 not condensed with other rings with substituted hydrocarbon radicals attached to ring carbon atoms
- C07D317/18—Radicals substituted by singly bound oxygen or sulfur atoms
- C07D317/20—Free hydroxyl or mercaptan
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F7/00—Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
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- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F7/00—Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table
- C07F7/003—Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table without C-Metal linkages
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Medicines That Contain Protein Lipid Enzymes And Other Medicines (AREA)
- Medicinal Preparation (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、光学活性なl,3−ジオキソラン−4,5−
ジメタノールの配位子(リガンド)、カルボニル基又は
カルボニル基に類似の基に関連のあるラジカル及びシク
ロペンタジエニルラジカルを有する金属錯体,それらの
製法及びアルデヒド、ケトン及びN一置換イミンに対す
る対零体選択性反応剤としてのその使用に関する. 費換可能な基、及びキラルなモノヒドロキシ又はジヒド
ロキシ化合物から誘導されたラジカルを有するチタン化
合物が、アルデヒド類と反応して第二級アルコールを生
成することは、ヘルベチカヒミカアクタ (}lelv
etica Chimica Acta)、64巻、7
分冊、243号、2485−2488(1981)、オ
ルガノメタリックス(Organometa11ics
)、旦、1716−1717(1984)及びヘミッシ
ェスベリヒテ(CheIII. Ber.)、118、
3873−3682(1985)に知られている.配位
子としての脂肪族のキラルなヒドロキシ化合物は、通常
の立体選択性の変換を起こすが、配位子としてキラルな
ジナフトールを使用する場合には高い光学純度が得られ
る.使用されるキラルな配位子は、入手することが困難
であり、工業用の量としては高価である. 欧州特許A第0. 254, 685号明細書は、例え
ばアルデヒドと反応する場合、高収率で、高い対掌選択
性の変換によってキラルな第二級アルコールを生成する
、光学活性な糖配位子を有するシクロペンタジエニルー
チタン錯体を開示している.しかしながら、天然の糖配
位子により、アルコールの一種類の対掌異性体が得られ
るに過ぎない.工業的な量で入手でき、かつブロキラル
なアルデヒド、ケトン及びイミンと反応して、高い立体
選択的な変換性を有する、低価格のキラルな有機金属試
薬が求められている、この場合キラルな配位子は一対の
対掌異性体又はジアステレオ異性体の一方から誘導され
るので、例えばアルデヒドと反応する場合、R一配置又
はS−配置を有する第二級のアルコールが制御された方
法で合成される.本発明は、式(I)の化合物 Rll Rs (1)(式中
,Meは四価のチタン、ジルコニウム又はハフニウムで
あり、R1は直鎖状若しくは分岐状アルキル基、アルケ
ニル基、アルキニル基、又は非置換若しくは炭素数1〜
4のアルキル基で置換されたシクロアルキル基若しくは
シクロアルケニル基、又は非置換若しくは(C 6H
5)2P −、( R n O ) x P ( 0
)−、(Ro)JSi−、(R6).S iO−、Ra
s o z−、−s−(炭素数2 〜4 (7) 7
JL/キレン)一s又は一〇一(炭素数2〜4のアルキ
レン)−0−によるモノ置換若しくはポリ置換されたア
リール基、アルカリール基、アラルキル基、アルカラル
キル基、アラルケニル基、アルカラルケニル基、アラル
キニル基又はアルカラルキニル基、ここにR6はフェニ
ル基、ベンジル基又は炭素数1〜8のアルキル基、シア
ノ基、弗素原子、ニトロ基、炭素数1−12のアルキル
チオ基、炭素数1〜l2のアルコキシ基、第二級アミノ
基、又は一〇OR,、R7は一価のアルコールラジカル
;又はR1は酸素原子若しくは窒素原子を介して結合し
たエノル、エナミン又はエンヒドラジンラジカルであり
;R2は非置換若しくはアルキル基、アルケニル基、ア
ルコキシ基、シクロアルキル基、アリール基、アラルキ
ル基、トリアルコキシシリル基、トリアルキルシリル基
、R6SO2一又はハロゲン原子で置換されたシクロペ
ンタジエニル基又はインデニル基であり、Yは炭素原子
,Si又はS i −0−S i R 3R a−、R
,及びR4は、互いに独立して水素原子、直鎖状又は分
岐状アルキル基若しくはアルケニル基、又は非置換若し
くは炭素数1〜4のアルキル基で置換されたシクロアル
キル基若しくはシクロアルケニル基、又はアリール基、
アラルキル基、アルカリール基、アルカラルキル基、ア
ラルケニル基又はアルカラルケニル基、あるいはR,及
びR4は、一緒になって非置換若しく.は−CN,−F
、−Cl,一Br,ニトロ基、炭素数1〜12のアルキ
ルチオ基又は炭素数1〜12のアルコキシ基で置換され
た−C ,H 2++(nは3ないし7)であり、R,
は非置換若しくは炭素数1〜l2のアルキル基、炭素数
1〜12のアルコキシ基、炭素数1〜l2のアルキルチ
オ基、シアノ基、第二級アミノ基、第二級アミノカルボ
ニル基、弗素原子、炭素数6〜IOのアリール基、R
a S O x−、炭素数1〜l2のアルコキシメチル
基、炭素数l〜12のアルキルチオメチル基、第二級ア
ミノメチル基若しくは第二級アミノカルボニルメチル基
で置換されたアリール基、ヘテロアリール基、アラルキ
ル基又はヘテロアリールアルキル基、又は炭素数1〜1
2のアルキル基、炭素数2〜l2のアルケニル基、炭素
数2〜12のアルキニル基、炭素数3〜8のシクロアル
キル基又は炭素数3〜8のシクロアルケニル基であり、
C(1)及びC(2)は、主として対掌異性体又はジア
ステレオ異性体の形態における、キラルな炭素原子であ
る)に関する. Yが炭素原子である場合、これもキラルであり得る、こ
の場合にはジアステレオ異性体が生成する. R.は、カルポニル化合物及びイミノ化合物に変換し得
る基である. アルキル基として、R1は好適にはlないし18、特に
好適には1ないし12、更に特に好適には1ないし6の
炭素原子を含む.例としては、メチル基、エチル基、プ
ロビル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘブチ
ル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基
、ドデシル基、トリデシル基、テトラデシル基、ペンタ
デシル基、ヘキサデシル基、ヘブタデシル基及びオクタ
デシル基の各種異性体が挙げられる. アルケニル基として、R1は、好適には2ないし12、
特に好適には2ないし6の炭素原子を含む.これは、式
(C −H x−+)−C .H 2−のアルケニルア
ルキル基である、但しnは2ないし12、好適には2な
いし6の整数であり、mはlないし6、好適には1又は
2の整数、又は好適には、アルキル基に1ないしlOの
炭素原子を有するアルキルビニル基の何れかである.具
体例として、アリル基、1−メチルアリル基、2−メチ
ルアリル基、ブタ−2−エンー4−イル基、 ブタ−1
−エンー3−イル基、ペンター3−エンー5−イル基、
ペンター3−エンー5−イル基、ベンター1一エンー3
−イル基、ヘキサー4−エンー6−イル基、ヘキサー2
−エン−4−イル基、ヘブタ−2−エンー1−イル基、
ヘブタ−3−エンー5−イル基、オクター6−エンー8
−イル基、オクター2−エンー4−イル基、ノナー2−
エン−2−イル基、デセー8−エンー10−イル基、ド
デセー3−エン12−イル基、ビニル基、クロトニル基
、n−ブターl一エンー1−イル基、ブタ−2−エンー
3−イル基、ペンター1−エンー2−イル基及びヘキサ
ーl一エン1−イル基が挙げられる.R,は好適にはビ
ニル基又はアリル基である.R1は、特に好適にはアリ
ル基である. アルキニル基として、R1は、好適には2ないし12、
特に好適には2ないし6個の炭素原子を含む.アルキニ
ル基は、炭素鎖中又は末端の何れかに位置することがで
きる.具体例としては、エチニル基、プロパー2−イン
−3−イル基、ペンタ2−イン−4−イル基、ベンター
1−イン−5−イル基及びヘキサー1−イン−6−イル
基が挙げられる.エチニル基及びプロバルギル基が好ま
しい.シクロアルキル基又はシクロアルケニル基として
、R1は、好適には3ないし8、特に好適には3ないし
6、更に特に好適には5又は6個の環炭素原子を含み、
これらは炭素数1〜4のアルキル基で置換されてもよい
.具体例としては、シクロプロビル基、シクロブチル基
、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロへブチ
ル基、シクロオクチル基、シクロデシル基、シクロドデ
シル基、シクロブロペニル基、シクロブテニル基、シク
ロペンタ−l一エンー3−イル基、シクロペンタ−1−
エンー1−イル基、シクロヘキサ−1−エンー3−イル
、シクロヘキサ−1−エンー3−イル、シクロヘキサー
2−エン1イル、シクロへブタ−1一エンー3−イル、
シクロオクタ−1−エンー3−イル基及び4−メチルシ
クロヘキサ−1−エン−3−イル基が挙げられる.アリ
ール基として、R,は、好適には6ないし12個の炭素
原子を含み、好適にはナフチル基及び特に好適にはフェ
ニル基である. アルカリール基として、R1は、好適にはフないし16
個の炭素原子を含む.このうちの.アリル基としては、
好適にはフェニル基である.具体例としては、メチルフ
エニル基、ジメチルフエニル基、エチルフエニル基、
n−プロビルフエニル基、イソプロビルフェニル基、n
−、イソー及びt−プチルフェニル基、ジーし−プチル
フェニル基、ヘキシルフェニル基、オクチルフェニル基
及びデシルフェニル基が挙げられる. アラルキル基として、R.は、好適にはフないしl6、
特に好適にはフないし10個の炭素原子を含む.このう
ちのアリール基としては、好適にはフェニル基である.
具体例としては、ベンジル基、l−フェニルエチル基、
2−フェニルエチル基、l−フェニルブ口ビル基、2−
フエニルプロビル基、フエニルブチル基、フエニルペン
チル基及びフエニルヘキシル基が挙げられる.ベンジル
基及びlフェニルエチル基又は2−フエニルエチル基が
好ましい. アルカラルキル基として、R1は、好適には8ないし1
6個の炭素原子を含む.このうちのアリル基としては好
適にはフエニル基である.具体例としては、メチルベン
ジル基、エチルベンジル基、n−プロビルベンジル基、
イソブロビルベンジル基、ジメチルベンジル基,n−、
イソー又はしプチルベンジル基、ジーL−プチルベンジ
ル基、ヘキシルベンジル基、ノニルベンジル基、 1−
メチルフェニルエター2−イル基、2−メチルフェニル
エター2−イル基及び 1−メチルフェニルプロパー3
イル基が挙げられる. アラルケニル基として、R,は、好適には8ないし16
の炭素原子を含む.このうちのアリール基としては好適
にはフェニル基である.具体例としては、フェニルビニ
ル基、l−フエニルブロバーlエンー3−イル基、 2
−フエニルブロバー2−エンー1−イル基、3−フエニ
ルブロバーl一エンー3−イル基、フェニルブテニル基
、フェニルペンテニル基又はフエニルヘキセニル基が挙
げられる。
ジメタノールの配位子(リガンド)、カルボニル基又は
カルボニル基に類似の基に関連のあるラジカル及びシク
ロペンタジエニルラジカルを有する金属錯体,それらの
製法及びアルデヒド、ケトン及びN一置換イミンに対す
る対零体選択性反応剤としてのその使用に関する. 費換可能な基、及びキラルなモノヒドロキシ又はジヒド
ロキシ化合物から誘導されたラジカルを有するチタン化
合物が、アルデヒド類と反応して第二級アルコールを生
成することは、ヘルベチカヒミカアクタ (}lelv
etica Chimica Acta)、64巻、7
分冊、243号、2485−2488(1981)、オ
ルガノメタリックス(Organometa11ics
)、旦、1716−1717(1984)及びヘミッシ
ェスベリヒテ(CheIII. Ber.)、118、
3873−3682(1985)に知られている.配位
子としての脂肪族のキラルなヒドロキシ化合物は、通常
の立体選択性の変換を起こすが、配位子としてキラルな
ジナフトールを使用する場合には高い光学純度が得られ
る.使用されるキラルな配位子は、入手することが困難
であり、工業用の量としては高価である. 欧州特許A第0. 254, 685号明細書は、例え
ばアルデヒドと反応する場合、高収率で、高い対掌選択
性の変換によってキラルな第二級アルコールを生成する
、光学活性な糖配位子を有するシクロペンタジエニルー
チタン錯体を開示している.しかしながら、天然の糖配
位子により、アルコールの一種類の対掌異性体が得られ
るに過ぎない.工業的な量で入手でき、かつブロキラル
なアルデヒド、ケトン及びイミンと反応して、高い立体
選択的な変換性を有する、低価格のキラルな有機金属試
薬が求められている、この場合キラルな配位子は一対の
対掌異性体又はジアステレオ異性体の一方から誘導され
るので、例えばアルデヒドと反応する場合、R一配置又
はS−配置を有する第二級のアルコールが制御された方
法で合成される.本発明は、式(I)の化合物 Rll Rs (1)(式中
,Meは四価のチタン、ジルコニウム又はハフニウムで
あり、R1は直鎖状若しくは分岐状アルキル基、アルケ
ニル基、アルキニル基、又は非置換若しくは炭素数1〜
4のアルキル基で置換されたシクロアルキル基若しくは
シクロアルケニル基、又は非置換若しくは(C 6H
5)2P −、( R n O ) x P ( 0
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s o z−、−s−(炭素数2 〜4 (7) 7
JL/キレン)一s又は一〇一(炭素数2〜4のアルキ
レン)−0−によるモノ置換若しくはポリ置換されたア
リール基、アルカリール基、アラルキル基、アルカラル
キル基、アラルケニル基、アルカラルケニル基、アラル
キニル基又はアルカラルキニル基、ここにR6はフェニ
ル基、ベンジル基又は炭素数1〜8のアルキル基、シア
ノ基、弗素原子、ニトロ基、炭素数1−12のアルキル
チオ基、炭素数1〜l2のアルコキシ基、第二級アミノ
基、又は一〇OR,、R7は一価のアルコールラジカル
;又はR1は酸素原子若しくは窒素原子を介して結合し
たエノル、エナミン又はエンヒドラジンラジカルであり
;R2は非置換若しくはアルキル基、アルケニル基、ア
ルコキシ基、シクロアルキル基、アリール基、アラルキ
ル基、トリアルコキシシリル基、トリアルキルシリル基
、R6SO2一又はハロゲン原子で置換されたシクロペ
ンタジエニル基又はインデニル基であり、Yは炭素原子
,Si又はS i −0−S i R 3R a−、R
,及びR4は、互いに独立して水素原子、直鎖状又は分
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くは炭素数1〜4のアルキル基で置換されたシクロアル
キル基若しくはシクロアルケニル基、又はアリール基、
アラルキル基、アルカリール基、アルカラルキル基、ア
ラルケニル基又はアルカラルケニル基、あるいはR,及
びR4は、一緒になって非置換若しく.は−CN,−F
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ルチオ基又は炭素数1〜12のアルコキシ基で置換され
た−C ,H 2++(nは3ないし7)であり、R,
は非置換若しくは炭素数1〜l2のアルキル基、炭素数
1〜12のアルコキシ基、炭素数1〜l2のアルキルチ
オ基、シアノ基、第二級アミノ基、第二級アミノカルボ
ニル基、弗素原子、炭素数6〜IOのアリール基、R
a S O x−、炭素数1〜l2のアルコキシメチル
基、炭素数l〜12のアルキルチオメチル基、第二級ア
ミノメチル基若しくは第二級アミノカルボニルメチル基
で置換されたアリール基、ヘテロアリール基、アラルキ
ル基又はヘテロアリールアルキル基、又は炭素数1〜1
2のアルキル基、炭素数2〜l2のアルケニル基、炭素
数2〜12のアルキニル基、炭素数3〜8のシクロアル
キル基又は炭素数3〜8のシクロアルケニル基であり、
C(1)及びC(2)は、主として対掌異性体又はジア
ステレオ異性体の形態における、キラルな炭素原子であ
る)に関する. Yが炭素原子である場合、これもキラルであり得る、こ
の場合にはジアステレオ異性体が生成する. R.は、カルポニル化合物及びイミノ化合物に変換し得
る基である. アルキル基として、R1は好適にはlないし18、特に
好適には1ないし12、更に特に好適には1ないし6の
炭素原子を含む.例としては、メチル基、エチル基、プ
ロビル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘブチ
ル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基
、ドデシル基、トリデシル基、テトラデシル基、ペンタ
デシル基、ヘキサデシル基、ヘブタデシル基及びオクタ
デシル基の各種異性体が挙げられる. アルケニル基として、R1は、好適には2ないし12、
特に好適には2ないし6の炭素原子を含む.これは、式
(C −H x−+)−C .H 2−のアルケニルア
ルキル基である、但しnは2ないし12、好適には2な
いし6の整数であり、mはlないし6、好適には1又は
2の整数、又は好適には、アルキル基に1ないしlOの
炭素原子を有するアルキルビニル基の何れかである.具
体例として、アリル基、1−メチルアリル基、2−メチ
ルアリル基、ブタ−2−エンー4−イル基、 ブタ−1
−エンー3−イル基、ペンター3−エンー5−イル基、
ペンター3−エンー5−イル基、ベンター1一エンー3
−イル基、ヘキサー4−エンー6−イル基、ヘキサー2
−エン−4−イル基、ヘブタ−2−エンー1−イル基、
ヘブタ−3−エンー5−イル基、オクター6−エンー8
−イル基、オクター2−エンー4−イル基、ノナー2−
エン−2−イル基、デセー8−エンー10−イル基、ド
デセー3−エン12−イル基、ビニル基、クロトニル基
、n−ブターl一エンー1−イル基、ブタ−2−エンー
3−イル基、ペンター1−エンー2−イル基及びヘキサ
ーl一エン1−イル基が挙げられる.R,は好適にはビ
ニル基又はアリル基である.R1は、特に好適にはアリ
ル基である. アルキニル基として、R1は、好適には2ないし12、
特に好適には2ないし6個の炭素原子を含む.アルキニ
ル基は、炭素鎖中又は末端の何れかに位置することがで
きる.具体例としては、エチニル基、プロパー2−イン
−3−イル基、ペンタ2−イン−4−イル基、ベンター
1−イン−5−イル基及びヘキサー1−イン−6−イル
基が挙げられる.エチニル基及びプロバルギル基が好ま
しい.シクロアルキル基又はシクロアルケニル基として
、R1は、好適には3ないし8、特に好適には3ないし
6、更に特に好適には5又は6個の環炭素原子を含み、
これらは炭素数1〜4のアルキル基で置換されてもよい
.具体例としては、シクロプロビル基、シクロブチル基
、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロへブチ
ル基、シクロオクチル基、シクロデシル基、シクロドデ
シル基、シクロブロペニル基、シクロブテニル基、シク
ロペンタ−l一エンー3−イル基、シクロペンタ−1−
エンー1−イル基、シクロヘキサ−1−エンー3−イル
、シクロヘキサ−1−エンー3−イル、シクロヘキサー
2−エン1イル、シクロへブタ−1一エンー3−イル、
シクロオクタ−1−エンー3−イル基及び4−メチルシ
クロヘキサ−1−エン−3−イル基が挙げられる.アリ
ール基として、R,は、好適には6ないし12個の炭素
原子を含み、好適にはナフチル基及び特に好適にはフェ
ニル基である. アルカリール基として、R1は、好適にはフないし16
個の炭素原子を含む.このうちの.アリル基としては、
好適にはフェニル基である.具体例としては、メチルフ
エニル基、ジメチルフエニル基、エチルフエニル基、
n−プロビルフエニル基、イソプロビルフェニル基、n
−、イソー及びt−プチルフェニル基、ジーし−プチル
フェニル基、ヘキシルフェニル基、オクチルフェニル基
及びデシルフェニル基が挙げられる. アラルキル基として、R.は、好適にはフないしl6、
特に好適にはフないし10個の炭素原子を含む.このう
ちのアリール基としては、好適にはフェニル基である.
具体例としては、ベンジル基、l−フェニルエチル基、
2−フェニルエチル基、l−フェニルブ口ビル基、2−
フエニルプロビル基、フエニルブチル基、フエニルペン
チル基及びフエニルヘキシル基が挙げられる.ベンジル
基及びlフェニルエチル基又は2−フエニルエチル基が
好ましい. アルカラルキル基として、R1は、好適には8ないし1
6個の炭素原子を含む.このうちのアリル基としては好
適にはフエニル基である.具体例としては、メチルベン
ジル基、エチルベンジル基、n−プロビルベンジル基、
イソブロビルベンジル基、ジメチルベンジル基,n−、
イソー又はしプチルベンジル基、ジーL−プチルベンジ
ル基、ヘキシルベンジル基、ノニルベンジル基、 1−
メチルフェニルエター2−イル基、2−メチルフェニル
エター2−イル基及び 1−メチルフェニルプロパー3
イル基が挙げられる. アラルケニル基として、R,は、好適には8ないし16
の炭素原子を含む.このうちのアリール基としては好適
にはフェニル基である.具体例としては、フェニルビニ
ル基、l−フエニルブロバーlエンー3−イル基、 2
−フエニルブロバー2−エンー1−イル基、3−フエニ
ルブロバーl一エンー3−イル基、フェニルブテニル基
、フェニルペンテニル基又はフエニルヘキセニル基が挙
げられる。
アルカラルケニル基として、Rlは、好適には9ないし
16個の炭素原子を含む.このうちのアリール基として
は好適にはフエニル基である.具体例としては、メチル
フエニルビニル基、エチルフェニルビニル基、ジメチル
フエニルビニル基、1−メチルフェニルプロパー2−エ
ンー3−イル基及び 2−メチルフェニルブロバー2−
エンー3−イル基が挙げられる. アラルキニル基として、R1は、好適には8ないし16
個の炭素原子を含む.このうちのアリール基としては好
適にはフェニル基である。具体例としては、フェニルエ
チニル基、フェニルプロビニル基及び 1−フェニルブ
タ−3−イン−4−イル基が挙げられる. アルカラルキニル基として、Rlは、好適には9ないし
16個の炭素原子を含む.このうちのアリール基として
は好適にはフェニル基である.具体例としては、メチル
フエニルエチニル基及びメチルフエニルブロバルギル基
が挙げられる.ラジカルR1の例は、−C H tP
(0 )(O R 6)2、メチル基、エチル基、ビニ
ル基、アリル基、クロチル基及び置換したアリル基、例
えば C H x C H =C H − P ( C a
H s ) t、C H(S O*Rs)C H=C
H−S i (Rll)3、C[OS i (R6)3
]−C(CH.)一CH−CH.、CN C H ”C H−S O 2 R a、−C H.
−C H=C H−O R’である.Rsは上記と同義
である。R゜の例は炭素数1〜8のアルキル基又は−S
i (R.)lである.エノールラジカルR1は、エ
ノールの酸素原子を介して金属Meと結合する.直鎖又
は環状のエノールが可能である.エノールラジカルR,
は、好適には20以下、特に好適には2ないし16個の
炭素原子を含む.環状エノール類は、3ないし8、特に
4ないし6個の環原子を含み、環はC10、S及びNか
らなる群の原子によって形成されることが可能である.
エノールラジカルR,は、0−C=C−R. R,は、例えば水素原子、又は置換若しくは非置換の炭
素数1〜8のアルキル基、炭素数1〜8のアルコキシ基
、炭素数1〜8のアルキルチオ基、3ないし6個の環炭
素原子を有するシクロアルキル基、フェニル基、ベンジ
ル基、フェノキシ基、フェニルチオ基、ペンジルオキシ
基、ペンジルチオ基、第二級アミノ基、 −OB [0−(炭素数1〜8のアルキル)]2、−0
3 n (R + +)s、但しR.は炭素数1〜8
のアルキル基、フエニル基又はベンジル基、 −0 T i (R 1+)a、−0Li又は一〇Si
(Ra)iである,R.0及びRaは、独立して水素原
子、弗素原子、又は置換若しくは非置換の炭素数1〜8
のアルキル基、炭素数1〜8のアルコキシ基、炭素数1
〜8のアルキルチオ基、3ないし6個の環状炭素原子を
有するシクロアルキル基、フェニル基、ベンジル基、フ
ェノキシ基、フェニルチオ基、ペンジルオキシ基、ペン
ジルチオ基、第二級アミノ基又は−O S l (R
a)3である.ROとしての適当な置換基はRlとして
挙げた置換基である.第二級アミノ基は、炭素数1〜8
のアルキル基、フェニル基、ベンジル基又は(RJaS
i基を含むことができる.好適には、C.O,S%SL
及びNからなる群からの4ないし6個の環状原子を含む
第二級アミノ基も可能である。R9及びR,。、又はR
。及びR8は、それぞれ、それらが結合している炭素原
子と一緒になって、3員環ないし8員環、好適には4員
環ないし6員環の炭素環又は炭素環を形成し、複素環は
C10、S及びNからなる群の原子を含むことができる
.環は、上記のR1に定義した基で置換されてもよい.
好適な基は、R.が炭素数1〜8のアルコキシ基である
エステルーエノレートによって形成される.その他の好
?−C = C−Rl■ を有するグリシン誘導体のエノールによって形成される
. Rl3は、例えばベンジル基、フェニル基又は炭素数1
〜8のアルキル基である@Rl4及びR1,は、炭素数
1〜8のアルキル基、フエニル基又はベンジル基であり
、又は窒素原子と一緒になって、更にO%S又はNより
なる群からのへテロ原子を含み得る複素環構造を形成す
ることができる.?l3及びR14は、一緒になって、
メチレン基又はエチレン基であり得る.R1,及びR1
■は脱離可能な保護基、例えば(Ra)isi一又はS
x (R s)zc H 2C H 2S i (R
6)z−であり得る.R13、RI4及びR1■は、
上記のR1に定義した如く置換され得る.その他の好適
な基は式0−C = c−Rs のエノールラジカ
ルによって形成され、式中R8及びRI3は上記に定義
した基である. Rtは、窒素原子を介して金属Meに結合するエナミン
又はエンヒドラジンのラジカルであり得る.好適には、
20以下、特に好適には2ないし16個の炭素原子を含
む直鎖又は環状のエナミン又はエンヒドラジンが可能で
ある.環状のエナミン及びエンヒドラジンは、3ないし
8、特に4ないし6個の環状原子を含有し、環はC10
、S及びNよりなる群からの原子を含み得る.エナミン
基の窒素原子は、好適には炭素数1〜8のアルキル基、
フェニル基、ベンジル基又は保護基、例えば(R6)s
Si一で置換されてもよい.エナミンラジカル又はエン
ヒドラジンラジカルN− C= C−Ra を有し、R9、Rlo及びRいは、上記のエノールラヂ
カルR1で定義したものである.R.及びR15は、C
−N−基と一緒になり、又はR1。及びRl#flは、
N−C=C一基と一緒になって、3員環ないし8員環、
好適には4員環ないし6員環の複素環構造を形成する、
この複素環は更にO,S及びNよりなる群からのへテロ
原子を含んでもよく、R+sは水素原子、炭素数1〜8
のアルキル基、フェニル基、ベンジル基、炭素数1〜8
のアルコキシ基、フエノキシ基、ベンジルオキシ基、(
R6)isi−又はNR+sR+tであり、R6は上記
に定義したものと同義であり、RIM及びRl,は水素
原子、炭素数1〜8のアルキル基、フェニル基又はベン
ジル基である.R,が水素原子、炭素数1〜8のアルキ
ル基又はフェニル基、Rlo及・びR8が水素原子であ
るのが好ましい.エノール、エナミン及びエンヒドラジ
ンのラジカルは、アルドール反応をなし得る炭素求核試
薬である。
16個の炭素原子を含む.このうちのアリール基として
は好適にはフエニル基である.具体例としては、メチル
フエニルビニル基、エチルフェニルビニル基、ジメチル
フエニルビニル基、1−メチルフェニルプロパー2−エ
ンー3−イル基及び 2−メチルフェニルブロバー2−
エンー3−イル基が挙げられる. アラルキニル基として、R1は、好適には8ないし16
個の炭素原子を含む.このうちのアリール基としては好
適にはフェニル基である。具体例としては、フェニルエ
チニル基、フェニルプロビニル基及び 1−フェニルブ
タ−3−イン−4−イル基が挙げられる. アルカラルキニル基として、Rlは、好適には9ないし
16個の炭素原子を含む.このうちのアリール基として
は好適にはフェニル基である.具体例としては、メチル
フエニルエチニル基及びメチルフエニルブロバルギル基
が挙げられる.ラジカルR1の例は、−C H tP
(0 )(O R 6)2、メチル基、エチル基、ビニ
ル基、アリル基、クロチル基及び置換したアリル基、例
えば C H x C H =C H − P ( C a
H s ) t、C H(S O*Rs)C H=C
H−S i (Rll)3、C[OS i (R6)3
]−C(CH.)一CH−CH.、CN C H ”C H−S O 2 R a、−C H.
−C H=C H−O R’である.Rsは上記と同義
である。R゜の例は炭素数1〜8のアルキル基又は−S
i (R.)lである.エノールラジカルR1は、エ
ノールの酸素原子を介して金属Meと結合する.直鎖又
は環状のエノールが可能である.エノールラジカルR,
は、好適には20以下、特に好適には2ないし16個の
炭素原子を含む.環状エノール類は、3ないし8、特に
4ないし6個の環原子を含み、環はC10、S及びNか
らなる群の原子によって形成されることが可能である.
エノールラジカルR,は、0−C=C−R. R,は、例えば水素原子、又は置換若しくは非置換の炭
素数1〜8のアルキル基、炭素数1〜8のアルコキシ基
、炭素数1〜8のアルキルチオ基、3ないし6個の環炭
素原子を有するシクロアルキル基、フェニル基、ベンジ
ル基、フェノキシ基、フェニルチオ基、ペンジルオキシ
基、ペンジルチオ基、第二級アミノ基、 −OB [0−(炭素数1〜8のアルキル)]2、−0
3 n (R + +)s、但しR.は炭素数1〜8
のアルキル基、フエニル基又はベンジル基、 −0 T i (R 1+)a、−0Li又は一〇Si
(Ra)iである,R.0及びRaは、独立して水素原
子、弗素原子、又は置換若しくは非置換の炭素数1〜8
のアルキル基、炭素数1〜8のアルコキシ基、炭素数1
〜8のアルキルチオ基、3ないし6個の環状炭素原子を
有するシクロアルキル基、フェニル基、ベンジル基、フ
ェノキシ基、フェニルチオ基、ペンジルオキシ基、ペン
ジルチオ基、第二級アミノ基又は−O S l (R
a)3である.ROとしての適当な置換基はRlとして
挙げた置換基である.第二級アミノ基は、炭素数1〜8
のアルキル基、フェニル基、ベンジル基又は(RJaS
i基を含むことができる.好適には、C.O,S%SL
及びNからなる群からの4ないし6個の環状原子を含む
第二級アミノ基も可能である。R9及びR,。、又はR
。及びR8は、それぞれ、それらが結合している炭素原
子と一緒になって、3員環ないし8員環、好適には4員
環ないし6員環の炭素環又は炭素環を形成し、複素環は
C10、S及びNからなる群の原子を含むことができる
.環は、上記のR1に定義した基で置換されてもよい.
好適な基は、R.が炭素数1〜8のアルコキシ基である
エステルーエノレートによって形成される.その他の好
?−C = C−Rl■ を有するグリシン誘導体のエノールによって形成される
. Rl3は、例えばベンジル基、フェニル基又は炭素数1
〜8のアルキル基である@Rl4及びR1,は、炭素数
1〜8のアルキル基、フエニル基又はベンジル基であり
、又は窒素原子と一緒になって、更にO%S又はNより
なる群からのへテロ原子を含み得る複素環構造を形成す
ることができる.?l3及びR14は、一緒になって、
メチレン基又はエチレン基であり得る.R1,及びR1
■は脱離可能な保護基、例えば(Ra)isi一又はS
x (R s)zc H 2C H 2S i (R
6)z−であり得る.R13、RI4及びR1■は、
上記のR1に定義した如く置換され得る.その他の好適
な基は式0−C = c−Rs のエノールラジカ
ルによって形成され、式中R8及びRI3は上記に定義
した基である. Rtは、窒素原子を介して金属Meに結合するエナミン
又はエンヒドラジンのラジカルであり得る.好適には、
20以下、特に好適には2ないし16個の炭素原子を含
む直鎖又は環状のエナミン又はエンヒドラジンが可能で
ある.環状のエナミン及びエンヒドラジンは、3ないし
8、特に4ないし6個の環状原子を含有し、環はC10
、S及びNよりなる群からの原子を含み得る.エナミン
基の窒素原子は、好適には炭素数1〜8のアルキル基、
フェニル基、ベンジル基又は保護基、例えば(R6)s
Si一で置換されてもよい.エナミンラジカル又はエン
ヒドラジンラジカルN− C= C−Ra を有し、R9、Rlo及びRいは、上記のエノールラヂ
カルR1で定義したものである.R.及びR15は、C
−N−基と一緒になり、又はR1。及びRl#flは、
N−C=C一基と一緒になって、3員環ないし8員環、
好適には4員環ないし6員環の複素環構造を形成する、
この複素環は更にO,S及びNよりなる群からのへテロ
原子を含んでもよく、R+sは水素原子、炭素数1〜8
のアルキル基、フェニル基、ベンジル基、炭素数1〜8
のアルコキシ基、フエノキシ基、ベンジルオキシ基、(
R6)isi−又はNR+sR+tであり、R6は上記
に定義したものと同義であり、RIM及びRl,は水素
原子、炭素数1〜8のアルキル基、フェニル基又はベン
ジル基である.R,が水素原子、炭素数1〜8のアルキ
ル基又はフェニル基、Rlo及・びR8が水素原子であ
るのが好ましい.エノール、エナミン及びエンヒドラジ
ンのラジカルは、アルドール反応をなし得る炭素求核試
薬である。
エノールのラジカルとして、R,は特に、16以下の炭
素原子、とりわけ4ないし16個の炭素原子を含むケト
ンーエノレートであり得る.これらのエノレートは、β
−ケトアルデヒド、1.3ジケトン、β−ケトカルポン
酸エステル及びβ−ケトカルボキサミドから誘導され得
る.エステル基は、好適には脂肪族の炭素数1〜6のア
ルコール類のラジカルを含む.アミド基の窒素原子は、
好適には炭素数1〜6のアルキル基による一置換又は二
置換体であり得る.具体例としては、β−ケトブチルア
ルデヒド、アセチルアセトン、ペンゾイルアセトン、ア
セト酢酸エチル及びアセトアセタミドが挙げられる. ラジカルR1は、一置換又は多置換、好適には一置換な
いし三置換、特に好適には一置換又は二置換体である.
置換基がアルコキシ基又はアルキルチオ基である場合、
■ないし6個の炭素原子を含むのが好ましい.R7は、
好適には1ないし6個の炭素原子を含む脂肪族のアルコ
ールのラジカルである.適切な例は、脂肪族又は脂環式
のアルコールのラジカルである.具体例として、メトキ
シ基、エトキシ基、 n−ブロボキシ基、イソプロボキ
シ基、n−、イソー及びし−ブトキシ基、ベントキシ基
、ヘキシルオキシ基、シクロベンチルオキシ基及びシク
ロへキシルオキシ基が挙げられる.アルキル基として、
Raは、好適にはlないし6個の炭素原子、特に好適に
はlないし4個の炭素原子を含む.アルコキシ基、アル
キルチオ基、一S−(炭素数2〜4のアルキレン)−S
−及び一〇(炭素数2〜4のアルキレン)−0一基は、
炭素原子と結合することができ ; これらはアセター
ル基又はケタール基である. 置換基を有する場合、第二級アミノ基は式−N R +
sR 1mを有し、式中R +a及びR+sは、炭素数
1〜12のアルキル基、好適には炭素数1〜6のアルキ
ル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、フェニル
基、ベンジル基又は(R6)JSiであり、又はRlM
及びRlGは、一緒になって、炭素数3〜6のアルキレ
ン基、3−オキサベンチレン基又はーS i (Rll
)2−(炭素数2〜3のアルキレン)Si(R6)x−
であり、R6は上記に定義したものと同義である. 好適な下位の基として、R.は直鎖又は分岐状の炭素数
1〜12のアルキル基、炭素数2〜12のアルケニル基
、炭素数2〜12のアルキニル基、3ないし8個の環状
炭素原子を有するシクロアルキル基若しくはシクロアル
ケニル基、炭素数6〜l2のアリール基、炭素数7〜l
6のアルカリル基、炭素数7〜l6のアラルキル基、炭
素数8〜l6のアルカラルキル基、炭素数8〜l6のア
ラルケニル基、炭素数9〜l6のアルカラルケニル基、
炭素数8〜l6のアラルキニル基又は炭素数9〜l6の
アルカラルキニル基であり、その各々は、非置換又は第
二級アミノ基、シアノ基、ニトロ基、炭素数1〜6のア
ルキルチオ基、炭素数1〜6のアルコキシ基若しくは一
CORt (R7は炭素数1〜12のアルコキシ基)の
一置換又は多置換体であ9;又はR,はエノールの酸素
原子又はエナミンの窒素原子を介して結合したエノール
、エナミン又はエンヒドラジンのラジカルである.その
他の好適な下位の基として、R1は直鎖又は分岐状の炭
素数1〜6のアルキル基、炭素数2〜6のアルケニル基
、炭素数2〜6のアルキニル基、3ないし61!!iの
環状炭素原子を有するシクロアルキル基若しくはシクロ
アルケニル基、フェニル基、(炭素数1〜10のアルキ
ル)一フェニル基、フェニル−(炭素数1〜2のアルキ
ル)基、(炭素数1〜8のアルキル)一フェニルー(炭
素数1〜2のアルキル)基、フエニルビニル基、フェニ
ルエチニル基又はフェニルブロバギル基、(炭素数1〜
8のアルキル)一フェニルビニル基、(炭素数1〜8の
アルキル)一フェニルエチニル基又は(炭素数1〜7の
アルキル)一フエニルブロバルギル基であり、その各々
は、非置換又は第二級アミノ基、シアノ基、ニトロ基、
炭素数1〜6のアルコキシ基、炭素数1〜6のアルキル
チオ基又は一COR7(式中、R7は炭素数1〜l2の
アルコキシ基)の一置換又は多置換体であり;又はR1
は20以下の炭素原子を有し、エノールの酸素原子又は
エナミンの窒素原子を介して結合したエノール、エナミ
ン又はエンヒドラジンのラジカルである. R1として、特に好適には、メチル基、エチル基、ビニ
ル基、フリル基、クロトニル基、エチニル基、プロバル
ギル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロ
ペンテニル基、シクロへキセニル基、フェニル基、メチ
ルフェニル基、ベンジル基,1−フェニルエタ−2−イ
ル基、メチルベンジル基、フエニルビニル基、メチルフ
エニルビニル基、フェニルエチニル基、フエニルブロバ
ルギル基、メチルフェニルエチニル基、ジメチルフエニ
ルエチニル基又はジメチルフエニルブロバルギル基であ
り、その各々は、非置換又は第二級アミノ基、シアノ基
、ニトロ基、炭素数1〜6のアルコキシ基、炭素数1〜
6のアルキルチオ基又はC O R t (式中、R7
は炭素数1〜12のアルコキシ基である)の一置換又は
多置換であり;又はR,は、2ないし16個の炭素原子
を有し、エノールの酸素原子又はエナミンの窒素原子を
介して結合したエノール、エナミン又はエンヒドラジン
のラジカルである. 特に、R1は、メチル基、エチル基、アリル基又は第二
級アミノ基で置換され得るエステルーエノレートのラジ
カルである. R2がシクロペンタジエニル基又はインデニル基である
場合、例えば1ないし5,あるいはl又は2の置換基で
置換され得る.適当な置換基の例としては、好適にはl
ないし6lIl1の炭素原子を有するアルキル基、好適
には2ないし6個の炭素原子を有するアルケニル基、好
適には1ないし6個の炭素原子を有するアルコキシ基、
好適には5又は6個の環状炭素原子を有するシクロアル
キル基、好適には6ないし12個の炭素原子を有するア
リル基、好適にはフないし13個の炭素原子を有するア
ラルキル基、好適にはアルコキシ基中に1ないし6個の
炭素原子を有するトリアルコキシシリル基、好適にはア
ルキル基中に1ないし6個の炭素原子を有するトリアル
キルシリル基、好適にはF,Cl若しくはBrであるハ
ロゲン原子、又はRa−sOa− (式中、R6は、
好適にはフエニル基、トリル基、ベンジル基又は炭素数
1〜6のアルキル基である)が挙げられる.アリール基
は、特にフエニル基が好適であり、アラルキル基は、特
にベンジル基が好適である. Meがチタンである場合、シクロペンタジエニル基又は
インデニル基としてのR2は、好適には非置換又は1な
いし5、特に1,2又は3個の置換基を含む,Meがジ
ルコニウム又はハフニウムである場合、シクロペンタジ
エニル基又はインデニル基としてのR2は、3ないし5
個の置換基、特にメチル基又はトリアルキルシリル基を
含む。
素原子、とりわけ4ないし16個の炭素原子を含むケト
ンーエノレートであり得る.これらのエノレートは、β
−ケトアルデヒド、1.3ジケトン、β−ケトカルポン
酸エステル及びβ−ケトカルボキサミドから誘導され得
る.エステル基は、好適には脂肪族の炭素数1〜6のア
ルコール類のラジカルを含む.アミド基の窒素原子は、
好適には炭素数1〜6のアルキル基による一置換又は二
置換体であり得る.具体例としては、β−ケトブチルア
ルデヒド、アセチルアセトン、ペンゾイルアセトン、ア
セト酢酸エチル及びアセトアセタミドが挙げられる. ラジカルR1は、一置換又は多置換、好適には一置換な
いし三置換、特に好適には一置換又は二置換体である.
置換基がアルコキシ基又はアルキルチオ基である場合、
■ないし6個の炭素原子を含むのが好ましい.R7は、
好適には1ないし6個の炭素原子を含む脂肪族のアルコ
ールのラジカルである.適切な例は、脂肪族又は脂環式
のアルコールのラジカルである.具体例として、メトキ
シ基、エトキシ基、 n−ブロボキシ基、イソプロボキ
シ基、n−、イソー及びし−ブトキシ基、ベントキシ基
、ヘキシルオキシ基、シクロベンチルオキシ基及びシク
ロへキシルオキシ基が挙げられる.アルキル基として、
Raは、好適にはlないし6個の炭素原子、特に好適に
はlないし4個の炭素原子を含む.アルコキシ基、アル
キルチオ基、一S−(炭素数2〜4のアルキレン)−S
−及び一〇(炭素数2〜4のアルキレン)−0一基は、
炭素原子と結合することができ ; これらはアセター
ル基又はケタール基である. 置換基を有する場合、第二級アミノ基は式−N R +
sR 1mを有し、式中R +a及びR+sは、炭素数
1〜12のアルキル基、好適には炭素数1〜6のアルキ
ル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、フェニル
基、ベンジル基又は(R6)JSiであり、又はRlM
及びRlGは、一緒になって、炭素数3〜6のアルキレ
ン基、3−オキサベンチレン基又はーS i (Rll
)2−(炭素数2〜3のアルキレン)Si(R6)x−
であり、R6は上記に定義したものと同義である. 好適な下位の基として、R.は直鎖又は分岐状の炭素数
1〜12のアルキル基、炭素数2〜12のアルケニル基
、炭素数2〜12のアルキニル基、3ないし8個の環状
炭素原子を有するシクロアルキル基若しくはシクロアル
ケニル基、炭素数6〜l2のアリール基、炭素数7〜l
6のアルカリル基、炭素数7〜l6のアラルキル基、炭
素数8〜l6のアルカラルキル基、炭素数8〜l6のア
ラルケニル基、炭素数9〜l6のアルカラルケニル基、
炭素数8〜l6のアラルキニル基又は炭素数9〜l6の
アルカラルキニル基であり、その各々は、非置換又は第
二級アミノ基、シアノ基、ニトロ基、炭素数1〜6のア
ルキルチオ基、炭素数1〜6のアルコキシ基若しくは一
CORt (R7は炭素数1〜12のアルコキシ基)の
一置換又は多置換体であ9;又はR,はエノールの酸素
原子又はエナミンの窒素原子を介して結合したエノール
、エナミン又はエンヒドラジンのラジカルである.その
他の好適な下位の基として、R1は直鎖又は分岐状の炭
素数1〜6のアルキル基、炭素数2〜6のアルケニル基
、炭素数2〜6のアルキニル基、3ないし61!!iの
環状炭素原子を有するシクロアルキル基若しくはシクロ
アルケニル基、フェニル基、(炭素数1〜10のアルキ
ル)一フェニル基、フェニル−(炭素数1〜2のアルキ
ル)基、(炭素数1〜8のアルキル)一フェニルー(炭
素数1〜2のアルキル)基、フエニルビニル基、フェニ
ルエチニル基又はフェニルブロバギル基、(炭素数1〜
8のアルキル)一フェニルビニル基、(炭素数1〜8の
アルキル)一フェニルエチニル基又は(炭素数1〜7の
アルキル)一フエニルブロバルギル基であり、その各々
は、非置換又は第二級アミノ基、シアノ基、ニトロ基、
炭素数1〜6のアルコキシ基、炭素数1〜6のアルキル
チオ基又は一COR7(式中、R7は炭素数1〜l2の
アルコキシ基)の一置換又は多置換体であり;又はR1
は20以下の炭素原子を有し、エノールの酸素原子又は
エナミンの窒素原子を介して結合したエノール、エナミ
ン又はエンヒドラジンのラジカルである. R1として、特に好適には、メチル基、エチル基、ビニ
ル基、フリル基、クロトニル基、エチニル基、プロバル
ギル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロ
ペンテニル基、シクロへキセニル基、フェニル基、メチ
ルフェニル基、ベンジル基,1−フェニルエタ−2−イ
ル基、メチルベンジル基、フエニルビニル基、メチルフ
エニルビニル基、フェニルエチニル基、フエニルブロバ
ルギル基、メチルフェニルエチニル基、ジメチルフエニ
ルエチニル基又はジメチルフエニルブロバルギル基であ
り、その各々は、非置換又は第二級アミノ基、シアノ基
、ニトロ基、炭素数1〜6のアルコキシ基、炭素数1〜
6のアルキルチオ基又はC O R t (式中、R7
は炭素数1〜12のアルコキシ基である)の一置換又は
多置換であり;又はR,は、2ないし16個の炭素原子
を有し、エノールの酸素原子又はエナミンの窒素原子を
介して結合したエノール、エナミン又はエンヒドラジン
のラジカルである. 特に、R1は、メチル基、エチル基、アリル基又は第二
級アミノ基で置換され得るエステルーエノレートのラジ
カルである. R2がシクロペンタジエニル基又はインデニル基である
場合、例えば1ないし5,あるいはl又は2の置換基で
置換され得る.適当な置換基の例としては、好適にはl
ないし6lIl1の炭素原子を有するアルキル基、好適
には2ないし6個の炭素原子を有するアルケニル基、好
適には1ないし6個の炭素原子を有するアルコキシ基、
好適には5又は6個の環状炭素原子を有するシクロアル
キル基、好適には6ないし12個の炭素原子を有するア
リル基、好適にはフないし13個の炭素原子を有するア
ラルキル基、好適にはアルコキシ基中に1ないし6個の
炭素原子を有するトリアルコキシシリル基、好適にはア
ルキル基中に1ないし6個の炭素原子を有するトリアル
キルシリル基、好適にはF,Cl若しくはBrであるハ
ロゲン原子、又はRa−sOa− (式中、R6は、
好適にはフエニル基、トリル基、ベンジル基又は炭素数
1〜6のアルキル基である)が挙げられる.アリール基
は、特にフエニル基が好適であり、アラルキル基は、特
にベンジル基が好適である. Meがチタンである場合、シクロペンタジエニル基又は
インデニル基としてのR2は、好適には非置換又は1な
いし5、特に1,2又は3個の置換基を含む,Meがジ
ルコニウム又はハフニウムである場合、シクロペンタジ
エニル基又はインデニル基としてのR2は、3ないし5
個の置換基、特にメチル基又はトリアルキルシリル基を
含む。
好適な態様において、R2は、非置換又は炭素数1〜6
のアルキル基、炭素数2〜6のアルケニル基、炭素数1
〜6のアルコキシ基、5又は6個の環状炭素原子を有す
るシクロアルキル基、フエニル基、ベンジル基、アルコ
キシ基中に1ないし6個の炭素原子を有するトリアルコ
キシシリル基、アルキル基中にlないし6個の炭素原子
を有する?リアルキルシリル基、F,CI%Br又はR
.SO■−で置換されたシクロペンタジエニル基又はイ
ンデニル基である。
のアルキル基、炭素数2〜6のアルケニル基、炭素数1
〜6のアルコキシ基、5又は6個の環状炭素原子を有す
るシクロアルキル基、フエニル基、ベンジル基、アルコ
キシ基中に1ないし6個の炭素原子を有するトリアルコ
キシシリル基、アルキル基中にlないし6個の炭素原子
を有する?リアルキルシリル基、F,CI%Br又はR
.SO■−で置換されたシクロペンタジエニル基又はイ
ンデニル基である。
その他の好適な態様において、R2は、非置換又は炭素
数1〜6のアルキル基又はトリメチルシリル基で置換さ
れたシクロペンタジエニル基である. 特に好適には、R2がシクロペンタジエニル基、ペンタ
メチルシクロペンタジエニル基、トリメチルシリルシク
口ペンタジエニル基、ビス(トリメチルシリル)一シク
ロペンタジエニル基又はトリス(トリメチルシリル)一
シクロペンタジエニル基である. R3及びR,が炭化水素ラジカルである場合、それらに
R,と同様な選択性が適用される.R,の例は列挙され
てきた.アルキル基として、R,及びR,は、好適には
lないしl8、特にlないし12、とりわけエないし6
個の炭素原子を含むものが好適である.以下に例として
、メチル基、エチル基、n−プロビル基、イソブロビル
基、n、イソー又はt−ブチル基、ペンチル基、ヘキシ
ル基、ヘブチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、
ウンデシル基、ドデシル基、テトラデシル基、ヘキサデ
シル基、オクタデシル基及びエイコシル基が挙げられる
.メチル基、エチル基、プロビル基及びブチル基は、特
に好適である.シクロアルキル基として、RJ及びR,
は、好適には5又は6個の環状炭素原子を含む.具体例
としては、シクロペンチル基、シクロヘキシル基及びメ
チルシクロヘキシル基が挙げられる,−C,H2.,−
とじて一緒になった場合、R,及びR,は、アルキレン
基中に3ないし7、好適には4ないし6個の炭素原子を
有する直鎖又は分岐状のアルキレン基である.特に好適
なR,及びR,の置換基は、一F、CI,炭素数1〜6
のアルキルチオ基又は炭素数1〜6のアルコキシ基であ
る. 好適な態様において、R,及びR,は、互いに独立して
水素原子、炭素数1〜l2のアルキル基、炭素数2〜l
2のアルケニル基、5又は6個の環状炭素原子を有し、
非置換又は炭素数1〜4のアルキル基で置換されたシク
ロアルキル基若しくはシクロアルケニル基、又はフェニ
ル基、ナフチル基、ベンジル基、(炭素数1〜6のアル
キル)一フェニル基又は(炭素数1〜6のアルキル)一
ベンジル基、又はRユ及びR4は共に一C .H 2,
〜であり、ここでnは4ないし6であり、これらの基は
非置換又は−CN、一F、−Cl1ニトロ基、炭素数1
〜6のアルキルチオ基又は炭素数1〜6のアルコキシ基
で置換されている. その他の好適な態様において、R,及びR4は、互いに
独立して水素原子、炭素数1〜6のアルキル基、例えば
メチル基、エチル基、プロビル基、ブチル基、非置換又
は炭素数1〜4のアルキル基で置換されたシクロペンチ
ル基若しくはシクロヘキシル基、又はフェニル基、ベン
ジル基、(炭素数1〜6のアルキル)一フェニル基又は
(炭素数1〜6のアルキル)一ベンジル基であり、ある
いはR3及びR4は一緒になって、ペンタメチレン基若
しくはテトラメチレン基である. 好適な下位の基は、R3が水素原子であり、R,、又は
RJ及びR,が、上記で定義した炭化水素ラヂカルの一
つである化合物によって形成される.式(I)における
Yは、特に炭素原子である。この炭素原子がキラルであ
る場合、式(I)の化合物はジアステレオ異性体を包含
する,R.,R4Yは、R3R4S iであり得、式中
R3及びR4は好適に炭素数1〜6のアルキル基、特に
好適には炭素数1〜4のアルキル基である.R,R4Y
は、−S i R3R4−0−S i R.R.−でも
あり得(式中、R,及びR4は好適には炭素数1〜4の
アルキル基である). アリール基として、R5は、好適には炭素数6〜10の
アリール基であり、特にフエニル基又はナフチル基であ
る.ヘテロアリール基として、R.は、好適には0、S
及びNよりなる群からのへテロ原子を有する5員環又は
6員環のへテロアリール基である.アラルキル基として
、R,は、好適にはベンジル基又はナフチルメチル基及
びヘテロアリールメチル基であり、ヘテロアリール基は
5又は6員環であり、0、S及びNよりなる群からのへ
テロ原子を含む.ヘテロアリール基の例としては、ビリ
ジル基、フリル基、チオフェニル基及びビロリル基が挙
げられる.置換基のアルキル基、アルコキシ基及びアル
キルチオ基は、好適にはlないし6個の炭素原子を含む
.第二級のアミノ基は、好適にはジー(炭素数1〜4の
アルキル)アミノ基である.第二級アミノカルボニル基
は、特にジ−(炭素数1〜4のアルキルアミノ)一カル
ボニル基である.同様な選択性が、対応する置換された
メチルラジカルに、置換基として適用される.アルキル
基、アルケニル基及びアルキニル基として%R6はR1
に指示された選択性に従う.R5は、好適には炭素数2
〜4のアルケニル基、非置換又は炭素数1〜6のアルキ
ル基若しくは弗素原子で置換された、2−フリル基又は
炭素数6〜10のアリール基である.アリール基は、好
適にはメチルフェニル基、ペンタフルオロフェニル基、
フェニル基又はナフチル基である.R,は、特にブロベ
ニル基、フエニル基、ペンタフルオロフェニル基、メチ
ルフェニル基又はフリル基である. 好適な態様は、R1が直鎖又は分岐状の炭素数1〜4の
アルキル基、炭素数2〜6のアルケニル基、又は3ない
し6個の炭素原子を有し、非置換又は炭素数1〜4のア
ルキル基で置換されたシクロアルキル基若しくはシクロ
アルケニル基、又はR1は、非置換若しくは第二級アミ
ノ基、シアノ基、ニトロ基、炭素数1〜6のアルコキシ
基、炭素数1〜6のアルキルチオ基又は一〇OR,(R
7は炭素数1〜12のアルコキシ基)で置換されたフェ
ニル基、ベンジル基、(炭素数1〜6のアルキル)一フ
ェニル基若しくは(炭素数1〜6のアルキル)一ベンジ
ル基、又はR,は、12以下の炭素原子を有し、エノー
ルの酸素原子又はエナミンの窒素原子を介して結合した
エノール、エナミン若しくはエンヒドラジンのラジカル
であり%R2は、非置換又は炭素数1〜4のアルキル基
又はトリメチルシリル基によって置換されたシクロペン
タジエニル基であり、Yは炭素原子、R3は水素原子又
はR4として定義された基であり、R,は炭素数1〜l
2のアルキル基、フェニル基、ベンジル基、シクロペン
チル基又はシクロヘキシル基、又はR,及びR4は一緒
になって、テトラメチレン基又はペンタメチレン基%
R5は炭素数2〜4のアルケニル基、フェニル基、ペン
タフルオロフェニル基又はフリル基であり、Meは四価
のチタン、ジルコニウム又はハフニウムである、式(I
)の化合物によって構成される. 式(1)におけるC(1)及びC(2)!子は、好適に
はR,R一又はS,S一配置を有する.式(1)におけ
るYがキラルな炭素原子である場合、C(1)及びC(
2)原子は、R,S一又はS,R一配置を有する.特に
好適な態様は、R.が炭素数1〜4アルキル基、アリル
基又は2ないし122の炭素原子を有し、第二級アミノ
基で置換されてもよいエステルーエノレートのラジカル
であり、R2は非置換又はメチル基若しくはトリメチル
シリル基で置換されるシクロペンタジエニル基であり、
R3は水素原子又はR4として定義された基であり、R
4は炭素数1〜6のアルキル基であり、R5はプロペニ
ル基、フエニル基、ペンタフルオロフェニル基又はフリ
ル基であり、Meは四価のチタン、ジルコニウム又はハ
フニウムであり、Yは炭素原子である式(I)の化合物
によって構成される.式(1)の化合物は、不活性の溶
媒及び不活性の気体の存在下、式(■)の化合物 を、式(I[+)の化合物 H,o−Mo (III)と反応させる
ことにより合成される、Rl%R,l、R,、R,、R
5、Me及びYは上記に定義したものと同義であり、2
はアニオン、MωはLiONaO1KO、MgX (E
’, ZnX O, Cd X (E)HgXC)、
CuXO又は第四級アンモニウムである(Xはハロゲン
原子である)。
数1〜6のアルキル基又はトリメチルシリル基で置換さ
れたシクロペンタジエニル基である. 特に好適には、R2がシクロペンタジエニル基、ペンタ
メチルシクロペンタジエニル基、トリメチルシリルシク
口ペンタジエニル基、ビス(トリメチルシリル)一シク
ロペンタジエニル基又はトリス(トリメチルシリル)一
シクロペンタジエニル基である. R3及びR,が炭化水素ラジカルである場合、それらに
R,と同様な選択性が適用される.R,の例は列挙され
てきた.アルキル基として、R,及びR,は、好適には
lないしl8、特にlないし12、とりわけエないし6
個の炭素原子を含むものが好適である.以下に例として
、メチル基、エチル基、n−プロビル基、イソブロビル
基、n、イソー又はt−ブチル基、ペンチル基、ヘキシ
ル基、ヘブチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、
ウンデシル基、ドデシル基、テトラデシル基、ヘキサデ
シル基、オクタデシル基及びエイコシル基が挙げられる
.メチル基、エチル基、プロビル基及びブチル基は、特
に好適である.シクロアルキル基として、RJ及びR,
は、好適には5又は6個の環状炭素原子を含む.具体例
としては、シクロペンチル基、シクロヘキシル基及びメ
チルシクロヘキシル基が挙げられる,−C,H2.,−
とじて一緒になった場合、R,及びR,は、アルキレン
基中に3ないし7、好適には4ないし6個の炭素原子を
有する直鎖又は分岐状のアルキレン基である.特に好適
なR,及びR,の置換基は、一F、CI,炭素数1〜6
のアルキルチオ基又は炭素数1〜6のアルコキシ基であ
る. 好適な態様において、R,及びR,は、互いに独立して
水素原子、炭素数1〜l2のアルキル基、炭素数2〜l
2のアルケニル基、5又は6個の環状炭素原子を有し、
非置換又は炭素数1〜4のアルキル基で置換されたシク
ロアルキル基若しくはシクロアルケニル基、又はフェニ
ル基、ナフチル基、ベンジル基、(炭素数1〜6のアル
キル)一フェニル基又は(炭素数1〜6のアルキル)一
ベンジル基、又はRユ及びR4は共に一C .H 2,
〜であり、ここでnは4ないし6であり、これらの基は
非置換又は−CN、一F、−Cl1ニトロ基、炭素数1
〜6のアルキルチオ基又は炭素数1〜6のアルコキシ基
で置換されている. その他の好適な態様において、R,及びR4は、互いに
独立して水素原子、炭素数1〜6のアルキル基、例えば
メチル基、エチル基、プロビル基、ブチル基、非置換又
は炭素数1〜4のアルキル基で置換されたシクロペンチ
ル基若しくはシクロヘキシル基、又はフェニル基、ベン
ジル基、(炭素数1〜6のアルキル)一フェニル基又は
(炭素数1〜6のアルキル)一ベンジル基であり、ある
いはR3及びR4は一緒になって、ペンタメチレン基若
しくはテトラメチレン基である. 好適な下位の基は、R3が水素原子であり、R,、又は
RJ及びR,が、上記で定義した炭化水素ラヂカルの一
つである化合物によって形成される.式(I)における
Yは、特に炭素原子である。この炭素原子がキラルであ
る場合、式(I)の化合物はジアステレオ異性体を包含
する,R.,R4Yは、R3R4S iであり得、式中
R3及びR4は好適に炭素数1〜6のアルキル基、特に
好適には炭素数1〜4のアルキル基である.R,R4Y
は、−S i R3R4−0−S i R.R.−でも
あり得(式中、R,及びR4は好適には炭素数1〜4の
アルキル基である). アリール基として、R5は、好適には炭素数6〜10の
アリール基であり、特にフエニル基又はナフチル基であ
る.ヘテロアリール基として、R.は、好適には0、S
及びNよりなる群からのへテロ原子を有する5員環又は
6員環のへテロアリール基である.アラルキル基として
、R,は、好適にはベンジル基又はナフチルメチル基及
びヘテロアリールメチル基であり、ヘテロアリール基は
5又は6員環であり、0、S及びNよりなる群からのへ
テロ原子を含む.ヘテロアリール基の例としては、ビリ
ジル基、フリル基、チオフェニル基及びビロリル基が挙
げられる.置換基のアルキル基、アルコキシ基及びアル
キルチオ基は、好適にはlないし6個の炭素原子を含む
.第二級のアミノ基は、好適にはジー(炭素数1〜4の
アルキル)アミノ基である.第二級アミノカルボニル基
は、特にジ−(炭素数1〜4のアルキルアミノ)一カル
ボニル基である.同様な選択性が、対応する置換された
メチルラジカルに、置換基として適用される.アルキル
基、アルケニル基及びアルキニル基として%R6はR1
に指示された選択性に従う.R5は、好適には炭素数2
〜4のアルケニル基、非置換又は炭素数1〜6のアルキ
ル基若しくは弗素原子で置換された、2−フリル基又は
炭素数6〜10のアリール基である.アリール基は、好
適にはメチルフェニル基、ペンタフルオロフェニル基、
フェニル基又はナフチル基である.R,は、特にブロベ
ニル基、フエニル基、ペンタフルオロフェニル基、メチ
ルフェニル基又はフリル基である. 好適な態様は、R1が直鎖又は分岐状の炭素数1〜4の
アルキル基、炭素数2〜6のアルケニル基、又は3ない
し6個の炭素原子を有し、非置換又は炭素数1〜4のア
ルキル基で置換されたシクロアルキル基若しくはシクロ
アルケニル基、又はR1は、非置換若しくは第二級アミ
ノ基、シアノ基、ニトロ基、炭素数1〜6のアルコキシ
基、炭素数1〜6のアルキルチオ基又は一〇OR,(R
7は炭素数1〜12のアルコキシ基)で置換されたフェ
ニル基、ベンジル基、(炭素数1〜6のアルキル)一フ
ェニル基若しくは(炭素数1〜6のアルキル)一ベンジ
ル基、又はR,は、12以下の炭素原子を有し、エノー
ルの酸素原子又はエナミンの窒素原子を介して結合した
エノール、エナミン若しくはエンヒドラジンのラジカル
であり%R2は、非置換又は炭素数1〜4のアルキル基
又はトリメチルシリル基によって置換されたシクロペン
タジエニル基であり、Yは炭素原子、R3は水素原子又
はR4として定義された基であり、R,は炭素数1〜l
2のアルキル基、フェニル基、ベンジル基、シクロペン
チル基又はシクロヘキシル基、又はR,及びR4は一緒
になって、テトラメチレン基又はペンタメチレン基%
R5は炭素数2〜4のアルケニル基、フェニル基、ペン
タフルオロフェニル基又はフリル基であり、Meは四価
のチタン、ジルコニウム又はハフニウムである、式(I
)の化合物によって構成される. 式(1)におけるC(1)及びC(2)!子は、好適に
はR,R一又はS,S一配置を有する.式(1)におけ
るYがキラルな炭素原子である場合、C(1)及びC(
2)原子は、R,S一又はS,R一配置を有する.特に
好適な態様は、R.が炭素数1〜4アルキル基、アリル
基又は2ないし122の炭素原子を有し、第二級アミノ
基で置換されてもよいエステルーエノレートのラジカル
であり、R2は非置換又はメチル基若しくはトリメチル
シリル基で置換されるシクロペンタジエニル基であり、
R3は水素原子又はR4として定義された基であり、R
4は炭素数1〜6のアルキル基であり、R5はプロペニ
ル基、フエニル基、ペンタフルオロフェニル基又はフリ
ル基であり、Meは四価のチタン、ジルコニウム又はハ
フニウムであり、Yは炭素原子である式(I)の化合物
によって構成される.式(1)の化合物は、不活性の溶
媒及び不活性の気体の存在下、式(■)の化合物 を、式(I[+)の化合物 H,o−Mo (III)と反応させる
ことにより合成される、Rl%R,l、R,、R,、R
5、Me及びYは上記に定義したものと同義であり、2
はアニオン、MωはLiONaO1KO、MgX (E
’, ZnX O, Cd X (E)HgXC)、
CuXO又は第四級アンモニウムである(Xはハロゲン
原子である)。
式(III)の基MOにおいて、Xは好適にはC1、B
r又はIである.MΦは、好適には liOMgC l
■、M g B rΦ、Z n C I OsZnB
r Q、CdCI O,CdBr O 又はアルキル基
中に1ないし6個の炭素原子を有するテトラアルキルア
ンモニウムである.特に好適なMOは、MgXの及びl
i(E)である(XはCI、Br又はIである). 適当なアニオンZの例として、PF6(E)−、sbF
,O−、B F . C3−、CF,COO(E)、ス
ルフォン酸エステル(例えば、トシル酸エステル)、及
び特にCU)又はBr θである. 本発明は、また式(n)の化合物に関する.これらの化
合物は、式( R a)M (3 2 3の塩の1モル
を、式(rV) の化合物の1モルと反応させることにより、簡単に合成
される. 式(IV)の化合物は、R.R4Y<で保護された対応
する光学活性の酒石酸エステルから、例えばR5Li又
はR.MgX(式中、XはCI,Br又は■)の、有機
リチウム化合物又はグリニア試薬によって作られる.こ
の製法は、ゼーバッハ(D.Seebach)らによっ
て、ヘルベチカヒミカアクタ(Helv. Chis.
Acta)エ旦、954(1987)に記載されてい
る. 反応は、−78から+100℃、好適には−20から4
0℃の温度で、好適には不活性溶媒、例えば炭化水素類
(トルエン又はキシレン)、又は工−テル類(ジエチル
エーテル、テトラヒド口フラン、ジオキサン又はエチレ
ングリコールジメチルエーテル)中で行なわれる.反応
は、好適には保護気体、例えばアルゴンの雰囲気下、生
成するHZと結合するための塩基性化合物の存在下に行
なわれる.適当な塩基性化合物の例としては、炭酸ナト
リウム及び重炭酸ナトリウムのような炭酸アルカリ金属
、及びアミン、特に第三級アミン、例えばトリエチルア
ミンが挙げられる.その他の適当な塩基は、L i H
,KH,NaH1リチウム第二級アミド(リチウムジイ
ソプロビルアミド)、メチルリチウム、エチルリチウム
、ヘキサメチルジシルアジ化リチウム、ヘキサメチルジ
シルアジ化ナトリウム、ヘキサメチルジシルアジ化カリ
ウム、メチルマグネシウムクロリド又はジエチル亜鉛で
ある.反応液は更に処理することなく、次の段階に使用
することができる.この化合物は、沈殿した塩を濾去し
、溶媒を溜去して単離される.かくして得られた粗生成
物は、精製することなくつぎの段階に使用することがで
きる. 式(1)の化合物の製法は、好適には−78から+40
℃、好適に−20から40℃の温度で、不活性の溶媒中
で行なわれる.適切な溶媒は、特にエチルである.反応
は、保護気体、例えばアルゴン中で行なわれる.沈殿し
た塩は濾去される.生成した粗生成物は、適当な場合に
は、溶媒の溜去後更に処理することなく次の段階に使用
される.本発明の化合物は、ブロキラルなアルデヒド基
、ケト基及び/又はN一置換イミノ基との反応に対する
対掌体選択性試薬としての用途に特に適している.式(
1)におけるC(1)及びC(2)炭素原子のR,R一
又はS,S一配置を選択することによって、対掌異性体
の両者が合成できるのは、特に有利である.この化合物
は、アルドール反応によって、アリル基の変換、及びエ
ノール、エナミン及びエンヒドラジンの基の変換に、特
に適している.本発明は、この使用にも関する.カルボ
ニル化合物は、好適にはプロキラルなアルデヒド及びケ
トンである.高い収率で得られた反応生成物は、キラル
な第二級又は第三級のアルコール又は第二級アミン又は
アミノ酸であり、対掌異性体の一方が大過剰である.医
薬及び農薬の分野においてキラルな活性化合物の合成は
、益々重要になってきている.本発明の化合物は、上記
の活性化合物の合成における対応する中間体の製法、又
はこの型の活性化合物の合成の最終段階でキラルな炭素
原子を有する基の導入に適している.かくして、例えば
昆虫を制御するフエ口モンを、高収率で作ることが可能
である.例として、(+)一イブセノール又は(−)一
イブセノールが挙げられるが、これらは本発明のチタン
錯体を用い欧州特許A第0.254,685号明細書の
方法によって合成される(実施例17参照). 他方、本発明の化合物は、低廉な出発原料から安価な費
用で作ることができる.天然化合物の誘導体のために、
これらは生物学的分解によって環境に無害な方法で処分
できる、特にチタン又は酸化チタンは゛生理学的に許容
されることが知られている. 本発明は、好適にはキラルな第二級及び第三級のアルコ
ール及び第二級のアミン類の製法にも関し、好適にはブ
ロキラルなアルデヒド、ケトン又はN一置換アルジミン
若しくはケチミンを、アルデヒド、ケトン又はイミンの
基の1モルに対して式(1)の化合物の1モルとの反応
を包含する.イミンにおける置換基は、記述のラジカル
であり、例えばアルキル基、アルケーニル基、シクロア
ルキル基、アリール基及びアラルキル基である.これら
のラジカルが、カルボキシル基又はカルボン酸エステル
基で置換されたいる場合、得られた反応生成物は、それ
ぞれアミノ酸又はそれらのエステルである.その他の適
切な置換基としては、R a’S O z一及び好適に
は1ないし8個の炭素原子を有し、弗素原子で置換され
たアシル基が例示される.具体例として、アセチル基、
モノー、ジー及びトリーフルオロアセチル基、ベンゾイ
ル基及びフルオロベンゾイル基が挙げられる.反応は、
−80ないし30℃の温度で、不活性な溶媒の存在下、
保護気体中で有利に行なわれる.反応生成物は、好適に
は加水分解、生成物の抽出及び常法による精製によって
単離される。適切な不活性溶媒の例としては、エーテル
又は炭化水素、例えばベンタン、ヘキサン、シクロヘキ
サン、メチルシクロヘキサン、ベンゼン、トルエン、キ
シレン、ジエチルエーテル、テトラヒド口フラン又はジ
オキサン、ニトリル、例えばアセトニトリル、又は塩素
化炭化水素、例^ば塩化メチレン、クロロホルム若しく
はクロロベンゼンが挙げられる.(実施例) 以下の実施例で、本発明を例示する.Phはフェニル基
、Cpはシクロペンタジエニル基を表す.(4S,5S
)−2−(t−ブチル)−4.5−[ビス(ジフェニル
ヒド口キシメチル)]−2.3−ジオキソラン1.2
5 g (2.5 mmol)を、ジエチルエーテル5
0dに溶解したシクロペンタジエニルチタニウムトリク
ロリド0.5 5 g ( 2.5 +*mol)の溶
液に加えた.この反応溶液にジエチルエーテル10nd
lに溶解したトリエチルアミン0.56g (5.5+
smol)の溶液を、30分間に室温で滴下した.淡黄
色の懸濁液を、更に12時間室温で攪拌し、生成したト
リエチルアミン塩酸塩をアルゴン気流中で吸引濾去して
、エーテル10dで3同洗浄した.かくして得られた反
応溶液は、更に処理することなく次の段階に使用するこ
とができる。錯化合物は、溶媒を減圧溜去することによ
って単離された.二種のヂアステレオ異性体は4:lの
比で生成した. 工kノ11体 ’H−NMRスペクトル(CD2C I 2, 4 0
0MHz): 7.20−7.70 (m,20H,
Ph);6.26 (s,5H,Cp):4.86
(d,J6.5,IH,H−C(4)又はH−C (5
)):4 . 7 9(d,J=6.5,IH,H−
C(5)又はH−C (4 ));3.43 (s,
LH,H−C(2));O.g4 (s,9H,C(
C旦.),) . ”C−NMRスペクトル(CD.C I ., 1
0 0MHz):147.22 (s,Ph);14
6.79(s,Ph);142.83 (s,Ph)
;142.1 ?(s,Ph);l 28.73(d.
Ph);1 28.5 9(d,Ph);1 28.2
4(d,Ph);1 28.0 8(d,Ph);1
27.99(d,Ph);1 2 7.9 2(d,P
h);1 2 7.9 1 (d, Ph);1 2
7.8 9(d,Ph);l 2 7.5 9(d,
Ph):1 2 7−.5 3(d,Ph):1 2
7.4 7(d,Ph);l 2 7.3 3(d,P
h);1 1 7.3 2(d,Cp):1 0 9
.4 2(d,C(2)):9 7.8 8(s,C(
Ph)go):9 7.2 7 (s,C(P h)
20):8 3.8 3 (d.C(4)又はC(5
)):8 0.3 0 (d,C(5)又はC(4))
; 3 5.5 1 (s,C(CHa)3);2
4.7 4(q.C(ΩH .).), 図1日ケ至』目1俸 ’H−NMRスペクトル(C DEC l x, 4
0 0MHz) ; 7.20−7.70 (m
,20H,Ph):6.56.(s,5H,Cp);5
.03 (d,J=7.5,IH,H−C(4)又は
H−C(5));4.7 g(d,J=7.5,IH,
H−C(5)又はH−C (4 ));3.44 (
s, IH,H−C(2));0.61 (s,9
H,C (C H3)3)− 13C−NMRスペクトル(C D2C l a,
1 0 0MHz) ; 146.49 (s,
Ph);14B.45(s, Ph);142.53
(s,Ph);142.06(s,Ph);129
.25 (d,Ph);128.84(d, Ph
);128.63 (d,Ph):128.53(d
, Ph);1 2 8.1 B (d,Ph);
1 2 8.0 7(d, Ph):1 2 7.9
9 (d,Ph);1 2 7.9 2(d,
Ph);1 2 7.8 8 (d,Ph):l 2
7.5 5(d, Ph):1 2 7.4 6
(d,Ph);l 2 7.1 ?(d, Ph
);l l 7.8 0 (d,Cp);l O 9
.8 5(d,C(2)):9 7.5 2 (s,
C(P h)20);97.40 (s,C(Ph)
go);80.83 (d,C(4)又はC(5))
;80.01 (d,C(5)又はC(4):3 5.
3 0 (s.C(CH.).):2 4.3 8(
q,C(旦Ha)a. a)で得られた反応液を0℃に冷却し、塩化アリルマグ
ネシウム(1.2 5Mテトラヒド口フラン溶液) 1
.8m (2.2 5mmol)を、5分間で滴下した
.黄褐色の懸濁液を1時間0℃で攪拌した.かくして得
られた反応液は、更に処理することなく次の段階に使用
した. 叉1l」一 a) 4R5R−22−ジメチル−1 3−ジオキ(
4R,5R)−2.2−ジメチル−4.5− [ビス(
ジフェニルヒド口キシメチル)]−1.3−ジオキソラ
ン1.1 7 g (2.5m+*ol)を、ジエチル
エーテル50艷に溶解したシクロペンタジエニルチタニ
ウムトリクロリド0.5 5 g (2.5 euao
l)の溶液に加えた.この反応溶液に、ジエチルエーテ
ル10艷に溶解したトリエチルアミン0.56g (2
.5mmol)の溶液を、30分間に室温で滴下した.
*黄色の懸濁液を室温で更に12時間攪拌し、生成した
トリエチルアミン塩酸塩をアルゴン気流中で吸引濾去し
、エーテル10−で3回洗浄した.かくして得られた反
応液を、更に処理することなく次の段階に使用した. ’H−NMRスペクトル(CD.C l t. 4 0
0MHz):7.65−7.27 (m,20H,
Ph);6.43 (s,5H,Cr);5.1 B
(d,J=7.0,IH,H−C(4)又はH−C
(5 )):4.95 (d,J=7.0,IH,H−
C(5)又はH−C(4));0.94 (s,3H,
C旦a):0.50( s , 3 H , C H
3)a13C−NMRスペクトル(C DxC l x
. l O OMHz) :148.87 (s
, Ph);146.72(s,Ph):142.8
6 (s,Ph):142.72(s, Ph);
l 2 9.7 5 (d,Ph):1 2 9.0
8(d, Ph);l 2 8.6 0 (d,
Ph);l 2 8.3 6(d, ph);t 2
7.9 9 (d,Ph);l 2 7.9 2(
d,Ph);1 2 7.73 (d,Ph);l
2 7.6 8(d, Ph);l 2 7.5 9
(d,P h);l 2 7.5 7(d, P
h);1 2 7.5 5 (d,Ph);1 2
7.4 9(d,Ph);1 1 7.4 8 (d
,Cp);1 11.7 1(s,C(2)):9 8
.6 5 (s,C(P h)+lo):9 8.0
6 (s, C(P h)to) ; 3 2
, 1 2 (d ,C(4)又はC(5)):8
L.S 7 (d,C(5)又はC(4)):2 7.
8 0(q. ΩHユ);27.00 (q,CH
s)− b) 4R 5R −2−2−ジメチルーl 3−
ジオキソラン−4 5−ビス ジフエニルメトキシ
ーシクロペンタジエニルアリルチタン a)で得られた反応液を2℃に冷却し、塩化アリルマグ
ネシウム(1.2 5Mテトラヒド口フラン溶液) 1
.8wdl (2.2 5mmol)を5分間で滴下し
た.オレンジ色の懸濁液を2℃で1時間攪拌し、アルゴ
ン気流中で吸引濾過した.かくして得られた反応液を更
に処理することなく次の段階に使用した. ’H−NMRスペクトル(C DxC l z.2 5
0MHz):7.85−7.2 7 (m,20H
,Ph);6.15 (s,5H,Cp):5.85
(q u i n t.,J = 1 1.5,H−C
(2’));5.4 0(d,J=7.0,IH,H−
C(4)又はH−C (5 ’)):4.78 (a
,J=7.0,IH,H−C(5)又はC(4));3
.3 6 (d,J=1 1.5,4H,H−C(1
゜),H−C(3゜)):0.72 (s,3H,C旦
,);0.58 (s,3H,C旦ユ). 13C−NMRスペクトル(CD!C I ., 6
2.9MHz):14g.48 (s,Ph);1
47.86(s,Ph);143.85 (s,Ph
):143.35(d,C(2゜));143.23
(s,Ph);129.75 (d,Ph);12
9.08 (d,Ph);1 2 8.8 0 (
d,P h):1 2 8.$8 (d.Ph);1
27.99 (d,Ph);127.92 (d,
Ph);127.73 (d,Ph);127.68
(d,Ph);1 2 7.5 9 (d,P
h);1 2 7.5 7 (d,P h);1 2
7.5 5 (d,P h);1 2 7.4 9
(d,P h);1 1 5.2 5 (d,C
p):l 1 2.1 0 (s,C(2)):9
4.9 5 (s,C(P h)20);8 8.0
3 (t,C(1’).C(3’));8 2.3
0(d,C(4)又はC(5));8 2.2 5(
d,C(5)又はC(4));2 7.6 7(q,Ω
Ha):2 7.6 4(q.ΩH3). 実施例2a)と同様に、出発原料として(4S,5S)
−2.2−ジメチル−4.5− [ビス(ジフェニルヒ
ドロキシメチル)]一ジオキソランを用いて標記の化合
物を合成した. 実施例2b)と同様に、出発原料として [(4S,5
S)−2.2−ジメチル−1.3−ジオキソラン4.5
−ビス(ジフェニルメトキシ)コーシク口ペンタジエニ
ルチタニウムクロリドを用いて標記の化合物を合成した
. 塩化クロチルマグネシウム(LMジエチルエーテル溶液
) l Odl ( 1 0mmol)を、実施例2a
)に準じて合成した [(4R,5R)−2.2−ジメ
チル−1.3−ジオキソラン−4.5−ビス(ジフェニ
ルメトキシ)]一シクロペンタジエニルチタニウムクロ
リド10膳solのジエチノレエーテノレ160一溶液
に−10℃で加えた.同温度で.赤さび色の懸潤色を2
時間攪拌して、アルゴン気流中で濾過した.かくして得
られた反応液は、濃縮又は更に処理することなく次の段
階に使用することができる。
r又はIである.MΦは、好適には liOMgC l
■、M g B rΦ、Z n C I OsZnB
r Q、CdCI O,CdBr O 又はアルキル基
中に1ないし6個の炭素原子を有するテトラアルキルア
ンモニウムである.特に好適なMOは、MgXの及びl
i(E)である(XはCI、Br又はIである). 適当なアニオンZの例として、PF6(E)−、sbF
,O−、B F . C3−、CF,COO(E)、ス
ルフォン酸エステル(例えば、トシル酸エステル)、及
び特にCU)又はBr θである. 本発明は、また式(n)の化合物に関する.これらの化
合物は、式( R a)M (3 2 3の塩の1モル
を、式(rV) の化合物の1モルと反応させることにより、簡単に合成
される. 式(IV)の化合物は、R.R4Y<で保護された対応
する光学活性の酒石酸エステルから、例えばR5Li又
はR.MgX(式中、XはCI,Br又は■)の、有機
リチウム化合物又はグリニア試薬によって作られる.こ
の製法は、ゼーバッハ(D.Seebach)らによっ
て、ヘルベチカヒミカアクタ(Helv. Chis.
Acta)エ旦、954(1987)に記載されてい
る. 反応は、−78から+100℃、好適には−20から4
0℃の温度で、好適には不活性溶媒、例えば炭化水素類
(トルエン又はキシレン)、又は工−テル類(ジエチル
エーテル、テトラヒド口フラン、ジオキサン又はエチレ
ングリコールジメチルエーテル)中で行なわれる.反応
は、好適には保護気体、例えばアルゴンの雰囲気下、生
成するHZと結合するための塩基性化合物の存在下に行
なわれる.適当な塩基性化合物の例としては、炭酸ナト
リウム及び重炭酸ナトリウムのような炭酸アルカリ金属
、及びアミン、特に第三級アミン、例えばトリエチルア
ミンが挙げられる.その他の適当な塩基は、L i H
,KH,NaH1リチウム第二級アミド(リチウムジイ
ソプロビルアミド)、メチルリチウム、エチルリチウム
、ヘキサメチルジシルアジ化リチウム、ヘキサメチルジ
シルアジ化ナトリウム、ヘキサメチルジシルアジ化カリ
ウム、メチルマグネシウムクロリド又はジエチル亜鉛で
ある.反応液は更に処理することなく、次の段階に使用
することができる.この化合物は、沈殿した塩を濾去し
、溶媒を溜去して単離される.かくして得られた粗生成
物は、精製することなくつぎの段階に使用することがで
きる. 式(1)の化合物の製法は、好適には−78から+40
℃、好適に−20から40℃の温度で、不活性の溶媒中
で行なわれる.適切な溶媒は、特にエチルである.反応
は、保護気体、例えばアルゴン中で行なわれる.沈殿し
た塩は濾去される.生成した粗生成物は、適当な場合に
は、溶媒の溜去後更に処理することなく次の段階に使用
される.本発明の化合物は、ブロキラルなアルデヒド基
、ケト基及び/又はN一置換イミノ基との反応に対する
対掌体選択性試薬としての用途に特に適している.式(
1)におけるC(1)及びC(2)炭素原子のR,R一
又はS,S一配置を選択することによって、対掌異性体
の両者が合成できるのは、特に有利である.この化合物
は、アルドール反応によって、アリル基の変換、及びエ
ノール、エナミン及びエンヒドラジンの基の変換に、特
に適している.本発明は、この使用にも関する.カルボ
ニル化合物は、好適にはプロキラルなアルデヒド及びケ
トンである.高い収率で得られた反応生成物は、キラル
な第二級又は第三級のアルコール又は第二級アミン又は
アミノ酸であり、対掌異性体の一方が大過剰である.医
薬及び農薬の分野においてキラルな活性化合物の合成は
、益々重要になってきている.本発明の化合物は、上記
の活性化合物の合成における対応する中間体の製法、又
はこの型の活性化合物の合成の最終段階でキラルな炭素
原子を有する基の導入に適している.かくして、例えば
昆虫を制御するフエ口モンを、高収率で作ることが可能
である.例として、(+)一イブセノール又は(−)一
イブセノールが挙げられるが、これらは本発明のチタン
錯体を用い欧州特許A第0.254,685号明細書の
方法によって合成される(実施例17参照). 他方、本発明の化合物は、低廉な出発原料から安価な費
用で作ることができる.天然化合物の誘導体のために、
これらは生物学的分解によって環境に無害な方法で処分
できる、特にチタン又は酸化チタンは゛生理学的に許容
されることが知られている. 本発明は、好適にはキラルな第二級及び第三級のアルコ
ール及び第二級のアミン類の製法にも関し、好適にはブ
ロキラルなアルデヒド、ケトン又はN一置換アルジミン
若しくはケチミンを、アルデヒド、ケトン又はイミンの
基の1モルに対して式(1)の化合物の1モルとの反応
を包含する.イミンにおける置換基は、記述のラジカル
であり、例えばアルキル基、アルケーニル基、シクロア
ルキル基、アリール基及びアラルキル基である.これら
のラジカルが、カルボキシル基又はカルボン酸エステル
基で置換されたいる場合、得られた反応生成物は、それ
ぞれアミノ酸又はそれらのエステルである.その他の適
切な置換基としては、R a’S O z一及び好適に
は1ないし8個の炭素原子を有し、弗素原子で置換され
たアシル基が例示される.具体例として、アセチル基、
モノー、ジー及びトリーフルオロアセチル基、ベンゾイ
ル基及びフルオロベンゾイル基が挙げられる.反応は、
−80ないし30℃の温度で、不活性な溶媒の存在下、
保護気体中で有利に行なわれる.反応生成物は、好適に
は加水分解、生成物の抽出及び常法による精製によって
単離される。適切な不活性溶媒の例としては、エーテル
又は炭化水素、例えばベンタン、ヘキサン、シクロヘキ
サン、メチルシクロヘキサン、ベンゼン、トルエン、キ
シレン、ジエチルエーテル、テトラヒド口フラン又はジ
オキサン、ニトリル、例えばアセトニトリル、又は塩素
化炭化水素、例^ば塩化メチレン、クロロホルム若しく
はクロロベンゼンが挙げられる.(実施例) 以下の実施例で、本発明を例示する.Phはフェニル基
、Cpはシクロペンタジエニル基を表す.(4S,5S
)−2−(t−ブチル)−4.5−[ビス(ジフェニル
ヒド口キシメチル)]−2.3−ジオキソラン1.2
5 g (2.5 mmol)を、ジエチルエーテル5
0dに溶解したシクロペンタジエニルチタニウムトリク
ロリド0.5 5 g ( 2.5 +*mol)の溶
液に加えた.この反応溶液にジエチルエーテル10nd
lに溶解したトリエチルアミン0.56g (5.5+
smol)の溶液を、30分間に室温で滴下した.淡黄
色の懸濁液を、更に12時間室温で攪拌し、生成したト
リエチルアミン塩酸塩をアルゴン気流中で吸引濾去して
、エーテル10dで3同洗浄した.かくして得られた反
応溶液は、更に処理することなく次の段階に使用するこ
とができる。錯化合物は、溶媒を減圧溜去することによ
って単離された.二種のヂアステレオ異性体は4:lの
比で生成した. 工kノ11体 ’H−NMRスペクトル(CD2C I 2, 4 0
0MHz): 7.20−7.70 (m,20H,
Ph);6.26 (s,5H,Cp):4.86
(d,J6.5,IH,H−C(4)又はH−C (5
)):4 . 7 9(d,J=6.5,IH,H−
C(5)又はH−C (4 ));3.43 (s,
LH,H−C(2));O.g4 (s,9H,C(
C旦.),) . ”C−NMRスペクトル(CD.C I ., 1
0 0MHz):147.22 (s,Ph);14
6.79(s,Ph);142.83 (s,Ph)
;142.1 ?(s,Ph);l 28.73(d.
Ph);1 28.5 9(d,Ph);1 28.2
4(d,Ph);1 28.0 8(d,Ph);1
27.99(d,Ph);1 2 7.9 2(d,P
h);1 2 7.9 1 (d, Ph);1 2
7.8 9(d,Ph);l 2 7.5 9(d,
Ph):1 2 7−.5 3(d,Ph):1 2
7.4 7(d,Ph);l 2 7.3 3(d,P
h);1 1 7.3 2(d,Cp):1 0 9
.4 2(d,C(2)):9 7.8 8(s,C(
Ph)go):9 7.2 7 (s,C(P h)
20):8 3.8 3 (d.C(4)又はC(5
)):8 0.3 0 (d,C(5)又はC(4))
; 3 5.5 1 (s,C(CHa)3);2
4.7 4(q.C(ΩH .).), 図1日ケ至』目1俸 ’H−NMRスペクトル(C DEC l x, 4
0 0MHz) ; 7.20−7.70 (m
,20H,Ph):6.56.(s,5H,Cp);5
.03 (d,J=7.5,IH,H−C(4)又は
H−C(5));4.7 g(d,J=7.5,IH,
H−C(5)又はH−C (4 ));3.44 (
s, IH,H−C(2));0.61 (s,9
H,C (C H3)3)− 13C−NMRスペクトル(C D2C l a,
1 0 0MHz) ; 146.49 (s,
Ph);14B.45(s, Ph);142.53
(s,Ph);142.06(s,Ph);129
.25 (d,Ph);128.84(d, Ph
);128.63 (d,Ph):128.53(d
, Ph);1 2 8.1 B (d,Ph);
1 2 8.0 7(d, Ph):1 2 7.9
9 (d,Ph);1 2 7.9 2(d,
Ph);1 2 7.8 8 (d,Ph):l 2
7.5 5(d, Ph):1 2 7.4 6
(d,Ph);l 2 7.1 ?(d, Ph
);l l 7.8 0 (d,Cp);l O 9
.8 5(d,C(2)):9 7.5 2 (s,
C(P h)20);97.40 (s,C(Ph)
go);80.83 (d,C(4)又はC(5))
;80.01 (d,C(5)又はC(4):3 5.
3 0 (s.C(CH.).):2 4.3 8(
q,C(旦Ha)a. a)で得られた反応液を0℃に冷却し、塩化アリルマグ
ネシウム(1.2 5Mテトラヒド口フラン溶液) 1
.8m (2.2 5mmol)を、5分間で滴下した
.黄褐色の懸濁液を1時間0℃で攪拌した.かくして得
られた反応液は、更に処理することなく次の段階に使用
した. 叉1l」一 a) 4R5R−22−ジメチル−1 3−ジオキ(
4R,5R)−2.2−ジメチル−4.5− [ビス(
ジフェニルヒド口キシメチル)]−1.3−ジオキソラ
ン1.1 7 g (2.5m+*ol)を、ジエチル
エーテル50艷に溶解したシクロペンタジエニルチタニ
ウムトリクロリド0.5 5 g (2.5 euao
l)の溶液に加えた.この反応溶液に、ジエチルエーテ
ル10艷に溶解したトリエチルアミン0.56g (2
.5mmol)の溶液を、30分間に室温で滴下した.
*黄色の懸濁液を室温で更に12時間攪拌し、生成した
トリエチルアミン塩酸塩をアルゴン気流中で吸引濾去し
、エーテル10−で3回洗浄した.かくして得られた反
応液を、更に処理することなく次の段階に使用した. ’H−NMRスペクトル(CD.C l t. 4 0
0MHz):7.65−7.27 (m,20H,
Ph);6.43 (s,5H,Cr);5.1 B
(d,J=7.0,IH,H−C(4)又はH−C
(5 )):4.95 (d,J=7.0,IH,H−
C(5)又はH−C(4));0.94 (s,3H,
C旦a):0.50( s , 3 H , C H
3)a13C−NMRスペクトル(C DxC l x
. l O OMHz) :148.87 (s
, Ph);146.72(s,Ph):142.8
6 (s,Ph):142.72(s, Ph);
l 2 9.7 5 (d,Ph):1 2 9.0
8(d, Ph);l 2 8.6 0 (d,
Ph);l 2 8.3 6(d, ph);t 2
7.9 9 (d,Ph);l 2 7.9 2(
d,Ph);1 2 7.73 (d,Ph);l
2 7.6 8(d, Ph);l 2 7.5 9
(d,P h);l 2 7.5 7(d, P
h);1 2 7.5 5 (d,Ph);1 2
7.4 9(d,Ph);1 1 7.4 8 (d
,Cp);1 11.7 1(s,C(2)):9 8
.6 5 (s,C(P h)+lo):9 8.0
6 (s, C(P h)to) ; 3 2
, 1 2 (d ,C(4)又はC(5)):8
L.S 7 (d,C(5)又はC(4)):2 7.
8 0(q. ΩHユ);27.00 (q,CH
s)− b) 4R 5R −2−2−ジメチルーl 3−
ジオキソラン−4 5−ビス ジフエニルメトキシ
ーシクロペンタジエニルアリルチタン a)で得られた反応液を2℃に冷却し、塩化アリルマグ
ネシウム(1.2 5Mテトラヒド口フラン溶液) 1
.8wdl (2.2 5mmol)を5分間で滴下し
た.オレンジ色の懸濁液を2℃で1時間攪拌し、アルゴ
ン気流中で吸引濾過した.かくして得られた反応液を更
に処理することなく次の段階に使用した. ’H−NMRスペクトル(C DxC l z.2 5
0MHz):7.85−7.2 7 (m,20H
,Ph);6.15 (s,5H,Cp):5.85
(q u i n t.,J = 1 1.5,H−C
(2’));5.4 0(d,J=7.0,IH,H−
C(4)又はH−C (5 ’)):4.78 (a
,J=7.0,IH,H−C(5)又はC(4));3
.3 6 (d,J=1 1.5,4H,H−C(1
゜),H−C(3゜)):0.72 (s,3H,C旦
,);0.58 (s,3H,C旦ユ). 13C−NMRスペクトル(CD!C I ., 6
2.9MHz):14g.48 (s,Ph);1
47.86(s,Ph);143.85 (s,Ph
):143.35(d,C(2゜));143.23
(s,Ph);129.75 (d,Ph);12
9.08 (d,Ph);1 2 8.8 0 (
d,P h):1 2 8.$8 (d.Ph);1
27.99 (d,Ph);127.92 (d,
Ph);127.73 (d,Ph);127.68
(d,Ph);1 2 7.5 9 (d,P
h);1 2 7.5 7 (d,P h);1 2
7.5 5 (d,P h);1 2 7.4 9
(d,P h);1 1 5.2 5 (d,C
p):l 1 2.1 0 (s,C(2)):9
4.9 5 (s,C(P h)20);8 8.0
3 (t,C(1’).C(3’));8 2.3
0(d,C(4)又はC(5));8 2.2 5(
d,C(5)又はC(4));2 7.6 7(q,Ω
Ha):2 7.6 4(q.ΩH3). 実施例2a)と同様に、出発原料として(4S,5S)
−2.2−ジメチル−4.5− [ビス(ジフェニルヒ
ドロキシメチル)]一ジオキソランを用いて標記の化合
物を合成した. 実施例2b)と同様に、出発原料として [(4S,5
S)−2.2−ジメチル−1.3−ジオキソラン4.5
−ビス(ジフェニルメトキシ)コーシク口ペンタジエニ
ルチタニウムクロリドを用いて標記の化合物を合成した
. 塩化クロチルマグネシウム(LMジエチルエーテル溶液
) l Odl ( 1 0mmol)を、実施例2a
)に準じて合成した [(4R,5R)−2.2−ジメ
チル−1.3−ジオキソラン−4.5−ビス(ジフェニ
ルメトキシ)]一シクロペンタジエニルチタニウムクロ
リド10膳solのジエチノレエーテノレ160一溶液
に−10℃で加えた.同温度で.赤さび色の懸潤色を2
時間攪拌して、アルゴン気流中で濾過した.かくして得
られた反応液は、濃縮又は更に処理することなく次の段
階に使用することができる。
’H−NMRスペクトル(CD2C 1 2, 2
5 0MHz):7.65−7.1 5 (m,20H
,Ph):6.08 (s,5H,Cp);5.46
(dtq,J=14.0,8.5,1.5,H−C
(2゜));4.82 (dq,J=14.0,8.
5,H−C(3゜));5.1 1 (d,J=7.0
,IH,H−C(4)又はH−C(5));4.47
(d,J=7.0,IH,HC(5)又はH−C(4
)); 2.26 (dd,J8.5,8.5,H−
C(1’));2.1 ? (dd,J8.5,8.5
,H−C(1’));1.67 (dd,3H,J=8
.5,1.5,H−C(4’));0.68 (s,3
H,C(2)−CH3):0.5 8 (s,3H,C
(2)C H 3 ) 1 3−ジオキソラン n−ブチルリチウムのヘキサン溶液6.2 5td(I
Q +uaol)を、45分間に−78℃で、ジエチ
ルエーテル30一に溶解したプロモベンタフルオ口ベン
ゼン1.2 5d (1 0 一醜o1)の溶液に滴下
し、混合物の温度を室温に上げ、攪拌下、0℃に冷却し
た.この反応液に、ジエチルエーテル20艷に溶解した
(4R,5R)−2.2−ジメチル−1.3−ジオキソ
ラン−4.5−ジカルボン酸ジエチルエステル(10
■鵬of)を徐々に滴下し、混合物を12時間室温で攪
拌し、NH.Cl の飽和溶液を徐々に加え加水分解
した.乳濁液をジエチルエーテル(80mx3)で抽出
し、抽出液をNaC 1の飽和溶液で洗浄し、N a
1 S O 4で乾燥して濃縮した.生成物をフラッシ
ュクロマトグラフィ−(S i Oz8 0 g,エー
テル/ヘキサンl:5)により精製した.収量+4.6
3g(56%).’H−NMRスペクトル(CDIC
l ffi, 2 5 0MHz):5.43 (
s,2H);4.95 (s,2H);1.40 (s
,8.H). b) 4R5R−22−ジメチル−1 3−ジオキソ
ランー4 5−ビス ジペンタフルオ口フェニルメリド 実施例2a)と同様に、但し、出発原料として(4R.
5R)−2.2−ジメチル−[4.5−ビス(ジベンタ
フルオ口フエニルヒドロキシメチル)]1,3−ジオキ
ソランを使用して標記の化合物を合成した. 実施例5b)で得た反応液を、実施例2b)と同様に反
応させ、更に処理することなく次の段階に使用した. キソラン n−ブチルリチウム(1 5 5 mmol)のヘキサ
ン溶液97−をジエチルエ テルl00−で希釈 ?、一20℃に冷却し、フラン11.62艷( 1 6
0 mmol)を10分間に加えた。反応液の温度を
徐々に室温に上げ、次いで4時間加熱還流した.水冷下
、この反応液にエーテル20−に溶解した(4R,5R
)−2.2−ジメチル−1.3−ジオキソラン−4.5
−ジカルボン酸ジエチルエステル9.84g (40
wlIol)を徐々に加え、混合物を2時間室温にて攪
拌し、16時間還流してから、N84Cl 飽和溶液
300dを徐々に加えて加水分解した.乳濁液をハイフ
ロ(}Iy41o)を助剤として濾過し、ジエチルエー
テル(200++dlx3)で抽出した.抽出液をNa
Cl飽和溶液で洗浄し、Na2SO<で乾燥して濃縮し
た.生成物をフラッシュグロマトグラフイー(SiO■
800g, トルエン/エーテル10:1)により精
製した.収量:5.10g (30%). ’H−NMRスペクトル(CDCI.,250MHz)
:7.48−7.3 6 (m,.4H):6.48
−6.30 (m,8H);4.78 (s,2H)
;1.02(s,6H). ”C−NMRスペクトル(CDCI.,62.9MHz
・) :154.3 (s);152.9 (s
):1 4 2.4 (d);1 11.5 (
s):1 1 0.8(d);110.3 (d)
:109.8 (d);109.3(d);80.4
(d):72.6 (s);26.7 (q)
.実施例2a)と同様に、但し、出発原料として(4R
,5R)−2.2−ジメチル−4.5−[ビス(ジ2−
フリルヒドロキシメトキシ)]−1.3−ジオキソラン
を使用して標記の化合物を合成した.実施例6b)で得
られた反応液を、実施例2b)と同様に反応させ、更に
処理することなく次の段階に使用した. xJu1ヱ a) 4R5R−22−ジメチル−4 5− ビス(
ジー2−プロペニルヒドロキシメチル −1 3−ジ
オキソラン 細削したMg 1 3.8 g (5 7 5 gao
l)をテトラヒド口フラン(THF)50一中に置き、
1.5時間を要して2−プロモプロペン43.7d(5
0 0 gaol)を滴下した.混合物を1時間加熱
還流し、40℃まで冷却した.この反応液に、THF5
0艷に溶解した(4R,5R)−2.2−ジメチル−1
.3−ジオキソラン−4.5−ジカルボン酸ジエチルエ
ステル24.6g (100 msol)を1時間を要
して滴下した.次いで、混合物を2NHtS 042
5 0dによって加水分解し、二相を分離し、水相をジ
エチルエーテル(200dx3)で抽出し、エーテル相
を併せ飽和NaCl溶液で2回洗浄してN a 1 S
O 4で乾燥し濃縮した.生成物をフラッシュクロマ
トグラフィ−(SiOxl−.エーテル/ヘキサン1:
5)によって精製した.収量: 6,Ig (18.9
%),’H−NMRスペクトル(CDCI.,250M
Hz): 5.25 (dq,J=1.5,0.5,
2H);5.19 (dq,J=1.5,0.5,2
H);5.11 (dq,J=1.5,1,5,2H
);5.00 (dq,J=1.5,1.5,2H)
:4.40 (s,2H):1.80(dd,J=1
.5,0.5,8H);1.72 (dd,J=1.
5,0.5.OH);1.40 (s.6H). ”C−NMRスペクトル(CDCI3,62.9MHz
):146.1 (s); 145.7 (s)
;1 1 4.3 (t);1 1 3.7 (t
);9 8.4 (s);80.2 (d);79
.1 (s);27.2 (q);2 1.0
(q);1 9,4 (q).実施例2a)と同様に
、出発原料として (4R,5R)−2.2−ジメチル
−4.5− [ビス(ジー2−プロペニルヒドロキシメ
チル)]−1.3−ジオキソランを用いて標記の化合物
を合成した.c) (4R 5R −2 2−
ジメチル−1 3−ジオキソラン−4 5−ビス ジー
2−プロベニルメトキシ ーシク口ペンタジェニルアリ
ルチタン実施例7b)で得られた反応液を、実施例2b
)に準じて反応を行い、更に処理を行うことなく次の段
階に使用した. (S,Ph):141.3 (S,Ph):140.
2(s,Ph);128.8−126.3 (d,1
6C,Ph);125.4 (d,Ph);125.
2 (d,Ph):1 1 6.8 (d,Cp)
:11 2.2 (S.C(2)):9 8.4
(s,C(P h)20); 9 7.8(s,C(P
h)go);8 4.3 (d,C(4)又はC(5
)):83.5 (d,C(5)又はC (4 )).
実施例2a)と同様に、出発原料として(4R,5R)
−2.2−ジフェニル−4.5− [ビス(ジフェニル
ヒドロキシメチル)]−1.3−ジオキソランを用いて
標記の化合物を合成した. ’H − NM Rスペクトル(CDCI3,250M
Hz):7.70−8.40 (m,30H,Ph)
:8.29 (s,5H,Cp);5.33 (d
,J=7.0,IH,H−C(4)又はH−C(5);
5.2 0(d,J=7.0,I H,H−C(5)又
はH−C (4 )).”C−NMRスペクトル(CD
CI.,82.89MHz):14B.4 (s,P
h):14B.3(s,Ph):144.0 (s,P
h):143.4クロリド (4R,5R)−2.2−ジメチル−4.5−[ビス(
ジフェニルヒド口キシメチル)]−1.3−ジオキソラ
ン9.3 2 g (2 0 mmol)を、ジェチノ
レエーテノレ150−に溶解したペンタメチルシクロペ
ンタジエニルジルコニウムトリクロリド6.66g(2
0鳳園ol)の溶液に加えた.この反応液に、ジェチル
エーテル50−に溶解したトリエチルアミン6.1d(
44 mmol)の溶液を30分間に室温で滴下した.
ベージュ色の懸濁液を室温で更に12時間攪拌し、生成
したトリエチルアミン塩酸塩をアルゴン気流中で吸引濾
去し、約2(ldlのジエチルエーテルで3回洗浄した
.かくして得られた反応液は、更に処理することなく次
の段階に使用した. ’H−NMRスペクトル(CDCI3,250MHz)
:7.5 5−7.1 8 (m,2 0H,Ph)
;5.12 (d,J=7.0,IH,H−C(4)
又はH−C(5));4.92 (d,J=7.0,
IH,H−C(5)又はH−C(4));1.95
(s,1 5H,Cp );0.4B (s,3H,C
旦a);0.45(s,3H,C旦.). ”C−NMRスペクトル(CDC l s, 8 2.
8 9MHz): 14’8.5 (s,Ph); 1
48.2(s,Ph):143.6 (s,Ph):l
43.4(s,Ph);1 2 9.8 (d,Ph)
; l 2 9.5(d,Ph):l 2 8.8−1
2 7.5 (d,,I OC,Ph):123.
74 (S,Cp);111.82(s,C(2))
;9 1.3 8 (s,C(Ph)*O);9 0
.1 9 (s,C(Ph)go);8 2.1 6
(d,C(4)又は(5));80.55 (d,
C (5)又はC(4)):2 7.5 0 (q,
ΩH3);2 7,4 0 (q.旦H3); 1
1.1 0 (q.Cp).ニウム ジエチルエーテル60一に溶解した、実施例9a)のジ
ルコニウム化合物5■molの溶液を−74℃に冷却し
、C H 3M g B rの3M THF溶液の1.
5−を加えて、混合物を2時間−74℃で攪拌した.か
くして得られた反応液を、更に蛛理することなく次の段
階に使用した. ロリド 実施例9a)と同様に、但し、出発原料とじてペンタメ
チルシク口ペンタジエニルハフニウムトリクロリドを使
用して、標記の化合物を合成した.’H−NMRスペク
トル(CDCI,,250MHz): 7.55−7.
2 (m,20H,Ph);5.08 (d,J=7
.0,LH,H−C(4)又はH−C(5);4.92
(d,J=7.0,IH,H−C(5)又はH−C(
4)):2.00 (s,1 5H,Cp);0.4B
(s,3H,C旦a) ;0.4 3(s,3H,C
旦,). ”C−NMRスペクトル(CDC I 3, 6 2
.8 9MHz):148.63 (s,Ph);1
48.1g(s,Ph);143.84 (s,Ph
);143.70(s,Ph);129.8(d,Ph
);129.1(d,Ph):128.6−127.5
(d,IOC,Ph);122.14(s,Cp);1
12.01(s,C(2));90.34(s,Ω(P
h).0);90.1 9(s,C (Ph)++O)
;8 2.1 7 (d,C (4)又はC (5))
;80.58 (d,C (5)又はC(4)):2
7,5 6 (q, CHa) ; 2 7.4 0(
q.ΩHz);l O.8 7 (q,Cp)−b) 4R 5R 2 2−ジメチル−1 3−ジす ウム 実施例9b)と同様に、但し、出発原料として実施例1
0a)のハフニウム化合物を使用して標記の化合物を合
成した. ジエチルエーテル60−に溶解した、実施例2b)のチ
タン化合物1.25+a■olの溶液を−74℃に冷却
し、新たに蒸溜したベンズアルデヒド0.1m (1.
0 m鵬of)を加えた.淡黄色の透明な溶液を更に2
時間、−74℃で攪拌し、5NH.O/THF5ial
lを加え、混合物の温度を室温に上げ、同温度で更に1
時間攪拌し、吸引濾過してロータリエバボレータで濃縮
した.粗生成物(透明無色な油状物質0.80g)を、
フラッシュクロマトグラフィー (シリカゲル60g1
長さ35cm,断面2G11,511Q/画分、0.4
バール、トルエン/エタノール10:1)により精製し
た.0.0 9 8 g の生成物が得られた.収率:
66%、ee : 93%. 実施例12 S −1トリデセン−4−オールの調ジエチルエーテ
ル60艷に溶解した、実施例2b)のチタン化合物1.
25mmolの溶液を=74℃に冷却し、新たに蒸溜し
たカブリルアルデヒド0.1 9+aQ (0.1mm
ol)を加えた.淡黄色の透明な溶液を更に2時間、−
74℃で攪拌し、5N H.O/THF溶液5−を加え
、混倉物の温度を室温に上げ、同温度で更に1時間攪拌
し、吸引濾過してロータリエバボレータで濃縮した.粗
生成物(透明無色の油状物質 1.1 3 g)をフラ
ッシュクロマトグラフィ−(シリカゲル60g,長さ3
5an,断面2an,5wdl/画分、0.4バール、
トルエン/エタノール10:l)を行い、次いで球付き
蒸溜管で蒸溜した,0.141g の生成物が得られ
た.収率:71%、ee:95%.x1』LL旦 ジエチルエーテル120dに溶解した、実施例lb)の
チタン化合物2.25mmolの溶液を74℃に冷却し
、新たに蒸溜したベンズアルデヒド 0.2nd (2
.0 mlIol)を加えた.ベージュ色の懸濁液を更
に2時間、−74℃で攪拌し、5N H * 0 /
T H F溶液5dを加え、ベージュ色の懸濁液の温度
を室温に上げ、同温度で更に1時間攪拌し、吸引濾過し
てロータリエバポレータで濃縮した.粗生成物(黄褐色
の油状物質1.5 3 g)に2回のフラッシュグロマ
トグラフィ−(シリカゲル80g.長さ25an、断面
2an、10mll/画分、0.5バール、トルエン/
エタノール20:1);(シリカゲル50g1長さ25
an,断面2ー、15艷/画分、0.5 バール、トル
エン/エタノール15:1)を行った,0.2g の生
成物が得られた.収率:66%、ee : 82%.及
1医上」 2R 3R)−2− t−ブトキシ力ボニルアミノ
−3ブチルリチウムの1.6Mヘキサン溶液7.6−を
、テトラヒド口フラン60−に溶解したシクロヘキシル
イソプ口ピルアミン 1.9gの溶液に、20ないし−
30℃で加えた.20分後、混合物を−78℃に冷却し
、テトラヒド口フラン60艷に溶解した 1,1,3.
3−テトラメチル−1.3ジシラアゾリジンーN=酢酸
エチルエステル 3.0gの溶液を滴下した.−78℃
で1時間攪拌後、(実施例2a)記載の)[(4R,5
R)−2.2−ジメチル−1.3−ジオキソラン−4.
5−ビス(ジフェニルメトキシ)]シクロペンタジエニ
ルチタニウムクロリドの0.083Mエーテル溶液16
1dを滴下した.この溶液を−78℃で43時間攪拌し
、テトラヒド口フラン15dlに溶解したブチルアルデ
ヒド0.97gの−78℃に冷却した溶液に、スチール
製カニューレを用いて添加した.78℃で22時間攪拌
後、水1.5dを加え、混合物の温度を室温に上げて濾
過した.濾液に水24一及び酢酸4.8一を加え、混合
物を2時間室温で攪拌後、減圧濃縮した.残渣の一部(
5mg)を塩化メチレン中、2時間、トリフルオロ酢酸
無水物で処理して誘導体とし、キャビラリーガスクロマ
トグラフィー[キラシルーバル(ChirasilVa
l)、90〜180℃/2℃/分]で分析した。
5 0MHz):7.65−7.1 5 (m,20H
,Ph):6.08 (s,5H,Cp);5.46
(dtq,J=14.0,8.5,1.5,H−C
(2゜));4.82 (dq,J=14.0,8.
5,H−C(3゜));5.1 1 (d,J=7.0
,IH,H−C(4)又はH−C(5));4.47
(d,J=7.0,IH,HC(5)又はH−C(4
)); 2.26 (dd,J8.5,8.5,H−
C(1’));2.1 ? (dd,J8.5,8.5
,H−C(1’));1.67 (dd,3H,J=8
.5,1.5,H−C(4’));0.68 (s,3
H,C(2)−CH3):0.5 8 (s,3H,C
(2)C H 3 ) 1 3−ジオキソラン n−ブチルリチウムのヘキサン溶液6.2 5td(I
Q +uaol)を、45分間に−78℃で、ジエチ
ルエーテル30一に溶解したプロモベンタフルオ口ベン
ゼン1.2 5d (1 0 一醜o1)の溶液に滴下
し、混合物の温度を室温に上げ、攪拌下、0℃に冷却し
た.この反応液に、ジエチルエーテル20艷に溶解した
(4R,5R)−2.2−ジメチル−1.3−ジオキソ
ラン−4.5−ジカルボン酸ジエチルエステル(10
■鵬of)を徐々に滴下し、混合物を12時間室温で攪
拌し、NH.Cl の飽和溶液を徐々に加え加水分解
した.乳濁液をジエチルエーテル(80mx3)で抽出
し、抽出液をNaC 1の飽和溶液で洗浄し、N a
1 S O 4で乾燥して濃縮した.生成物をフラッシ
ュクロマトグラフィ−(S i Oz8 0 g,エー
テル/ヘキサンl:5)により精製した.収量+4.6
3g(56%).’H−NMRスペクトル(CDIC
l ffi, 2 5 0MHz):5.43 (
s,2H);4.95 (s,2H);1.40 (s
,8.H). b) 4R5R−22−ジメチル−1 3−ジオキソ
ランー4 5−ビス ジペンタフルオ口フェニルメリド 実施例2a)と同様に、但し、出発原料として(4R.
5R)−2.2−ジメチル−[4.5−ビス(ジベンタ
フルオ口フエニルヒドロキシメチル)]1,3−ジオキ
ソランを使用して標記の化合物を合成した. 実施例5b)で得た反応液を、実施例2b)と同様に反
応させ、更に処理することなく次の段階に使用した. キソラン n−ブチルリチウム(1 5 5 mmol)のヘキサ
ン溶液97−をジエチルエ テルl00−で希釈 ?、一20℃に冷却し、フラン11.62艷( 1 6
0 mmol)を10分間に加えた。反応液の温度を
徐々に室温に上げ、次いで4時間加熱還流した.水冷下
、この反応液にエーテル20−に溶解した(4R,5R
)−2.2−ジメチル−1.3−ジオキソラン−4.5
−ジカルボン酸ジエチルエステル9.84g (40
wlIol)を徐々に加え、混合物を2時間室温にて攪
拌し、16時間還流してから、N84Cl 飽和溶液
300dを徐々に加えて加水分解した.乳濁液をハイフ
ロ(}Iy41o)を助剤として濾過し、ジエチルエー
テル(200++dlx3)で抽出した.抽出液をNa
Cl飽和溶液で洗浄し、Na2SO<で乾燥して濃縮し
た.生成物をフラッシュグロマトグラフイー(SiO■
800g, トルエン/エーテル10:1)により精
製した.収量:5.10g (30%). ’H−NMRスペクトル(CDCI.,250MHz)
:7.48−7.3 6 (m,.4H):6.48
−6.30 (m,8H);4.78 (s,2H)
;1.02(s,6H). ”C−NMRスペクトル(CDCI.,62.9MHz
・) :154.3 (s);152.9 (s
):1 4 2.4 (d);1 11.5 (
s):1 1 0.8(d);110.3 (d)
:109.8 (d);109.3(d);80.4
(d):72.6 (s);26.7 (q)
.実施例2a)と同様に、但し、出発原料として(4R
,5R)−2.2−ジメチル−4.5−[ビス(ジ2−
フリルヒドロキシメトキシ)]−1.3−ジオキソラン
を使用して標記の化合物を合成した.実施例6b)で得
られた反応液を、実施例2b)と同様に反応させ、更に
処理することなく次の段階に使用した. xJu1ヱ a) 4R5R−22−ジメチル−4 5− ビス(
ジー2−プロペニルヒドロキシメチル −1 3−ジ
オキソラン 細削したMg 1 3.8 g (5 7 5 gao
l)をテトラヒド口フラン(THF)50一中に置き、
1.5時間を要して2−プロモプロペン43.7d(5
0 0 gaol)を滴下した.混合物を1時間加熱
還流し、40℃まで冷却した.この反応液に、THF5
0艷に溶解した(4R,5R)−2.2−ジメチル−1
.3−ジオキソラン−4.5−ジカルボン酸ジエチルエ
ステル24.6g (100 msol)を1時間を要
して滴下した.次いで、混合物を2NHtS 042
5 0dによって加水分解し、二相を分離し、水相をジ
エチルエーテル(200dx3)で抽出し、エーテル相
を併せ飽和NaCl溶液で2回洗浄してN a 1 S
O 4で乾燥し濃縮した.生成物をフラッシュクロマ
トグラフィ−(SiOxl−.エーテル/ヘキサン1:
5)によって精製した.収量: 6,Ig (18.9
%),’H−NMRスペクトル(CDCI.,250M
Hz): 5.25 (dq,J=1.5,0.5,
2H);5.19 (dq,J=1.5,0.5,2
H);5.11 (dq,J=1.5,1,5,2H
);5.00 (dq,J=1.5,1.5,2H)
:4.40 (s,2H):1.80(dd,J=1
.5,0.5,8H);1.72 (dd,J=1.
5,0.5.OH);1.40 (s.6H). ”C−NMRスペクトル(CDCI3,62.9MHz
):146.1 (s); 145.7 (s)
;1 1 4.3 (t);1 1 3.7 (t
);9 8.4 (s);80.2 (d);79
.1 (s);27.2 (q);2 1.0
(q);1 9,4 (q).実施例2a)と同様に
、出発原料として (4R,5R)−2.2−ジメチル
−4.5− [ビス(ジー2−プロペニルヒドロキシメ
チル)]−1.3−ジオキソランを用いて標記の化合物
を合成した.c) (4R 5R −2 2−
ジメチル−1 3−ジオキソラン−4 5−ビス ジー
2−プロベニルメトキシ ーシク口ペンタジェニルアリ
ルチタン実施例7b)で得られた反応液を、実施例2b
)に準じて反応を行い、更に処理を行うことなく次の段
階に使用した. (S,Ph):141.3 (S,Ph):140.
2(s,Ph);128.8−126.3 (d,1
6C,Ph);125.4 (d,Ph);125.
2 (d,Ph):1 1 6.8 (d,Cp)
:11 2.2 (S.C(2)):9 8.4
(s,C(P h)20); 9 7.8(s,C(P
h)go);8 4.3 (d,C(4)又はC(5
)):83.5 (d,C(5)又はC (4 )).
実施例2a)と同様に、出発原料として(4R,5R)
−2.2−ジフェニル−4.5− [ビス(ジフェニル
ヒドロキシメチル)]−1.3−ジオキソランを用いて
標記の化合物を合成した. ’H − NM Rスペクトル(CDCI3,250M
Hz):7.70−8.40 (m,30H,Ph)
:8.29 (s,5H,Cp);5.33 (d
,J=7.0,IH,H−C(4)又はH−C(5);
5.2 0(d,J=7.0,I H,H−C(5)又
はH−C (4 )).”C−NMRスペクトル(CD
CI.,82.89MHz):14B.4 (s,P
h):14B.3(s,Ph):144.0 (s,P
h):143.4クロリド (4R,5R)−2.2−ジメチル−4.5−[ビス(
ジフェニルヒド口キシメチル)]−1.3−ジオキソラ
ン9.3 2 g (2 0 mmol)を、ジェチノ
レエーテノレ150−に溶解したペンタメチルシクロペ
ンタジエニルジルコニウムトリクロリド6.66g(2
0鳳園ol)の溶液に加えた.この反応液に、ジェチル
エーテル50−に溶解したトリエチルアミン6.1d(
44 mmol)の溶液を30分間に室温で滴下した.
ベージュ色の懸濁液を室温で更に12時間攪拌し、生成
したトリエチルアミン塩酸塩をアルゴン気流中で吸引濾
去し、約2(ldlのジエチルエーテルで3回洗浄した
.かくして得られた反応液は、更に処理することなく次
の段階に使用した. ’H−NMRスペクトル(CDCI3,250MHz)
:7.5 5−7.1 8 (m,2 0H,Ph)
;5.12 (d,J=7.0,IH,H−C(4)
又はH−C(5));4.92 (d,J=7.0,
IH,H−C(5)又はH−C(4));1.95
(s,1 5H,Cp );0.4B (s,3H,C
旦a);0.45(s,3H,C旦.). ”C−NMRスペクトル(CDC l s, 8 2.
8 9MHz): 14’8.5 (s,Ph); 1
48.2(s,Ph):143.6 (s,Ph):l
43.4(s,Ph);1 2 9.8 (d,Ph)
; l 2 9.5(d,Ph):l 2 8.8−1
2 7.5 (d,,I OC,Ph):123.
74 (S,Cp);111.82(s,C(2))
;9 1.3 8 (s,C(Ph)*O);9 0
.1 9 (s,C(Ph)go);8 2.1 6
(d,C(4)又は(5));80.55 (d,
C (5)又はC(4)):2 7.5 0 (q,
ΩH3);2 7,4 0 (q.旦H3); 1
1.1 0 (q.Cp).ニウム ジエチルエーテル60一に溶解した、実施例9a)のジ
ルコニウム化合物5■molの溶液を−74℃に冷却し
、C H 3M g B rの3M THF溶液の1.
5−を加えて、混合物を2時間−74℃で攪拌した.か
くして得られた反応液を、更に蛛理することなく次の段
階に使用した. ロリド 実施例9a)と同様に、但し、出発原料とじてペンタメ
チルシク口ペンタジエニルハフニウムトリクロリドを使
用して、標記の化合物を合成した.’H−NMRスペク
トル(CDCI,,250MHz): 7.55−7.
2 (m,20H,Ph);5.08 (d,J=7
.0,LH,H−C(4)又はH−C(5);4.92
(d,J=7.0,IH,H−C(5)又はH−C(
4)):2.00 (s,1 5H,Cp);0.4B
(s,3H,C旦a) ;0.4 3(s,3H,C
旦,). ”C−NMRスペクトル(CDC I 3, 6 2
.8 9MHz):148.63 (s,Ph);1
48.1g(s,Ph);143.84 (s,Ph
);143.70(s,Ph);129.8(d,Ph
);129.1(d,Ph):128.6−127.5
(d,IOC,Ph);122.14(s,Cp);1
12.01(s,C(2));90.34(s,Ω(P
h).0);90.1 9(s,C (Ph)++O)
;8 2.1 7 (d,C (4)又はC (5))
;80.58 (d,C (5)又はC(4)):2
7,5 6 (q, CHa) ; 2 7.4 0(
q.ΩHz);l O.8 7 (q,Cp)−b) 4R 5R 2 2−ジメチル−1 3−ジす ウム 実施例9b)と同様に、但し、出発原料として実施例1
0a)のハフニウム化合物を使用して標記の化合物を合
成した. ジエチルエーテル60−に溶解した、実施例2b)のチ
タン化合物1.25+a■olの溶液を−74℃に冷却
し、新たに蒸溜したベンズアルデヒド0.1m (1.
0 m鵬of)を加えた.淡黄色の透明な溶液を更に2
時間、−74℃で攪拌し、5NH.O/THF5ial
lを加え、混合物の温度を室温に上げ、同温度で更に1
時間攪拌し、吸引濾過してロータリエバボレータで濃縮
した.粗生成物(透明無色な油状物質0.80g)を、
フラッシュクロマトグラフィー (シリカゲル60g1
長さ35cm,断面2G11,511Q/画分、0.4
バール、トルエン/エタノール10:1)により精製し
た.0.0 9 8 g の生成物が得られた.収率:
66%、ee : 93%. 実施例12 S −1トリデセン−4−オールの調ジエチルエーテ
ル60艷に溶解した、実施例2b)のチタン化合物1.
25mmolの溶液を=74℃に冷却し、新たに蒸溜し
たカブリルアルデヒド0.1 9+aQ (0.1mm
ol)を加えた.淡黄色の透明な溶液を更に2時間、−
74℃で攪拌し、5N H.O/THF溶液5−を加え
、混倉物の温度を室温に上げ、同温度で更に1時間攪拌
し、吸引濾過してロータリエバボレータで濃縮した.粗
生成物(透明無色の油状物質 1.1 3 g)をフラ
ッシュクロマトグラフィ−(シリカゲル60g,長さ3
5an,断面2an,5wdl/画分、0.4バール、
トルエン/エタノール10:l)を行い、次いで球付き
蒸溜管で蒸溜した,0.141g の生成物が得られ
た.収率:71%、ee:95%.x1』LL旦 ジエチルエーテル120dに溶解した、実施例lb)の
チタン化合物2.25mmolの溶液を74℃に冷却し
、新たに蒸溜したベンズアルデヒド 0.2nd (2
.0 mlIol)を加えた.ベージュ色の懸濁液を更
に2時間、−74℃で攪拌し、5N H * 0 /
T H F溶液5dを加え、ベージュ色の懸濁液の温度
を室温に上げ、同温度で更に1時間攪拌し、吸引濾過し
てロータリエバポレータで濃縮した.粗生成物(黄褐色
の油状物質1.5 3 g)に2回のフラッシュグロマ
トグラフィ−(シリカゲル80g.長さ25an、断面
2an、10mll/画分、0.5バール、トルエン/
エタノール20:1);(シリカゲル50g1長さ25
an,断面2ー、15艷/画分、0.5 バール、トル
エン/エタノール15:1)を行った,0.2g の生
成物が得られた.収率:66%、ee : 82%.及
1医上」 2R 3R)−2− t−ブトキシ力ボニルアミノ
−3ブチルリチウムの1.6Mヘキサン溶液7.6−を
、テトラヒド口フラン60−に溶解したシクロヘキシル
イソプ口ピルアミン 1.9gの溶液に、20ないし−
30℃で加えた.20分後、混合物を−78℃に冷却し
、テトラヒド口フラン60艷に溶解した 1,1,3.
3−テトラメチル−1.3ジシラアゾリジンーN=酢酸
エチルエステル 3.0gの溶液を滴下した.−78℃
で1時間攪拌後、(実施例2a)記載の)[(4R,5
R)−2.2−ジメチル−1.3−ジオキソラン−4.
5−ビス(ジフェニルメトキシ)]シクロペンタジエニ
ルチタニウムクロリドの0.083Mエーテル溶液16
1dを滴下した.この溶液を−78℃で43時間攪拌し
、テトラヒド口フラン15dlに溶解したブチルアルデ
ヒド0.97gの−78℃に冷却した溶液に、スチール
製カニューレを用いて添加した.78℃で22時間攪拌
後、水1.5dを加え、混合物の温度を室温に上げて濾
過した.濾液に水24一及び酢酸4.8一を加え、混合
物を2時間室温で攪拌後、減圧濃縮した.残渣の一部(
5mg)を塩化メチレン中、2時間、トリフルオロ酢酸
無水物で処理して誘導体とし、キャビラリーガスクロマ
トグラフィー[キラシルーバル(ChirasilVa
l)、90〜180℃/2℃/分]で分析した。
分析結果、試料は、(2 S,3 R)一異性体(保持
時間11.7分)の90.8%及び(2R,33)−異
性体(保持時間10.8分)の9.2%からなることを
示した.粗生成物の残部にエーテル250艷を加え、混
合物を0.IN塩酸100艷で3回振盪した.水相をエ
ーテル250WIllで2回抽出し、水酸化ナトリウム
溶液でpH4に調整して、室温で減圧下に50mQに濃
縮した.ジオキサン80−、重炭酸ナトリウム6.7g
及びジーも−プチルジカボネート5.3gを加えた後、
混合物を室温で15時間攪拌した.反応混合物をジエチ
ルエーテル250−で希釈し、水250−で2回、飽和
塩化ナトリウム溶液で洗浄した。水相をエーテル250
艷で2回抽出し、有機抽出液をNa2SO4で乾燥して
溜去した.残渣のクロマトグラフィ−(シリカゲル、酢
酸エチル/ヘキサン1:4ないしl:2)により2.0
9 gの(2S,3R)−t−ブトキシカルボニルア
ミノ−3−ヒドロキシヘキサン酸エチルエステルを得た
. 去1』LL旦 状物質2.5g)をペンタン10allに懸濁し、懸濁
液を1時間室温で攪拌後、吸引濾過した。濾液にフラッ
シュクロマトグラフィ−(シリカゲル60g1長さ20
an1断面2an,30d/画分、0.4 バール、エ
ーテル/ペンタンl:2)を行なった.収量: 0.2
g,ee :>95%.■ ジエチルエーテル70−に溶解した実施例2bのチタン
化合物4.5maolの溶液を、−74℃に冷却し、新
たに蒸溜した 2 . 3−0−イソブロビリデン一〇
一グリセルアルデヒド0.5 2 g (4.0mmo
l)を加えた.橙赤黄色の懸濁液を、更に74℃で4l
I!F間攪拌し、45%弗化アンモニウム水溶液30−
を加えて混合物の温度を室温に上げた.同温度で一夜攪
拌後、ハイフロを助剤として吸引濾過した.乳濁液をジ
エチルエーテル50蛾で希釈して、有機相を分離、洗浄
及びN a 2 S O 4で乾燥した。粗生成物(透
明な黄色油■ 実施例8に準じて、但し、実施例3b)のチタン化合物
を用いて標記の化合物を合成した.収量:0.26g,
ee:>95%。
時間11.7分)の90.8%及び(2R,33)−異
性体(保持時間10.8分)の9.2%からなることを
示した.粗生成物の残部にエーテル250艷を加え、混
合物を0.IN塩酸100艷で3回振盪した.水相をエ
ーテル250WIllで2回抽出し、水酸化ナトリウム
溶液でpH4に調整して、室温で減圧下に50mQに濃
縮した.ジオキサン80−、重炭酸ナトリウム6.7g
及びジーも−プチルジカボネート5.3gを加えた後、
混合物を室温で15時間攪拌した.反応混合物をジエチ
ルエーテル250−で希釈し、水250−で2回、飽和
塩化ナトリウム溶液で洗浄した。水相をエーテル250
艷で2回抽出し、有機抽出液をNa2SO4で乾燥して
溜去した.残渣のクロマトグラフィ−(シリカゲル、酢
酸エチル/ヘキサン1:4ないしl:2)により2.0
9 gの(2S,3R)−t−ブトキシカルボニルア
ミノ−3−ヒドロキシヘキサン酸エチルエステルを得た
. 去1』LL旦 状物質2.5g)をペンタン10allに懸濁し、懸濁
液を1時間室温で攪拌後、吸引濾過した。濾液にフラッ
シュクロマトグラフィ−(シリカゲル60g1長さ20
an1断面2an,30d/画分、0.4 バール、エ
ーテル/ペンタンl:2)を行なった.収量: 0.2
g,ee :>95%.■ ジエチルエーテル70−に溶解した実施例2bのチタン
化合物4.5maolの溶液を、−74℃に冷却し、新
たに蒸溜した 2 . 3−0−イソブロビリデン一〇
一グリセルアルデヒド0.5 2 g (4.0mmo
l)を加えた.橙赤黄色の懸濁液を、更に74℃で4l
I!F間攪拌し、45%弗化アンモニウム水溶液30−
を加えて混合物の温度を室温に上げた.同温度で一夜攪
拌後、ハイフロを助剤として吸引濾過した.乳濁液をジ
エチルエーテル50蛾で希釈して、有機相を分離、洗浄
及びN a 2 S O 4で乾燥した。粗生成物(透
明な黄色油■ 実施例8に準じて、但し、実施例3b)のチタン化合物
を用いて標記の化合物を合成した.収量:0.26g,
ee:>95%。
ブチルリチウムの1.6Mヘキサン溶液4.4一を、ア
ルゴン気流中、−25℃で無水のジエチルエーテル15
艷に溶解したジイソブ口ビルアミン1.12−の溶液に
加えた.−20℃に25分間保った後、−78℃に冷却
し、酢酸 t−プチルエステル 805μQ を10分
間に、シリンジにより滴下した。−78℃で45分間攪
拌後、エテル約100dに溶解した(実施例2a)記載
の)[(4R,5 R)−2.2−ジメチル−1.3−
ジオキソラン−4.5−ビス(ジフエニルメトキシ)]
一シク口ペンタジエニルチタニウムクロリド4.9gの
新たに調製した溶液を、予め−78℃に冷却して、15
分間を要してカニューレにより添加した。混合物を−7
8℃で30分間、−30℃で3時間攪拌し、−78℃に
冷却してイソバレルアルデヒド650μ2を5分間を要
してシリンジにより添加した.2時間−78℃に保った
後、45%NH.F溶液20−を加え、混合物の温度を
室温に上げた,17時間攪拌後、濾過し、濾液に飽和塩
化ナトリウム溶液10艷を加え、混合物をエテルloo
mllで3回抽出した.有機相を飽和塩化ナトリウム溶
液及びIN塩酸で洗浄し、乾燥(M g S O 4)
Lて溜去した.残渣(5.1g)を2N水酸化ナトリウ
ム溶液6mg及びメタノールl2一中で、50℃で2時
間攪拌した.メタノールを減圧で溜去した後、残渣をエ
ーテル50−で3回抽出した.水相を濃塩酸で酸性にし
、酢酸エチル100−で3回抽出した.酢酸エチル相を
飽和塩化ナトリウム溶液50dで2回洗浄し、乾燥(M
gSO<)Lて溜去した。残渣は、光学純度が78%の
1−(R)−3−ヒドロキシ−5−メチルヘキサン酸8
35mgで、シクロヘキサン(60一及び150+al
l)より2回再結晶した.収量:光学純度96%の生成
物595mg。融点86℃:[α]。
ルゴン気流中、−25℃で無水のジエチルエーテル15
艷に溶解したジイソブ口ビルアミン1.12−の溶液に
加えた.−20℃に25分間保った後、−78℃に冷却
し、酢酸 t−プチルエステル 805μQ を10分
間に、シリンジにより滴下した。−78℃で45分間攪
拌後、エテル約100dに溶解した(実施例2a)記載
の)[(4R,5 R)−2.2−ジメチル−1.3−
ジオキソラン−4.5−ビス(ジフエニルメトキシ)]
一シク口ペンタジエニルチタニウムクロリド4.9gの
新たに調製した溶液を、予め−78℃に冷却して、15
分間を要してカニューレにより添加した。混合物を−7
8℃で30分間、−30℃で3時間攪拌し、−78℃に
冷却してイソバレルアルデヒド650μ2を5分間を要
してシリンジにより添加した.2時間−78℃に保った
後、45%NH.F溶液20−を加え、混合物の温度を
室温に上げた,17時間攪拌後、濾過し、濾液に飽和塩
化ナトリウム溶液10艷を加え、混合物をエテルloo
mllで3回抽出した.有機相を飽和塩化ナトリウム溶
液及びIN塩酸で洗浄し、乾燥(M g S O 4)
Lて溜去した.残渣(5.1g)を2N水酸化ナトリウ
ム溶液6mg及びメタノールl2一中で、50℃で2時
間攪拌した.メタノールを減圧で溜去した後、残渣をエ
ーテル50−で3回抽出した.水相を濃塩酸で酸性にし
、酢酸エチル100−で3回抽出した.酢酸エチル相を
飽和塩化ナトリウム溶液50dで2回洗浄し、乾燥(M
gSO<)Lて溜去した。残渣は、光学純度が78%の
1−(R)−3−ヒドロキシ−5−メチルヘキサン酸8
35mgで、シクロヘキサン(60一及び150+al
l)より2回再結晶した.収量:光学純度96%の生成
物595mg。融点86℃:[α]。
−14.7°(c=1,CHCla).(+)−(R)
イブセノールは、この化合物から欧州特許A第0. 2
54, 685号明細書の方法(実施例41dないし4
1g)によって作ることができる. 実施例11に準じて、但し、(実施例5c)で合成した
)[(4R,5R)−2.2−ジメチル−1,3−ジオ
キソラン−4.5−ビス(ジペンタフルオ口フェニルメ
トキシ)]一シク口ペンタジエニルアリルチタンを出発
原料として用いて合成した.収率:62%、 ee:5
3.7%。
イブセノールは、この化合物から欧州特許A第0. 2
54, 685号明細書の方法(実施例41dないし4
1g)によって作ることができる. 実施例11に準じて、但し、(実施例5c)で合成した
)[(4R,5R)−2.2−ジメチル−1,3−ジオ
キソラン−4.5−ビス(ジペンタフルオ口フェニルメ
トキシ)]一シク口ペンタジエニルアリルチタンを出発
原料として用いて合成した.収率:62%、 ee:5
3.7%。
実施例11に準じて、但し、(実施例6c)で合成した
)[ (4R,5R)−2.2−ジメチル−1.3ジオ
キソラン−4.5−ビス(ジー2−フリルメトキシ)]
一シク口ペンタジエニルチタニウムクロリドを出発原料
として用いて合成した.収率:63%、ee:65.5
%. 実施例20 (S)−1−フェニル−3−ブテンー1−オールの調製
実施例11に準じて、但し、(実施゛例7c)で合成し
た)[ (4 R,5 R)−2.2−ジメチル−1.
3−ジオキソラン−4.5−ビス(ジー2−プロペニル
メトキシ)]一シクロペンタジニルチタニウムクロリド
を出発原料として用いて合成した.収率:53%、ee
:71.3%. 実施例21 ?t−ブチルエステルの調製 (実施例2b)で合成した)[(4R,5R)−2.2
−ジメチル−1.3−ジオキソラン−4.5−ビス(ジ
フェニルメトキシ)]一シクロペンタジエニルアリルチ
タンの溶液8 5 all(4 . 5 ma+ol
)を、−74℃に冷却し、ジエチルエーテル5艷に溶解
した(4S )−2 . 2−ジメチル−4−ホルミル
オキサゾリジン3−カルボン酸t−ブチルエステル91
7rng(4m+mol)を滴下した.淡黄色の透明な
溶液を、更に−74℃で3時間攪拌し、NH4F の4
5%水溶液25−を加え、混合物の温度を室温に上げ、
同温度で更に12時間攪拌し(白色の沈殿)、セライト
を助剤として濾過した.水相を分離し、ジエチルエーテ
ルloO+allで抽出した.有機相を飽和塩化ナトリ
ウム溶液で2回洗浄し、M −g S O aで乾燥し
て溜去した.2回のフラッシュグロマトグラフィ−(S
iO■220g,ヘキサン/酢酸エチル2.5:1);
(SiOz・20g,ヘキサン/酢酸エチル2.5 :
l)を行なって、生成物を精製した.収率: 1.0
07g,93%、de(ee):95%、[(!].,
(室温)=−17.0゜(c一〇.9 5、CsH6)
. ”C−NMRスペクトル(C.D.,62。9MH z
, 3 4 0K) : 2 4.1 (CH
3); 2 7.0(CH3);28.4 (C(
旦H3)3);36.1(C(2゜)); 6 1.
9 (C(4)): 6 4.6(C(5));7
2.3 (C(1’)):80.4(旦(CH3)3
); 9 4.3 (C(2)); 1 1 ”t.
o(C(4゜)); 1 3 5.7 (d,C(
3”));1 53.8 (COO−t−Bu).
’H−NMRスペクトル(C 6D s, 2 5 0
M H z ,340K):1.39 (s% C
(CH.)3).1.4 5(S,CH3); 1.
6 2 (S,CHa); 2.1 0(ddddd
,IH,J=14.0,7.0,7.0,1.0,1.
0,H−C(2゜);2.30 (ddddd,IH
,J=14.0,6.5,3.0,1.0,1.0,H
−C(2゜));3.59−3.73 (m,2H,
HC(5)); 3.8 4−3.9 8(m,H−C
(4).H−C(1’); 4.9 7−5.08(m
,2H,HC(4’)); 5.9 2(dddd,
J=1 7.0,10.0, 7.0, 8.5,
H−C(3”))。
)[ (4R,5R)−2.2−ジメチル−1.3ジオ
キソラン−4.5−ビス(ジー2−フリルメトキシ)]
一シク口ペンタジエニルチタニウムクロリドを出発原料
として用いて合成した.収率:63%、ee:65.5
%. 実施例20 (S)−1−フェニル−3−ブテンー1−オールの調製
実施例11に準じて、但し、(実施゛例7c)で合成し
た)[ (4 R,5 R)−2.2−ジメチル−1.
3−ジオキソラン−4.5−ビス(ジー2−プロペニル
メトキシ)]一シクロペンタジニルチタニウムクロリド
を出発原料として用いて合成した.収率:53%、ee
:71.3%. 実施例21 ?t−ブチルエステルの調製 (実施例2b)で合成した)[(4R,5R)−2.2
−ジメチル−1.3−ジオキソラン−4.5−ビス(ジ
フェニルメトキシ)]一シクロペンタジエニルアリルチ
タンの溶液8 5 all(4 . 5 ma+ol
)を、−74℃に冷却し、ジエチルエーテル5艷に溶解
した(4S )−2 . 2−ジメチル−4−ホルミル
オキサゾリジン3−カルボン酸t−ブチルエステル91
7rng(4m+mol)を滴下した.淡黄色の透明な
溶液を、更に−74℃で3時間攪拌し、NH4F の4
5%水溶液25−を加え、混合物の温度を室温に上げ、
同温度で更に12時間攪拌し(白色の沈殿)、セライト
を助剤として濾過した.水相を分離し、ジエチルエーテ
ルloO+allで抽出した.有機相を飽和塩化ナトリ
ウム溶液で2回洗浄し、M −g S O aで乾燥し
て溜去した.2回のフラッシュグロマトグラフィ−(S
iO■220g,ヘキサン/酢酸エチル2.5:1);
(SiOz・20g,ヘキサン/酢酸エチル2.5 :
l)を行なって、生成物を精製した.収率: 1.0
07g,93%、de(ee):95%、[(!].,
(室温)=−17.0゜(c一〇.9 5、CsH6)
. ”C−NMRスペクトル(C.D.,62。9MH z
, 3 4 0K) : 2 4.1 (CH
3); 2 7.0(CH3);28.4 (C(
旦H3)3);36.1(C(2゜)); 6 1.
9 (C(4)): 6 4.6(C(5));7
2.3 (C(1’)):80.4(旦(CH3)3
); 9 4.3 (C(2)); 1 1 ”t.
o(C(4゜)); 1 3 5.7 (d,C(
3”));1 53.8 (COO−t−Bu).
’H−NMRスペクトル(C 6D s, 2 5 0
M H z ,340K):1.39 (s% C
(CH.)3).1.4 5(S,CH3); 1.
6 2 (S,CHa); 2.1 0(ddddd
,IH,J=14.0,7.0,7.0,1.0,1.
0,H−C(2゜);2.30 (ddddd,IH
,J=14.0,6.5,3.0,1.0,1.0,H
−C(2゜));3.59−3.73 (m,2H,
HC(5)); 3.8 4−3.9 8(m,H−C
(4).H−C(1’); 4.9 7−5.08(m
,2H,HC(4’)); 5.9 2(dddd,
J=1 7.0,10.0, 7.0, 8.5,
H−C(3”))。
実施例21に準じて、(実施例3b)で合成した)[(
4S,58)−2.2−ジメチル−1.3−ジオキソラ
ン−4.5−ビス(ジフェニルメトキシ)]一シクロペ
ンタジエニルアリルチタンを用いて、標記の化合物を合
成した.収率:l.037g、95%、d e(e e
): 9 9%、[a].,(室温)+4.4゜(c=
0.985、C6Hll).’H−NMRスペクトル(
C a D 6, 2 5 0 M H z ,3 4
0K): 1.3 9 (S, C(CH:l)!
); 1.4 6(S,CH3); 1.6 2 (
S,CHJ); 2.1 62.23 (m,2H,
H−C(2’)); 3.63(dd,IH,J=9.
0,8.5,H−C(5));3.80−3.9 2
(m,3H,H−C(1’).H−C(4),H−C
(5));−4.97−5.12 (m.2H,H−
C(4゜));5.90 (dddd,J1 7.0
, 1 0.0,8.5,6.5,H−C(3゜))
.13C−NMRスペクトル(CaDa.62.9MH
z,3 4 0K): 2 4.2 (Q.CH
a);27.0 (q,CH.); 28.4
(q, t−Bu):38.9 (t,C(2゜)
); 6 2.0 (d,C(4));64.5
(t,C(5)); 72.0 (d,C(1゜)
):80,1 (s, t−Bu): 94,4
(s,C(2));1 1 6.9 (t,C
(4゜)); l 3 5.9 (d,C(3゜)
); 1 53.8 (s).置I ブチルリチウムの1.6Mヘキサン溶液7.6艷を、−
20ないし−30℃で、テトラヒド口フラン60−に溶
解したシクロヘキシルイソプ口ビルアミン1.9g の
溶液に加えた.20分後、混合物を−78℃に冷却し、
テトラヒドロフラン60艷に溶解した 1,1,3.3
−テトラメチル−1.3一ジシラアゾリジンーN−酢酸
エチルエステル3.0gの溶液を加えた.−78℃で1
時間攪拌後、(実施例2a)記載の)[(4R,5R)
−2.2−ジメチル−1.3−ジオキソラン−4.5−
ビスジフェニルメトキシ)]一シク口ペンタジエニルチ
タニウムクロリドの0.083Mジエチルエーテル溶液
161−を滴下した.この溶液を−78℃で43時間
攪拌後、テトラヒド口フラン15艷に溶解したブチルア
ルデヒド0.97gの−78℃に冷却し溶液に、スチー
ル製カニューレによって添加した。
4S,58)−2.2−ジメチル−1.3−ジオキソラ
ン−4.5−ビス(ジフェニルメトキシ)]一シクロペ
ンタジエニルアリルチタンを用いて、標記の化合物を合
成した.収率:l.037g、95%、d e(e e
): 9 9%、[a].,(室温)+4.4゜(c=
0.985、C6Hll).’H−NMRスペクトル(
C a D 6, 2 5 0 M H z ,3 4
0K): 1.3 9 (S, C(CH:l)!
); 1.4 6(S,CH3); 1.6 2 (
S,CHJ); 2.1 62.23 (m,2H,
H−C(2’)); 3.63(dd,IH,J=9.
0,8.5,H−C(5));3.80−3.9 2
(m,3H,H−C(1’).H−C(4),H−C
(5));−4.97−5.12 (m.2H,H−
C(4゜));5.90 (dddd,J1 7.0
, 1 0.0,8.5,6.5,H−C(3゜))
.13C−NMRスペクトル(CaDa.62.9MH
z,3 4 0K): 2 4.2 (Q.CH
a);27.0 (q,CH.); 28.4
(q, t−Bu):38.9 (t,C(2゜)
); 6 2.0 (d,C(4));64.5
(t,C(5)); 72.0 (d,C(1゜)
):80,1 (s, t−Bu): 94,4
(s,C(2));1 1 6.9 (t,C
(4゜)); l 3 5.9 (d,C(3゜)
); 1 53.8 (s).置I ブチルリチウムの1.6Mヘキサン溶液7.6艷を、−
20ないし−30℃で、テトラヒド口フラン60−に溶
解したシクロヘキシルイソプ口ビルアミン1.9g の
溶液に加えた.20分後、混合物を−78℃に冷却し、
テトラヒドロフラン60艷に溶解した 1,1,3.3
−テトラメチル−1.3一ジシラアゾリジンーN−酢酸
エチルエステル3.0gの溶液を加えた.−78℃で1
時間攪拌後、(実施例2a)記載の)[(4R,5R)
−2.2−ジメチル−1.3−ジオキソラン−4.5−
ビスジフェニルメトキシ)]一シク口ペンタジエニルチ
タニウムクロリドの0.083Mジエチルエーテル溶液
161−を滴下した.この溶液を−78℃で43時間
攪拌後、テトラヒド口フラン15艷に溶解したブチルア
ルデヒド0.97gの−78℃に冷却し溶液に、スチー
ル製カニューレによって添加した。
=78℃で22時間攪拌後、水1.5−を加え、混合物
の温度を室温に上げ、濾過した.濾液に水24一及び酢
酸4.8dを加え、室温で2時間攪拌して減圧下に緩和
な条件の下で溜去した.残渣の一部(5mg)を、塩化
メチレン中でトリフルオロ酢酸無水物と2時間反応させ
、キャビラリーガスクロマトグラフィー(キラシル−パ
ル、90〜180℃/2℃/分)で分析した.分析結果
は、試料が(23,3R)一異性体(保持時間:lL.
7分)の90.8%及び(2R,33)−異性体(保持
時間:l0.8分)の9.2%からなることを示した。
の温度を室温に上げ、濾過した.濾液に水24一及び酢
酸4.8dを加え、室温で2時間攪拌して減圧下に緩和
な条件の下で溜去した.残渣の一部(5mg)を、塩化
メチレン中でトリフルオロ酢酸無水物と2時間反応させ
、キャビラリーガスクロマトグラフィー(キラシル−パ
ル、90〜180℃/2℃/分)で分析した.分析結果
は、試料が(23,3R)一異性体(保持時間:lL.
7分)の90.8%及び(2R,33)−異性体(保持
時間:l0.8分)の9.2%からなることを示した。
粗生成物の残部に、ジエチルエーテル250−を加え、
混合物を0.IN塩酸100艷と3回振盪した.水相を
ジエチルエーテル250+dで2回抽出し、水酸化ナト
リウム溶液でpHを4に調整して、減圧下に室温で約5
0+allに濃縮した.ジオキサン80艷、重炭酸ナト
リウム6.7g及びジ−tブチルジカーボネート 5.
3gを加えた後、混合物を15時間室温で攪拌した.反
応混合物をジエチルエーテル250IILl+で希釈し
、水及び飽和塩化ナトリウム溶液250mnで2回洗浄
し、水相をジエチルエーテル250艷で抽出した。有機
抽出液を乾燥(Na.SO.)(,、濃縮した.残渣の
クロマトグラフイ−(シリカゲル、酢酸エチル/ヘキサ
ン1:4ないしl:2)により(2 S,3 R)−t
ブトキシカルボニルアミノ−3−ヒドロキシヘキサン酸
エチルエステル2.0 9 gが得られた.鼠! a)1133−テトラメチル−1 3−ジシラアトリエ
チルアミン44.0d及び塩化メチレン100allに
溶解した1.2−ビス(グロロジメチルシリル)一エタ
ン2 3.4 gの溶液を、水冷下、窒素気流中で、塩
化メチレン200艷に溶解したグリシンも−ブチルエス
テル塩酸塩l4。Ogの懸濁液に徐々に加えた.室温で
19時間攪拌後、更にトリエチルアミン7I+12及び
1.2−ビス(グロ口ジメチルシリル)一エタン 5.
4gを加え、22時間攪拌を続けた.反応混合物を、緩
衝液(0.41MNazHPO4及び0.28M KH
2PO4の水溶液)、水及び飽和塩化ナトリウム溶液で
洗い;水相を塩化メチレンで2回抽出した.有機相をN
atSO4で乾燥して溜去し、残渣を蒸溜した:1.1
,3.3−テトラメチル−1.3−ジシラアゾリジンー
N−酢酸t−ブチルエステル(60〜63℃;0.0
2 mbar)の1 2.7 gを得た.b)(2S
3R −2− t−ブトキシカルボニルアミノ)−
3−ヒドロキシヘキサン酸 し−ブチルエステニ少 テトラヒド口フラン30−に溶解した1,1,3.3−
テトラメチル−1.3−ジシラアゾリジンN−酢酸 し
−ブチルエステル1.5gを、シクロヘキシルイソブ口
ピルアミン 0.93g,テトラヒド口フラン3〇一及
びブチルリチウム(1.6Mヘキサン溶液)3.8tt
llから、実施例23と同様に誘導したリチウムシクロ
ヘキシルイソブ口ビルアミドの溶液に、−78℃で、滴
下した.−78℃で1時間攪拌後、(実施例2a)に記
載の)[(4R.5R)−2.2−ジメチル−1.3−
ジオキソラン−4.5−ビス(ジフェニルメトキシ)一
シクロペンタジエニルチタニウムクロリドの0.06
3M ジエチルエーテル溶液105−を滴下した.この
溶液を278℃で1時間攪拌し、次いでテトラヒド口フ
ラン10allに溶解したブチルアルデヒド 0.47
gの、−78℃に冷却した、溶液にスチール製カニュー
レにより添加した.−78℃で23時間攪拌後、酢酸2
.4dを加え、混合物を15分間攪拌し、水12dを加
えた.混合物の温度を室温に上げ、2時間攪拌して緩和
な条件で濃縮した.残渣をl.OMHc lと混和し、
この溶液をジエチルエーテルで3回抽出した.有機相を
1.0N HClで2回洗浄した.併せた水相のpH
を、2NNaOHにより4に調整し、混合物を濃縮して
約50ml!とし、残渣にジオキサン40−、NaHC
Oa3.3 6 g及びジーt−プチルカーポネト 2
.39gを加えた.18時間攪拌後、反応混合物をジエ
チルエーテルで希釈し、水及び飽和塩化ナトリウム溶液
で2回洗浄した;水相をジエチルエーテルで2回抽出し
た.有機抽出液を乾燥(NaaSO4)、濃縮した:粗
生成物4.3 7 gが得られた.生成物の一部(5m
g)を、無水の2NHCI−エタノール0.3一と2時
間、100℃に加熱し、混合物を濃縮して塩化メチレン
0.3td中で、トリフルオ口酢酸無水物0.2d
と2時間反応させ、キャビラリーガスク口マトグラフィ
(キラシルーL−バル、90〜180℃/2℃/分)で
分析した.分析の結果、この試料は(23,3R)対掌
異性体(保持時間11.8分)の97.1%及び(2
R,3 S)一対掌異性体(保持時間10.9)の2.
9%よりなることを示した.残りの残渣からクロマトグ
ラフィー(シリカゲル:酢酸エチル/ヘキサン1:5)
により(23,3R)−t−ブトキシカルボニルアミノ
−3−ヒドロキシヘキサン酸し−ブチルエステル 1.
03gを油状物質( [a] n=−1 0.4° ;
c=1.3 、エタノル)として得た. X亙里l1 実施例4で合成されたチタン化合物0.4g(0 .
8 4 1IIaol)をジエチルエーテル40艷に溶
解して、この溶液を−74℃に冷却し、ベンズアルデヒ
ド0.0 6 51+Ll2(0.6 5 m+*o
l)を加え、混合物を−74℃で2時間攪拌した.次い
で、反応溶液を弗化アンモニウム水溶液20dlで加水
分解し、室温で一夜攪拌した.ハイフロを助剤として濾
過し、ジエチルエーテル(40dlx3)で抽出して、
抽出液を飽和塩化ナトリウム溶液で洗浄し、Na.sO
nで乾燥し濃縮した。
混合物を0.IN塩酸100艷と3回振盪した.水相を
ジエチルエーテル250+dで2回抽出し、水酸化ナト
リウム溶液でpHを4に調整して、減圧下に室温で約5
0+allに濃縮した.ジオキサン80艷、重炭酸ナト
リウム6.7g及びジ−tブチルジカーボネート 5.
3gを加えた後、混合物を15時間室温で攪拌した.反
応混合物をジエチルエーテル250IILl+で希釈し
、水及び飽和塩化ナトリウム溶液250mnで2回洗浄
し、水相をジエチルエーテル250艷で抽出した。有機
抽出液を乾燥(Na.SO.)(,、濃縮した.残渣の
クロマトグラフイ−(シリカゲル、酢酸エチル/ヘキサ
ン1:4ないしl:2)により(2 S,3 R)−t
ブトキシカルボニルアミノ−3−ヒドロキシヘキサン酸
エチルエステル2.0 9 gが得られた.鼠! a)1133−テトラメチル−1 3−ジシラアトリエ
チルアミン44.0d及び塩化メチレン100allに
溶解した1.2−ビス(グロロジメチルシリル)一エタ
ン2 3.4 gの溶液を、水冷下、窒素気流中で、塩
化メチレン200艷に溶解したグリシンも−ブチルエス
テル塩酸塩l4。Ogの懸濁液に徐々に加えた.室温で
19時間攪拌後、更にトリエチルアミン7I+12及び
1.2−ビス(グロ口ジメチルシリル)一エタン 5.
4gを加え、22時間攪拌を続けた.反応混合物を、緩
衝液(0.41MNazHPO4及び0.28M KH
2PO4の水溶液)、水及び飽和塩化ナトリウム溶液で
洗い;水相を塩化メチレンで2回抽出した.有機相をN
atSO4で乾燥して溜去し、残渣を蒸溜した:1.1
,3.3−テトラメチル−1.3−ジシラアゾリジンー
N−酢酸t−ブチルエステル(60〜63℃;0.0
2 mbar)の1 2.7 gを得た.b)(2S
3R −2− t−ブトキシカルボニルアミノ)−
3−ヒドロキシヘキサン酸 し−ブチルエステニ少 テトラヒド口フラン30−に溶解した1,1,3.3−
テトラメチル−1.3−ジシラアゾリジンN−酢酸 し
−ブチルエステル1.5gを、シクロヘキシルイソブ口
ピルアミン 0.93g,テトラヒド口フラン3〇一及
びブチルリチウム(1.6Mヘキサン溶液)3.8tt
llから、実施例23と同様に誘導したリチウムシクロ
ヘキシルイソブ口ビルアミドの溶液に、−78℃で、滴
下した.−78℃で1時間攪拌後、(実施例2a)に記
載の)[(4R.5R)−2.2−ジメチル−1.3−
ジオキソラン−4.5−ビス(ジフェニルメトキシ)一
シクロペンタジエニルチタニウムクロリドの0.06
3M ジエチルエーテル溶液105−を滴下した.この
溶液を278℃で1時間攪拌し、次いでテトラヒド口フ
ラン10allに溶解したブチルアルデヒド 0.47
gの、−78℃に冷却した、溶液にスチール製カニュー
レにより添加した.−78℃で23時間攪拌後、酢酸2
.4dを加え、混合物を15分間攪拌し、水12dを加
えた.混合物の温度を室温に上げ、2時間攪拌して緩和
な条件で濃縮した.残渣をl.OMHc lと混和し、
この溶液をジエチルエーテルで3回抽出した.有機相を
1.0N HClで2回洗浄した.併せた水相のpH
を、2NNaOHにより4に調整し、混合物を濃縮して
約50ml!とし、残渣にジオキサン40−、NaHC
Oa3.3 6 g及びジーt−プチルカーポネト 2
.39gを加えた.18時間攪拌後、反応混合物をジエ
チルエーテルで希釈し、水及び飽和塩化ナトリウム溶液
で2回洗浄した;水相をジエチルエーテルで2回抽出し
た.有機抽出液を乾燥(NaaSO4)、濃縮した:粗
生成物4.3 7 gが得られた.生成物の一部(5m
g)を、無水の2NHCI−エタノール0.3一と2時
間、100℃に加熱し、混合物を濃縮して塩化メチレン
0.3td中で、トリフルオ口酢酸無水物0.2d
と2時間反応させ、キャビラリーガスク口マトグラフィ
(キラシルーL−バル、90〜180℃/2℃/分)で
分析した.分析の結果、この試料は(23,3R)対掌
異性体(保持時間11.8分)の97.1%及び(2
R,3 S)一対掌異性体(保持時間10.9)の2.
9%よりなることを示した.残りの残渣からクロマトグ
ラフィー(シリカゲル:酢酸エチル/ヘキサン1:5)
により(23,3R)−t−ブトキシカルボニルアミノ
−3−ヒドロキシヘキサン酸し−ブチルエステル 1.
03gを油状物質( [a] n=−1 0.4° ;
c=1.3 、エタノル)として得た. X亙里l1 実施例4で合成されたチタン化合物0.4g(0 .
8 4 1IIaol)をジエチルエーテル40艷に溶
解して、この溶液を−74℃に冷却し、ベンズアルデヒ
ド0.0 6 51+Ll2(0.6 5 m+*o
l)を加え、混合物を−74℃で2時間攪拌した.次い
で、反応溶液を弗化アンモニウム水溶液20dlで加水
分解し、室温で一夜攪拌した.ハイフロを助剤として濾
過し、ジエチルエーテル(40dlx3)で抽出して、
抽出液を飽和塩化ナトリウム溶液で洗浄し、Na.sO
nで乾燥し濃縮した。
生成物はフラッシュクロマトグラフィ−(Si0260
g,エーテル/ヘキサン1:5)で精製した.収率:
0.082g (90%)、ee:98%、de:)9
7%. ジエチルエーテル60allに溶解した実施例9b)の
ジルコニウム化合物の5mmol溶液を、74℃に冷却
してベンズアルデヒド0.4d(4 1lmol)を加
え、混合物を4時間同温度で攪拌し、次いで45%NH
.F 水溶液30+dを加えた.ベージュ色の懸濁液の
温度を室温に上げ、更に12時間攪拌後、吸引濾過し、
濾液をロータリエバボレータで濃縮した.粗生成物(0
.81’g)にフラッシュクロマトグラフィー(シリカ
ゲル80g、長さ25an,断面2国、30−/画分、
0.4バール、エーテル/ヘキサン1:5)を行い、
球付き蒸溜管で蒸溜した.生成物0.3 0 3 gが
得られた.収率:62%、ee : 97%。
g,エーテル/ヘキサン1:5)で精製した.収率:
0.082g (90%)、ee:98%、de:)9
7%. ジエチルエーテル60allに溶解した実施例9b)の
ジルコニウム化合物の5mmol溶液を、74℃に冷却
してベンズアルデヒド0.4d(4 1lmol)を加
え、混合物を4時間同温度で攪拌し、次いで45%NH
.F 水溶液30+dを加えた.ベージュ色の懸濁液の
温度を室温に上げ、更に12時間攪拌後、吸引濾過し、
濾液をロータリエバボレータで濃縮した.粗生成物(0
.81’g)にフラッシュクロマトグラフィー(シリカ
ゲル80g、長さ25an,断面2国、30−/画分、
0.4バール、エーテル/ヘキサン1:5)を行い、
球付き蒸溜管で蒸溜した.生成物0.3 0 3 gが
得られた.収率:62%、ee : 97%。
ジルコニウム化合物の代わりに、実施例10b)の相当
するハフニウム化合物が用いられた場合、同じ生成物が
得られた.収率:60%、ee:97%.
するハフニウム化合物が用いられた場合、同じ生成物が
得られた.収率:60%、ee:97%.
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 式( I )の化合物 ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) (式中、Meは四価のチタン、ジルコニウム又はハフニ
ウムであり、R_1は直鎖状若しくは分岐状アルキル基
、アルケニル基、アルキニル基、又は非置換若しくは炭
素数1〜4のアルキル基で置換されたシクロアルキル基
若しくはシクロアルケニル基、又は非置換若しくは(C
_6H_5)_2P−、(R_6O)_2P(O)−、
(R_6)_3Si−、(R_6)_3SiO−、R_
6SO_2−、−S−(炭素数2〜4のアルキレン)−
S−又は−O−(炭素数2〜4のアルキレン)−O−に
よつて一置換若しくは多置換されたアリール基、アルカ
リール基、アラルキル基、アルカラルキル基、アラルケ
ニル基、アルカラルケニル基、アラルキニル基又はアル
カラルキニル基、ここにR_6はフェニル基、ベンジル
基又は炭素数1〜8のアルキル基、シアノ基、弗素原子
、ニトロ基、炭素数1〜12のアルキルチオ基、炭素数
1〜12のアルコキシ基、第二級アミノ基、又は−CO
R_7(ここで、R_7は一価のアルコールのラジカル
)であり;又はR_1は酸素原子若しくは窒素原子を介
して結合したエノール、エナミン又はエンヒドラジンの
ラジカルであり;R_2は非置換若しくはアルキル基、
アルケニル基、アルコキシ基、シクロアルキル基、アリ
ール基、アラルキル基、トリアルコキシシリル基、トリ
アルキルシリル基、R_6SO_2−又はハロゲン原子
で置換されたシクロペンタジエニル基又はインデニル基
であり、Yは炭素原子、Si又は−Si−O−SiR_
3R_4−であり、R_3及びR_4は、互いに独立し
て水素原子、直鎖状又は分岐状アルキル基若しくはアル
ケニル基、又は非置換若しくは炭素数1〜4のアルキル
基で置換されたシクロアルキル基若しくはシクロアルケ
ニル基、又はアリール基、アラルキル基、アルカリール
基、アルカラルキル基、アラルケニル基又はアルカラル
ケニル基であり、あるいはR_3及びR_4は、一緒に
なつて非置換若しくは−CN、−F、−Cl、−Br、
ニトロ基、炭素数1〜12のアルキルチオ基又は炭素数
1〜12のアルコキシ基で置換された、−C_nH_2
_n−(nは3ないし7)であり、R_5は非置換又は
炭素数1〜12のアルキル基、炭素数1〜12のアルコ
キシ基、炭素数1〜12のアルキルチオ基、シアノ基、
第二級アミノ基、第二級アミノカルボニル基、弗素原子
、炭素数6〜10のアリール基、R_6SO_2−、炭
素数1〜12のアルコキシメチル基、炭素数1〜12の
アルキルチオメチル基、第二級アミノメチル基若しくは
第二級アミノカルボニルメチル基で置換されたアリール
基、ヘテロアリール基、アラルキル基又はヘテロアリー
ルアルキル基、又は炭素数1〜12のアルキル基、炭素
数2〜12のアルケニル基、炭素数2〜12のアルキニ
ル基、炭素数3〜8のシクロアルキル基又は炭素数3〜
8のシクロアルケニル基であり、C(1)及びC(2)
は、主として対掌異性体又はジアステレオ異性体の形態
における、キラルな炭素原子である)。 2 R_1が直鎖状又は分岐状の炭素数1〜12のアル
キル基、炭素数2〜12のアルケニル基、炭素数2〜1
2のアルキニル基、3ないし8個の環炭素原子を有する
シクロアルキル基若しくはシクロアルケニル基、非置換
又は第二級アミノ基、シアノ基、ニトロ基、炭素数1〜
6のアルキルチオ基、炭素数1〜6のアルコキシ基若し
くは−COR_7(R_7は炭素数1〜12のアルコキ
シ基)で一置換若しくは多置換された炭素数6〜12の
アリール基、炭素数7〜16のアルカリール基、炭素数
7〜16のアラルキル基、炭素数8〜16のアルカラル
キル基、炭素数8〜16のアラルケニル基、炭素数9〜
16のアルカラルケニル基、炭素数8〜16のアラルキ
ニル基又は炭素数9〜16のアルカラルキニル基であり
;又はR_1がエノールの酸素原子若しくはエナミンの
窒素原子を介して結合したエノール、エナミン又はエン
ヒドラジンラジカルである請求項1記載の化合物。 3 R_1が直鎖状又は分岐状の炭素数1〜6のアルキ
ル基、炭素数2〜6個のアルケニル基、炭素数2〜6の
アルキニル基、3ないし6個の環炭素原子を有するシク
ロアルキル基若しくはシクロアルケニル基、非置換又は
第二級アミノ基、シアノ基、ニトロ基、炭素数1〜6の
アルコキシ基、炭素数1〜6のアルキルチオ基、若しく
は −COR_7(R_7は炭素数1〜12のアルコキシ基
)によって一置換若しくは多置換されたフェニル基、(
炭素数1〜10のアルキル)−フェニル基、フェニル−
(炭素数1〜2のアルキル)基、(炭素数1〜8のアル
キル)−フェニル−(炭素数1〜2のアルキル)基、フ
ェニルビニル基、フェニルエチニル基、フェニルプロパ
ルギル基、(炭素数1〜8のアルキル)−フェニルビニ
ル基、(炭素数1〜8のアルキル)−フェニルエチニル
基又は(炭素数1〜7のアルキル)−フェニルプロパギ
ル基であり;又はR_1は炭素数20以下で、エノール
の酸素原子若しくはエナミンの窒素原子を介して結合し
たエノール、エナミン又はエンヒドラジンのラジカルで
ある請求項2記載の化合物。 4 R_1が非置換又は第二級アミノ基、シアノ基、ニ
トロ基、炭素数1〜6のアルコキシ基、炭素数1〜6の
アルキルチオ基、若しくは−COR_7(R_7は炭素
数1〜12のアルコキシ基)で一置換若しくは多置換さ
れたメチル基、エチル基、ビニル基、アリル基、クロチ
ル基、エチニル基、プロパルギル基、シクロペンチル基
、シクロヘキシル基、シクロペンテニル基、シクロヘキ
セニル基、フェニル基、メチルフェニル基、ベンジル基
、1−フェニルエタ−2−イル基、メチルベンジル基、
フェニルビニル基、メチルフェニルビニル基、フェニル
エチニル基、フェニルプロパルギル基、メチルフェニル
エチニル基、ジメチルフェニルエチニル基、又はジメチ
ルフェニルプロパルギル基であり;又はR_1が2ない
し16の炭素原子を有し、エノールの酸素原子若しくは
エナミンの窒素原子を介して結合したエノール、エナミ
ン又はエンヒドラジンのラジカルである請求項2記載の
化合物。 5 R_2が非置換又は炭素数1〜6のアルキル基、炭
素数2〜6のアルケニル基、炭素数1〜6のアルコキシ
基、5又は6個の環炭素原子を有するシクロアルキル基
、フェニル基、ベンジル基、アルコキシ基に1ないし6
個の炭素原子を有するトリアルコキシシリル基、アルキ
ル基に1ないし6個の炭素原子を有するトリアルキルシ
リル基、F、Cl、Br、又はR_6SO_2−(R_
6はフェニル基、トリル基、ベンジル基又は炭素数1〜
6のアルキル基)で置換されたシクロペンタジエニル基
又はインデニル基である請求項1記載の化合物。 6 R_2が非置換又は炭素数1〜6のアルキル基又は
トリメチルシリル基で置換されたシクロペンタジエニル
基である請求項5記載の化合物。 7 R_3及びR_4が、互いに独立して水素原子、炭
素数1〜12のアルキル基、炭素数2〜12のアルケニ
ル基、5又は6個の環炭素原子を有し、非置換又は炭素
数1〜14のアルキル基で置換されたシクロアルキル基
若しくはシクロアルケニル基、又はフェニル基、ナフチ
ル基、ベンジル基、(炭素数1〜6のアルキル)−フェ
ニル基、又は(炭素数1〜6のアルキル)−ベンジル基
、又はR_3及びR_4が一緒になって、非置換又は−
CN、−F、−Cl、ニトロ基、炭素数1〜6のアルキ
ルチオ基若しくは炭素数1〜6のアルコキシ基で置換さ
れた−C_nH_2_n−(但し、nは4ないし6)で
ある請求項1記載の化合物。 8 R_3及びR_4が、互いに独立して、水素原子、
炭素数1〜6のアルキル基、非置換若しくは炭素数1〜
6のアルキル基で置換されたシクロペンチル基若しくは
シクロヘキシル基、又はフェニル基、ベンジル基、(炭
素数1〜6のアルキル)−フェニル基、又は(炭素数1
〜6のアルキル)−ベンジル基、又はR_3及びR_4
が、一緒になってペンタメチレン基又はテトラメチレン
基である請求項7記載の化合物。 9 R_3が水素原子であり、R_4又はR_3及びR
_4が水素原子以外の基である請求項1記載の化合物。 10 Yが炭素原子である請求項1記載の化合物。 11 R_5が、非置換又は炭素数1〜6のアルキル基
若しくは弗素原子で置換された炭素数2〜4のアルケニ
ル基、2−フリル基若しくは炭素数6〜10のアリール
基である請求項1記載の化合物。 12 アリール基がフェニル基、メチルフェニル基、ペ
ンタフルオロフェニル基又はナフチル基である請求項1
1記載の化合物。 13 R_5がプロペニル基、フェニル基、ペンタフル
オロフェニル基、メチルフェニル基又はフリル基である
請求項11記載の化合物。 14 R_1が直鎖状又は分岐状の炭素数1〜4のアル
キル基、炭素数2〜6のアルケニル基、又は3ないし6
個の環炭素原子を有し非置換若しくは炭素数1〜6のア
ルキル基で置換で置換されたシクロアルキル基若しくは
シクロアルケニル基、又はR_1は非置換又は第二級ア
ミノ基、シアノ基、ニトロ基、炭素数1〜6のアルコキ
シ基、炭素数1〜6のアルキルチオ基若しくは−COR
_7(R_7は炭素数1〜12のアルコキシ基)で置換
されたフェニル基、ベンジル基、(炭素数1〜6のアル
キル)−フェニル基、又は(炭素数1〜6アルキル)−
ベンジル基であり、又はR_1は炭素数12以下でエノ
ールの酸素原子又はエナミンの窒素原子を介して結合し
たエノール、エナミン又はエンヒドラジンのラジカルで
あり、R_2は非置換若しくは炭素数1〜4のアルキル
基又はトリメチルシリル基で置換されたシクロペンタジ
エニル基であり、Yは炭素原子であり、R_3は水素原
子又はR_4と同義であり、R_4は炭素数1〜12の
アルキル基、フェニル基、ベンジル基、シクロペンチル
基又はシクロヘキシル基であり、又はR_3及びR_4
は一緒になつてテトラメチレン又はペンタメチレン基で
あり、R_5は炭素数2〜4のアルケニル基、フェニル
基、ペンタフルオロフェニル基又はフリル基であり、M
eは四価のチタン、ジルコニウム又はハフニウムである
請求項1記載の化合物。 15 式( I )におけるC(1)及びC(2)原子が
R,R−配置又はS,S−配置の何れかである請求項1
記載の化合物。 16 Yが、ジアステレオ異性体の形態のキラルな炭素
原子である請求項15記載の化合物。 17 R_1が炭素数1〜4のアルキル基、アリル基又
は2ないし12個の炭素原子を有し、第二級アミノ基で
置換されてもよいエステル−エノレ−トラジカルであり
、R_2は非置換又はメチル基若しくはトリメチルシリ
ル基で置換されたシクロペンタジエル基であり、R_3
は水素原子又はR_4と同義であり、R_4は炭素数1
〜6のアルキル基であり、R_5はプロペニル基、フェ
ニル基、ペンンタフルオロフェニル基又はフリル基であ
り、Meは四価のチタン、ジルコニウム又はハフニウム
であり、Yは炭素原子である請求項1記載の化合物。 18 不活性溶媒及び不活性保護気体の存在下、式(I
I)の化合物 ▲数式、化学式、表等があります▼(II) を、式(III)の化合物 ▲数式、化学式、表等があります▼(III) (式中、R_1、R_2、R_3、R_4、R_5、M
e及びYは上記と同義であり、Zはアニオンであり、M
^■はLi^■、Na^■、K^■、MgX^■、Zn
X^■、CdX^■、HgX^■、CuX^■又は四級
アンモニウムであり、Xはハロゲン原子である)と反応
させることよりなる請求項1記載の式( I )の化合物
の製法。 19 式(II)の化合物 ▲数式、化学式、表等があります▼(II) (式中、R_2、R_3、R_4、R_5、Y及びMe
は請求項1において定義したものと同じであり、Zはア
ニオンである)。 20 アルデヒド基、ケト基及び/又はN−置換イミン
基を含む化合物に対する、対掌体選択的反応剤としての
、請求項1記載の式( I )の化合物の使用。 21 アルデヒド、ケトン又はN−置換アルヂミン若し
くはケチミンを、アルデヒド基、ケト基又はイミノ基の
1モル当たり請求項1記載の式( I )の化合物の1モ
ルと反応させることよりなる第二級及び第三級アルコー
ル、並びに第二級アミンの製法。 22 −80ないし30℃の温度で行なう請求項21記
載の方法。
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