JPH02281731A - 気相反応装置 - Google Patents

気相反応装置

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JPH02281731A
JPH02281731A JP10419689A JP10419689A JPH02281731A JP H02281731 A JPH02281731 A JP H02281731A JP 10419689 A JP10419689 A JP 10419689A JP 10419689 A JP10419689 A JP 10419689A JP H02281731 A JPH02281731 A JP H02281731A
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JP
Japan
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gas
susceptor
reactor
partition wall
shaft
Prior art date
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Pending
Application number
JP10419689A
Other languages
English (en)
Inventor
Koichi Iio
飯尾 浩一
Kazuo Nakajima
一男 中嶋
Katsufumi Goto
後藤 勝文
Yoichi Ueda
陽一 上田
Shigeo Sugawara
菅原 繁夫
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Nippon Steel Corp
Original Assignee
Sumitomo Metal Industries Ltd
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Publication date
Application filed by Sumitomo Metal Industries Ltd filed Critical Sumitomo Metal Industries Ltd
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Publication of JPH02281731A publication Critical patent/JPH02281731A/ja
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明はウェハ等の試料上に成膜し、また試料表面をエ
ツチングするのに用いる気相反応装置に関する。
〔従来技術〕
第3図は一般的な気相反応装置の模式的断面図であり、
ベース40上に気密封止可能に設置したペルジャー41
内に、円盤形のサセプタ43を前記ベース40を通して
ペルジャー41内に導入した回転軸47の上端部に固定
して水平に配置し、またペルジャー41上に赤外線ラン
プ等の加熱ランプ44を配置して構成しである。
而して例えばシリコン膜を形成する場合はサセプタ43
上にウェハWを載置し、ペルジャー41の頂部中央に開
口しである導入口41aから、先ず水素をキャリアガス
として導入し、ベース40に開口しである排出口41b
から排気する。次にサセプタ43を水平回転させつつ加
熱ランプ44にてサセプタ43及びウェハWを所定温度
に加熱した後、導入口41aからシラン(SiHn)を
含む水素キャリアガスを導入すると、シランが分解して
ウェハW上にシリコンが付着堆積せしめられ、成膜が行
われることとなる。
ところでこのような気相反応装置にあってはシラン等の
反応ガスをペルジャー41の頂部中央から導入するため
、ペルジャー41内におけるサセブタ43上の反応ガス
濃度は、ペルジャー41内の中央部で高く、周縁部に向
かうに従って低下する傾向があり、ペルジャー41内の
軸中心口りにサセプタ43を回転させた場合は、ウェハ
W上における膜厚にサセプタ43の回転中心寄りに位置
している部分と、回転中心から離れて位置している部分
とでばらつきが生じるのを避けることが出来ないという
欠点があった。
この対策として、近年にあってはサセプタを反応炉内で
公転させつつ自転させる、所謂遊星運動を行わせ、膜厚
の均一化を図る技術が提案されている(特開昭62−2
77731号)。
〔発明が解決しようとする課題〕
このような技術にあってはペルジャー内における反応ガ
ス濃度分布に若干のばらつきが存在しても膜厚の均一化
を達成し得る効果がある反面、ヘルジャー内の気密保持
のためサセプタを公転させつつ自転させるための駆動伝
動機構等もペルジャー内に設ける必要がある。しかし駆
動伝動機構の部品は通常ステンレス鋼製であるが反応ガ
スと接触すると腐食され、またギア相互の摩耗等により
生じた粉塵、所謂パーティクルがウェハW表面に付着し
、ウェハWが汚染されて製品品質を低下させ、品質にば
らつきを生ぜしめる等の問題があった。
本発明はかかる事情に鑑みなされたものであって、その
目的とするところは駆動伝動機構の腐食を防止し、また
駆動伝動部分から生じる粉塵等のパーティクルが試料面
に付着するのを防止し得るようにした気相反応装置を提
供するにある。
〔課題を解決するための手段〕
本発明に係る気相反応装置は、サセプタを公転させる軸
に、反応炉内をサセプタの設置域と、公転、自転のため
の駆動伝動機構の設置域とに仕切る区画壁を設け、炉壁
と前記区画壁との対向部分の一方に突条を設け、また他
方に前記突条に対向して気体を吹出す吹出口を開口させ
る。
〔作用〕
本発明にあってはこれによって、反応炉内における駆動
伝動機構の設置域とサセプタの設置域との相互間の気体
、微粒子の通流を抑制し得る。
〔実施例〕
以下本発明をその実施例を示す図面に基づき具体的に説
明する。第1図は本発明装置の模式的縦断面図であり、
図中1は反応炉、2は回転テーブル、3はサセプタ、4
は加熱ランプを示している。
反応炉1は中空円筒形に形成され、本体部1a(!:蓋
部1bとからなり、蓋部1bは本体部1aに対し気密状
態に装着し得るようになっている。反応炉l内にはその
中心部に反応炉1の本体部1aの下部壁を、磁性流体シ
ール部材5aを用いて気密状態に貫通して回転軸5の上
端部が突き出されており、その上端部には反応炉1内を
蓋部1bの直下で上、下に仕切る、直径が反応炉1の内
径よりも僅かに小さい円板形の区画壁6が水平に固定さ
れ、該区画壁6にて反応炉1内が回転テーブル2、サセ
プタ3の設置域Aと、サセプタ3を公転及び自転させる
駆動伝動機構の設置域Bとに区分されている。また回転
軸5の下端には反応炉1の外部においてモータMが連繋
せしめられており、モータMの駆動によって区画壁6が
回転せしめられるようになっている。
区画壁6の上面中央には軸7が立設されており、その上
端には回転テーブル2の下部中心を固定しである。
回転テーブル2は円板形に形成され、その周方向に略等
間隔を隔てた複数個所に夫々回転中心から等しい距離を
隔てた位置を回転中心とするサセプタ3が回転テーブル
2と同一平面内で回転するよう嵌め込み支持されている
。各サセプタ3の下面中央には前記区画壁6を上下方向
に貫通させた状態で軸支されている軸8の上端部が固定
されており、また軸8の下端部には夫々ギア8aが固定
され、各ギア8aを区画壁6下の反応炉1の底壁に軸5
と同心状に固定したリングギアlOに噛合せしめである
。モータMにより軸5が回転せしめられると区画壁61
回転テーブル2が回転軸5回りに回転せしめられ、区画
壁6に軸支されている軸8も回転軸5回りに公転するが
軸8はギア8aを介してリングギア10と噛合している
ため、軸8、換言すればサセプタ3は回転軸5回りに公
転しつつ軸8回りに自転せしめられることとなる。
反応炉1の内周壁と対向する区画壁6の外周面にはその
厚さ方向の略中夫に全周にわたって断面三角形をなす突
条6aが炉壁側に向けて突出せしめてあり、またこれと
対向する反応炉1の本体部1aの内周壁には断面三角形
をなす■溝1cが全周にわたって前記突条6aと対向さ
せて形成しである。
この■溝1c内にはその周方向の複数個所にH2ガス等
のパージガスの吹出口1dが開口せしめてあり、各吹出
口1dから吹き出されたパージガスは突条6aによって
設置域A、B側に分かれて分流し、設置域A内の反応ガ
スが設置域B側へ、また設置域B内のパーティクルが設
置域A側に侵入するのを防止するようになっている。
その地図中14は反応ガス等の給気口、15.16は排
気口である。給気口14は反応炉lの蓋部1bにおける
頂部中央に開口せしめられ、また排気口I5は反応炉1
の本体部1aにおける底壁に開口せしめられ、更に排気
口16は回転円板の上面に近接して本体部1aの周壁に
開口せしめられている。
而してこのような本発明装置にあってはウェハWを各サ
セプタ3上に載置した後反応炉1の蓋部1bを装着し、
従来と同様に先ず給気口14. ldから反応炉1内に
If、ガスを導入しつつ、排気口15.16を通じて排
気し、反応炉lの内部を所定の圧力に維持する。この状
態でモータMを駆動すると回転軸5によって回転テーブ
ル2及びサセプタ3が回転し、同時にサセプタ3は軸8
回りに自転する。
加熱ランプ4を点灯し、回転テーブル2.サセプタ3を
所定温度に加熱した後、給気口14を通じて反応ガスを
導入すると反応ガスは回転テーブル2上を中央部から外
側に向けて放射状に流れる間に分解され、ウェハW上に
堆積し、成膜が行われることとなる。
なお、この間給気口14. ldからは112ガスの供
給を、また排気口15.16からは排気を継続的に行う
給気口1dから供給されたH2ガスは突条6aにて分岐
されて、一部はサセプタ設置域A側に、また他部は駆動
伝動機構の設置域B gIjに分流し、サセプタ設置域
A内の反応ガスが駆動伝動機構設置域Bへ、また逆に駆
動伝動機構の設置域B内で生じたパーティクルがサセプ
タの設置域Aへ侵入するのを確実に防止し得ることとな
る。
第2図は本発明の他の実施例を示す模式的縦断面図であ
り、図中21は反応炉、22は回転テーブル、23はサ
セプタ、24は加熱ランプを示している。反応炉21は
中空の円筒形に形成され、本体部21aと蓋部21bと
からなり、蓋部21bは本体部21aに対し気密状態に
装着し得るようになっている。反応炉21内の下部には
磁性流体シール部材25が設置され、またこの磁性流体
シール部材25上に区画壁部材26が同心状に設置され
ている。区画壁部材26の下面中央にはここに上端を固
定した回転軸27の下端が反応炉21の底壁を通して外
部に突き出すよう立設されており、この下端部にモータ
Mを連繋せしめ、該モータMの駆動によって磁性流体シ
ール部材25の外輪部25b及び区画壁部材26が一体
的に回転せしめられるようになっている。区画壁部材2
6は上端を閉鎖した円筒形に形成されており、その上面
中央には回転軸27が立設され、該回転軸27の上端に
回転テーブル22が同心状に固定されている。
磁性流体シール部材25は支持筒37に固定した内輪2
5aとこれに軸受25d及び磁性流体25eを介在させ
て軸支した外輪25bとからなり、外輪25bは内輪2
5a回りに気密状態で回転し得るようになっている。
回転テーブル22は、その周方向の複数個所にサセプタ
23が夫々回転軸27に対して同心状に配設され、夫々
回転テーブル22に対し同一平面上で回転し得るよう嵌
め込み支持されている。各サセプタ23の下面中央には
自転のための軸28が夫々固定されており、各軸28は
区画壁部材26を貫通して区画壁部材26の下面に固定
しである磁性流体シール部材29に軸支したギア30の
軸30aに連結しである。
磁性流体シール部材29にはギア30の軸30aをこれ
との間に軸受及び磁性流体(いずれも図示せず)を介在
させて気密状態で相対回転可能に軸支されている。各ギ
ア30は反応炉21の底壁に回転軸と同石状に立設した
支持筒31の上端部に固定しである固定ギア32に噛合
せしめられており、回転軸27が回転せしめられたとき
これに伴う回転テーブル22及び区画壁部材26の回転
に伴ってギア30が固定ギア32回りに回転する結果、
各サセプタ23が自転せしめられるようになっている。
区画壁部材26の上部壁26a及び側周壁26bには石
英製カバー26cが外嵌固定せしめてあり、このカバー
26cにおける側周部外面には全周にわたって、断面三
角形状をなす突条26dが形成され、またこの突条26
dと対向する反応炉21の側周壁内面には多数の給気口
21dが開口せしめられており、各給気口21dから噴
出されたガス(主にH2ガス)は突条26dによって上
、下に2分岐され、上方に分岐されたガスは反応炉21
の蓋部21bに開口した排気口21eから、また下方に
分岐されたガスは反応炉2Iの底壁開口した排気口15
から夫々排出されるようになっている。
一方この磁性流体シール部材29内に挿入されているギ
ア30の軸30aの直径は内輪29aの直径よりも小さ
く形成してあり、また軸長方向の中間部外周には断面三
角形状の突条28aを全周にわたって形成し、この突条
28aと対向する磁性流体シール部材29には給気口2
9aを開口してあり、ここから吹き出したガスを突条2
8aにて上、下方向に二分岐するようにしである。上方
に分岐されたガスは、区画壁部材26の上方に流出し、
排気口21eから排出され、また下方に分岐されたガス
は、ギア30の軸30a内に開口した排気口29bから
排出されるようになっている。
なお、前記給気口29aには給気管35の一端が連結さ
れ、その他端は磁性シール部材25の外輪25b及び内
輪25a及び反応炉21の底壁を通して外部に導出され
ており、また排気口29bにも排気管36の一端が連結
され、その他端は磁性流体シール部材25の外輪25b
、内輪25a及び反応炉21の底壁を通して外部に導出
されている。
而してこのような実施例にあっては、モータMを駆動し
、回転テーブル22を回転させ、各サセプタ23を回転
軸回りに公転させつつ軸回りに自転せしめ、加熱ランプ
24にて所定温度に迄加熱した後、給気口21fから反
応ガスを供給し、各サセプタ23上の試料S上に成膜を
行う。余剰のガスは排気口21eから排出する。また各
給気口21d、 29aから吹き出されたパージガスは
各突条26d、 28aに向けて噴出し、パージガスを
上、下に分岐し、上方に分岐したガスは反応炉21と区
画壁部材26との炉壁との隙間を通じて領域A内に導き
、余剰ガスと共に排気口21eから排出する。また下方
に分岐したガスは反応炉21と区画壁部材26.磁性流
体シール部材25との管の隙間を通じて反応炉21の下
方に導き排気口15から外部に排出する。
これによってサセプタの設置域Aと駆動伝動機構の設置
域Bとの間での反応ガス、パーティクルの通流が効果的
に抑制されることとなる。
〔効果〕
以上の如く本発明装置にあってはサセプタ設置域と駆動
伝動機構の設置域とを区画壁にて区分すると共にこの区
画壁と対向壁との管の一方に突条を、他方にパージガス
の吹出口を設け、パージガスを分岐して反応ガス、パー
ティクルの侵入を防止するから、反応ガスが駆動伝動機
構を腐食するのを防止し得ることは勿論、摩耗により発
生する粉塵等が浮遊してサセプタ領域に侵入し、試料に
付着するのを効果的に抑制し得ることとなって、装置寿
命の大幅な延命が図れることは勿論、製品品質を高め得
、品質のばらつきも少ないなど本発明は優れた効果を奏
するものである。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明装置の模式図、第2図は本発明の他の実
施例を示す模式図、第3図は一般的な気相反応装置の模
式図である。 1・・・反応炉 2・・・回転テーブル 3・・・サセ
プタ4・・・加熱ランプ 5・・・軸 6・・・区画壁
 7,8・・・軸持 許 出願人  住友金属工業株式
会社代理人 弁理士  河  野  登  夫図 弔 図

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、試料を載置すべきサセプタを反応炉内に公転させつ
    つ自転するよう配設した気相反応装置において、 前記サセプタを公転させる軸に、反応炉内 をサセプタの設置域と、公転、自転のための駆動伝動機
    構の設置域とに仕切る区画壁を設け、炉壁と前記区画壁
    との対向部分の一方に突条を設け、また他方に前記突条
    に対向して気体を吹出す吹出口を開口させたことを特徴
    とする気相反応装置。
JP10419689A 1989-04-24 1989-04-24 気相反応装置 Pending JPH02281731A (ja)

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Application Number Priority Date Filing Date Title
JP10419689A JPH02281731A (ja) 1989-04-24 1989-04-24 気相反応装置

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JP10419689A JPH02281731A (ja) 1989-04-24 1989-04-24 気相反応装置

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JPH02281731A true JPH02281731A (ja) 1990-11-19

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ID=14374227

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JP10419689A Pending JPH02281731A (ja) 1989-04-24 1989-04-24 気相反応装置

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JP (1) JPH02281731A (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005077001A (ja) * 2003-09-01 2005-03-24 Oppc Co Ltd バッチ式熱処理装置

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005077001A (ja) * 2003-09-01 2005-03-24 Oppc Co Ltd バッチ式熱処理装置

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