JPH02278214A - 気密被覆光ファイバ及びその製造方法 - Google Patents
気密被覆光ファイバ及びその製造方法Info
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C25/00—Surface treatment of fibres or filaments made from glass, minerals or slags
- C03C25/10—Coating
- C03C25/104—Coating to obtain optical fibres
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
本発明は、光ファイバの外周にアモルファスカーボンを
主成分とした気密被覆層が設けられている気密被覆光フ
ァイバ及びその製造方法に関するものである。
主成分とした気密被覆層が設けられている気密被覆光フ
ァイバ及びその製造方法に関するものである。
[従来技術]
光ファイバは、水素や水分を吸収すると、伝送損失が増
加する。光ファイバにはプラスチックが被覆されている
が、プラスチック被覆は水素や水分を通す多孔質なもの
であるので、空気中の水素や水分を通す。従って、前述
した水素や水分の透過による伝送損失増加の問題が起っ
ている。
加する。光ファイバにはプラスチックが被覆されている
が、プラスチック被覆は水素や水分を通す多孔質なもの
であるので、空気中の水素や水分を通す。従って、前述
した水素や水分の透過による伝送損失増加の問題が起っ
ている。
この問題を避けるために、光ファイバの外周にアモルフ
ァスカーボンよりなる気密被覆層を設けることが提案さ
れている。アモルファスカーボンは、緻密であり、これ
を被覆した光ファイバは水素や水分を通しにくく、伝送
損失が長期間に亘って増加しない。
ァスカーボンよりなる気密被覆層を設けることが提案さ
れている。アモルファスカーボンは、緻密であり、これ
を被覆した光ファイバは水素や水分を通しにくく、伝送
損失が長期間に亘って増加しない。
光ファイバに対するアモルファスカーボンの被覆は、熱
CVD法、プラズマCVD法等で行われている。この場
合、アモルファスカーボンの被覆は、数十に@に亘って
安定して行う必要があるが、非常に難しい。
CVD法、プラズマCVD法等で行われている。この場
合、アモルファスカーボンの被覆は、数十に@に亘って
安定して行う必要があるが、非常に難しい。
従来は、アモルファスカーボンの被覆後、光ファイバを
高温の水素雰囲気中に長期間晒して伝送損失の増加を調
べていた。
高温の水素雰囲気中に長期間晒して伝送損失の増加を調
べていた。
[発明が解決しようとする課題]
しかしながら、このような検査の仕方では、検査に非常
に時間が掛かり、且つ全数このような検査を行うのでは
費用が掛かる問題点があった。光フアイバ上にアモルフ
ァスカーボン層を安定して被覆できたかどうかを連続し
て測定することができれば良いが、アモルファスカーボ
ン層の成膜状態を測定することは難しい。
に時間が掛かり、且つ全数このような検査を行うのでは
費用が掛かる問題点があった。光フアイバ上にアモルフ
ァスカーボン層を安定して被覆できたかどうかを連続し
て測定することができれば良いが、アモルファスカーボ
ン層の成膜状態を測定することは難しい。
本発明の目的は、アモルファスカーボン層の成膜状態を
容易に測定できる構造の気密被覆光ファイバ及びその製
造方法を提供することにある。
容易に測定できる構造の気密被覆光ファイバ及びその製
造方法を提供することにある。
[課題を解決するための手段]
上記の目的を解決するための本発明の詳細な説明すると
、次の通りである。
、次の通りである。
請求項(1)に記載の気密被覆光ファイバは、光ファイ
バの外周にアモルファスカーボンを主成分とし金属成分
の入った気密被覆層が設けられていることを特徴とする 請求項(2)に記載の気密被覆光ファイバの製造方法は
、リアクタの中に炭素化合物のガスと金属化合物のガス
とを供給し、プラズマCVD法で光ファイバの外周にア
モルファスカーボンを主成分とし金属成分の入った気密
被覆層を設けることを特徴とする。
バの外周にアモルファスカーボンを主成分とし金属成分
の入った気密被覆層が設けられていることを特徴とする 請求項(2)に記載の気密被覆光ファイバの製造方法は
、リアクタの中に炭素化合物のガスと金属化合物のガス
とを供給し、プラズマCVD法で光ファイバの外周にア
モルファスカーボンを主成分とし金属成分の入った気密
被覆層を設けることを特徴とする。
[作用]
請求項(1)に記載の気密被覆光ファイバによれば、気
密被覆がアモルファスカーボンを主成分とし金属成分の
入った構成なので、該金属成分を利用して測定を行うこ
とにより、アモルファスカーボン層の成膜状態の均一性
を容易に測定できる。
密被覆がアモルファスカーボンを主成分とし金属成分の
入った構成なので、該金属成分を利用して測定を行うこ
とにより、アモルファスカーボン層の成膜状態の均一性
を容易に測定できる。
請求項(2)に記載の気密被覆光ファイバの製造方法で
は、金属化合物を用いているので、容易にガス化でき、
該金属化合物のガスと炭素化合物のガスとを用いること
により、・プラズマCVD法で容易にアモルファスカー
ボンを主成分とし金属成分の入った気密被覆層を光ファ
イバの外周に設けることができる。
は、金属化合物を用いているので、容易にガス化でき、
該金属化合物のガスと炭素化合物のガスとを用いること
により、・プラズマCVD法で容易にアモルファスカー
ボンを主成分とし金属成分の入った気密被覆層を光ファ
イバの外周に設けることができる。
[実施例]
以下、本発明の実施例を図面を参照して詳細に説明する
。
。
第1図は、本発明に係る気密被覆光ファイバ1の構造の
一実施例を示したものである。本実施例の気密被覆光フ
ァイバ1は、光ファイバ2の外周にアモルファスカーボ
ンを主成分とし金属成分の入った気密被覆層3が設けら
れて構造になっている。
一実施例を示したものである。本実施例の気密被覆光フ
ァイバ1は、光ファイバ2の外周にアモルファスカーボ
ンを主成分とし金属成分の入った気密被覆層3が設けら
れて構造になっている。
このように気密被覆層のアモルファスカーボンの中に金
属成分を入れておくと、該金属成分を利用して渦流探傷
法、磁場変位測定法等により、アモルファスカーボン層
の成膜状態を容易に測定できる。
属成分を入れておくと、該金属成分を利用して渦流探傷
法、磁場変位測定法等により、アモルファスカーボン層
の成膜状態を容易に測定できる。
金属成分の原料としては、例えばFe系(Fe−B、F
e−8t、Fe−P、Fe (0)、FeNi系、Fe
Co系等アモルファス合金になり易い金属化合物、或い
はSiC,Tic等の金属化合物を用いることができる
。このような金属化合物は、例えば((CH3) 3s
i)20等の有機金属の形、或いはTic、94等の形
で容易にガス化できる。
e−8t、Fe−P、Fe (0)、FeNi系、Fe
Co系等アモルファス合金になり易い金属化合物、或い
はSiC,Tic等の金属化合物を用いることができる
。このような金属化合物は、例えば((CH3) 3s
i)20等の有機金属の形、或いはTic、94等の形
で容易にガス化できる。
アモルファスカーボンの原料ガスとしては、例えば、C
H4,C3H8,C2H2,C2H4゜C6H5CHs
、C6H5等をガス化して用いる。
H4,C3H8,C2H2,C2H4゜C6H5CHs
、C6H5等をガス化して用いる。
第2図は、本発明に係る気密被覆光ファイバの製造方法
の一実施例を示したものである。まず、光フアイバ母材
4を加熱炉5で加熱溶融させて線引きし、光ファイバ2
を得、該光ファイバ2をリアクタ5に通す。該リアクタ
6のガス供給ロアから該リアクタ6内に原料ガスを供給
する。原料ガスとしでは、例えばC2H2ガス(炭素化
合物のガス)、Heガス(C2H2ガスの希釈ガス)。
の一実施例を示したものである。まず、光フアイバ母材
4を加熱炉5で加熱溶融させて線引きし、光ファイバ2
を得、該光ファイバ2をリアクタ5に通す。該リアクタ
6のガス供給ロアから該リアクタ6内に原料ガスを供給
する。原料ガスとしでは、例えばC2H2ガス(炭素化
合物のガス)、Heガス(C2H2ガスの希釈ガス)。
加熱した容器内のFe(COs)をArによってバブリ
ングして気相状にしたガスを供給する。該原料ガスをリ
アクタ6内でプラズマ化し、プラズマCVD法で光ファ
イバ2の外周にアモルファスカーボンを主成分とし金属
成分の入った気密被覆層3を設ける。なお、このとき光
ファイバ2は、高温状態であり、プラズマCVD反応は
光ファイバ2の外周で集中的に行われる。リアクタ6に
設けられている排気口8,9.10のうち、排気口8.
10は大気がリアクタ6内に混入されるのを防ぐための
ものであり、排気口9は光ファイバ2に付着しなかった
反応生成物及び未反応ガスをリアクタ6の外に排気させ
るためのものである。
ングして気相状にしたガスを供給する。該原料ガスをリ
アクタ6内でプラズマ化し、プラズマCVD法で光ファ
イバ2の外周にアモルファスカーボンを主成分とし金属
成分の入った気密被覆層3を設ける。なお、このとき光
ファイバ2は、高温状態であり、プラズマCVD反応は
光ファイバ2の外周で集中的に行われる。リアクタ6に
設けられている排気口8,9.10のうち、排気口8.
10は大気がリアクタ6内に混入されるのを防ぐための
ものであり、排気口9は光ファイバ2に付着しなかった
反応生成物及び未反応ガスをリアクタ6の外に排気させ
るためのものである。
リアクタ6から出てきた気密被覆光ファイバ1は、探傷
器11に通し、渦電流探傷法、磁場変位測定法等の手段
を用いて非接触で気密被覆層3のアモルファスカーボン
の成膜状態の均一性を測定する。
器11に通し、渦電流探傷法、磁場変位測定法等の手段
を用いて非接触で気密被覆層3のアモルファスカーボン
の成膜状態の均一性を測定する。
このようにして測定を行うと、アモルファスカーボンの
被覆状態を、金属成分の測定を利用して測定することが
できる。
被覆状態を、金属成分の測定を利用して測定することが
できる。
測定が終了した気密被覆光ファイバ1は、被覆ダイス1
2に通し、気密被覆層3の外周に紫外線硬化樹脂層を被
覆し、しかる後、紫外線硬化炉13に通し、紫外線硬化
樹脂層の硬化を行わせる。
2に通し、気密被覆層3の外周に紫外線硬化樹脂層を被
覆し、しかる後、紫外線硬化炉13に通し、紫外線硬化
樹脂層の硬化を行わせる。
[発明の効果]
以上説明したように、本発明によれば、下記のような効
果を得ることができる。
果を得ることができる。
請求項(1)に記載の気密被覆光ファイバによれば、気
密被覆がアモルファスカーボンを主成分とし金属成分の
入った構成なので、該金属成分を利用して測定すること
により、アモルファスカーボン層の成膜状態の均一性を
容易に測定できる。
密被覆がアモルファスカーボンを主成分とし金属成分の
入った構成なので、該金属成分を利用して測定すること
により、アモルファスカーボン層の成膜状態の均一性を
容易に測定できる。
請求項(2)に記載の気密被覆光ファイバの製造方法で
は、金属化合物を用いているので、容易にガス化でき、
該金属化合物のガスと炭素化合物のガスとを用いること
により、プラズマCVD法テ容易にアモルファスカーボ
ンを主成分とし金属成分のλった気密被覆層を光ファイ
バの外周に設けることができる。
は、金属化合物を用いているので、容易にガス化でき、
該金属化合物のガスと炭素化合物のガスとを用いること
により、プラズマCVD法テ容易にアモルファスカーボ
ンを主成分とし金属成分のλった気密被覆層を光ファイ
バの外周に設けることができる。
第1図は本発明に係る気密被覆光ファイバの一実施例の
横断面図、第2図は本発明に係る気密被覆光ファイバの
製造方法を実施する装置の一実施例を示す縦断面図であ
る。
横断面図、第2図は本発明に係る気密被覆光ファイバの
製造方法を実施する装置の一実施例を示す縦断面図であ
る。
Claims (2)
- (1)光ファイバの外周にアモルファスカーボンを主成
分とし金属成分の入った気密被覆層が設けられているこ
とを特徴とする気密被覆光ファイバ。 - (2)リアクタの中に炭素化合物のガスと金属化合物の
ガスとを供給し、プラズマCVD法で光ファイバの外周
にアモルファスカーボンを主成分とし金属成分の入った
気密被覆層を設けることを特徴とする気密被覆光ファイ
バの製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1098785A JP2644323B2 (ja) | 1989-04-20 | 1989-04-20 | 気密被覆光ファイバ及びその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1098785A JP2644323B2 (ja) | 1989-04-20 | 1989-04-20 | 気密被覆光ファイバ及びその製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH02278214A true JPH02278214A (ja) | 1990-11-14 |
JP2644323B2 JP2644323B2 (ja) | 1997-08-25 |
Family
ID=14229026
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1098785A Expired - Lifetime JP2644323B2 (ja) | 1989-04-20 | 1989-04-20 | 気密被覆光ファイバ及びその製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2644323B2 (ja) |
Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5612602A (en) * | 1979-07-12 | 1981-02-07 | Asahi Optical Co Ltd | Fiber for energy transmission |
JPS62272131A (ja) * | 1986-05-20 | 1987-11-26 | Fujikura Ltd | 光フアイバ温度センサ |
JPS63132138A (ja) * | 1986-11-22 | 1988-06-04 | Fujikura Ltd | 分布型湿度センサ |
JPS6415710A (en) * | 1987-07-09 | 1989-01-19 | Ricoh Kk | Optical fiber |
JPH02166410A (ja) * | 1988-12-21 | 1990-06-27 | Fujikura Ltd | ハーメチックコート光ファイバ |
JPH02263742A (ja) * | 1989-04-04 | 1990-10-26 | Furukawa Electric Co Ltd:The | 金属被覆光ファイバの製造方法 |
-
1989
- 1989-04-20 JP JP1098785A patent/JP2644323B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5612602A (en) * | 1979-07-12 | 1981-02-07 | Asahi Optical Co Ltd | Fiber for energy transmission |
JPS62272131A (ja) * | 1986-05-20 | 1987-11-26 | Fujikura Ltd | 光フアイバ温度センサ |
JPS63132138A (ja) * | 1986-11-22 | 1988-06-04 | Fujikura Ltd | 分布型湿度センサ |
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JPH02263742A (ja) * | 1989-04-04 | 1990-10-26 | Furukawa Electric Co Ltd:The | 金属被覆光ファイバの製造方法 |
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Publication number | Publication date |
---|---|
JP2644323B2 (ja) | 1997-08-25 |
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