JPH02308208A - 気密被覆光ファイバ及びその製造方法 - Google Patents
気密被覆光ファイバ及びその製造方法Info
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- JPH02308208A JPH02308208A JP1128733A JP12873389A JPH02308208A JP H02308208 A JPH02308208 A JP H02308208A JP 1128733 A JP1128733 A JP 1128733A JP 12873389 A JP12873389 A JP 12873389A JP H02308208 A JPH02308208 A JP H02308208A
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Landscapes
- Optical Fibers, Optical Fiber Cores, And Optical Fiber Bundles (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
［産業上の利用分野］
本発明は、光ファイバの外周にカーボン膜が設けられて
いる気密被覆光ファイバ及びその製造方法に関するもの
である。
いる気密被覆光ファイバ及びその製造方法に関するもの
である。
［従来の技術］
光ファイバは、水素や水分を吸収すると、伝送損失が増
加する。光ファイバにはプラスチックが被覆されている
が、プラスチック被覆は水素や水分を通す多孔質なもの
であるので、空気中の水素や水分を通す。従って、前述
した水素や水分の透過による伝送損失増加の問題が起っ
ている。この問題を避けるために、光ファイバの外周に
アモルファスカーボン等のカーボン膜よりなる気密被覆
層を設けることが提案されている。カーボン膜は、緻密
であり、これを被覆した光ファイバは水素や水分を通し
にくく、伝送損失が長期間に亘って増加しない。光ファ
イバに対するカーボン膜の被覆は、熱ＣＶＤ法、プラズ
マＣＶＤ法等で行われている。この場合、カーボン膜の
被覆は、数十Ｋｍに亘って安定して行う必要があるが、
非常に難しい。
加する。光ファイバにはプラスチックが被覆されている
が、プラスチック被覆は水素や水分を通す多孔質なもの
であるので、空気中の水素や水分を通す。従って、前述
した水素や水分の透過による伝送損失増加の問題が起っ
ている。この問題を避けるために、光ファイバの外周に
アモルファスカーボン等のカーボン膜よりなる気密被覆
層を設けることが提案されている。カーボン膜は、緻密
であり、これを被覆した光ファイバは水素や水分を通し
にくく、伝送損失が長期間に亘って増加しない。光ファ
イバに対するカーボン膜の被覆は、熱ＣＶＤ法、プラズ
マＣＶＤ法等で行われている。この場合、カーボン膜の
被覆は、数十Ｋｍに亘って安定して行う必要があるが、
非常に難しい。
従来は、カーボン膜の被覆後、光ファイバを高温の水素
雰囲気中に長期間隔して伝送損失の増加を調べていた。
雰囲気中に長期間隔して伝送損失の増加を調べていた。
［発明が解決しようとする課題］
しかしながら、このような検査の仕方では、検査に非常
に時間が掛かり、且つ全数このような検査を行うのでは
費用が掛かる問題点があった。光フアイバ上にカーボン
膜を安定して成膜できたかどうかを連続して測定するこ
とができれば良いが、カーボン膜の成膜状態を測定する
ことは難しい。
に時間が掛かり、且つ全数このような検査を行うのでは
費用が掛かる問題点があった。光フアイバ上にカーボン
膜を安定して成膜できたかどうかを連続して測定するこ
とができれば良いが、カーボン膜の成膜状態を測定する
ことは難しい。
本発明の目的は、カーボン膜の成膜状態を容易に測定で
きる構造の気密被覆光ファイバ及びその製造方法を提供
することにある。
きる構造の気密被覆光ファイバ及びその製造方法を提供
することにある。
［課題を解決するための手段］
上記の目的を解決するための本発明の詳細な説明すると
、次の通りである。
、次の通りである。
請求項（１）に記載′の気密被覆光ファイバは、光ファ
イバの外周にカーボン膜が設けられ、該カーボン膜の外
周に金属膜が設けられていることを特徴とする 請求項（２）に記載の気密被覆光ファイバの製造方法は
、第１のリアクタ内に光ファイバを通し−て該光ファイ
バの表面にカーボン膜を設け、該カーボン膜を有する前
記光ファイバを第２のリアクタ内に通して該カーボン膜
を接地した状態でその表面に金属膜を設け、該金属膜の
均一性を測定し、その測定データにより前記第１のリア
クタ内での前記カーボン膜の成膜条件を制御することを
特徴とする。
イバの外周にカーボン膜が設けられ、該カーボン膜の外
周に金属膜が設けられていることを特徴とする 請求項（２）に記載の気密被覆光ファイバの製造方法は
、第１のリアクタ内に光ファイバを通し−て該光ファイ
バの表面にカーボン膜を設け、該カーボン膜を有する前
記光ファイバを第２のリアクタ内に通して該カーボン膜
を接地した状態でその表面に金属膜を設け、該金属膜の
均一性を測定し、その測定データにより前記第１のリア
クタ内での前記カーボン膜の成膜条件を制御することを
特徴とする。
［作用］
請求項（１）に記載の気密被覆光ファイバは、光ファイ
バの外周のカーボン膜と金属膜とが共に設けられた構造
になっているので、気密性及び耐疲労特性が一層向上す
る。また、カーボン膜の均一性を、金属膜を測定するこ
とにより間接的に容易に測定できる。
バの外周のカーボン膜と金属膜とが共に設けられた構造
になっているので、気密性及び耐疲労特性が一層向上す
る。また、カーボン膜の均一性を、金属膜を測定するこ
とにより間接的に容易に測定できる。
請求項（２）に記載の気密被覆光ファイバの製造方法は
、カーボン膜を接地した状態で該カーボン膜に金属膜を
設けるので、カーボン膜に対して金属膜が１対１に対応
して成膜されることになる。
、カーボン膜を接地した状態で該カーボン膜に金属膜を
設けるので、カーボン膜に対して金属膜が１対１に対応
して成膜されることになる。
このため、測定容易な金属膜の均一性を測定することに
より、カーボン膜の均一性を間接的に測定することがで
きる。従って、測定容易な金属膜の均一性を測定して、
その測定データによりカーボン膜の成膜条件を制御する
と、カーボン膜の成膜が均一になるように容易に制御す
ることができる。
より、カーボン膜の均一性を間接的に測定することがで
きる。従って、測定容易な金属膜の均一性を測定して、
その測定データによりカーボン膜の成膜条件を制御する
と、カーボン膜の成膜が均一になるように容易に制御す
ることができる。
［実施例コ
以下、本発明の実施例を図面を参照して詳細に説明する
。
。
第１図は、本発明に係る気密被覆光ファイバ１の構造の
一実施例を示したものである。本実施例の気密被覆光フ
ァイバ１は、光ファイバ２の外周にアモルファスカーボ
ンよりなるカーボン膜３が設けられ、該カーボン膜３の
外周に金属膜４が設けられた構造になっている。
一実施例を示したものである。本実施例の気密被覆光フ
ァイバ１は、光ファイバ２の外周にアモルファスカーボ
ンよりなるカーボン膜３が設けられ、該カーボン膜３の
外周に金属膜４が設けられた構造になっている。
このような気密被覆光ファイバ１は、光ファイバ２の外
周のカーボン膜３と金属膜４とが共に設けられた構造に
なっているので、気密性及び耐疲労特性を一層向上させ
ることができる。また、カーボン膜３の均一性を、金属
膜４を測定することにより間接的に容易に測定できる。
周のカーボン膜３と金属膜４とが共に設けられた構造に
なっているので、気密性及び耐疲労特性を一層向上させ
ることができる。また、カーボン膜３の均一性を、金属
膜４を測定することにより間接的に容易に測定できる。
また、カーボン膜３の均一性を、金属膜４を測定するこ
とにより容易に測定することができる。
とにより容易に測定することができる。
第２図は、本発明に係る気密被覆光ファイバの製造方法
の第１実施例を示したものである。まず、光フアイバ母
材５を加熱炉６で加熱溶融させて線引きし、光ファイバ
２を得、該光ファイバ２を第１のリアクタ７に通す。第
１のリアクタ７内には、マスフローコントローラ８を経
てガス供給ロアａから原料ガスを稀釈ガスと共に供給す
る。原料ガスとしては、例えばＣＨ４，Ｃ３Ｈ８，Ｃ２
Ｈ２゜Ｃ２Ｈ４，Ｃ６Ｈ５ＣＨ３，Ｃ６Ｈ５等をガス化
して用いる。稀釈ガスとしては、Ｎ２ガスを用いる。該
第１のリアクタ７内には、加熱炉６を出た光ファイバ２
が加熱状態で入って来るので、熱ＣＶＤ法により該光フ
ァイバ２の外周にアモルファスカーボンよりなるカーボ
ン膜３を設ける。光ファイバ２に付着しなかった反応生
成物は、該第１のリアクタ７の排気ロアａから外に排気
させる。
の第１実施例を示したものである。まず、光フアイバ母
材５を加熱炉６で加熱溶融させて線引きし、光ファイバ
２を得、該光ファイバ２を第１のリアクタ７に通す。第
１のリアクタ７内には、マスフローコントローラ８を経
てガス供給ロアａから原料ガスを稀釈ガスと共に供給す
る。原料ガスとしては、例えばＣＨ４，Ｃ３Ｈ８，Ｃ２
Ｈ２゜Ｃ２Ｈ４，Ｃ６Ｈ５ＣＨ３，Ｃ６Ｈ５等をガス化
して用いる。稀釈ガスとしては、Ｎ２ガスを用いる。該
第１のリアクタ７内には、加熱炉６を出た光ファイバ２
が加熱状態で入って来るので、熱ＣＶＤ法により該光フ
ァイバ２の外周にアモルファスカーボンよりなるカーボ
ン膜３を設ける。光ファイバ２に付着しなかった反応生
成物は、該第１のリアクタ７の排気ロアａから外に排気
させる。
第１のリアクタ６から出てきたカーボン膜３付き光ファ
イバ２は、第２のリアクタ８に通す。第２のリアクタ８
内には、ガス供給口８ａから金属膜形成用原料ガスを供
給する。金属膜形成用原料ガスとしては、例えばＦｅ系
（Ｆｅ−Ｂ、Ｆｅ−Ｓｉ、Ｆｅ−Ｐ、Ｆｅ （０）、Ｆ
ｅＮｉ系、 ＦｅＣｏ系等アモルファス合金になり易
い金属化合物、或いはＳｉＣ，ＴｉＣ等の金属化合物を
、例えば（（ＣＨ３） ３ｓｉ）２０等の有機金属の形
、或いはＴｉＣβ４等の形でガス化して用いる。例えば
、加熱した容器内のＦｅ（ＣＯ５）をＡｒガスによって
バブリングして気相状にした金属膜形成用原料ガスを第
２のリアクタ８内に供給し、該第２のリアクタ８をヒー
タ１０で加熱し、該第２のリアクタ８内で原料ガスをプ
ラズマ化し、アモルファスカーボンよりなるカーボン膜
３の外周にプラズマＣＶＤ法で金属膜４を設ける。この
とき、カーボン膜３をロール状の接地電極１０を介して
接地しておく。このようにすると、正に帯電した気相状
の金属成分が、接地されたカーボン膜３の表面に金属膜
４として成膜される。アモルファスカーボンよりなるカ
ーボン膜３は、１０〜１５にΩ／ａｍの抵抗を持ってい
る電気伝導体であり、接地されることにより、成膜され
易くなる。従って、光フアイバ２上にカーボン膜３のな
い部分は金属膜４が成膜されない。このようにして気密
被覆光ファイバ１を形成すると、光フアイバ２上のカー
ボン膜３に対して金属膜４が１対１に対応して成膜され
る。該気密被覆光ファイバ１を探傷器１２に通し、渦電
流探傷法、磁場変位測定法等の手段を用いて非接触で金
属膜４の均一性を測定する。前述したように光フアイバ
２上のカーボン膜３と金属膜４とは１対１に対応してい
るので、金属膜４が均一に成膜されていれば、カーボン
膜３が均一に成膜されていることを意味する。この探傷
器１２の測定データをマスフローコントローラ８にフィ
ードバックし、カーボン膜３の成膜条件の１つである原
料ガスの流量を該カーボン膜３の膜厚が均一になるよう
に制御する。
イバ２は、第２のリアクタ８に通す。第２のリアクタ８
内には、ガス供給口８ａから金属膜形成用原料ガスを供
給する。金属膜形成用原料ガスとしては、例えばＦｅ系
（Ｆｅ−Ｂ、Ｆｅ−Ｓｉ、Ｆｅ−Ｐ、Ｆｅ （０）、Ｆ
ｅＮｉ系、 ＦｅＣｏ系等アモルファス合金になり易
い金属化合物、或いはＳｉＣ，ＴｉＣ等の金属化合物を
、例えば（（ＣＨ３） ３ｓｉ）２０等の有機金属の形
、或いはＴｉＣβ４等の形でガス化して用いる。例えば
、加熱した容器内のＦｅ（ＣＯ５）をＡｒガスによって
バブリングして気相状にした金属膜形成用原料ガスを第
２のリアクタ８内に供給し、該第２のリアクタ８をヒー
タ１０で加熱し、該第２のリアクタ８内で原料ガスをプ
ラズマ化し、アモルファスカーボンよりなるカーボン膜
３の外周にプラズマＣＶＤ法で金属膜４を設ける。この
とき、カーボン膜３をロール状の接地電極１０を介して
接地しておく。このようにすると、正に帯電した気相状
の金属成分が、接地されたカーボン膜３の表面に金属膜
４として成膜される。アモルファスカーボンよりなるカ
ーボン膜３は、１０〜１５にΩ／ａｍの抵抗を持ってい
る電気伝導体であり、接地されることにより、成膜され
易くなる。従って、光フアイバ２上にカーボン膜３のな
い部分は金属膜４が成膜されない。このようにして気密
被覆光ファイバ１を形成すると、光フアイバ２上のカー
ボン膜３に対して金属膜４が１対１に対応して成膜され
る。該気密被覆光ファイバ１を探傷器１２に通し、渦電
流探傷法、磁場変位測定法等の手段を用いて非接触で金
属膜４の均一性を測定する。前述したように光フアイバ
２上のカーボン膜３と金属膜４とは１対１に対応してい
るので、金属膜４が均一に成膜されていれば、カーボン
膜３が均一に成膜されていることを意味する。この探傷
器１２の測定データをマスフローコントローラ８にフィ
ードバックし、カーボン膜３の成膜条件の１つである原
料ガスの流量を該カーボン膜３の膜厚が均一になるよう
に制御する。
かくして得られた気密被覆光ファイバ１は、図示しない
が被覆ダイスに通し、金属膜４の外周に例えば紫外線硬
化樹脂層を被覆し、しかる後、紫外線硬化炉に通し、紫
外線硬化樹脂層の硬化を行わせる。
が被覆ダイスに通し、金属膜４の外周に例えば紫外線硬
化樹脂層を被覆し、しかる後、紫外線硬化炉に通し、紫
外線硬化樹脂層の硬化を行わせる。
第３図は、本発明の第２実施例を示したものである。本
実施例では、第１のリアクタフに連続して第２のリアク
タ９を設け、両者の間に小径のバッファ室１３を設け、
該バッファ室１３内を真空ポンプ１４で真空引きするよ
うにしている。また、該第２のリアクタ９内には、アノ
ード電極１５とターゲット１６とを設け、該ターゲット
１６は高圧電源１７の負極に接続し、該高圧電源１７の
正極は接地している。アノード電極１５はコイル状とし
、ターゲット１６は１円弧状とし、光ファイバ２に対し
て同軸状に配置している。第２のリアクタ９の出口側に
もバッファ室１８を設け、該バッファ室１８内を真空ポ
ンプ１９で真空引きするようにしている。
実施例では、第１のリアクタフに連続して第２のリアク
タ９を設け、両者の間に小径のバッファ室１３を設け、
該バッファ室１３内を真空ポンプ１４で真空引きするよ
うにしている。また、該第２のリアクタ９内には、アノ
ード電極１５とターゲット１６とを設け、該ターゲット
１６は高圧電源１７の負極に接続し、該高圧電源１７の
正極は接地している。アノード電極１５はコイル状とし
、ターゲット１６は１円弧状とし、光ファイバ２に対し
て同軸状に配置している。第２のリアクタ９の出口側に
もバッファ室１８を設け、該バッファ室１８内を真空ポ
ンプ１９で真空引きするようにしている。
このような第２のリアクタ９では、その中を１０’Ｔｏ
ｒｔでＡｒ雰囲気とする。そして、アノード電極１５付
近で正に帯電されたアルゴン粒子をターゲット１６に当
てると、該ターゲット１６から金属成分がスバッハリン
グされ、スパッタリング粒子がカーボン膜３の外周に成
膜される。ターゲット１６としては、アルミニウム、銅
、Ｎｉ等を用いることができる。これらの金属は、接地
されているカーボン膜３の上に成膜され易い。
ｒｔでＡｒ雰囲気とする。そして、アノード電極１５付
近で正に帯電されたアルゴン粒子をターゲット１６に当
てると、該ターゲット１６から金属成分がスバッハリン
グされ、スパッタリング粒子がカーボン膜３の外周に成
膜される。ターゲット１６としては、アルミニウム、銅
、Ｎｉ等を用いることができる。これらの金属は、接地
されているカーボン膜３の上に成膜され易い。
かくして得られた該気密被覆光ファイバ１を探傷器１２
に通し、この探傷器１２の測定データを図示しないがマ
スフローコントローラ８にフィードバックし、カーボン
膜３の成膜条件の１つである原料ガスの流量を該カーボ
ン膜３の膜厚が均一になるように制御する。
に通し、この探傷器１２の測定データを図示しないがマ
スフローコントローラ８にフィードバックし、カーボン
膜３の成膜条件の１つである原料ガスの流量を該カーボ
ン膜３の膜厚が均一になるように制御する。
探傷器１２を通り抜けた気密被覆光ファイバ１は、前述
したと同様に図示しないが被覆ダイスに通し、金属膜４
の外周に例えば紫外線硬化樹脂層を被覆し、しかる後、
紫外線硬化炉に通し、紫外線硬化樹脂層の硬化を行わせ
る。
したと同様に図示しないが被覆ダイスに通し、金属膜４
の外周に例えば紫外線硬化樹脂層を被覆し、しかる後、
紫外線硬化炉に通し、紫外線硬化樹脂層の硬化を行わせ
る。
なお、上記実施例では、探傷器１２からの信号をマスフ
ローコントローラ８にフィードバックして第１のリアク
タ７の成膜条件を変えたが、該第１のリアクタフにこれ
を加熱するヒータを設け、該ヒータに探傷器１２からの
信号をフィードバックして成膜条件を変えてもよい。
ローコントローラ８にフィードバックして第１のリアク
タ７の成膜条件を変えたが、該第１のリアクタフにこれ
を加熱するヒータを設け、該ヒータに探傷器１２からの
信号をフィードバックして成膜条件を変えてもよい。
［発明の効果］
以上説明したように、本発明によれば、下記のような効
果を得ることができる。
果を得ることができる。
請求項（１）に記載の気密被覆光ファイバは、光ファイ
バの外周のカーボン膜と金属膜とが共に設けられた構造
になっているので、気密性及び耐疲労特性を一層向上さ
せることができる。また、このようにカーボン膜の外周
に金属膜を設けると、該カーボン膜の均一性を該金属膜
を利用して容易に測定することができる。
バの外周のカーボン膜と金属膜とが共に設けられた構造
になっているので、気密性及び耐疲労特性を一層向上さ
せることができる。また、このようにカーボン膜の外周
に金属膜を設けると、該カーボン膜の均一性を該金属膜
を利用して容易に測定することができる。
請求項（２）に記載の気密被覆光ファイバの製造方法で
は、カーボン膜を接地した状態で該カーボン膜に金属膜
を設けてるので、カーボン膜に対して金属膜を１対１に
対応して成膜させることができる。このため、測定容易
な金属膜の均一性を測定することにより、カーボン膜の
均一性を間接的に測定できる。従って、金属膜の均一性
を測定してその測定データによりカーボン膜の成膜条件
を制御することにより、カーボン膜を均一に成膜する制
御を容易に行なうことができる。
は、カーボン膜を接地した状態で該カーボン膜に金属膜
を設けてるので、カーボン膜に対して金属膜を１対１に
対応して成膜させることができる。このため、測定容易
な金属膜の均一性を測定することにより、カーボン膜の
均一性を間接的に測定できる。従って、金属膜の均一性
を測定してその測定データによりカーボン膜の成膜条件
を制御することにより、カーボン膜を均一に成膜する制
御を容易に行なうことができる。
第１図は本発明に係る気密被覆光ファイバの一実施例の
横断面図、第２図及び第３図は本発明に係る気密被覆光
ファイバの製造方法を実施する装置の第１．第２実施例
を示す縦断面図である。
横断面図、第２図及び第３図は本発明に係る気密被覆光
ファイバの製造方法を実施する装置の第１．第２実施例
を示す縦断面図である。
Claims (2)
- （１）光ファイバの外周にカーボン膜が設けられ、該カ
ーボン膜の外周に金属膜が設けられていることを特徴と
する気密被覆光ファイバ。 - （２）第１のリアクタ内に光ファイバを通して該光ファ
イバの表面にカーボン膜を設け、該カーボン膜を有する
前記光ファイバを第２のリアクタ内に通して該カーボン
膜を接地した状態でその表面に金属膜を設け、該金属膜
の均一性を測定し、その測定データにより前記第１のリ
アクタ内での前記カーボン膜の成膜条件を制御すること
を特徴とする気密被覆光ファイバの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1128733A JPH02308208A (ja) | 1989-05-24 | 1989-05-24 | 気密被覆光ファイバ及びその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1128733A JPH02308208A (ja) | 1989-05-24 | 1989-05-24 | 気密被覆光ファイバ及びその製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02308208A true JPH02308208A (ja) | 1990-12-21 |
Family
ID=14992107
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1128733A Pending JPH02308208A (ja) | 1989-05-24 | 1989-05-24 | 気密被覆光ファイバ及びその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH02308208A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH03107907A (ja) * | 1989-09-22 | 1991-05-08 | Hitachi Cable Ltd | 光ファイバ |
| JPH04124212U (ja) * | 1991-04-26 | 1992-11-12 | 古河電気工業株式会社 | 金属コート光フアイバケーブル |
-
1989
- 1989-05-24 JP JP1128733A patent/JPH02308208A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH03107907A (ja) * | 1989-09-22 | 1991-05-08 | Hitachi Cable Ltd | 光ファイバ |
| JPH04124212U (ja) * | 1991-04-26 | 1992-11-12 | 古河電気工業株式会社 | 金属コート光フアイバケーブル |
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