JPH02276A - β−ラクタム化合物の製造法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ［目的］ （産業上の利用分野） 本発明は、優れた抗菌活性を有するβ−ラクタム化合物
の有用な光学活性合成中間体の製造法に関する。

（従来の技術） 従来、化合物（Ｉ）を還元し、医薬品としては、好まし
い光学活性な１β−メチル誘導体を合成する方法として
は、特開昭６１−１６５３６５号公報記載の方法が知ら
れているが、β／αの比が、７．７／１〜１．１／１で
あり、立体選択性が悪く、工業的に生産を行なう場合に
、分離精製の工程等が必要となる。

（当該発明が解決しようとする問題点）本発明者等は、
優れた抗菌活性を有するβ−ラクタム化合物の合成中間
体として、β−ラクタムの４位の側鎖が１−（ヒドロキ
シアルキル）エチレン誘導体である化合物の選択的な合
成法について、鋭意研究を行なった結果、本発明の方法
により、化合物（ＩＩＩ）が優れた立体選択性かつ高収
率で得られること及び用いる触媒が再生使用可能である
こと等を見出し、本発明を完成した。

［構成］ 本発明の新規なβ−ラクタム化合物の製造法は、一般式 ［式中、Ｒ１及びＲ２は、水素原子又は水酸基の保護基
を示し、Ｒ３は、水素原子又はアミノ基の保護基を示す
。］で表わされるβ−ラクタム化合物を、 一般式 一般式 ［式中、Ｒ４、Ｒ５及びＲ６は、同−又は異なって置換
されていてもよいアリール基、置換されていてもよい直
鎖若しくは分枝鎖の低級アルキル基又は置換されていて
もよい炭素数３乃至７個のシクロアルキル基を示す。］
で表わされる立体不斉ルテニウム化合物の存在下に、還
元することを特徴とする ［式中、Ｒ１、Ｒ２及びＲ３は、前記と同意義を示す。

］で表わされる光学活性β−ラクタム化合物の製造法で
ある。

上記一般式において、 Ｒ１及びＲ２の定義における水酸基の保護基とは、反応
における保護基を示し、例えば、ホルミル、アセチル、
プロピオニル、ブチリル、イソブチリル、ペンタノイル
、ピバロイル、バレリル、イソバレリル、オクタノイル
、ラウロイル、バルミトイル、ステアロイルのようなア
ルキルカルボニル基、クロロアセチル、ジクロロアセチ
ル、トリクロロアセチル、トリフルオロアセチルのよう
なハロゲン化アルキルカルボニル基、メトキシアセチル
のような低級アルコキシアルキルカルボニル基、（Ｅ）
−２−メチル−２−ブテノイルのような不飽和アルキル
カルボニル基等の脂肪族アシル基；ベンゾイル、α−ナ
フトイル、β−ナフトイルのようなアリールカルボニル
基、２−ブロモベンゾイル、４−クロロベンゾイルのよ
うなハロゲン化アリールカルボニル基、Ｚ、４，６−ト
リメチルベンゾイル、４−トルオイルのような低級アル
キル化アリールカルボニル基、４−アニソイルのような
低級アルコキシ化アリールカルボニル基、４−ニトロベ
ンゾイル、２−ニトロベンゾイルのようなニトロ化アリ
ールカルボニル基、２−（メトキシカルボニル）ベンゾ
イルのような低級アルコキシカルボニル化アリールカル
ボニル基、４−フェニルベンゾイルのようなアリール化
アリールカルボニル基等の芳香族アシル基；テトラヒド
ロピラン−２−イル、３−ブロモテトラヒドロピラン−
２−イル、４−メトキシテトラヒドロピラン−４−イル
、テトラヒドロチオピラン−２−イル、４−メトキシテ
トラヒドロチオピラン−４−イルのようなテトラヒドロ
ピラニル又はテトラヒドロチオピラニル基；テトラヒド
ロフラン−２−イル、テトラヒドロチオフラン−２−イ
ルのようなテトラヒドロフラニル又はテトラヒドロチオ
フラニル基；トリメチルシリル、トリエチルシリル、イ
ソプロピルジメチルシリル、ｔ−ブチルジメチルシリル
、メチルジイソプロピルシリル、メチルジ−ｔ−ブチル
シリル、トリイソプロピルシリルのようなトリ低級アル
キルシリル基、ジフェニルメチルシリル、ジフェニルブ
チルシリル、ジフェニルイソプロピルシリル、フエニル
ジイソプロピルシリルのような１乃至２個のアリール基
で置換されたトリ低級アルキルシリル基等のシリル基；
メトキシメチル、１゜エージメチル−１−メトキシメチ
ル、エトキシメチル、プロポキシメチル、イソプロポキ
シメチル、ブトキシメチル、ｔ−ブトキシメチルのよう
な低級アルコキシメチル基、２−メトキシエトキシメチ
ルのような低級アルコキシ化低級アルコキシメチル基、
２．２．２−トリクロロエトキシメチル、ビス（２−ク
ロロエトキシ）メチルのようなハロゲン化低級アルコキ
シメチル等のアルコキシメチル基；１−エトキシエチル
、■−メチルー１−メトキシエチル、１−（イソプロポ
キシ）エチルのような低級アルコキシ化エチル基、２，
２，２−トリクロロエチルのようなハロゲン化エチル基
、２−（フェニルゼレニル）エチルのようなアリールゼ
レニル化エチル基等の置換エチル基；ベンジル、フェネ
チル、３−フェニルプロピル、α−ナフチルメチル、β
−ナフチルメチル、ジフェニルメチル、トリフェニルメ
チル、α−ナフチルジフェニルメチル、９−アンスリル
メチルのような１乃至３個のアリール基で置換された低
級アルキル基、４−メチルベンジル、２，４．６−トリ
メチルベンジル、３，４．５−トリメチルベンジル、４
−メトキシベンジル、４−メトキシフエニルジフェニル
メチル、２−ニトロベンジ、ル、４−ニトロベンジル、
４−クロロベンジル、４−ブロモベンジル、４−シアノ
ベンジル、４−シアノベンジルジフェニルメチル、ビス
（２−ニトロフェニル）メチル、ピペロニルのような低
級アルキル、低級アルコキシ、ニトロ、ハロゲン、シア
ノ基でアリール環が置換された１乃至３個のアリール基
で置換された低級アルキル基等のアラルキル基；メトキ
シカルボニル、エトキシカルボニル、ｔ−ブトキシカル
ボニル、イソブトキシカルボニルのような低級アルコキ
シカルボニル基、２゜ｚ、ｚ−トリクロロエトキシカル
ボニル、２−トリメチルシリルエトキシカルボニルのよ
うなハロゲン又はトリ低級アルキルシリル基で置換され
た低級アルコキシカルボニル基等のアルコキシカルボニ
ル基；ビニルオキシカルボニル、アリルオキシカルボニ
ルのようなアルケニルオキシカルボニル基；ベンジルオ
キシカルボニル、４−メトキシベンジルオキシカルボニ
ル、３，４−ジメトキシベンジルオキシカルボニル、２
−ニトロベンジルオキシカルボニル、４−ニトロベンジ
ルオキシカルボニルのような、■乃至２個の低級アルコ
キシ又はニトロ基でアリール環が置換されていてもよい
アラルキルオキシカルボニル基のような反応における保
護基を拳げることかでき、好適には、シリル基である。

Ｒ３の定義におけるアミノ基の保護基とは、通常アミノ
基の保護基として使用されるものであれば限定はないが
、好適には、例えば、前記脂肪族アシル基；前記芳香族
アシル基；前記アルコキシカルボニル基；前記アルケニ
ルオキシカルボニル基；前記「１乃至２個の低級アルコ
キシ又はニトロ基でアリール環が置換されていてもよい
アラルキルオキシカルボニル基」　；前記シリル基又は
後記アルキル基である。

Ｒ４、Ｒ５及びＲ６の定義における「置換されていても
よいアリール基」とは、アリール基の環上に、■乃至４
個の下記より選択される置換基を有していてもよいアリ
ール基を示す。アリール基としては、例えばフェニル、
ナフチルのような炭素数６乃至１０個の芳香族炭化水素
基を挙げることができ、好適にはフェニル基である。該
環上の置換基としては、アミノ基：ニトロ基；シアノ基
；後記低級アルキル、後記ハロゲノ低級アルキル又は前
記アラルキルで置換されていてもよいカルボキシ基；カ
ルバモイル基：弗素原子、塩素原子、臭素原子、沃素原
子のようなハロゲン原子；後記低級アルキル基；メトキ
シ、エトキシ、プロポキシ、イソプロポキシ、ブトキシ
、ｔ−ブトキシのような低級アルコキシ基；後記ハロゲ
ノ低級アルキル基；前記脂肪族アシル基及びメチレンジ
オキシ、エチレンジオキシ、プロピレンジオキシのよう
な炭素数１乃至４個のアルキレンジオキシ基を挙げるこ
とができ、好適には、低級アルキル基、ハロゲン原子又
はハロゲン化低級アルキル基である。

「置換されていてもよいアリール基」としては、好適に
は、フェニル、ナフチルのようなアリール基；２−フル
オロフェニル、３−フルオロフェニル、４−フルオロフ
ェニル、２−クロロフェニル、３−クロロフェニル、４
−クロロフェニル、２−ブロモフェニル、３−ブロモフ
ェニル、４−ブロモフェニル、３，５−ジフルオロフェ
ニル、２，５−ジフルオロフェニルζ２．６−ジフルオ
ロフェニル、２，４−ジフルオロフェニル、３，５−ジ
ブロモフェニル、２，５−ジブロモフェニル、２．６−
ジクロロフェニル、２，４−ジクロロフェニル、２，３
．ロートリフルオロフェニル、２，３，４−　トリフル
オロフェニル、３，４．５−トリフルオロフェニル、２
．５．ロートリフルオロフェニル、２，４．ロートリフ
ルオロフェニル、２，３．６−トリブロモフェニル、２
，３，４−トリブロモフェニル、３，４．５−　トリブ
ロモフェニル、２ア５，６−トリクロロフエニル、２，
４，６−トリクロロフエニルのようなハロゲン原子で置
換されたアリール基；２−トリフルオロメチルフェニル
、３−トリフルオロメチルフェニル、４−トリフルオロ
メチルフェニル、２−トリクロロメチルフェニル、３−
ジクロロメチルフェニル、４−トリクロロメチルフェニ
ル、２−トリブロモメチルフェニル、３−ジブロモメチ
ルフェニル、４−ジブロモメチルフェニル、３，５−ビ
ストリフルオロメチルフェニル、２，５−ビストリフル
オロメチルフェニル、２，６−ビストリフルオロメチル
フェニル、２，４−ビストリフルオロメチルフェニル、
３，５−ビストリブロモメチルフェニル、２，５−ビス
ジブロモメチルフェニル、２，６−ビスジクロロメチル
メチルフェニル、２，４−ビスジクロロメチルフェニル
、Ｚ、３．６−トリストリフルオロメチルフェニル、２
．３．４−トリストリフルオロメチルフェニル、３，４
゜５−トリストリフルオロメチルフェニル、２，５，６
−１−・リストリフルオロメチルフェニル、２，４．６
−トリストリフルオロメチルフェニル、２，３．６−ト
リストリブロモメチルフェニル、２，３，４−トリスジ
ブロモメチルフェニル、３，４，５−トリストリブロモ
メチルフェニル、Ｚ、５．６−トリスジクロロメチルメ
チルフエニル、２，４．６−トリスジクロロメチルフエ
ニルのようなハロゲノ低級アルキル基で置換されたアリ
ール基；２−メチルフェニル、３−メチルフェニル、４
−メチルフェニル、２−エチルフェニル、３−プロピル
フェニル、４−エチルフェニル、２−ブチルフェニル、
３−ペンチルフェニル、４−ペンチルフェニル、３，５
−ジメチルフェニル、２，５−ジメチルフェニル、２，
６−ジメチルフェニル、２，４−ジメチルフェニル、３
，５−ジブチルフェニル、２，５−ジブチルフェニル、
２，６−ジプロピルメチルフェニル、２，４−ジプロピ
ルフェニル、２，３．６−トリメチルフェニル、２，３
．４−　トリメチルフェニル、３，４，５−トリメチル
フェニル、２，５゜６−トリメチルフェニル、２，４．
６−トリメチルフェニル、２，３．６−トリブチルフェ
ニル、Ｚ、３，４−トリペンチルフェニル、３，４．５
−トリブチルフェニル、２，５゜６−トリプロビルメチ
ルフエニル、２，４，６−トリプロビルフエニルのよう
な低級アルキル基で置換されたアリール基；２−メトキ
シフェニル、３−メトキシフェニル、４−メトキシフェ
ニル、２−エトキシフェニル、３−プロポキシフェニル
、４−エトキシフェニル、２−ブトキシフェニル、３−
ペントキシフェニル、４−ペントキシフェニル、３，５
−ジメトキシフェニル、２．５−ジメトキシフェニル、
２，６−ジメトキシフェニル、２．４−ジメトキシフェ
ニル、３，５−ジブトキシフェニル、２，５−ジニトロ
フェニル、２，６−ジプロポキシメトキシフェニル、２
，４−ジプロポキシフェニル、２，３．６−トリメトキ
シフェニル、２，３．４−トリメトキシフェニル、３，
４．５−トリメトキシフェニル、２．５．６−トリメト
キシフェニル、２，４．６−トリメトキシフェニル、２
，３，６−トリブトキシフェニル、２，３゜４−トリペ
ントキシフェニル、３，４，５−トリブトキシフェニル
、２，５．６−トリプロポキシフエニル、２，４゜６−
トリプロポキシフエニルのような低級アルコキシ基で置
換されたアリール基；２−アミノフェニル、３−アミノ
フェニル、４−アミノフェニル、３，５−ジアミノフェ
ニル、２，５−ジアミノフェニル、２，６−ジアミノフ
ェニル、２，４−ジアミノフェニルのようなアミノ基で
置換されたアリール基；２−ニトロフェニル、３−二ト
ロフェニル、４−ニトロフェニル、３，５−ジニトロフ
ェニル、２，５−ジニトロフェニル、２，６−ジニトロ
フェニル、２，４−ジニトロフェニルのヨウなニトロ基
で置換されたアリール基；２−シアノフェニル、３−シ
アノフェニル、４−シアノフェニル、３゜５−ジシアノ
フェニル、２，５−ジシアノフェニル、２゜６−ジシア
ノフェニル、２，４−ジシアノフェニルのようなシアノ
基で置換されたアリール基；２−アセチルフェニル、３
−アセチルフェニル、４−アセチルフェニル、３，５−
ジアセチルフェニル、２，５−ジアセチルフェニル、２
，６−ジアセチルフェニル、２，４−ジアセチルフェニ
ル、２，３．６−トリプロピオニルフエニルのような脂
肪族アシル基で置換されたアリール基；２−カルボキシ
フェニル、３−カルボキシフェニル、４−カルボキシフ
ェニルのようなカルボキシ基で置換されたアリール基；
２−カルバモイルフェニル、３−カルバモイルフェニル
、４−カルバモイルフェニル、３，５−ジカルバモイル
フェニル、２，５−ジカルバモイルフェニル、２，６−
ジカルバモイルフエニル、２．４−ジカルバモイルフェ
ニルのようなカルバモイル基で置換されたアリール基；
３，４−メチレンジオキシフェニルのようなアルキレン
ジオキシ基で置換されたアリール基を拳ぼることができ
る。

Ｒ４、Ｒ５及びＲＧの定義における「置換されていても
よい直鎖若しくは分枝鎖の低級アルキル基」とは、低級
アルキル基又はハロゲノ低級アルキル基を示す。低級ア
ルキル基とは、例えば、メチル。

エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、イ
ソブチル、Ｓ−ブチル、ｔ−ブチル、ｎ−ペンチル、イ
ソペンチル、２−メチルブチル、ネオペンチル、ローヘ
キシル、４−メチルペンチル、３−メチルペンチル、２
−メチルペンチル、３，３−ジメチルブチル、２゜２−
ジメチルブチル、１．エージメチルブチル、１，２−ジ
メチルブチル、１，３−ジメチルブチル、２，３−ジメ
チルブチルのような炭素数１乃至６個の直鎖若しくは分
枝鎖アルキル基を拳げることかでき、好適には、炭素数
１乃至４個の直鎖若しくは分枝鎖アルキル基である。ハ
ロゲノ低級アルキル基としては、例えば、トリフルオロ
メチル リブロモメチル、ジフルオロメチル、ジクロロメチル、
フルオロメチル、ゾロロメチル、２，２．２−トリフル
オロエチル、ｎ−トリフルオロプロピル、２−トリフル
オロメチルブチル、４−トリフルオロメチルペンチル、
３−トリフルオロメチルペンチル、２−トリフルオロメ
チルペンチル、３．３−トリフルオロジメチルブチルの
ような炭素数１乃至６個の直鎖若しくは分枝鎖ハロゲノ
アルキル基を拳げることかでき、好適には炭素数１乃至
４個の直鎖若しくは分枝鎖ハロゲノアルキル基である。

尚、基自体として好適には、炭素数１乃至４個のアルキ
ル基である。

Ｒ４、Ｒ５及びＲ６の定義における「置換されていても
よい炭素数３乃至７個のシクロアルキル基」とは、シク
ロアルキル基の環上に、前記［置換されていてもよいア
リール基］において記載した置換基より選択される置換
基が１乃至４個有していてもよいシクロアルキル基を示
す。シクロアルキル基とは、シクロプロピル、シクロブ
チル、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロヘプチ
ルのような３乃至７員環状飽和炭化水素基を示し、好適
には５乃至７員環状飽和炭化水素基である。

本発明は、化合物（Ｉ）を溶媒に溶かし、脱気させ、こ
の溶液にルテニウム化合物（ＩＩ）の脱気溶液を加え、
更にこの溶液を脱気した後、オートクレーブ中で、高圧
水素ガス雰囲気にて攪拌下、接触還元することにより達
成される。

使用される溶媒としては、反応を阻害しないものであれ
ば特に限定はないが、好適には、メタノール、エタノー
ルのようなアルコール類、ベンゼン、トルエン、キシレ
ンのような芳香族炭化水素類；エーテル、ジメトキシエ
タン、ジエチレングリコールジメチルエーテル、テトラ
ヒドロフランのようなエーテル類；ジクロロメタン、ク
ロロホルムのようなハロゲン化炭化水素類及びこれらの
混合溶媒を拳げることかでき、更に好適には、アルコー
ル類又はアルコール類と上記他の溶媒との混合溶媒であ
る。

使用されるルテニウム化合物としては、前記定義された
化合物であれば特に限定はないが、好適には、−紋穴（
ＩＩ）において、 （１）Ｒ４が、置換されていてもよいアリール基である
化合物 Ｒ４が、フェニル又はトリルである化合物Ｒ５及びＲ６
が同−又は異なって、置換されていてもよい直鎖若しく
は分枝鎖の低級アルキル基である化合物 （４）　　Ｒ’及びＲ６が同−又は異なって、ハロゲン
原子で置換されていてもよい直鎖若しくは分枝鎖の炭素
数１乃至４個のアルキル基である化合物 （５）Ｒ５及びＲ６が同−又は異なって、メチル、ｔ−
ブチル又はトリフルオロメチルである化合物 （６）Ｒ４が、置換されていてもよいアリール基であり
、Ｒ５及びＲ６が同−又は異なって、置換されていても
よい直鎖若しくは分枝鎖の低級アルキル基である化合物 （７）Ｒ４が、置換されていてもよいアリール基であり
、Ｒ５及びＲ６が同−又は異なって、ハロゲン原子で置
換されていてもよい直鎖若しくは分枝鎖の炭素数１乃至
４個のアルキル基である化合物 （８）Ｒ４が、置換されていてもよいアリール基であり
、Ｒ５及びＲ６が同−又は異なって、メチル、ｔ−ブチ
ル又はトリフルオロメチルである化合物 （９）　　Ｒ４が、フェニル又はトリルであり、Ｒ５及
びＲ６が同−又は異なって、置換されていてもよい直鎖
若しくは分枝鎖の低級アルキル基である化合物 （１０）　　Ｒ４が、フェニル又はトリルであり、Ｒ５
及びＲ６が同−又は異なって、ハロゲン原子で置換され
ていてもよい直鎖若しくは分枝鎖の炭素数１乃至４個の
アルキル基である化合物 （１１）　　Ｒ４が、フェニル又はトリルであり、Ｒ５
及びＲ６が同−又は異なって、メチル、ｔ−ブチル又は
トリフルオロメチルである化合物 を拳げることかできる。

最も好適には、 及び の化合物である。

尚、ルテニウム化合物の量は、多量に使用しても問題は
ないが、通常、β−ラクタム化合物（Ｉ）に対して１／
１００〜１１５００モルを用いることによって実施され
る。

反応圧力は、通常、Ｏ〜１２０気圧で行なわれるが、好
適には１〜１１０気圧であり、β／α選択性を向上させ
るためには、水素圧は低い方が良好である。

反応温度は、通常０℃乃至５０℃で行なわれるが、好適
には、１０℃乃至４０℃である。

反応時間は、主に反応圧力、反応温度、原料化合物、及
び使用される溶媒の種類によって異なるが、通常１時間
乃至４日間である。

反応終了後、目的化合物（ＩＩＩ）は常法に従って、反
応混合物から採取される。例えば、反応混合物に水と混
和しない有機溶媒を加え、水洗後、溶剤を留去すること
によって得られる。得られた目的化合物は必要ならば、
常法、例えば再結晶、再沈殿又はクロマトグラフィー等
によって更に精製できる。

本発明の原料化合物（Ｉ）は、公知化合物であり、例え
ば、特開昭６１−１０９７６５号公報又は特開昭６１−
１６５３６５号公報記載の方法に従って以下に示す工程
により製造される。

上記式中　Ｒ１、Ｒ′ｌ及びＲ３は前記と同意義を示す
。Ｒ７は、フェニル、トリルのようなアリール基を示し
、好適にはトリル基である。

一方、光学活性なルテニウム化合物（ＩＩ）は、例えば
、野依ら［ジャーナルオブオーガニックケミストリー、
５１，６２９、（１９８６年）及びジャーナルオブアメ
リカン　ケミカル　ソサイエティー、１０８，７１１７
−７１１９、（１９８６年）コの方法に従って、原料と
して光学活性なルテニウム化合物を用い、有機酸塩をメ
タノール、エタノール、Ｌ−ブタノールのようなアルコ
ール類の溶媒中で、２０〜１１０℃の温度で３〜１５時
間反応させた後、溶媒を留去して、エーテル、テトラヒ
ドロフランのようなエーテル類又はメタノール、エタノ
ール、ｔ−ブタノールのようなアルコール類の溶媒で抽
出後、乾固することにより得ることができ、更に、再結
晶することにより、精製品を得ることができる。

以下に、実施例及び参考例をあげて本発明を更に具体的
に説明する。

操作は全てアルゴン気流下で行なった。減圧上加熱乾燥
し、系内をアルゴン置換した５　ｍｌｌシュシンク反応
管に（３Ｓ、　４Ｓ）−３−［（ＩＲ）−１−ｔ　−ブ
チルジメチルシリルオキシエチル］−４−（１−ヒドロ
キシメチルエチニル）−アゼチジン−２−オン（２５ｍ
ｇ、　８７μｍｏｌ）と脱気メタノール（２，５ｍｌ）
を加えて、３回凍結脱気を行なった。この基質溶液に、 を有するルテニウム化合物（０，５ｍｇ、　０．５９μ
ｍｏｌ）を加えて、２回凍結脱気した。減圧乾燥し、系
内をアルゴン置換した内部にガラス管を有するステンレ
スオートクレーブ中に、アルゴン圧を利用し、キャニス
ラーで移した。反応容器内を純度９９．９９９９９％の
水素を加えて、開始水素圧１００気圧、２８℃で１５時
間攪拌した。圧力を解放後、濃黄色の反応溶液を減圧上
溶媒を留去し、粗生成物（２６ｍｇ）を得た。２７０　
Ｍ）（ｚのプロトンＮＭＲ分析により、目的化合物を、
変換率が１００％で得ることができた。

一方、水素添加生成物をシリカゲルカラム（ＢＷ−８２
０ＭＨ１２ｇ、酢酸エチル：ヘキサン＝１　：　１）に
供し、高極性物質を取り除いたのち、ＨＰＬＣ分析（Ｄ
ｅｖｅｌｏｓｉｌ　１００−５．２−プロパツール：ヘ
キサン＝１＝１０、流速１　ｍｌ／ｍｉｎ、検出波長２
１０　ｎｍ）することにより、α（２３分溶出）／β（
１９分溶出）＝０．８：９９．２であることが分かった
。

α、β体の構造は、得られた化合物のヒドロキシメチル
基を酸化し、既知のカルボン酸誘導体へと誘導すること
により同定した。即ち、得られた化合物（７ｍｇ、　２
４μｍｏｌ）の乾燥ジメチルホルムアミド（１ｍｌ）溶
液にピリジニウム・ジクロメート（６０ｍｇ、　０．１
６　ｍｍｏｌ）を加え、２５℃で２日間攪拌した。水（
１ｍｌ）を加え、酢酸エチル（１ｍｌｘｓ回）で抽出し
た。減圧上溶媒を留去し、１規定水酸化ナトリウム水溶
液（１ｍｌ）を加え、エーテル（１ｍｌｘａ回）で洗浄
後、塩酸酸性にして酢酸エチル（１ｍｌｘｓ回）で抽出
した。無水硫酸すＩ・リウムで乾燥し、減圧上溶媒を留
去して、カルボン酸誘導体（５，１ｍｇ、　７１％）を
得た。

表記化合物ノＮＭＲスヘクト）Ｌｉ　（２７０ＮＨ２，
ＣＤＣ１３）δｐｐｍ：　０．１３（３Ｈ，Ｓ、（ＣＨ
３）２５ｉ）；　０．１４（３Ｈ，ｓ。

（ＣＨ３）２５ｉ）　；　０．９０（３Ｈ，ｄ、に７．
６　Ｈ２，ＣＨ３ＣＨＣＨ２０Ｈ）　；０．９１（９Ｈ
２ｓ、（ＣＨ３）３Ｇ）；　１．３４（３Ｈ，ｄ、Ｊ＝
６．２　Ｈｚ。

ＣＨ３ＣＯ３ｉ）；　１．７〜１．９（ＩＨ，ＩＩＩ、
ＨＯＣＨ：２ＣＨ）；　３．１５（ＬＨ。

ｄｄ、Ｊ３１．７，８．９　Ｈｚ、Ｃ（４）Ｈ）；　３
．２８（ＬＨ，ｄｄ、Ｊ３２．１゜８．９　Ｈｚ、Ｃ（
３）Ｈ）；　３．４７（ＬＨ，ａｄ、ジ＝８．４，１１
．８　Ｈｚ。

ＨＯＣＨＨ）；　３．５７（ＬＨ，ｄｄ、Ｊ＝４．６，
１１．８　Ｈｚ、ＨＯＣＨＨ）；４．１３（ＩＨ，ｄｑ
、に８．９，６．２　Ｈｚ、５ｉＯＣＨ）；　６．３５
（ＩＨ，ｓ。

ＮＨ）。

赤外吸収スペクトル（ＫＢｒ）　ｃｍ−１：　３４００
．３１７０゜３１００、２９４０．２８５０．１７５０
゜［ｃｚ］ｏ１７−８．２　（ｃｍ１．０５５、メタノ
ール）。

実施例２ 上記の反応を、２７℃、４気圧で実施すると、目的化合
物を、変換率が１００％、α／β比が０．９＝９９．１
で得ることができた。

実施何重 実施例１の反応を、 を有するルテニウム化合物を（３Ｓ、　４Ｓ）−３−［
（ＩＲ）−１−１−ブチルジメチルシリルオキシエチル
］−４−（１−ヒドロキシメチルエチニル）−アゼチジ
ン−２−オンに対し、１／１５８当量用い、２１℃、１
００気圧で、１８時間実施すると、変換率が１００％、
α／β比が１．４　：　９８．６で目的化合物を得るこ
とができた。

実施錐先 実施例２の反応を、 を有するルテニウム化合物を（３Ｓ、　４Ｓ）−３−［
（ＩＲ）−１−１−ブチルジメチルシリルオキシエチル
］−４−（１−ヒドロキシメチルエチニル）−アゼチジ
ン−２−オンに対し、１／１５８当量用い、２１℃、４
気圧で、１８時間実施すると、変換率が１００％、α／
β比が０．６　：　９９．４で目的化合物を得ることが
できた。

実瀞律叱ｉ 実施例２の反応を、 実名鈴生ｉ 実施例２の反応を、 を有するルテニウム化合物を（３Ｓ、　４Ｓ）−３−［
（ＩＲ）−１−ｔ−ブチルジメチルシリルオキシエチル
］−４−（１−ヒドロキシメチルエチニル）−アゼチジ
ン−２−オンに対し、１／１５８当量用い、１８℃、１
気圧で、１８時間実施すると、変換率が１００％、α／
β比が０．２　：　９９．８で目的化合物を得ることが
できた。

を有するルテニウム化合物を（３Ｓ、　４Ｓ）−３−［
（ＩＲ）−１−ｔ−ブチルジメチルシリルオキシエチル
］−４−（１−ヒドロキシメチルエチニル）−アゼチジ
ン−２−オンに対し、１／１４７当量用い、１８℃、１
気圧で、２４時間実施すると、変換率が１００％、α／
β比が０．１　：　９９．９で目的化合物を得ることが
できた。

ニル−アゼチジン−２−オン （３Ｓ、　４Ｓ）−３−［（ＩＲ）−１−ｔ−ブチルジ
メチルシリルオキシエチル］−４−［（１−カルボキシ
−１−バラトリルチオ）エチル］−アゼチジンー２−オ
ン（０，９ｇｔ２．１　ｍｍｏｌ）の乾燥テトラヒドロ
フラン（２０ｍｌ）溶液を、０℃、アルゴン気流下に、
１０　ＭＢＨ３Ｓ（ＣＨ３）２　（０，５ｍＬ　５　ｍ
ｍｏｌ）を加え、５分間攪拌した後、２５℃で３時間攪
拌した。再び、０℃まで冷却し、メタノール（７ｍｌ）
を注意深く加えて５分間攪拌し、減圧上溶媒を留去した
。残炎を塩化メチレン（５０ｍｌ）に溶解し、０℃で８
０％メタクロロ過安息香酸（４５０ｍｇ、　２．１　ｍ
ｍｏｌ）を加え、２５℃で１時間攪拌した。減圧上溶媒
を留去し、残炎をトルエン（３００ｍｌ）に溶解し、２
時間還流した。減圧下溶媒留去後、シリカゲルカラム（
Ｂｌｊ−８２０ＭＨ，５０ｇ、酢酸エチル−ヘキサン＝
１：１）に供し、粗生成物（２９０ｍｇ）を得た。ベン
ゼン：ヘキサン＝５：１より再結晶し、表記化合物（２
００ｍｇｙ　３３％）を得た。

ＮＭＲスペクトル（２７０ＭＨ２，ＣＤＣ１３）δｐｐ
ｍ　：０．１１（６Ｈ，ｓ、　（Ｃｌｈ）２ｓｉ）、　
０．９０（９Ｈ，ｓ、　（ＣＨ３ｈＣ）、　１．２９（
３Ｈ，ｄ、↓＝　５．９Ｈｚ、　Ｃ旧ＣＨ）、　３．０
３（ＩＨ。

ｄｄ、　Ｊ　＝　１．７．６．３　Ｈｚ、　Ｇ（３）Ｈ
）、　４．１７（ＬＨ，ｄ、　Ｊ＝１．７　Ｈｚ、　Ｃ
（４）Ｈ）、　４．１９（２Ｈ，ｓ、　ＣｔｈＯＨ）。

４．２１（ＩＨ，ｄｑ、　Ｊ　＝　６．３．５．９　Ｈ
ｚ、　５ｉＯＣＨ）、　５．１７（ＬＨ，ｓ、　ＣＨＨ
＝Ｃ）、　５．２０（ＩＩ（、ｓ、　ＣＨＨ＝Ｃ）、　
６．１４（ＬＨ，ｓ、　ＮＨ）。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ ［式中、Ｒ＾１及びＲ＾２は、水素原子又は水酸基の保
   護基を示し、Ｒ＾３は、水素原子又はアミノ基の保護基
   を示す。］で表わされるβ−ラクタム化合物を、 一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼（II） ［式中、Ｒ＾４、Ｒ＾５及びＲ＾６は、同一又は異なっ
   て置換されていてもよいアリール基、置換されていても
   よい直鎖若しくは分枝鎖の低級アルキル基又は置換され
   ていてもよい炭素数３乃至７個のシクロアルキル基を示
   す。］で表わされる立体不斉ルテニウム化合物の存在下
   に、還元することを特徴とする 一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼（III） ［式中、Ｒ＾１、Ｒ＾２及びＲ＾３は、前記と同意義を
   示す。］で表わされる光学活性β−ラクタム化合物の製
   造法。