JPH02273658A - ２―ニトロ―５―（置換ピリジルオキシ）ベンゾヒドロキシム酸誘導体の製造法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、下記式（１） 式中、Ｙ及びＲ′は請求項１に記載したと同義である、 で示される３−ハロゲノオルト安息香酸エステルを製造
するにあたり、下記式（ｎ） 式中、Ｙは前記と同義である、 で示される３−ハロゲノベンゾトリクロリドを下但し式
中、Ｒは水素原子、アルカリ金属原子または低級アルキ
ル基を表わし、 Ｒ１は低級アルキル基を表わし、 Ｒ２は水素原子または低級アルキル基を表わし、 Ｘは水素原子またはハロゲン原子を表わす、で示される
２−ニトロ−５−（置換ピリジルオキシ）ベンゾヒドロ
キシム酸誘導体の製法、並びに該製法における新規な中
間体及びその製造法に関する。

本発明の上記式（Ｉ）で表わされるベンゾヒドロキシム
酸誘導体は、除草活性を有する化合物であり、除草剤等
として有用である。

本発明の前記式（Ｉ）で示される２−ニトロ−５−（置
換ピリジルオキ？）ベンゾヒドロキシム酸誘導体は本発
明者らによって開発された化合物であり、ヨーロッパ出
願公開明細置薬２９９．３８２号には、該式（Ｉ）の化
合物を下記反応式Ａに示す経路によって製造することが
記載されている。

反応式Ａ （ＸＩＶ） 式中、Ｒ，Ｒ’、Ｒ２及びＸは前記式（Ｉ）において定
義したと同義であり、Ｗはハロゲン原子または基−０３
Ｏ２Ｒ’を表わし、ここでＲ１は置換もしくは非置換の
アルキル、フェニルまたはアルコキシ基を表わす。

上記反応式Ａに示す方法によれば、式（ＸＩＶ）の２−
ニトロ−５−（置換ピリジルオキシ）安息香酸類を塩化
チオニル等で酸塩化物に変えた後、有機溶媒中塩基の存
在下に式（ＸＶ）のＯ−アルコキシカルボニルメチルヒ
ドロキシルアミン類と反応させて式（ＸＶ　ｌ　）のヒ
ドロキサム酸誘導体を得、次いで該化合物を式（ＸＶｌ
ｌ）のアルキル化剤またはジアゾメタンと有機溶媒中で
反応させることにより、式（Ｉ）の２−二トロー５−（
置換ピリジルオキシ）ベンゾヒドロキシム酸誘導体が製
造されている。

しかしながら、上記の方法において、式（ＸＶ　ｌ　）
のヒドロキサム酸誘導体のアルキル化反応において、式
（ＸＶＩＩ）のアルキル化剤を使用した場合、目的とす
るＯ−アルキル化反応のみならず、Ｎ−アルキル化反応
も生ずるため、式（Ｉ）の化合物の収率が低下するとい
う問題がある。一方、アルキル化剤としてジアゾメタン
を使用する場合、○−メチル化反応は比較的円滑に進行
するが、ジアゾメタンは爆発性を有しており危険である
ので、ジアゾメタンを用いる方法は工業的に好ましい方
法とはいえない。

本発明者らは、上記の如き問題点ないし欠点なしに高収
率で前記式（Ｉ）で示される２−ニトロ−５（置換ピリ
ジルオキシ）ベンゾヒドロキシム酸誘導体を製造できる
方法につき鋭意研究を行なった結果、下記反応式Ｂに示
す経路によって、式（Ｉ）の化合物を工業的に有利な方
法で且つ良好な収率で製造することができることを見い
出し、本発明を完成するに至った。

Ｘ塁求Ｗ Ｒ’ＯＲ２ 上記式中、 Ｒ５Ｒ１、Ｒ２及びＸは前記と同義であり、Ｘｌ及びＸ
′は各々臭素原子、塩素原子または弗素原子を表わし、 Ｙはハロゲン原子を表わし、 Ｚは水素原子またはアルカリ金属を表わし、Ｒ３及びＲ
４は互に独立に水素原子または低級アルキル基を表わし
、 Ａｅはアニオンを表わす。

本明細書において、「低級」なる語は、この語が付され
た基または化合物中の炭素原子数が６個以下、好ましく
は４個以下であることを意味する。

「低級アルキル基」は、直鎖状または分岐鎖状のいずれ
であってもよく、例えば、メチル、エチル、ｎ−プロピ
ル、イソプロピル、ｎ−ブチル、５ｅｃ−ブチル、イソ
ブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、ｎ−ペンチル、イソアミル
、ｎ−ヘキシル基が挙げられる。また「ハロゲン原子」
には弗素、塩素、臭素及びヨウ素原子が包含され、「ア
ルカリ金属」としてはナトリウム、カリウム、リチウム
等を例示することができる。

さらに「アニオン」としては、例えば、塩素、イオン、
テトラフルオロはう酸イオン、トリフルオロメタンスル
ホネートイオン等があげられる。

以下、前記反応式Ｂに示す式（Ｉ）の化合物の製進法を
工程毎に順を追ってさらに詳しく説明する。

工程１−１ 本工程において、式（Ｖｌ）で示される３−ハロゲノベ
ンズアミド類をアルキル化剤と反応させるが、或いは式
（Ｖｌ）で示される３−ハロゲノベンズアミド類をハロ
ゲン化反応物に変えた後アルコールと反応させることに
より、式（■）で示されるイミデート中間体が製造され
る。

本工程で出発原料として使用される式（Ｖｌ）の化合物
はそれ自体既知のものである（例えばバイルシュタイン
、第９巻３３９ページ参照）。また、この化合物をアル
キル化するために使用されるアルキル化剤としては、例
えば、硫酸ジメチル、硫酸ジエチル、等の硫酸ジ（低級
アルキル）；テトラフルオロはう酸トリチルオキソニウ
ム、テトラフルオロはう酸トリエチルオキソニウム等の
ｌ・す（低級アルキル）オキソニウムフルオロホウ酸塩
；テトラフルオロはう酸ジメトキシオキソニウム等のジ
（低級アルコキシ）カルボニウムフルオロホウ酸塩；ト
リフルオロメタンスルホン酸メチル、トリフルオロメタ
ンスルホン酸エチル等のトリフルオロメタンスルホン酸
低級アルキル；などが挙げられる。これらアルキル化剤
は一般に式（ＶＩ）の化合物１モルに対して約１〜約４
モル、好ましくは２〜３モルの範囲内で使用するのが適
当である。

本アルキル化反応は不活性溶媒の存在下に行なうことが
でき、用いうる溶媒としては、塩化メチレン、ジクロロ
エタン、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオ
キサン、ベンゼン、トルエン等を例示することができる
。その使用量は適当に選択変更でき、例えば、式（ＶＴ
）の化合物に対して約２〜約５０重量倍量の如き使用量
を例示することができる。

反応温度及び時間も適宜に選択変更することができ、通
常、常圧下に、約０°Ｃないし反応混合物の還流温度、
好ましくはＯ′Ｃ〜５０°Ｃの温度及び約０．１〜２４
時間の如き時間を例示することができる。

これにより式（■）の化合物を生成せしめることができ
る。

他方、式（■）の化合物は、式（ＶＴ）の化合物を予め
ハロゲン化剤で処理して対応するハロゲン化反応物に変
えた後、アルコール（低級アルカノール）と反応させる
ことによっても製造することができる。

式■の化合物をハロゲン化反応物に変えるために使用さ
れるハロゲン化剤としては、例えば、オキシ塩化リン、
五塩化リン、五臭化リン、塩化チオニル、ホスゲン、オ
キサリルクロリド等を例示することができる。これらハ
ロゲン化剤の使用量は適宜選択変更できるが、式（Ｖｌ
）の化合物１モルに対し、一般には約１〜約１０モル、
好ましくは１〜３モルの範囲内の使用量を例示すること
ができる。

このハロゲン化反応は不活性溶媒の存在下に行なうこと
ができ、用いうる溶媒としては、塩化メチレン、ジクロ
ロエタン、ジエチルエーテル、テトラヒドロ７ラン、ト
ルエン等を例示することができる。その使用量は適当に
選択変更でき、例えば式（Ｖｌ）の化合物に対して約５
〜約５０重量倍量の如き使用量を例示することができる
。

上記ハロゲン化反応の温度及び時間は特に制限されない
が、通常、常圧下に、約０℃ないし反応混合物の還流温
度、好ましくはｌＯ℃〜１２０°Ｃの温度及び約１分〜
ｌＯ時間を例示することができる。

かくして得られるハロゲン化反応物を次いでアルコール
と反応させる。ここで用いるアルコールとしては例えば
、メタノール、エタノール、インプロパツール、５ｅｃ
−ブタノール等の低級アルカノールが挙げられ、これら
は式（ＶＩ）の化合物１モルに対して少なくとも１モル
以上であればよく、大過剰に用いて溶媒としての役割を
果すようにしてもよい。

このアルコールとの反応は、ハロゲン化反応物を単離す
ることなく行うことができ、ハロゲン化反応物にアルコ
ールを添加しまたは逆にアルコールにハロゲン化反応液
を添加して反応を行なうことができる。

反応温度及び時間は適宜に選択変更でき、例えば常圧下
に、約−３０℃ないし還流温度、好ましくは一１０’ｏ
−１０℃の温度及び約１〜約Ｏ時間の如き時間を例示す
ることができる。

工程１−２ 本工程は、弐〇０１）で示される３−ハロゲノベンゾト
リクロリドを式（Ｘｌ１１）で示されるアルコキシ化剤
と反応させることにより、弐〇［Ｉ）で示される３−ハ
ロゲノオルト安息香酸エステルを製造する工程である。

本工程で出発原料として使用される式（ＸＩ［）の化合
物は例えばバイルシュタイン５巻３００ページ等の文献
に記載されたそれ自体既知の化合物である。この式（Ｘ
ｌ＋）の化合物と反応させる式（Ｘｌｌ＋）のアルコキ
シ化剤としては、例えば、ナトリウム、メチラート、カ
リウムメチラート、ナトリウムエチラート、カリウムエ
チラート等が挙げられ、これらは一般に式（Ｘｌ＋）の
化合物１モルに対して約３〜約１５モル、好ましくは３
〜６モルの範囲内で用いることができる。また、Ｚが水
素原子である式（Ｘｌｌ＋）のアルコキシ化剤を用いる
場合には、該アルコキシ化剤は溶媒量で使用してもよい
。

本反応は通常、脱酸剤の存在下行うのが望ましく、用い
うる脱酸剤としては、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウ
ム、炭酸ナトリウム、トリエチルアミン等を例示するこ
とができる。その使用量は適宜選択変更できるが、通常
、式（ＸＩ）の化合物１モルに対して約３〜約１５モル
比、特に３〜６モルの範囲内の使用量を例示することが
できる。

この反応は必要に応じて溶媒の存在下に行うことができ
、用いうる溶媒としては、塩化メチレン、ジクロロエタ
ン、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサ
ン、ベンゼン、トルエン等ヲ例示することができ、これ
らはそれぞれ単独で用いてもよく、または二種類以上の
溶媒を混合使用してもよい。その使用量は適当に選択変
更できるが、例えば、式（′Ｕ）の化合物に対して約２
〜約５０重量倍量の如き使用量を例示することができる
。

反応温度及び時間も適宜に選択変更でさ、例えば常圧下
もしくは加圧下に、室温ないし還流温度、好ましくは３
０℃〜１２０°Ｃの温度及び約１時間〜約ＩＯ日間の如
き時間を例示することができる。

工程２−【 本工程は前述の工程１−１で得られる式（■）で示され
るイミデート中間体にヒドロキシルアミンを反応させる
ことにより、式（ＩＩ）で示される３ハロゲノベンゾヒ
ドロキシム酸エステルヲ製造スる工程である。

式（■）の化合物と反応せしめられるヒドロキシルアミ
ンは塩酸塩、硫酸塩等の塩の形態でも用いることもでき
る。また、式（■）の化合物は単離することなく、工程
１−１に引き続いて行なうことができる。しかして、ヒ
ドロキシルアミンの使用量は厳密に制限されるものでは
ないが、一般には工程１−１で用いる式（Ｖｌ）の化合
物１モルに対して約１〜約１０モル、好ましくは１〜３
モルの範囲内で使用するのが適当である。

本反応は必要に応じて脱酸剤の存在下行うことができ、
用いうる脱酸剤としては、水素化ナトリウム、水酸化カ
リウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸ナト
リウム等の無機アルカリ；ナトリウムアルコラード、ト
リエチルアミン等の有機塩基を例示することができ、そ
の使用量は適宜選択変更できるが、通常、工程１−１で
用いる式（Ｖｌ）の化合物１モルに対して約１〜約ｌＯ
モル、好ましくは１〜３モルの範囲内を例示することが
できる。

この反応はまた適宜溶媒の存在下に行うことができ、例
えば、水、塩化メチレン、ジクロロエタン、ジエチルエ
ーテル オキサン、ベンゼン、トルエン等を例示することができ
、これらはそれぞれ単独で用いてもよく、または二種類
以上の溶媒を混合使用してもよい。

その使用量は適当に選択変更でき、例えば、式（Ｖｌ）
の化合物に対して約２〜約５０重量倍量の如き使用量を
例示することができる。

式（■）の化合物とヒドロキシルアミンとの反応は、前
述したとおり、工程１−１で得られる中間体を単離する
ことなく行なうことができ、工程ｌ−１の反応混合物に
ヒドロキシルアミン及び必要に応じて脱酸剤を添加して
もよく、また逆に例えば、ヒドロキシルアミンと脱酸剤
と溶媒との混合液中に工程１−１の反応混合物を添加し
てもよい。

反応温度及び時間は適宜に選択変更でき、例えば常圧下
に、約−３０℃ないし還流温度、好ましくは一１０°０
−１０℃の温度及び約２〜約５０間の如き時間を例示す
ることができる。

工程２−２ 本工程は、式（ＩＩ）で示される３−ハロゲノベンゾヒ
ドロキシム酸エステルを製造するための別法であって、
前述の工程１−２で得られる式（ｎ）で示される３−ハ
ロゲノオルト安息香酸エステルをヒドロキシルアミンと
反応させることにより、式（［）で示される３−ハロゲ
ンベンゾヒドロキシム酸エステルを製造する工程である
。

本工程で式（ＩＩ）の化合物と反応せしめられるヒドロ
キシルアミンは、例えば、塩酸塩、硫酸塩等の塩の形態
でも使用することができ、その使用量は一般に、式（Ｉ
Ｉ）の化合物１モルに対して約１〜約ｌＯモル、好まし
くは１〜３モルの範囲内とすることができる。

本反応は必要に応じて酸触媒の存在下で行うこともでき
、使用しうる酸触媒としては、塩酸、硫ａ、ｐ−トルエ
ンスルホン酸、三弗化はう素工チルエーテル、塩化アル
ミニウム等を例示することができ、その使用量は触媒量
の範囲内で適宜選択変更できるが、例えば、式（ＸＩ）
の化合物１モルに対し約０．０１〜約０．５モル、特に
０．０５〜０゜２モルの範囲内の使用量を例示すること
ができる。

本反応に使用するヒドロキシルアミンが塩の形態をとる
場合には、脱酸剤の存在下に反応を行うこともでき、用
いうる脱酸剤としては、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリ
ウム、炭酸ナトリウム、ナトリウムアルコラード等を例
示することができ、その使用量は一概には規定できない
が、例えばヒドロキシルアミン塩１モル当量に対し１モ
ル当量以下の使用量を例示することができる。

本反応はまた適宜不活性溶媒中で行なうことができ、使
用しつる溶媒としては、アルコール、ジエチルエーテル
、テトラヒドロ７ラン等を例示することができる。その
使用量は適当に選択変更でき、例えば、式（ｎ）の化合
物に対して約２〜約５０重量倍量の如き使用量を例示す
ることができる。

反応温度及び時間も適宜に選択変更することができ、例
えば常圧下に、約０°Ｃないし還流温度、好ましくは２
０°０−１００°Ｃの温度及び約１〜２４時間の如き時
間を例示することができる。

以上に述べた工程２−１及び２−２で得られる式（ｆｆ
）の化合物は従来の文献未載の新規な化合物であり、そ
の代表例を示せば次のとおりである。

３−フルオロベンゾヒドロキシム酸メチル、３−クロロ
ベンゾヒドロキシム酸エチル、３−ブロモベンゾヒドロ
キシム酸イソプロピル。

工程３−１ 本工程は、前述の工程２−１又は２−２で得られる式（
■）で示される３−ハロゲノベンゾヒドロキシム酸エス
テルを式（Ｘ）で示される２−ハロゲノ酢酸誘導体と反
応させて式（ｖ）で示される３ハロゲノベンゾヒドロキ
シム酸誘導体を製造する工程である。

本反応において式（ｆｆ）の化合物に対する式（Ｘ）の
化合物の使用量は厳密に制限されるものではなく、広い
範囲で変えうるが、一般には、式（ＩＸ）の化合物１モ
ルに対して式（Ｘ）の化合物は約１〜約１０モル、好ま
しくは１〜３モルの範囲内で使用するのが好都合である
。

本反応は好ましくは脱酸剤の存在下に行われ、使用しう
る脱酸剤としては、例えば、水酸化ナトリウム、炭酸カ
リウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸ナトリウム等の無機
アルカリ；ナトリウムアルコラード、トリエチルアミン
等の有機塩基を例示することができる。その使用量は適
宜選択変更できるが、通常、式（Ｘ）の化合物１モルに
対し約１〜約ｌＯモル、好ましくは１〜３の範囲内の使
用量を例示することができる。

本発明で製造または使用する３−ハロゲノベンゾヒドロ
キシム酸エステル（ＩＩ）は、そのアルカリ金属塩もし
くはアルカリ土類金属塩の形で用いてもよい。このよう
な塩の例としては、例えばナトリウム塩、カリウム塩等
の如きアルカリ金属塩、及び例えば、カルシウム塩、マ
グネシウム、塩等の如きアルカリ土類金属塩を例示する
ことができ、これらの塩の形で反応に供する場合には、
前述の脱酸剤は必ずしも必要ではない。

上記反応は適宜不活性溶媒中で行なうことができ、使用
しうる溶媒としては、アセトン、メチルエチルケトン、
ジメチルスルホキシド、スルホラン、Ｎ−メチル−２−
ピロリドン、Ｎ、Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ、Ｎ−
ジメチルアセトアミド、ベンゼン、トルエン等を例示で
きる。溶媒として、水と有機溶媒或いは水だけを使用し
、相間移動触媒、例えば、ベンジルトリエチルアンモニ
ウムクロリド、テトラブチルアンモニウムプロミドなど
の４級アンモニウム塩；テトラフェニルホスホニウムク
ロリド、テトラブチルホスホニウムクロリドなどの４級
ホスホニウム塩または１５−クラウン−５，１８−クラ
ウン−６などのクラウンエーテル触媒の存在下に反応を
行うこともできる。溶媒の使用料は適当に選択変更する
ことができ、例えば、式（ＩＩ）の化合物に対して約２
〜約５０重量倍量の如き使用量を例示することができる
。

反応温度及び時間も適宜に選択変更することができ、例
えば常圧下に、約−３０°Ｃないし還流温度、好ましく
は一２０℃〜１００℃の温度及び約１〜２４時間の如き
時間を例示することができる。

工程３−２ 本工程は、式（Ｖ）で示される３−ハロゲノヒドロキシ
ム酸誘導体の別途合成法であり、前述の式（■）で示さ
れるイミデート中間体を式（■）のヒドロキシルアミン
誘導体と反応させることからなるものである。

この式（■）の化合物と式（■）の化合物との反応は、
前述の工程２−１において式（■）の化合物とヒドロキ
シルアミンとの反応について述べたと全く同様にして行
なうことができる。なお、式（■）の化合物は、ヒドロ
キシルアミンと同様に、塩酸塩、硫酸塩等の塩の形でも
使用することもできる。

工程３−３ 本工程は、式（Ｖ）で示される３−ハロゲノヒドロキシ
ム酸誘導体のさらに別の合成法であり、式（Ｕ）で示さ
れる３−ハロゲノオルト安息香酸エステルを式（■）の
ヒドロキシルアミン誘導体と反応させることからなるも
のである。

本反応は、前述の工程２−２において式（Ｘｌ）の化合
物とヒドロキシルアミンとの反応について述べたと全く
同様にして行なうことができる。なお、式（■）の化合
物は、ヒドロキシルアミンと同様に、塩酸塩、硫酸塩等
の塩の形でも使用することもできる。

以上述べた工程３−１．３−２及び３−３で製造される
式（Ｖ）の化合物もまた、従来の文献未載の新規化合物
であり、その代表例を示せば次のとおりである。

（Ｅ　）、（Ｚ　）−０−カルボキシメチル−ベンゾヒ
ドロキシム酸メチル、 （Ｅ　）、（Ｚ　）−ｏ−メトキシカルボニルメチル−
３−フルオロベンゾヒドロキシム酸メチル、（Ｅ　）、
（Ｚ　）−ｏ−エトキシカルボニルメチル−３−フルオ
ロベンゾヒドロキシム酸メチル、（Ｅ　）、（Ｚ　）−
０−エトキシカルボニルメチル−３−クロロベンゾヒド
ロキシム酸メチル、 （Ｅ　）、（Ｚ　）−０−イソプロビルオキシカルホニ
ルメチル−３−フルオロベンゾヒドロキシム酸メチル、
（Ｅ　）、（Ｚ　）−ｏ−メトキシカルボニルメチル−
３−フルオロベンゾヒドロキシム酸エチル、（Ｅ　）、
（Ｚ　）−０−メトキシカルボニルメチル−フルオロベ
ンゾヒドロキシム酸イソプロピル。

工程４ 本工程は、式（Ｖ）で示される３−ハロゲノベンゾヒド
ロキシム酸誘導体をニトロ化剤と反応させテ式（ＩＶ）
で示すしる５−ハロゲノ−２−ニトロベンゾヒドロキシ
ム酸誘導体を製造する工程である。

式（Ｖ）の化合物のニトロ化に使用されるニトロ化剤は
、芳香環のニトロ化に通常使用される任意のニトロ化剤
であることができ、例えば、硝酸／硫酸、発煙硝酸／硫
酸、硝酸カリウム／硫酸または硝酸／硫酸／無水酢酸等
を例示することができる。その使用量は、硝酸、発煙硝
酸または硝酸カリウムについては、式（Ｖ）の化合物１
モルに対して通常約１〜約ｌθモル、特に約１〜約３モ
ルの範囲内を例示することができる。一方、共存させる
硫酸または無水酢酸などの使用量は、−概に決定される
ものではなく、触媒量から溶媒量まで適宜選択変更する
ことができるが、通常１−１ｏ容量倍で使用するのが好
都合である。

本ニトロ化反応は適宜溶媒の存在下に行うことができ、
使用しうる溶媒としては反応条件下安定であるもの、例
えば、塩化メチレン、クロロホルム、ジクロロエタン、
テトラクロロエチレン等を例示することができる。その
使用量は適当に選択変更することができ、例えば、式（
Ｖ）の化合物に対して約２〜約５０重量倍量の如き使用
量を例示することができる。

反応温度及び時間は適宜に選択変更することができ、例
えば常圧下に、約−２０℃ないし還流温度、好ましくは
＝ｌＯ℃〜５０°Ｃの温度及び約０゜１〜２４時間の如
き時間を例示することができる。

或いは式（Ｖ）の化合物のニトロ化は、先に示した通常
のニトロ化剤に加えて発煙硫酸を共存させてもよい。共
存させうる発煙硫酸としては、一般に三酸化イオウ含量
が１〜７０重量％、特に２５〜５０重量％の範囲内にあ
るものが好適に使用される。

発煙硫酸の使用量には特に制約はなく広い範囲にわたっ
て変えることができるが、通常、式（Ｉ［）の化合物に
対して約２〜約５０容量倍、好ましくは３〜１０容量倍
の範囲内で使用するのが好都合である。

かくして得られる式（ＩＶ）の化合物も従来の文献未載
の新規化合物であり、その代表例を示せば次のとおりで
ある。

（Ｅ　）、（Ｚ　）−０−力ルボキシメチル−５−フル
オロ−２−ニトロベンゾヒドロキシム酸メチル、（Ｅ　
）、（Ｚ　）−０−メトキシカルボニルメチル−５−フ
ルオロ−２−二トロペンゾヒドロキシム酸メチル、（Ｅ
　）、（Ｚ　）−０−エトキシカルボニルメチル−５−
フルオロ−２−二トロペンゾヒドロキシム酸メチル、（
Ｅ　）、（Ｚ　ｌｏ−エトキシカルボニルメチル−５ク
ロロ−２−ニトロベンゾヒドロキシム酸メチル、（Ｅ　
）、（Ｚ　）−０−イソプロピルオキシカルボニルメチ
ル−５−フルオロ−２−二トロペンゾヒドロキシム酸メ
チル、 （Ｅ　）、（Ｚ　）−〇−メトキシカルボニルメチルー
５−フルオロ−２−二トロペンゾヒドロキシム酸エチル
、（Ｅ　）、（Ｚ　）−０−メトキシカルボニルメチル
−５フルオロ−２−二トロペンゾヒドロキシム酸イソプ
ロピル、 （Ｅ　）、（Ｚ　）−０−（１−メトキシカルボニルエ
チル）−５−フルオロ−２〜ニトロベンゾヒドロキシム
酸メチル。

工程５ 本工程は、前述の工程４で得られる式（ＩＶ）で示され
る５−ハロゲノ−２−ニトロベンゾヒドロキシム酸誘導
体の５−位のハロゲン原子を水酸基に変える工程である
。

このハロゲン原子の水酸基への変換は、式（ＩＶ）の化
合物を（ａ）アルカリ加水分解反応に付すか、（ｂ）ア
セトキシ化反応とそれに続くアルカリ加水分解反応に付
すことにより行なうことができる。

前者（ａ）のアルカリ加水分解反応において使用される
アルカリは、例えば水酸化ナトリウム、水酸化カリウム
等の無機塩基が好ましく例示することができる。そのア
ルカリ水溶液の濃度は適宜選択変更できるが、通常、約
５〜約５０重量％、好ましくは１０〜２０重量％の範囲
内の濃度とすることができる。また、上記アルカリの使
用量も適宜に選択でき、例えば、式（■）の化合物１モ
ル当り約１〜約３モル、好ましくは１〜１．５モルの範
囲内の使用量を例示することができる。

本反応は、必要に応じて有機溶媒の共存下に行なうこと
ができ、例えば、アセトン、ジメチルスルホキシド等の
有機溶媒を例示することができる。

その使用量は適当に選択変更することができ、例えば、
式（ｒＶ）の化合物に対して約２〜約５０重量倍量の如
き使用量を例示することができる。

反応温度及び時間も適宜に選択変更でき、例えば常圧下
に、約０°Ｃないし還流温度、好ましくは０℃〜６０°
Ｃの温度及び約１〜２４時間の如き時間を例示すること
ができる。

後者（ｂ）の方法におけるアセトキシ化反応において使
用されるアセトキシ化剤としては、例えば、無水酢酸、
酢酸ナトリウム、酢酸カリウム等を例示することができ
、その使用量は適宜に選択できるが、例えば、式（ｒＶ
）の化合物１モル当り約１〜約３モル、好ましくはｌ−
１，５モルの範囲内の使用量を例示することができる。

本アセトキシ化反応は有機溶媒の共存下に反応させるの
が好ましく、用いうる溶媒としては、例えば、アセトン
、Ｎ、Ｎ−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシ
ド等を例示することができ、その使用量は適当に選択変
更することができ、例えば、式（ＩＶ）の化合物に対し
て約２〜約５０重量倍量の如き使用量を例示することが
できる。

反応温度及び時間は適宜に選択変更でき、例えば常圧下
に、０℃ないし還流温度、好ましくは０°Ｃ〜６０°Ｃ
の温度及び約１〜４８時間の如き時間を例示することが
できる。

アセトキシ化反応に統いて行われるアルカリ加水分解反
応において使用されるアルカリとしては、例えば、水酸
化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸水素ナトリウム、
炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等の無機塩基、またはナ
トリウムアルコラード等を例示することができ、その使
用量は適宜に選択できるが、例えば、式（ＩＶ）の化合
物１モル当り約ｌ〜約３モル、好ましくはｌ−１，５モ
ルの範囲内の使用量を例示することができる。

本加水分解反応は、アルカリとして無機塩基を使用する
場合には、水の共存下に反応させるのが好ましく、その
アルカリ水溶液の濃度は適宜選択変更できるが、例えば
、約５〜約５０重量％、好ましくは１０〜２０重量％の
範囲内の濃度を例示することができる。

本加水分解反応は有機溶媒の共存下に行なうことができ
、用いうる溶媒としては、例えば、アルコール、アセト
ン、テトラヒドロフラン、Ｎ、Ｎ−ジメチルホルムアミ
ド、ジメチルスルホキシド等を例示することができる。

その使用量は適当に選択変更でき、例えば、式（ＩＶ）
の化合物に対して約２〜約５０重量倍量の如き使用量を
例示することができる。

反応温度及び時間は適宜に選択変更でき、例えば常圧下
に、０℃ないし還流温度、好ましくはＯ℃〜３０℃の温
度及び約０．１〜２４時間の如き時間を例示することが
できる。

かくして得られる式（ｎ）の化合物もまた、従来の文献
未載の新規化合物であり、その代表例を示せば次のとお
りである。

（Ｅ　）、（Ｚ　）−０−力ルボキシメチル−５−ヒド
ロキシ−２−二トロペンゾヒドロキシム酸メチル、（Ｅ
　）、（Ｚ　）−０−メトキシカルボニルメチル−ヒド
ロキシ−２−二トロペンゾヒドロキシム酸メチル、 （Ｅ　）、（Ｚ　）−０−エトキシカルボニルメチル−
５ヒドロキシ−２−二トロペンゾヒドロキシム酸メチル
、 （Ｅ　）、（Ｚ　）−０−イソプロピルオキシカルボニ
ルメチル−５−ヒドロキシ−２−ニトロベンゾヒドロキ
シム酸メチル、 （Ｅ　）、（Ｚ　）−０−メトキシカルボニルメチル−
ヒドロキシ−２−ニトロベンゾヒドロキシム酸エチ（Ｅ
　）、（Ｚ　）−０−メトキシカルボニルメチル−ヒド
ロキシ−２−二トロペンゾヒドロキシム酸イソプロピル
、 （Ｅ　）、（Ｚ　）−０　−（　１−メトキシカルボニ
ルエチル）−５−ヒドロキシ−２−ニトロベンゾヒドロ
キシム酸メチル。

工程６ 本工程は式（ｎ）で示される５−ヒドロキシ−２−二ト
ロペンゾヒドロキシム酸誘導体を式（Ｉ［［）で示され
る２−ハロゲノ−５−トリフルオロメチルピリジン類と
反応させて、式（Ｉ）で示される目的とする２−ニトロ
−５−（置換ピリジルオキシ）ベンゾヒドロキシム酸誘
導体を製造する工程である。

上記反応において、式（ＩＩ）の化合物に対する式（Ｉ
ＩＩ）の化合物の使用割合は厳密に制限されるものでは
なく広い範囲で変えることができるが、一般には、式（
Ｅｌ）の化合物１モルに対して式（ＩＩＩ）の化合物を
約１〜約ｌＯモル、好ましくは１〜２モルの範囲内の量
で使用するのが好都合である。

本反応は通常脱酸病の存在下に行うことができ、用いう
る脱酸剤としては、例えば水素化ナトリウム、炭酸ナト
リウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素
カリウム等の塩基性無機化合物を好ましく例示すること
ができる。その使用量は適宜に選択できるが、例えば式
（Ｉｆ）の化合物１モルに対して約０．５〜約３モル、
好ましくは１〜２モルの範囲内の使用量を例示すること
ができる。

上記の反応は通常溶媒中で行なうことができ、使用しう
る溶媒としては、例えば、ジメチルスルホキシド、スル
ホラン、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、Ｎ、Ｎ−ジメチ
ルホルムアミド、Ｎ、Ｎ−ジメチルアセトアミド、アセ
トニトリル、アセトン、テトラヒドロフラン等の非プロ
トン性溶媒を例示することができる。溶媒として、水と
有機溶媒または水だけを使用し、相間移動触媒、例えば
、４級アンモニウム塩、４級ホスホニウム塩またはクラ
ウンエーテル触媒の存在下に反応を行うこともできる。

溶媒の使用量は適当に選択変更でき、例えば式（Ｉｆ）
の化合物に対して約２〜約５０重量倍量の如き使用量を
例示することができる。

反応温度及び時間は適宜に選択変更でき、例えば常圧下
に、約０℃ないし還流温度、好ましくは２０℃〜１５０
℃の温度及び約０．１〜約２４時間の如き時間を例示す
ることができる。

かくして式（Ｉ）の目的化合物を製造することができる
。

上記各反応工程で得られる生成物の反応混合物からの分
離及び／又は精製は、それ自体既知の方法、例えば、抽
出、再結晶、カラムクロマトグラフィー等の方法で行な
うことができる。

工程３−１．３−２及び３−３で得られる式（Ｖ）の化
合物、工程４で得られる式（ＴＶ）の化合物、工程５で
得られる式（ＩＩ）の化合物、並びに工程６において得
られる式（Ｉ）の化合物において、Ｒが水素原子または
アルカリ金属原子を表わす場合には、必要に応じて、そ
れら化合物をエステル化することによって対応するエス
テルに変えることができる。

このエステル化は通常の方法で行なうことができ、例え
ば、（ａ）酸触媒存在下にアルコールと反応させる方法
：（ｂ）塩基存在下に硫酸ジアルキル、トリフルオロメ
タンスルホン酸アルキルまたはハロゲン化アルキルと反
応させる方法等を例示することができる。

前者（ａ）のエステル化剤にアルコールを使用する方法
の場合、アルコールとしては、例えば、メタノール、エ
タノール、インプロパツール、ｎ−プタノール等の低級
アルコールが用いられ、その使用量はエステル化すべき
化合物１モルに対して少なくとも１モルであればよく、
■溶媒として使用することもできる。

本エステル化反応に使用する酸触媒としては、例えば、
塩酸、硫酸、ｐ−＋−ルエンスルホン酸等を例示するこ
とができ、その使用量はエステル化すべき化合物１モル
に対して例えば、約０．００１〜約２モル、好ましくは
０．１〜１モルの範囲内の量を例示することができる。

また、上記エステル化反応は適宜溶媒中で行なうことが
でき、使用しうる溶媒としては、例えば、ヘキサン、ヘ
プタン、ベンゼン、トルエン、ジクロロエタン、塩化メ
チレン、四塩化炭素等の不活性有機溶媒が挙げられ、そ
の使用量はエステル化すべき化合物に対して、例えば、
約２〜５０重量倍量の如き使用量を例示することができ
る。

反応温度及び時間は適宜に選択変更でき、例えば常圧下
に、約０°Ｃないし還流温度、好ましくは２０°ｃ−ｉ
ｏｏｏＣの温度及び約１〜４８時間の如き時間を例示す
ることができる。また、反応中生成する水を共沸留去し
てもよい。

後者（ｂ）のエステル化剤として、例えば、硫酸ジメチ
ル、硫酸ジエチルなどの硫酸ジ低級アルキル；トリフル
オロメタンスルホン酸メチル、トリフルオロメタンスル
ホン オロメタンスルホン酸低級アルキルまたはよう化メチル
、臭化エチル、ハロゲン化低級アルキルを使用するエス
テル化法の場合、これらアルキル化剤の使用量は、エス
テル化すべき化合物１モルに対して、例えば、約１〜約
３モル、好ましくは１〜１．５モシレの範囲内の量を例
示することができる。

また本エステル化反応に使用する塩基の例としては、ピ
リジン、トリエチルアミンなどの有機塩基；水酸化ナト
リウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウ
ム、炭酸水素ナトリウム、ナトリウムエチラート、水素
化ナトリウム等の無機塩基を例示することができ、その
使用量はエステル化すべき化合物１モルに対して、例え
ば、約１〜約３モル、好ましくは１〜１．５モルの範囲
内の量を例示することができる。

本エステル化反応は、通常溶媒の存在下に実施するのが
好ましく、使用しうる溶媒としては例えば、アルコール
、アセトン、ジエチルエーテル、Ｎ、Ｎ−ジメチルホル
ムアミド等を例示することができ、その使用量はエステ
ル化すべき化合物に対して、例えば、約２〜約５０重量
倍量の如き量を例示することができる。

反応温度及び時間は適宜に選択変更でき、例えば常圧下
に、約０°０ないし還流温度、好ましくは２０°Ｃ〜１
００℃の温度及び約１〜４８時間の如き時間を例示する
ことができる。

次に実施例により本発明を具体的に説明する。

実施例１ ３−フルオロオルト安息香酸メチルの製造（ｉ）ｍ−フ
ルオロトルエン１７．１７ｇ（１５６ｍｍｏα）を四塩
化炭素１５０ｍｆｆに溶解した溶液に、還流条件下、光
照射下、塩素ガスを６時間吹き込んだ。反応終了後、反
応混合物から溶媒を減圧留去し、３−フルオロベンゾト
リクロリドからなる無色油状物質３２．５８ｇ（１５３
ｍｍｏＱ、収率９７゜９％）を得た。

ｎ”＝　１．５３５７ ’Ｈ−ＮＭＲ（ＴＭＳ／ＣＤＣＬ）：　　ａ　６．９〜
７゜８（ＡｒＨ，ｍ） （ｉｉ）（ｉ）で得ｆ−３−フルオロベンゾトリクロリ
ドｌ　０　、Ｏｇ（４６，８ｍｍｏ１２）とメタノール
８０ｍＱとの混合溶液に、室温下２８％ナトリウムメチ
ラート／メタノール２７．６ｇとメタノール２５ｍａと
の混合溶液を滴下し、還流条件下７日間反応させた。反
応終了後、溶媒を減圧留去し、エーテルを加え、不溶物
を濾別した。濾液から溶媒を留去し、３−フルオロオル
ト安息香酸メチルからなる黄色油状物質７．５　ｇ（３
７，５ｍｍｏ（２，収率８０．２％）を得た。

ｎ”：　１．４９２８ ’Ｈ−ＮＭＲ（ＴＭＳ／ＣＤＣｌ２３）：δ３．１５（
９Ｈ，０ＣＨｓ、Ｓ）、８６．９〜７．４　（４，Ｈ，
Ａ　ｒＨＳｍ） 実施例２ （Ｅ　）、（Ｚ　）−３−フルオロベンゾヒドロキシム
酸メチルの製法 （ｉ）　　３−フルオロ−Ｎ、Ｎ−ジメチルベンズアミ
ド６．６８　ｇ（４０，０ｍｍｏＱ）と塩化メチレン７
０ｍＱとの混合溶液に、水冷下トリフルオロメタンスル
ホン酸メチル１９．８ｇ（１２０，７ａ＋ｎ＋ｏＱ）を
添加し、室温下３時間反応させた。反応終了後、溶媒を
減圧留去し、得られた白色結晶をジエチルエーテル４０
ｍＱに懸濁させた。この反応液を、ヒドロキシルアミン
塩酸塩３．３７　ｇ（４８，５ｍｍｏＩ２）と炭酸カリ
ウム６．６３　ｇ（４８，０ｍ＋ｎｏ＋２）と水１９．
９ｇとの混合溶液に、水浴下、徐々に添加し、３０分間
反応させた。反応終了後、反応液を水中に注入し、抽出
操作を行い、エーテル層を分取し、飽和食塩水で洗浄し
、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。

乾燥後、溶媒を減圧留去し、得られた粗生成物をシリカ
ゲルカラムクロマトグラフィーにて精製した結果、（Ｅ
）、（Ｚ）−３−フルオロベンゾヒドロキシム酸メチル
からなる無色油状物質３．７２ｇ（２２、Ｑ　ｍｍｏ１
２．収率５５．０％、Ｅ／Ｚ−６５／３５）を得た。

ｎ”：１．５３０２ ’Ｈ−ＮＭＲ（ＴＭＳ／ＣＤＣ（２３）：　ａ　３．８
３（１−９２Ｈ，ＯＣＨ３（Ｅ）、Ｓ）、８４．０１（
１，０８Ｈ，ＯＣＨ，（Ｚ）、Ｓ）、δ６．９〜７．７
（４Ｈ。

Ａ　ｒ　Ｈｓ　　ｍ　）、δ７．９５（０，６４Ｈ，Ｎ
０Ｈ（Ｅ）、ｂｒｓｓ）、δ８．４０（０，３６Ｈ，Ｎ
０Ｈ（Ｚ）、ｂｒ、５） （ｉｉ）　　３−フルオロ−Ｎ、Ｎ〜ジメチルベンズア
ミドｌ　、０１ｇ（６，０４ｍｎ＋ｏＱ）に、室温下、
オ＃’ｙ塩化リン１．２５ｇ（８，１５ｍｍｏＱ）を添
加し、６０°Ｃで１０分間反応させた。反応終了後、反
応液を室温まで冷却し、水浴中のメタノール８．８ｇに
徐々に添加し、１０分間反応させ、続いてヒドロキシル
アミン０．９１　ｇ（３１，４ｍｍｏ＜２）とメタノー
ル１３．７ｇとの混合溶液を水冷下漬下し、１０分間反
応させた。反応終了後、減圧下溶媒を留去し、得られた
生成物に水及びジエチルエーテルを添加し、抽出操作を
行い、ジエチルエーテル層を分取し、飽和食塩水で洗浄
し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。乾燥後、溶媒を
減圧留去し、得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロ
マトグラフィーにて精製した結果、（Ｅ）、（Ｚ）−３
−フルオロベンゾヒドロキシム酸メチルからなる無色油
状物質０゜６０ｇ（３，５４ｍｍｏＱ、収率５８．７％
、Ｅ／Ｚ　−５２／３８）を得た。

（ｉｉ）　　実施例１の（■）で得られた３−フルオロ
オルト安息香酸メチル２．８４ｇ（１４，２ｍｍｏｆｆ
）とメタノール５０ｍ１２との混合溶液に、室温下、ヒ
ドロキシルアミン塩酸塩１．５０ｇ（２１，５ｎｏｎｏ
＋２）を添加し、続いて２８％ナトリウムメチラート／
メタノール溶液４　、ｌ　Ｏｇ（２１，５ｍｍｏＱ）を
添加し、還流温度で２２時間反応させた。反応終了後、
溶媒を減圧留去し、水及びクロロホルムを添加し、抽出
操作を行い、クロロホルム層を分取し、無水硫酸マグネ
シウムで乾燥した。乾燥後、溶媒を減圧留去し、得られ
た粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて
精製した結果、（Ｅ）、（Ｚ）−３−フルオロベンゾヒ
ドロキシム酸メチルからなる無色油状物質１．３４　ｇ
（８，５３ｍｍｏｆｆ、収率６０゜１％、Ｅ／Ｚ−６２
／３８）を得た。

実施例３ ３−７ルオローＮ、Ｎ−ジメチルベンズアミド８゜６１
　ｇ（５１，５ｍｍｏｆｆ）に、室温下オキシ塩化リン
１１　、Ｏｇ（７１，７ｍｍｏ＋２）を添加し、６０°
Ｃで２０分間反応させた。反応終了後、反応液を室温ま
で冷却し、水浴中のメタノール４２．８　ｇ（１−３４
ｍｍｏｆｆ）に１時間かけて添加し、１０分間反応させ
た。続いて２８％ナトリウムメチラート／メタノール溶
液３０．０ｇ（１５５ｍｍｏａ）を反応温度を１０°Ｃ
以下に保ちながら４０分間かけて添加し、アミノオキシ
酢酸メチル６．４９ｇ（６１，８＋＋ｕ＋＋ｏｄ）とメ
タノール６．００ｇとの混合溶液を、反応温度を６°Ｃ
以下に保ちながら、５分間で滴下し、１．５時間反応さ
せた。反応終了後、析出した無機塩を濾別し、メタノー
ルで洗浄後、濾液を減圧下濃縮した。得られた粗生成物
をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製した結
果、（Ｅ　）、（ｚ　）−ｏ−メトキシカルボニルメチ
ル−３−フルオロベンゾヒドロキシム酸メチルからなる
無色油状物質６．８７ｇ（２３、５ｍｍｏＱ、収率５５
．３％、Ｅ／Ｚ−４６１５４）を得た。

ｎ！ｓ：　１．５０３９ ’Ｈ−ＮＭＲ（ＴＭＳ／ＣＤＣｆｆ５）：　ａ　３．７
５（３Ｈ，Ｃ０２ＣＨ３、Ｓ）、８３．７８（１，３８
Ｈ１ＯＣＨ、（Ｅ　）、Ｓ）、８４．１０（１，６２Ｈ
１ＯＣＨ。

（Ｚ）、Ｓ）、８４．５３（０，９２Ｈ，ＯＣＲ，（Ｅ
）、Ｓ）、６４．６１（１，０８Ｈ，０ＣＨｚ（Ｚ）、
Ｓ）、８６．９−７．８（４Ｈ％Ａ　ｒＨ，ｍ）実施例
４ （ｉ）　　実施例２の（ｉ）で得られた（Ｅ　）、（Ｚ
　）−３フルオロベンゾヒドロキシム酸メチル０．８５
ｇ（５，ＯＯｍｍｏα、Ｅ／Ｚ＝２１／７９）とり四日
酢酸エチル０．７４　ｇ（６，０７１１１１１１０７２
）とＮ、Ｎ−ジメチルホルムアミド１０ｍ＜２との混合
溶液に、室温下、炭酸カリウム０　、８３　ｇ（６，０
３ｍｍｏ（２）を添加し、９時間反応させた。反応終了
後、水及びジエチルエーテルを添加し、抽出操作を行い
、ジエチルエーテル層を分取し、飽和食塩水で洗浄し、
無水硫酸マグネシウムで乾燥した。乾燥後、溶媒を減圧
留去し、得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマト
グラフィーにて精製した結果、（Ｅ　）、（Ｚ　’）−
〇−エトキシカルボニルメチルー３−フルオロベンゾヒ
ドロキシム酸メチルからなる無色油状物質ｌ。

０１　ｇ（４，８８ｍｍｏｆｆ、収率９７．３％、Ｅ／
Ｚ　＝　２０／８０）を得た。

ｎ”：　１．４９８９ ’Ｈ−ＮＭＲ（ＴＭＳ／ＣＤＣｌ２．）：　　δ　１．
２７（３ＨＳ　Ｃ−ＣＨ，、ｔＳ　Ｊ＝７．２Ｈｚ）、
　８３．７７（０，６０Ｈ，０ＣＨ３（Ｅ）、　Ｓ）、
　８４．１０（２゜４０　ＨＸ　ＯＣＨ，（Ｚ）、　Ｓ
）、８４．２２（２Ｈ，ｃＨｚ　　Ｃ、ｑ　、　　Ｊ　
−７−２Ｈｚ　）、　８４．５０（０，４０Ｈ，ＯＣＨ
！（Ｅ）、　Ｓ）、８４．６０（１，６０Ｈ。

ＯＣＨ２（Ｚ）、　Ｓ）、８６．９〜７．８（４Ｈ，Ａ
ｒＨ，ｍ） （ｉｉ）　　３−フルオロ−Ｎ、Ｎ−ジメチルベンズア
ミド１．６３ｇ（９，７３ｍｍｏＱ）に、室温下、オキ
シ塩化リン１．９０ｇ（１２−４ｍｍｏＱ）を添加し、
６０℃で１０分間反応させた。反応終了後、反応液を室
温まで冷却し、水冷下、メタノール６．７０ｇ（２０９
ｍｍｏＱ）に徐々に添加し、２時間反応させた。

次にアミノオキシ酢酸エチル１．４１ｇ（１１，８ｍｍ
ｏ（２）を水冷下添加し、続いて２８％ナトリウムメチ
ラート／メタノール溶液５−５　ｇ（２８，５ｍｍｏＱ
）を、水冷下部下し、１０分間反応させた。反応終了後
、溶媒を減圧留去し、水及びジエチルエーテルを添加し
、抽出操作を行い、ジエチルエーテル層を分取し、飽和
食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。乾
燥後、溶媒を減圧留去し、得られた粗生成物をシリカゲ
ルカラムクロマトグラフィーにて精製した結果、（Ｅ　
）、（Ｚ　）−０−エトキシカルボニルメチル− キシム酸メチルからなる無色油状物質０．９１ｇ（３　
−５　５　＋ｍｍｏＱ，収率３６．５％、Ｅ／Ｚ−３０
／７０）及び、（Ｅ　）、（Ｚ　）−０−メトキシカル
ボニルメチル−３−フルオロベンゾヒドロキシム酸メチ
ルからなる無色油状物質０−２　３ｇ　　（０．９　４
ｍｍｏＱ，収率９．６％、Ｅ／Ｚ　−　２　８／７　２
）を得た。

（ｉｉ）　　実施例１の（ｉｉ）で得られた３−フルオ
ロオルト安息香酸メチル１．０ｇ（５．０ｍｍｏｆｆ）
とアミノオキシ酢酸エチル０　、６　ｇ（５　、０　４
　ｔｎｍｏＱ）とメタノール２０−との混合溶液に、室
温下、三弗化ホウ素エチルエーテル約０　、　１　ｍＱ
添加し、還流条件下、２．５時間反応させた。反応終了
後、溶媒を減圧留去し、得られた粗生成物をシリカゲル
カラムクロマトグラフィーにて精製した結果、（Ｅ）。

（２）−０−エトキシカルボニルメチル−ベンゾヒドロ
キシム酸メチルからなる無色油状物質０　、８　９ｇ　
　（３−’５ｍｍｏＱ、収率７０％、Ｅ／Ｚ　−３　２
／６　８）及び、原料の３−フルオロオルト安息香酸メ
チル０．２　０ｇ（１　、０ｍｍｏＱ，回収率２０％）
を得た。

実施例５ （１）実施例３で得られた（Ｅ　）、（Ｚ　）−０−メ
トキシカルボニルメチル−３−フルオロベンゾヒドロキ
シム酸メチル６、１　０ｇ（２　５．３ｍｍｏｄ、Ｅ／
Ｚ　−４　６１５　４）とメタノール４５．０ｇとの混
合溶液に、室温下、１０％水酸化ナトリウム水溶液１１
。

４　ｇ（２　８　、５　ｍｍｏＱ）を徐々に添加し、３
０分間反応させた。反応終了後、溶媒を減圧留去し、水
及びジエチルエーテルを添加し、アルカリ性条件下抽出
操作を行い、水層を分取した。この水層にジエチルエー
テルを添加し、塩酸酸性とし、抽出操作を行い、ジエチ
ルエーテル層を分取し、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸
マグネシウムで乾燥した。

乾燥後、溶媒を減圧留去した結果、（Ｅ　）、（Ｚ　）
−０ーカルポキシメチルー３−フルオロインゾヒドロキ
シム酸メチルからなる無色油状物質５．４１ｇ（２３　
、　３　ｍｍｏｆｆ，収率９４，２％、Ｅ／Ｚ−７７／
２３）を得た。

ｎ”：１．５１８１ ’Ｈ−ＮＭＲ（７ＭＳ／ＣＤＣｆｆ３）：δ３．７６（
２。

３　１　Ｈ，　Ｏ　Ｃ　Ｈｓ（Ｅ）、Ｓ）、８４．０３
（０．６９Ｈ，ＯＣＨ３（Ｚ）、ｓ）、８　４．５　２
（１．５　４Ｈ。

ＯＣＨ，（Ｅ）、Ｓ）、δ４　、６　Ｑ（０．４　６　
）（、　ＱＣＨ　＊（ｚ　）、Ｓ）、δ６．８〜７．６
（４Ｈ％Ａ　ｒＨ。

ｍ）、ａｌ　ｌ　、５　０（ｌ　Ｈ，Ｃｏ２Ｈ，ｓ）（
ｉｉ）　　３−フルオロ−Ｎ，Ｎ−ジメチルベンズアミ
ド１．６　７ｇ（１　０．Ｏｎａｏ＋ｏα）に、室温下
、オキシ塩化リン２　、　０　ｇ（　１　３　、　０　
ｍｍｏＱ）を添加し、６０℃で３０分間反応させた。反
応終了後、反応液を室温まで冷却し、水冷下メタノール
１．５ｇ（４６．８ｍｍｏ＜２）とジエチルエーテル２
０ｍ１２との混合溶液に徐々に添加し、１０分間反応さ
せた。続いてアミノオキシ酢酸塩酸塩１　、３　１　ｇ
（　１　２　、０　ｍｏ＋ｏｄ）と炭酸カリウム４．４
７　ｇ（３２，３ｒａｍｏＱ）と水１３．４ｇとの混合
溶液を、水冷下部下し、１０分間反応させた。反応終了
後、反応生成物に水及びジエチルエーテルを添加し、中
性条件下抽出操作を行い、水層を分取した。この水層に
ジエチルエーテルを添加し、塩酸酸性とし、抽出操作を
行い、ジエチルエーテル層を分取し、飽和食塩水で洗浄
し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。乾燥後、溶媒を
減圧留去し、得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロ
マトグラフィーにて精製した結果、（Ｅ）。

（２）−０−力ルポキシメチル−３−フルオロベンゾヒ
ドロキシム酸メチルからなる無色油状物質０．７８　ｇ
（３，４３ｒａｒａｏ（１、収率３４．３％、Ｅ／Ｚ　
−７８／２２）を得た。

（ｉｉ）　　実施例１の（ｉｎ）で得られた３−フルオ
ロオルト安息香酸メチル０．４１　ｇ（２，０６ｍｍｏ
（１）とメタノール７．５ｍｆｆとの混合溶液に、室温
下、アミノオキシ酢酸塩酸塩０．３４　ｇ（３，０８ｍ
ｍｏｆｆ）を添加し、１．５時間反応させた。反応終了
後、溶媒を減圧留去し、水及び塩化メチレンを添加し、
酸性条件下抽出操作を行い、塩化メチレン層を分取し、
飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した
。乾燥後、溶媒を減圧留去し、得られた油状粗生成物０
．５０ｇを高速液体クロマトグラフィーにて定量した結
果、（Ｅ）、（Ｚ）−０−力ルボキシメチル−３−フル
オロベンゾヒドロキシム酸メチルが８７．７重量％含有
されていた（１．８５ｍｒａｏＱ、収率９０．０％、Ｅ
／Ｚ＝７６／２４）。

実施例６ 製造 実施例４の（＋）で得られた（Ｅ　）、（Ｚ　）−０−
エトキシカルボニルメチル−３−フルオロベンゾヒドロ
キシム酸メチル１．５０ｇ（５，８８ｍｍｏＩ２、Ｅ／
Ｚ　−１０／９０）と塩化メチレン１０ｍ１２との混合
溶液に、水冷下、濃硫酸１１．３ｇを添加し、反応温度
を０９Ｃ以下に保ちながら、硝酸カリウム０．７１ｇ（
７，０５ｍｍｏＩ２）を徐々に添加し、０°Ｃで１時間
反応させた。反応生成物を、氷水と塩化メチレンの混合
溶液に注加し、抽出操作を行い、塩化メチレン層を分取
し、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥
した。乾燥後、溶媒を減圧留去し、得られた粗生成物を
シリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製した結果
、（Ｅ）−０−エトキシカルボニルメチル−５−フルオ
ロ−２−ニトロベンゾヒドロキシム酸メチルからなる黄
色油状物質０゜２１ｇ（１，２３ｍｍｏＱ、収率１２，
６％）、（Ｚ）−０−エトキシカルボニルメチル−１５
−フルオロ−２−二トロペンゾヒドロキシム酸メチルか
らなる黄色油状物質１．０５ｇ（３，５０１１１１１１
０（２、収率５９．７％）及び、原料である（Ｅ　）、
（Ｚ　）−０−エトキシカルボニルメチル−３−フルオ
ロベンゾヒドロキシム酸メチル０゜２０　ｇ（０−７９
ｍｍｏＱ、回収率１３．５％、Ｅ／Ｚ　−＝７９／２１
）を得た。

Ｅ体： ｎ”：　　１．５０８０ ’Ｈ−ＮＭＲ（ＴＭＳ／ＣＤＣα、）：　　８１．２７
（３Ｈ，Ｃ−ＣＨ３、ｔ、　　Ｊ＝７．２Ｈｚ）、　５
３．８５ｃ、　　ｑ、　　Ｊ＝７．２Ｈｚ）、　８４．
５８（２Ｈ，ＯＣＨ２、Ｓ）、　δ７．０−７５（２Ｈ
，ＡｒＨ，ｍ）、８７．９〜８．２（ｌ　　Ｈ，Ａ　ｒ
Ｈ，ｍ）２体： ｎ”：　　１．５　１　６２ ’Ｈ−ＮＭＲ（ＴＭＳ／ＣＤＣｌ２．）：　　δ　１．
３０（３Ｈ，Ｃ−ＣＨ，、ｔ、　　Ｊ＝７．２Ｈｚ）、
　δ３，９７（３Ｈ，ＯＣＨ，、Ｓ）、δ４．２３（２
Ｈ，ＣＨ。

Ｃ，ｑ、　　Ｊ＝７．２Ｈｚ）、　８４．５７（２Ｈ，
ＯＣＨ２、Ｓ）、　８７．０〜７．５（２Ｈ，ＡｒＨ，
ｍ）、８７．９−８．２（ＩＨＳ　ＡｒＨ，ｍ）実施例
７ 実施例５の（ｉ）で得られた（Ｅ　）、（Ｚ　）−〇−
力ルポキシメチルー３−フルオロベンゾヒドロキシム酸
メチル５．３７ｇ（２３，６ｍｍｏＩ２、Ｅ／Ｚ　＝　
７７／２３）と塩化メチレン６５．４ｇとの混合溶液に
、水冷下、濃硫酸４６．４ｇを添加し、反応温度を３℃
以下に保ちながら、硝酸カリウム２．８７ｇ（２８−３
　ｍｍｏＱ）を徐々に添加し、５°Ｃ以下で２時間、室
温で４時間反応させた。反応生成物を、氷水と塩化メチ
レンの混合液に注加し、抽出操作を行い、塩化メチレン
層を分取し、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウ
ムで乾燥した。乾燥後、溶媒を減圧留去した結果、（Ｅ
　）、（ｚ　）−ｏ−カルボキシメチル−５−フルオロ
−２−二トロペンゾヒドロキシム酸メチルからなる無色
油状物質５．６３ｇ（２０゜７　ｍｍｏｆｆ、収率８７
．５％、Ｅ／Ｚ　＝　６２／３　ｇ）を得　ｊこ　。

ｎ”：１．５２９７ ’Ｈ−ＮＭＲ（ＴＭＳ／ＣＤ（１，）：　　　δ　　３
．８７（１゜８６Ｈ、ｏ　　ＣＨｓ　（Ｅ　　）、　　
　Ｓ　）、　　８　３．９　０（１−１４８，０ＣＨｓ
（Ｚ）、　　　Ｓ　）、　　δ　　４．４５（１，２４
Ｈ。

ｏ　　ＣＨ２（Ｅ　　）、　　　Ｓ　）、　　δ　　４
．５８（０，７６Ｈ，ＯＣＨ２（Ｚ）、　　　Ｓ　）、
　　８　７．０−７．４（２Ｈ，ＡｒＨ１ｍ　）、　　
δ　　７．９−８．２（ｌ　　　Ｈ，Ａ　　ｒ　　Ｈ，
ｍ）、　　δ　　１０．９　　１（ｌ　　　Ｈ，Ｃ０２
Ｈ，ｓ）実施例８ ２−二！・ロペンゾヒドロキシム酸メチルの製造実施例
７で得られた（Ｅ　）、（Ｚ　）−０−力ルポキシメチ
ル−５−フルオロ−２−ニトロベンゾヒドロキシム酸メ
チル５−４４ｇ（２０，０ｍｍｏｆ２、Ｅ／Ｚ　＝　６
２／３８）とジメチルスルホキシド２９．７３ｇとの混
合溶液に、室温下、１０％水酸化ナトリウム水溶液３２
−Ｏｇ（８０，０ｍｍｏｆｆ）を徐々に添加し、５０°
Ｃで３時間反応させた。反応終了後、反応生成物に水及
びエーテルを添加し、塩酸酸性とし、抽出操作を行い、
エーテル層を分取し、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マ
グネシウムで乾燥した。乾燥後、溶媒を減圧留去した結
果、（Ｅ　）、（Ｚ　）−０−カルボキシメチル−５−
ヒドロキシ−２−ニトロベンゾヒドロキシム酸メチルか
らなる褐色結晶４．１５ｇ（１６，１ｍｍｏα、収率７
６．９％、Ｅ／Ｚ＝９１７９）を得た。

融点：１３０〜１３５°Ｃ ’Ｈ−ＮＭＲ（ＴＭＳ／ＣＤ（１３）：８３．８５（３
Ｈ，ＯＣＨ３、Ｓ）、Ｊ　４．４６（１，８２Ｈ，ＱＣ
Ｈｔ（Ｅ）、Ｓ）、δ４．６０（０，１８Ｈ，ＯＣＨ。

（Ｚ）、Ｓ）、δ６．８〜７．０（２Ｈ，ＡｒＨ＝、ｍ
）、δ７−８−８．１（Ｉ　Ｈ，Ａ　ｒ　Ｈ，ｍ）、　
δ９．４８（２Ｈ，ＯＨｌ　ＣＯ２）（、ｓ　） 実施例９ の製造 実施例８と同様にして得られた（Ｅ　）、（Ｚ　’）−
〇カルボキシメチルー５−ヒドロキシ−２−ニトロベン
ゾヒドロキシム酸メチル０−１７　ｇ（０，６３ｍｍｏ
Ｑ。

Ｅ／Ｚ　＝　７７／２３）とエタノール４ｍＱとの混合
溶液に、室温下、濃硫酸０．０３ｇを添加し、還流条件
下、１時間反応させた。反応終了後、溶媒を減圧留去し
、水及び塩化メチレンを添加し、酸性条件下、抽出操作
を行い、塩化メチレン層を分取し、飽和食塩水で洗浄し
、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。乾燥後、溶媒を減
圧留去し、得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマ
トグラフィーにて精製した結果、（Ｅ）−０−エトキシ
カルボニルメチル−５−ヒドロキシ−２−二トロペンゾ
ヒドロキシム酸メチルからなる黄色油状物質０．１４ｇ
（０，４７ｍｍｏｆｆ、収率７５％）を得た。

Ｅ体： 口”：１．５３５０ Ｈ−ＮＭＲ（ＴＭＳ／ＣＤＣｌ２．）：　　δ　ｌ　、
３０（３ＨＳ　Ｃ−ＣＨ３、ｔ、　　Ｊ＝７．２Ｈｚ）
、　δ　３．８３（３Ｈ，ＯＣＨ，、Ｓ）、　δ４．２
５（２Ｈ，ＣＨ２ｃ、　　ｑ、　　Ｊ−７，２Ｈｚ）、
δ４．４６（２Ｈ，ＯＣＨ２、Ｓ）、　８６．７−６−
９（２Ｈ，ＡｒＨ，ｍ）、８７．５（ＩＨｌ　ＯＨ，ｂ
ｒ、　　ｓ）、　δ　７．８〜８゜１（ＩＨｌ　ＡｒＨ
，ｍ） 実施例１０ （ｉ）　　実施例８で得られた（Ｅ　）、（Ｚ　）−０
−力ルボキシメチル−５−ヒドロキシ−２−二トロペン
ゾヒドロキシム酸メチル０．６４　ｇ（２，３６ｍｍｏ
Ｑ、　Ｅ　／Ｚ−９１／９）と炭酸カリウム０．７８ｇ
（５，６７ｒｓＩＩＩｏＩ２）とジメチルスルホキシド
１３．９ｇとの混合溶液に、室温下、３−クロロ−２−
フルオロ−５−トリフルオロメチルピリジン０．４６　
ｇ（２，３２ｍｍｏＱ）とジメチルスルホキシド１．ｏ
ｇとの混合溶液を添加し、４０°Ｃで１時間反応後、更
に３−クロロ−２−フルオロ−５−トリフルオロメチル
ピリジン０．０２２ｇ（合計２　、４３　ｍｍｏ（２）
を添加し、４０°Ｃで２５分間反応させた。反応終了後
、反応生成物に水及びジエチルエーテルを添加し、中性
条件下、抽出操作を行い、水層を分取した。この水層に
ジエチルエーテルを添加し、塩酸酸性とし、抽出操作を
行い、ジエチルエーテル層を分取し、飽和食塩水で洗浄
し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。乾燥後、溶媒を
減圧留去し、得られた粗結晶をジエチルエーテルとヘキ
サンとの混合溶媒で洗浄した結果、（Ｅ）−０−力ルポ
キシメチル−５−（３−クロロ５−トリフルオロメチル
−２−ピリジルオキシ）−２ニトロベンゾヒドロキシム
酸メチルからなる白色結晶０．７５ｇ（１，６６ｍｍｏ
ｆ２．収率７０．４％）を得た。一方、濾液を減圧濃縮
した結果、（Ｅ　）、（Ｚ　）−〇−カルボキシメチル
ー５−（３−クロロ−５−トリフルオロメチル−２−ピ
リジルオキシ）−２−二トロインノヒドロキンム酸メチ
ルからなる褐色油状物質０−１６　ｇ（０，３４ｍｍｏ
（２，収率１５．５％、Ｅ／Ｚ−６０／４０）を得た。

６体： 融点：１６３．５〜１６４．０°Ｃ Ｈ−ＮＭＲ（ＴＭＳ／ＤＭＳ○−ｄ、）：８３．８０（
３Ｈ，ＯＣＨ，、Ｓ）、δ４．３０（２Ｈ，ＯＣＨ２、
Ｓ）、δ７．５−７．８（２Ｈ，ＡｒＨＸｍ）、δ８．
１−８．６（４Ｈ，Ｃ○２Ｈ，Ａ　ｒ　Ｈ，ｍ）（ロ）
実施例８で得られた、（Ｅ　）、（Ｚ　）−０−カルボ
キンメチル−５−ヒドロキシ−２−ニトロベンゾヒドロ
キシム酸メチル０．５７ｇ（２，１２ｍｍｏｆｆ、Ｅ／
Ｚ＝９１／９）と炭酸カリウム０．７１ｇ（５，１２ｍ
ｍｏ（２）とジメチルスルホキシド１３．９ｇとの混合
溶液に、室温下、２．３−ジクロロ−５−トリフルオロ
メチルピリジン０．７６　ｇ（３，５１ｍｍｏ（２）と
ジメチルスルホキシド０．６ｇとの混合溶液を添加し、
１００°ｃ″ｃ１．５時間反応させた。反応終了後、反
応生成物に水及びジエチルエーテルを添加し、塩酸酸性
とし、抽出操作を行い、ジエチルエーテル層を分取し、
飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した
。乾燥後、溶媒を減圧留去し、得られた粗結晶を高速液
体クロマトグラフィーで分析した結果、（Ｅ　）、（Ｚ
　）−ｏ−カルボキシメチル−５−（３−クロロ−５−
トリフルオロメチル−２ピリジルオキシ）−２−二トロ
ペンゾヒドロキシム酸メチルＯ−７２ｇ（１，５９ｍｍ
ｏＱ、収率７５．１％、Ｅ／Ｚ−９１／９）が、含有さ
れていた。

実施例１１ 製造 （ｉ）　　実施例１Ｏの（ｉ）で得られた、（Ｅ　）、
（Ｚ　）〇−カルボキシメチルー５−（３−クロロ−５
−トリフルオロメチル−２−ピリジルオキシ）−２−二
トロペンゾヒドロキシム酸メチル０．２０　ｇ（０，４
５ｍｍｏｆｆ。

Ｅ／Ｚ＝９７／３）と炭酸水素ナトリウム０．０４５　
ｇ（０，５３ｍｍｏＱ）とＮ、Ｎ−ジメチルホルムアミ
ド１．０ｇとの混合溶液に、水冷下、臭化エチル０゜０
７６ｇ（０，７０ｍｍｏＣ）とＮ、Ｎ−ジメチルホルム
アミド１．３ｇとの混合溶液を添加し、６０°Ｃで６時
間反応させた。反応終了後、反応生成物に水及びジエチ
ルエーテルを添加し、アルカリ性条件下抽出操作を行い
、ジエチルエーテル層を分取し、飽和食塩水で洗浄し、
無水硫酸マグネシウムで乾燥した。乾燥後、溶媒を減圧
留去し、得られた粗結晶をシリカゲルカラムクロマトグ
ラフィーにて精製した結果、（Ｅ）−０−エトキンカル
ボニルメチル５−（３−クロロ−５−トリフルオロメチ
ル−２−ピリジルオキシ）−２−二トロペンゾヒドロキ
シム酸メチルからなる黄色結晶０．２０　ｇ（０，４２
ｍｍｏｆ！、収率９５．０％）及び、（Ｚ）−０−エト
キシカルボニルメチル−５−（３−クロロ−５−トリフ
ルオロメチル−２−ピリジルオキシ）−２−ニトロベン
ゾヒドロキシム酸メチルからなる黄色結晶０．００３ｇ
（０，００５ｍｍｏＱ、収率１．２％）を得た。

６体： 融点：５８．Ｏ〜５９．５°Ｃ ’Ｈ−ＮＭＲ（ＴＭＳ／ＣＤＣＱ３）：　　δ　１．５
７（３Ｈ，Ｃ−ＣＨ，、ｔ、　　Ｊ＝７．２Ｈｚ）、　
δ　４．ｌ　７（３Ｈ，ＯＣＲ，、Ｓ）、δ４．４７（
２Ｈ％　ＣＨ。

Ｃ，ｑ、　　Ｊ＝７．２Ｈｚ）、δ４．７３（２Ｈ，Ｃ
０焦２、Ｓ）、δ７．４〜７．８（２Ｈ，ＡｒＨ，ｍ）
、δ８．２〜８．６（３Ｈ％　ＡｒＨ，ｍ）２体： 融点：１０１．５〜１０３．５°Ｃ ’Ｈ−ＮＭＲ（ＴＭＳ／ＣＤ（１，）：　δ１．５５（
３Ｈ，Ｃ−Ｃ焦１、　ｔ、Ｊ＝７．２Ｈｚ）、δ４．２
３（３Ｈ，ＯＣＨｓ、Ｓ）、δ４．４６（２Ｈ１ＣＨ，
−Ｃ％　ｑ、Ｊ＝７．２Ｈｚ）、８４．８０（２Ｈ，Ｑ
ＣＣ１０Ｓ）、δ７．４〜７．８（２Ｈ，ＡｒＨ，ｍ）
、８８．２−８．６（３Ｈ，ＡｒＨ，ｍ）（ｉ）　　実
施例９で得られた（Ｅ　）−０−エトキシカルボニルメ
チル−５−ヒドロキシ−２−ニトロベンゾヒドロキシム
酸メチルＯ、ｌ　Ｏｇ（０，３４ｍｍｏＱ）と炭酸カリ
ウム０．０７　ｇ（０，５０ｍｍｏＱ）とＮ、Ｎ−ジメ
チルホルムアミド３ＩＩ１１２との混合溶液を８０℃に
加熱し、２．３−ジクロロ−５−トリフルオロメチルピ
リジン０．０９ｇ（０，４２ｍｍｏＱ）とＮ、Ｎ−ジメ
チルホルムアミド１ｍ＋２との混合溶液を添加し、８０
°Ｃで８時間反応させた。反応終了後、減圧上溶媒を留
去し、反応生成物に水及び塩化メチレンを添加し、アル
カリ性条件下、抽出操作を行い、塩化メチレン層を分取
し、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥
した。乾燥後、溶媒を減圧留去した結果、（Ｅ）−０−
エトキシカルボニルメチル−５−（３−クロロ−５−ト
リフルオロメチル−２−ビリジルオキン）−２−二トロ
ペンゾヒドロキシム酸メチルからなる黄色結晶０−１６
ｇ（０，３３ｍｍｏＩ２、収率９７．４％）を得た。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、下記式（ I ） ▲数式、化学式、表等があります▼（ I ） 式中、Ｒは水素原子、アルカリ金属原子または低級アル
   キル基を表わし、 Ｒ＾１は低級アルキル基を表わし、 Ｒ＾２は水素原子または低級アルキル基を表わし、 Ｘは水素原子またはハロゲン原子を表わす、で示される
   ２−ニトロ−５−（置換ピリジルオキシ）ベンゾヒドロ
   キシム酸誘導体を製造するにあたり、下記式（II） ▲数式、化学式、表等があります▼（II） 式中、Ｒ、Ｒ＾１及びＲ＾２は前記と同義である、で示
   される５−ヒドロキシ−２−ニトロベンゾヒドロキシム
   酸誘導体を下記式（III） ▲数式、化学式、表等があります▼（III） 式中、Ｘは前記と同義であり、 Ｘ＾１は臭素原子、塩素原子または弗素原子を表わす、 で示される２−ハロゲノ−５−トリフルオロメチルピリ
   ジン類と反応させ、そして必要に応じて、得られるＲが
   水素原子またはアルカリ金属原子を表わす場合の前記式
   （ I ）の化合物をエステル化することを特徴とする前
   記式（ I ）で示される２−ニトロ−５−（置換ピリジ
   ルオキシ）ベンゾヒドロキシム酸誘導体の製造法。 ２、下記式（II） ▲数式、化学式、表等があります▼（II） 式中、Ｒ、Ｒ＾１及びＲ＾２は請求項１に記載したと同
   義である、 で示される５−ヒドロキシ−２−ニトロベンゾヒドロキ
   シム酸誘導体。 ３、下記式（II） ▲数式、化学式、表等があります▼（II） 式中、Ｒ、Ｒ＾１及びＲ＾２は請求項１に記載したと同
   義である、 で示される５−ヒドロキシ−２−ニトロベンゾヒドロキ
   シム酸誘導体を製造するにあたり、下記式（IV） ▲数式、化学式、表等があります▼（IV） 式中、Ｙはハロゲン原子を表わし、 Ｒ、Ｒ＾１及びＲ＾２は前記と同義である、で示される
   ５−ハロゲノ−２−ニトロベンゾヒドロキシム酸誘導体
   のハロゲン原子を水酸基で置換させ、そして必要に応じ
   て、得られるＲが水素原子またはアルカリ金属原子を表
   わす場合の前記式（II）の化合物をエステル化すること
   を特徴とする前記式（II）の５−ヒドロキシ−２−ニト
   ロベンゾヒドロキシム酸誘導体の製造法。 ４、下記式（IV） ▲数式、化学式、表等があります▼（IV） 式中、Ｙ、Ｒ、Ｒ＾１及びＲ＾２は請求項１に前記した
   と同義である、 で示される５−ハロゲノ−２−ニトロベンゾヒドロキシ
   ム酸誘導体。 ５、下記式（IV） ▲数式、化学式、表等があります▼（IV） 式中、Ｙ、Ｒ、Ｒ＾１及びＲ＾２は請求項１に前記した
   と同義である、 で示される５−ハロゲノ−２−ニトロベンゾヒドロキシ
   ム酸誘導体を製造するにあたり、下記式（Ｖ）▲数式、
   化学式、表等があります▼（Ｖ） 式中、Ｙ、Ｒ、Ｒ＾１及びＲ＾２は前記と同義である、 で示される３−ハロゲノベンゾヒドロキシム酸誘導体を
   ニトロ化剤と反応させ、そして必要に応じて、得られる
   Ｒが水素原子またはアルカリ金属原子を表わす場合の前
   記式（IV）の化合物をエステル化することを特徴とする
   前記式（IV）の５−ハロゲノ−２−ニトロベンゾヒドロ
   キシム酸誘導体の製造法。 ６、下記式（Ｖ） ▲数式、化学式、表等があります▼（Ｖ） 式中、Ｙ、Ｒ、Ｒ＾１及びＲ＾２は請求項１に記載した
   と同義である、 で示される３−ハロゲノベンゾヒドロキシム酸誘導体。 ７、下記式（Ｖ） ▲数式、化学式、表等があります▼（Ｖ） 式中、Ｙ、Ｒ、Ｒ＾１及びＲ＾２は請求項１に記載した
   と同義である、 で示される３−ハロゲノベンゾヒドロキシム酸誘導体を
   製造するにあたり、 （ａ）下記式（VI） ▲数式、化学式、表等があります▼（VI） 式中、Ｙはハロゲン原子を表わし、 Ｒ＾３及びＲ＾４は互いに独立に水素原子または低級ア
   ルキル基を表わす、 で示される３−ハロゲノベンズアミド類をアルキル化剤
   と反応させるか、或いは式（VI）で示される３−ハロゲ
   ノベンズアミド類をハロゲン化反応物に変えた後アルコ
   ールと反応させ、得られる下記式（VII） ▲数式、化学式、表等があります▼（VII） 式中、Ｙ、Ｒ＾１、Ｒ＾３、Ｒ＾４は前記と同義であり
   、 Ａ＾■はアニオンを表わす、 で示されるイミデート中間体を下記式（VIII）▲数式、
   化学式、表等があります▼（VIII） 式中、Ｒ及びＲ＾２は前記と同義である、 で示されるヒドロキシルアミン誘導体と反応させ、或い
   は （ｂ）上記式（VII）の化合物をヒドロキシルアミンと
   反応させ、得られる下記式（IX） ▲数式、化学式、表等があります▼（IX） 式中、Ｙ及びＲ＾１は前記と同義である、 で示される３−ハロゲノベンズヒドロキシム酸エステル
   を下記式（Ｘ） ▲数式、化学式、表等があります▼（Ｘ） 式中、Ｒ及びＲ＾２は前記と同義であり、 Ｘ＾２は塩素原子、臭素原子または沃素原子を表わす、 で示されるハロゲン化酢酸誘導体と反応させ、そして必
   要に応じて、 （ｃ）得られるＲが水素原子またはアルカリ金属原子を
   表わす場合の式（Ｖ）の化合物をエステル化することを
   特徴とする前記式（Ｖ）の３−ハロゲノベンゾヒドロキ
   シム酸誘導体の製造法。 ８、下記式（Ｖ） ▲数式、化学式、表等があります▼（Ｖ） 式中、Ｙ、Ｒ、Ｒ＾１及びＲ＾２は請求項１記載と同義
   である、 で示される３−ハロゲノベンゾヒドロキシム酸誘導体を
   製造するにあたり、 （ａ）下記式（Ｘ I ） ▲数式、化学式、表等があります▼（Ｘ I ） 式中、Ｙ及びＲ＾１は前記と同義である、 で示される３−ハロゲノオルト安息香酸エステルを下記
   式（VIII） ▲数式、化学式、表等があります▼（VIII） 式中、Ｒ及びＲ＾２は前記と同義である、 で示されるヒドロキシルアミン誘導体と反応させ、或い
   は （ｂ）上記式（Ｘ I ）の化合物をヒドロキシルアミン
   と反応させ、得られる下記式（IX） ▲数式、化学式、表等があります▼（IX） 式中、Ｙ及びＲ＾１は前記と同義である、 で示される３−ハロゲノベンゾヒドロキシム酸エステル
   を下記式（Ｘ） ▲数式、化学式、表等があります▼（Ｘ） 式中、Ｒ及びＲ＾２は前記と同義であり、 Ｘ＾２は請求項７に記載したと同義である、で示される
   ハロゲン化酢酸誘導体と反応させ、そして必要に応じて
   、 （ｃ）得られるＲが水素原子またはアルカリ金属原子を
   表わす場合の式（Ｖ）の化合物をエステル化することを
   特徴とする前記式（Ｖ）の３−ハロゲノベンゾヒドロキ
   シム酸誘導体の製造法。 ９、下記式（IX） ▲数式、化学式、表等があります▼（IX） 式中、Ｙ及びＲ＾１は請求項１に記載したと同義である
   、 で示される３−ハロゲノベンゾヒドロキシム酸エステル
   。 １０、下記式（Ｘ I ） ▲数式、化学式、表等があります▼（Ｘ I ） 式中、Ｙ及びＲ＾１は請求項１に記載したと同義である
   、 で示される３−ハロゲノオルト安息香酸エステルを製造
   するにあたり、下記式（ＸII） ▲数式、化学式、表等があります▼（ＸII） 式中、Ｙは前記と同義である、 で示される３−ハロゲノベンゾトリクロリドを下記式（
   ＸIII） Ｒ＾１−ＯＺ（ＸIII） 式中、Ｒ＾１は請求項１に記載したと同義であり、 Ｚは水素原子またはアルカリ金属を表わす、で示される
   アルコキシ化剤と反応させることを特徴とする前記式（
   Ｘ I ）の３−ハロゲノオルト安息香酸エステルの製造
   法。