JPH02265683A - 清浄化法 - Google Patents
清浄化法Info
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- JPH02265683A JPH02265683A JP8655789A JP8655789A JPH02265683A JP H02265683 A JPH02265683 A JP H02265683A JP 8655789 A JP8655789 A JP 8655789A JP 8655789 A JP8655789 A JP 8655789A JP H02265683 A JPH02265683 A JP H02265683A
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Landscapes
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
（発明の技術分野）
本発明は汚染物の付着した物品の汚染物を除去して清浄
にする方法に関する。
にする方法に関する。
（従来技術とその問題点）
汚染物が付着した物品は数多くあり、これの除去にも様
々の方法が行われていることは周知の事実である。中で
も、はんだ付けした物品 特にプリント基板は代表的で
あるため、以後の説明プリント基板を以って行うことと
する。はんだ付けしたプリント基板は、はんだ付けする
ため、予めフラックス処理が行われている。このため、
はんだ付け後には、当然乾乾燥したフラックス残査が強
固に付着しており、これは吸湿性および腐食性が大きい
ため、保存中に絶縁抵抗性を著しく悪くしたり、腐食性
を大にしたりする恐れが極めて大きく、フラックス残査
の除去清浄化は不可欠の条件になっている。フラックス
には水溶性のフラックスとロジン又はその誘導体を主体
としたフラックスが代表的である。水溶性フラックス残
査は、外観的には水洗により除去されているように見受
けられるが、実際には、その残査は強固に付着しており
、単に従来の水洗程度では除去不能であり、絶縁抵抗性
も腐食性も良くない。ロジン系フラックス残査は、イソ
プロピアルコート等のロジンを溶解すると共に、フラッ
クス中の活性化剤であるハロゲン化物等の吸湿性成分を
も一諸に除去するため好しいが、それでも十分でなく、 又火災の危険性があるため現在では使用されていない。
々の方法が行われていることは周知の事実である。中で
も、はんだ付けした物品 特にプリント基板は代表的で
あるため、以後の説明プリント基板を以って行うことと
する。はんだ付けしたプリント基板は、はんだ付けする
ため、予めフラックス処理が行われている。このため、
はんだ付け後には、当然乾乾燥したフラックス残査が強
固に付着しており、これは吸湿性および腐食性が大きい
ため、保存中に絶縁抵抗性を著しく悪くしたり、腐食性
を大にしたりする恐れが極めて大きく、フラックス残査
の除去清浄化は不可欠の条件になっている。フラックス
には水溶性のフラックスとロジン又はその誘導体を主体
としたフラックスが代表的である。水溶性フラックス残
査は、外観的には水洗により除去されているように見受
けられるが、実際には、その残査は強固に付着しており
、単に従来の水洗程度では除去不能であり、絶縁抵抗性
も腐食性も良くない。ロジン系フラックス残査は、イソ
プロピアルコート等のロジンを溶解すると共に、フラッ
クス中の活性化剤であるハロゲン化物等の吸湿性成分を
も一諸に除去するため好しいが、それでも十分でなく、 又火災の危険性があるため現在では使用されていない。
この対策として、不燃性で安定無害であるフロン洗浄液
が専ら使用されている。ところが、最近になって、この
フロンガスが安定なるがために、成層圏にまで舞い上り
、ここで分解して塩素ガスを発生して、オゾン層を破壊
するため、紫外線が直接地球上に降り注いで、皮膚ガン
を発生する恐れが大きいということが判明し、世界的に
大きな問題になっている。本発明はこれらの問題を解決
することを目的とする。
が専ら使用されている。ところが、最近になって、この
フロンガスが安定なるがために、成層圏にまで舞い上り
、ここで分解して塩素ガスを発生して、オゾン層を破壊
するため、紫外線が直接地球上に降り注いで、皮膚ガン
を発生する恐れが大きいということが判明し、世界的に
大きな問題になっている。本発明はこれらの問題を解決
することを目的とする。
（発明の構成および作用）
本発明は汚染物の付着した物品、特にはんだ付け後のプ
リント基板を不活性ガス 特にチッソガスと汚染物 特
にフラックス残査を溶解する溶剤又と水を併用した加圧
処理して汚染物 特にフラックス残査を除去した清浄化
することを特徴とするものである。
リント基板を不活性ガス 特にチッソガスと汚染物 特
にフラックス残査を溶解する溶剤又と水を併用した加圧
処理して汚染物 特にフラックス残査を除去した清浄化
することを特徴とするものである。
本発明は不活性ガス 特にチッソガスとフラックス残査
を溶解する溶剤、たとえば イソプロパノールを併用し
た加圧処理するため、（１）イソプロパノールは可燃性
であるが、チッソガスにより可燃性の問題ま著しく改善
され、火災の危険性はなくなる。（２）チッソガスとイ
ソプロパノールを併用した加圧処理するため、従来法に
比し、フラックス残査の除去は著しく容易になり、十分
に清浄化される。（３）イソプロパノールの使用量を著
しく少なくすることができる。（４）酸化を防止するこ
とができる。
を溶解する溶剤、たとえば イソプロパノールを併用し
た加圧処理するため、（１）イソプロパノールは可燃性
であるが、チッソガスにより可燃性の問題ま著しく改善
され、火災の危険性はなくなる。（２）チッソガスとイ
ソプロパノールを併用した加圧処理するため、従来法に
比し、フラックス残査の除去は著しく容易になり、十分
に清浄化される。（３）イソプロパノールの使用量を著
しく少なくすることができる。（４）酸化を防止するこ
とができる。
フラックスが水溶性の場合は、チッソガスと水を併用し
て加圧処理するため、（１）従来法に比し、フラックス
残査の除去は著しく容易になり、十分に清浄されやすく
なる。（２）酸化を防止することができる。
て加圧処理するため、（１）従来法に比し、フラックス
残査の除去は著しく容易になり、十分に清浄されやすく
なる。（２）酸化を防止することができる。
従って、問題になっているフロン洗浄液を必しも使用す
る必要はなく、又假にに使用しても著しく少なくてすむ
。不活性ガスはチッソガスが特に好しい。汚染物、特に
フラックス残査を溶解する水は純水が最も好しい。溶剤
は汚染物、特にフラックス残査を溶解する通常の溶剤で
良いが、プリント基板又はこれに設置されている部分品
を溶解する溶剤は使用できない。これはプリント基板と
しての価値がなくなるからである。
る必要はなく、又假にに使用しても著しく少なくてすむ
。不活性ガスはチッソガスが特に好しい。汚染物、特に
フラックス残査を溶解する水は純水が最も好しい。溶剤
は汚染物、特にフラックス残査を溶解する通常の溶剤で
良いが、プリント基板又はこれに設置されている部分品
を溶解する溶剤は使用できない。これはプリント基板と
しての価値がなくなるからである。
この意味から、アルコール系の溶剤、特にイソプロパノ
ールが、溶解度、沸点、臭気の点からより好しい。
ールが、溶解度、沸点、臭気の点からより好しい。
加圧処理の圧力は物品又はこれに設置されている部品が
破損されない範囲において強い方が効果が大になり、不
活性ガスの使用量は多い方が良い。
破損されない範囲において強い方が効果が大になり、不
活性ガスの使用量は多い方が良い。
加圧処理したフラックス残査を含有する溶剤又は水は通
常は廃棄するが、これをパイプ等で循環し、その途中で
フラックス残査を除去して清浄な溶剤又は水として再利
用することも良い方法である。
常は廃棄するが、これをパイプ等で循環し、その途中で
フラックス残査を除去して清浄な溶剤又は水として再利
用することも良い方法である。
加圧処理は、溶剤又ま水が沸騰しない温度以下、好しく
は、沸点よりも１０℃以下の低い温度が加熱すると、本
効果が更に大になる。これは、あまり高くなると、併用
することが難しく、可燃性溶剤の場合は、火災の危険性
が大になるからである。
は、沸点よりも１０℃以下の低い温度が加熱すると、本
効果が更に大になる。これは、あまり高くなると、併用
することが難しく、可燃性溶剤の場合は、火災の危険性
が大になるからである。
（発明の効果）
１．必しも、従来のフロン洗浄液を使用する必要はない
。又使用しても著しく少なくてすむ。
。又使用しても著しく少なくてすむ。
２．可燃性溶剤を使用しても、火災の危険性は著しく改
善される。
善される。
３．洗浄が著しく速くなる。
４．酸化の心配がない。
実施例
通常のロジン系活性フラックスを使用して、はんだ付け
したプリント基板を密閉ボックス内で、２ｋｇ／ｃｍ２
のチッソガスとイソプロパノールを併用して２分間加圧
スプレー処理してフラックス残査を除去して清浄にした
。除去清浄化は極めて速く完全に行われた。火災の危険
性もなかった。
したプリント基板を密閉ボックス内で、２ｋｇ／ｃｍ２
のチッソガスとイソプロパノールを併用して２分間加圧
スプレー処理してフラックス残査を除去して清浄にした
。除去清浄化は極めて速く完全に行われた。火災の危険
性もなかった。
比較のため、従来のフロン洗浄液で洗浄したものと、絶
縁抵抗性、腐食性のテストを行ったが、全く変りがなく
、優れていた。
縁抵抗性、腐食性のテストを行ったが、全く変りがなく
、優れていた。
Claims (2)
- １．汚染物の付着した物品を不活性ガスと汚染物を溶解
する溶剤又は水を併用して加圧 処理して汚染物を除去することを特徴とする清浄化法。 - ２．はんだ付け後の物品を不活性ガスとフラックス残査
を溶解する溶剤又は水を併用して加圧処理してフラック
ス残査を除去することを 特徴とする清浄化法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8655789A JPH02265683A (ja) | 1989-04-05 | 1989-04-05 | 清浄化法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8655789A JPH02265683A (ja) | 1989-04-05 | 1989-04-05 | 清浄化法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02265683A true JPH02265683A (ja) | 1990-10-30 |
Family
ID=13890312
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8655789A Pending JPH02265683A (ja) | 1989-04-05 | 1989-04-05 | 清浄化法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH02265683A (ja) |
-
1989
- 1989-04-05 JP JP8655789A patent/JPH02265683A/ja active Pending
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