JPH02264787A - ビス(1,2‐ジアリール―1,2‐エチレンジチオラト)ニッケル系錯体の製造方法 - Google Patents

ビス(1,2‐ジアリール―1,2‐エチレンジチオラト)ニッケル系錯体の製造方法

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JPH02264787A
JPH02264787A JP1084890A JP8489089A JPH02264787A JP H02264787 A JPH02264787 A JP H02264787A JP 1084890 A JP1084890 A JP 1084890A JP 8489089 A JP8489089 A JP 8489089A JP H02264787 A JPH02264787 A JP H02264787A
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啓輔 詫摩
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入里 義広
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加藤 公敏
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は電子機器用近赤外線カットフィルター写真用近
赤外線フィルター、保護メガネ、サングラス、ゴーグル
、熱線遮断フィルム、農業用フィルム、光ディスク、光
学文字読み取り用記録、太陽熱貯蔵、写真用感光材など
に有用な、近赤外線を吸収するビス(1,2−ジアリー
ル−1,2−エチレンジチオラド)ニッケル系錯体の製
造方法に関するものである。
〔従来の技術及び発明が解決しようとする課題〕一般式
(1) 〔式中、R1,R1は互いに同一、もしくは相異なるフ
ェニル基またはナフチル基を示し、アルキル基、シクロ
アルキル基、アリール基、アルコキシ基、フェノキシ基
、ヒドロキシ基、アルキルアミノ基。
了り−ルアミノ基、トリフルオロメチル基、アルキルチ
オ基、アリールチオ基、ニトロ基、シアノ基、またはハ
ロゲン原子によって1〜3個、同−又は相異なって置換
されていてもよい。〕で表されるビス(1,2−ジアリ
ール−1,2−エチレンジチオラド)ニッケル系錯体は
前記のように近赤外線の領域に吸収を有する化合物であ
り、近赤外光調整フィルター、光デイスク記録等の用途
を有する化合物の一群である。また、−重項酸素を脱活
性化する性質を有し、−重項酸素クエンチャーとして、
例えばポリオレフィン顛の光安定剤や酸化防止剤、有機
色素などの光劣化防止剤としての用途も有する。
該化合物の一般的な製法は、例えばG、N、5chra
uzerらのジャナール オプ アメリカン ケミカル
 ソシャリテイ(J、Am、Chem、Soc、、 8
7巻、1483頁(1965年)〕に示されており、次
に示す様な反応経路により該化合物を得る事が出来る。
C以下余白) 即ち、ジオキサン中で次式(I[[) 〔式中、Rは水素、メチル基、メトキシ基、塩素原子を
示す、〕で表されるベンゾイン化合物と五硫化リンを加
熱して反応させ、リン化合物の中間体を生成させ室温ま
で冷却し、不溶物を濾過後、塩化ニッケル(TI)水溶
液を加えて、加熱して反応させることにより一般式(I
V) 〔式中Rは水素、メチル基、メトキシ基、塩素原子を示
す、〕で表されるビス(1,2−ジアリール−1,2−
エチレンジチオラト)ニッケル系錯体を得る方法が記載
されている。
従来、前記一般式(+)の化合物を得る反応は、ジオキ
サン中で反応させるが、副反応が多く目的物の収率は3
5%前後と低い収率であった。そのため工業的コストの
面で問題となっていた。
本発明の課題は該目的物を高収率で得る方法を提供する
ことを目的とする。
〔課題を解決するための手段〕
本発明者らは、一般式(f)の化合物を収率よく得る方
法について鋭意検討を行った結果、前記の反応において
、ジオキサンの代わりに1.3−ジメチル−2−イミダ
ゾリジノン(以後DM1と略す)を溶媒として行ったと
ころ、副生体の生成が減少し、目的とするビス(1,2
−ジアリール−1,2−エチレンジチオラド)ニッケル
系錯体を高収率で得ることを見出し、本発明を完成した
また、このDMN$媒法においては中間体のリン化合物
が生成する場合に副生成する不溶物がなく、il!遇す
る必要なく、1段の反応で連続的に操作を行うことがで
き、工業的に非常に価値のあることが判明した。
即ち、本発明は式(■) 〔式中、R1,R1は互いに同一、もしくは相異なるフ
ェニル基またはナフチル基を示し、アルキル基、シクロ
アルキル基、アリール基、アルコキシ基、フェノキシ基
、ヒドロキシ基、アルキルアミノ基、アリールアミノ基
、トリフルオロメチル基、アルキルチオ基、アリールチ
オ基、ニトロ基、シアノ基、またはハロゲン原子によっ
て1〜3個、同−又は相異なって置換されていてもよい
、〕で表されるベンゾイン化合物と三硫化リンとをDM
Ii媒中で反応させ、さらに塩化ニッケル(II)と反
応させることを特徴とする一般式(1)【式中、R1、
R1は互いに同一、もしくは相異なるフェニル基または
ナフチル基を示し、アルキル基、シクロアルキル基、ア
リール基、アルコキシ基、フェノキシ基、ヒドロキシ基
、アルキルアミノ基アリールアミノ基、トリフルオロメ
チル基、アルキルチオ基、アリールチオ基、ニトロ基、
シアノ基、またはハロゲン原子によって1〜3個、同−
又は相異なって置換されていてもよい、〕で表されるビ
ス(1,2−ジアリール−1,2−エチレンジチオラド
)ニッケル系譜体の製造方法である。
ここで、式(■)で示されるベンゾイン化合物は、Or
ganic Reactions 4巻、263F((
1948年)の方法により容易に合成できる。
本発明の製造法が適用できる一般式(1)中のフェニル
基またはナフチル基上の置換基の具体例を次に示す。
アルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基
、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基等、シクロアルキ
ル基としては、シクロペンチル基、シクロヘキシル等、
アリール基としては、フェニル基、ρ−ニトロフェニル
基等、アルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基
、ブトキシ基等、フェノキシ基、ヒドロキシ基、アルキ
ルアミノ基としては、ジメチルアミノ基、ジエチルアミ
ノ基、ジブチルアミノ基等、アリールアミノ基としては
、ジフェニルアミノ基、ジトリルアミノ基等、トリフル
オロメチル基、アルキルチオ基としては、メチルチオ基
、エチルチオ基、ブチルチオ基等、アリールチオ基とし
ては、フェニルチオ基、トリルチオ基等、ニトロ基、シ
アノ基、ハロゲン原子としては、フン素原子、塩素原子
、臭素原子、ヨウ素原子等が挙げられる。
前記一般式(1)で表される二つの異性体は混在した化
合物として得られる。
これらの本発明化合物は出発原料である対応するベンゾ
イン11重量部を1〜100重量部、好ましくは4〜2
0重量倍のDMI中に1〜5モル比、好ましくは1.2
〜2モル比の三硫化リンとともに溶解又は懸濁させ、5
0°C〜160°C1好ましくは70〜120°Cに加
熱させることにより中間体のリンフ化合物を得ることが
できる。
続いて、反応液を室温に冷却し、水に溶解させた0、4
〜2モル比、好ましくは0.4〜0.6モル比の塩化ニ
ッケル(■)6水和物を加え10〜160°C1好まし
くは40〜120°Cに加熱して反応させ、続いて反応
液を水、アルコール又はアセトン中に排出し、濾過、ア
ルコール洗浄、水洗、乾燥することにより式(1)の二
種の異性体の混在した化合物を高収率で得ることができ
る。
〔作用及び効果〕
本発明に用いたDMIは毒性が低く、熱的、化学的に安
定で、沸点は225”C,引火点は107”Cと高く、
凝固点は82°Cと低く取り扱い易い性質を持っており
、無機及び有機化合物に対して強い溶解力を持ち、また
その高い誘導率と溶媒和効果により反応物を反応し易い
形にする能力を持っている、特に本発明ニッケル錯体合
成のようにイオン的反応の場合には有利であると推定し
、研究を開始し完成するに到った。比較例において、他
の極性有機溶媒を用いた例を述べているが、いずれも良
好な結果を得ることはできず、本発明のDMI溶媒法が
、特異的に良好な製造法であることが証明された。
〔実施例〕
以下に実施例を示すが、例中の「部」は「重量部Jを示
し、%は重量%を示す。
実施例1 ベンゾイン5部、三硫化リンフ、5部、0M135部を
混合し、100〜105”Cで2時間反応させた。
反応液を室温に冷却し、塩化ニッケル(■)6水和物2
.8部を水10部に溶かしたものを加え、90゛Cに加
熱して2時間反応させた8反応液を室温に冷却しエタノ
ール150部中に排出し、濾過、エタノール洗浄、温水
で洗浄、乾燥し、次式で示される化合物5.0部(収率
78χ)を得た。また純度はイアトロスキャンTl+−
10(ヤトロン社製、溶刈液トルエン)にて分析した結
果99.7χであった。
外観:緑味黒色結晶性粉末 極大吸収波長λwax・855nm (クロロホルム中
)融点・292〜293℃ (文献値292℃) 実施例2 実施例1のベンゾインの代わりにアニソイン6゜4部を
用いて、塩化ニッケル添加後50℃で1時間、さらに9
0℃±5°Cで2時間反応させた以外は実施例1と同様
な操作を行った。乾燥後、次式で示される化合物5.8
部(収率74χ)を得た。また純度はイアトロスキャン
Tlf−10(ヤトロン社製、溶r1液トルエンンにて
分析した結果99.4χであった。
で表されるビス(1,2−ジアリール1,2−エチレン
ジチオラド)ニッケル系錯体を得た。
C以下余白) 外観:褐色粉末 極大吸収波長λ−aX・920n謡(クロロホルム中)
融点−328〜329°C(分解)(文献値329)実
施例3〜41 実施例1において使用したベンゾイン化合物のみを替え
て表−1に示す各種の一般式(1)表−1 比較例1(文献記載G、N、5chrauzerらJ、
Am、Soc。
87巻、1483頁、1965年) 実施例1のDMIの代わりにジオキサンを用いて、反応
開始2時間後(塩化ニッケル装入前に)不溶物を濾過し
て除いた以外は実施例1同様の操作を行った。
乾燥後、得られた緑味黒色結晶性粉末は収率35%しか
得られなかった。
比較例2 実施例1のDMIの代わりにN、N−ジメチルホルムア
ミドを用いて、実施例1と同様の操作を行ったが、目的
物は得られなかった。
比較例3 実施例1のDMIの代わりにジメチルスルホキシドを用
いて同様の操作を行ったが、目的物は全く得ることがで
きなかった。
特許出願人 三井東圧化学株式会社

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 一般式(II) ▲数式、化学式、表等があります▼(II) 〔式中、R^1、R^2は互いに同一、もしくは相異な
    るフェニル基またはナフチル基を示し、アルキル基、シ
    クロアルキル基、アリール基、アルコキシ基、フェノキ
    シ基、ヒドロキシ基、アルキルアミノ基、アリールアミ
    ノ基、トリフルオロメチル基、アルキルチオ基、アリー
    ルチオ基、ニトロ基、シアノ基、またはハロゲン原子に
    よって1〜3個、同一又は相異なって置換されていても
    よい。〕で表されるベンゾイン化合物を、1,3−ジメ
    チル−2−イミダゾリジノン中で、五硫化リンと反応さ
    せ、続いて塩化ニッケルと反応させることを特徴とする
    一般式( I ) ▲数式、化学式、表等があります▼及び/または、 ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) 〔式中、R^1、R^2は互いに同一、もしくは相異な
    るフェニル基またはナフチル基を示し、アルキル基、シ
    クロアルキル基、アリール基、アルコキシ基、フェノキ
    シ基、ヒドロキシ基、アルキルアミノ基、アリールアミ
    ノ基、トリフルオロメチル基、アルキルチオ基、アリー
    ルチオ基、ニトロ基、シアノ基、またはハロゲン原子に
    よって1〜3個、同一又は相異なって置換されていても
    よい。〕で表されるビス(1,2−ジアリール−1,2
    −エチレンジチオラト)ニッケル系錯体の製造方法。
JP8489089A 1989-04-05 1989-04-05 ビス(1,2‐ジアリール―1,2‐エチレンジチオラト)ニッケル系錯体の製造方法 Expired - Fee Related JPH075620B2 (ja)

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KR1019900702555A KR930007998B1 (ko) 1989-04-05 1990-04-04 비스(1, 2-디아릴-1, 2-에틸렌디티오레이토) 니켈-기재 착물의 제조방법
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JPH03148290A (ja) * 1989-11-01 1991-06-25 Hitachi Chem Co Ltd ジチオレン型有機金属錯体及びその製造法並びに薄膜及びその製造法
JP2010006766A (ja) * 2008-06-27 2010-01-14 Nippon Oil Corp 新規有機金属錯体化合物

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