JPH01129068A - 近赤外線吸収フィルター用高純度アントラキノン系色素 - Google Patents

近赤外線吸収フィルター用高純度アントラキノン系色素

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JPH01129068A
JPH01129068A JP28525487A JP28525487A JPH01129068A JP H01129068 A JPH01129068 A JP H01129068A JP 28525487 A JP28525487 A JP 28525487A JP 28525487 A JP28525487 A JP 28525487A JP H01129068 A JPH01129068 A JP H01129068A
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JP28525487A
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Tsukasa Oyama
司 大山
Shizuo Kuroda
黒田 静雄
Hirosuke Takuma
啓輔 詫摩
Hiroshi Aiga
相賀 宏
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Mitsui Toatsu Chemicals Inc
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Mitsui Toatsu Chemicals Inc
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    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09BORGANIC DYES OR CLOSELY-RELATED COMPOUNDS FOR PRODUCING DYES, e.g. PIGMENTS; MORDANTS; LAKES
    • C09B1/00Dyes with anthracene nucleus not condensed with any other ring
    • C09B1/16Amino-anthraquinones
    • C09B1/20Preparation from starting materials already containing the anthracene nucleus
    • C09B1/26Dyes with amino groups substituted by hydrocarbon radicals
    • C09B1/32Dyes with amino groups substituted by hydrocarbon radicals substituted by aryl groups
    • C09B1/325Dyes with no other substituents than the amino groups
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
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    • C09K3/00Materials not provided for elsewhere
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00Optical elements other than lenses
    • G02B5/20Filters
    • G02B5/22Absorbing filters

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は下記式(1) 〔式中、ベンゼン核A、B、C,Dは同一、または各々
独立に低級アルキル基、シクロアルキル基、低級アルコ
キシ基、トリフロロメチル基、フェノキシ基、ヒドロキ
シ基、またはハロゲン原子で置換されていてもよい、〕 で表される色素で主に高感度を必要とする近赤外線吸収
フィルター用色素化゛合物に関する。
式(1)で示される色素は、特に700n−以上の近赤
外部の限られた波長範囲で高感度に吸収を有する高純度
の黄緑色色素である。
〔従来の技術及び問題点〕
近年、エレクトロニクス技術の発展に伴い、各種電化機
器、測定機器は多様化、高機能化の傾向にある。その中
にあって、近赤外部に吸収を有する色素は、センサー用
近赤外線吸収フィルター、サングラス、保護メガネ、光
記録媒体など用途を拡大しているが最近、とくにセンサ
ーなどに用いられる場合、ある指定された波長の近赤外
線、又はレーザーは吸収せず、なおかつある範囲の波長
の光は吸収しカットする近赤外吸収色素の要望が高まり
つつある傾向にある。
このような特徴をもった色素は、かなり高い純度が要求
されるが、しかし、従来の近赤外吸収色素は、その純度
の低さ、吸収波長の特性などから、使用できない場合が
少なくない、特に式(I)に示したアントラキノン系色
素については、その反応の際生ずる副生成物として脱塩
素反応による式(If)の化合物、反応原料である1、
4,5.8−テトラクロルアントラキノンの過剰塩素化
物の存在によって生じる式(Ill)の化合物、および
その過剰の塩素へ置換アニリノ基が置゛換した化合物(
IV)などが生成することが明らかとなった。これら副
生成物が混入していると840〜880nmの透過率が
著しく低くなる。
通常、860nm付近の透過率の許容される限界は95
〜96%(式(1)の化合物4■/100+dクロロホ
ルム)程度であり、それ以下になると、半導体レー゛ザ
ー光の透過を著しく妨げる結果となるため、特に精度を
要求するような測定機器、関連の近赤外線吸収フィルタ
ーとしての使用が困難となる。
〔問題点を解決するための方法〕
本発明者らは、上記問題点を解決するために鋭意検討し
た結果、前記式(1)で示される化合物を安価な方法に
よって高純度金存置の少ない高純度化に成功し本発明を
完成した。
すなわち、本発明は下記式(1) 〔式中、ベンゼン核A、B、C,Dは同一、または各々
独立に低級アルキル基、シクロアルキル基、低級アルコ
キシ基、トリフロロメチル基、フェノキシ基、ヒドロキ
シ基、またはハロゲン原子で置換されていてもよい、〕 で表される色素化合物の製造時、反応副生成物が1重量
%以下であるとを特徴とする近赤外線吸収フィルター用
高純度アントラキノン系色素である。
以下、本発明について詳しく説明する。
本発明でベンゼン核A、B%C,D%E、F、Gの置換
基はメチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基
、ブチル基、イソブチル基等の低級アルキル基、シクロ
ヘキシル基、シクロペンチル基等のシクロアルキル基、
メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキ
シ基、ブトキシ基、イソブトキシ基等の低級アルコキシ
基、トリフロロメチル基、フェノキシ基、ヒドロキシフ
ェニル基、ヒドロキシメチル基等のヒドロキシ基、塩素
、フッ素、臭素等のハロゲン原子等が挙げられる。
本発明では、式(1)で表される色素の製造は、モノク
ロルベンゼン、ジクロルベンゼン、ニトロベンゼン等の
溶媒のいずれかで再結晶した1、4゜5.8−テトラク
ロルアントラキノンと次式(V)、(Vl)、(■)、
(■) 〔式(V)〜(■)のベンゼン核A−Dは、式(りのベ
ンゼシ核A−Dと同じ、〕 で表されるアニリン誘導体の少なくとも4倍モル以上を
触媒として硫酸銅と置換基を有してもよいベンジルアル
コール及び脂肪族カルボン酸塩の存在下反応させる。
本発明に係る触媒の脂肪族カルボン酸塩としては、ギ酸
ソーダ、酢酸ソーダ、酢酸カリウム、プロピオン酸カリ
ウム等を挙゛げることができ、特にこの中では酢酸カリ
ウムの使用が好ましい、脂肪族カルボン酸塩の使用量は
、1.4,5.8−テトラクロルアントラキノンに対し
て、1〜10倍モル、好ましくは2〜6倍モル使用する
また併用されるベンジルアルコール類としては、ベンジ
ルアルコールのほかにp−クロルベンジルアルコール、
p−メチルベンジルアルコール、2.4−ジメチルベン
ジルアルコール等を挙げることができ、1.4,5.8
−テトラクロルアントラキノンに対し、0.01〜30
倍モル、好ましくは1〜2倍モルを使用する。
また硫酸銅は触媒量でよいが好ましくは1,4,5゜8
−テトラクロルアントラキノンに対して0.1〜1倍モ
ル使用するのがよい。
本発明においては、これらの触媒の存在下、1゜4.5
.8−テトラクロルアントラキノンに対し、前記式(V
)〜(■)のアニリン誘導体を少なくとも4モル比以上
の過剰のアニリン誘導体を用いて自溶媒中で、反応温度
8G−170℃、好ましくは100〜150℃で加熱撹
拌しながら行う、温度が170℃以上では得られた生成
物の分解も生じやすく、また80℃以下では未反応物が
残存する傾向となる。
また反応時間は5〜10時間で充分である。
さらに得られた核晶はピリジンで再結晶して精製品とす
る。
〔作用及び効果〕
従来のアントラキノン系近赤外線吸収剤は製造時に副生
成物が生成し、840〜880r+w+の透過率が著し
く低下し、半導体レーザー光の透過を妨げ、特に精度を
要求する測定機器関連の近赤外線吸収フィルターとして
使用が困難であった。
しかしながら、本発明の色素はその製造時、特定の触媒
を用い、純度を向上させ、原料として高純度に精製され
た1、4,5.8−テトラクロルアントアラキノンを用
いて核晶を得、更にピリジンで再結晶して高純度品を得
ることができ、半導体レーザー使用面で多品種、多様化
への対応が可能で実用的に極めて価値ある発明である。
実施例 以下、実施例にてさらに詳細に説明する。
一般に近赤外線吸収フィルターに使用されるレーザーは
830 ns以上のもので、その具体的用途によって波
長も異なるが、ここではその中量も一般的な860n−
付近の波長のものを標準として、前記式(I)の化合物
をその波長での透過率を測定することで評価することと
した。
実施例1 クロルベンゼンによって再結晶した純度99%の1.4
,5.8−テトラクロロアントアラキノン10.87部
、p−トルイジン54.35部、酢酸カリウム13.4
部、硫酸銅1.24部およびベンジルアルコール3.4
1部を含む混合物を窒素気流下130℃に昇温させその
温度で6.5時間反応させた0反応混合物を70℃まで
冷却後、エタノール217部中に排出し、濾過、エタノ
ール洗浄、水洗し、乾燥した。粗生成物をとリジンによ
り再結晶し、目的の1.4,5.8−テトラキスーp−
メチルアニリノアントラキノン13.8部(収率70%
)を得た。高速液体クロマトグラフィー(島津製作所製
、SHIM−PACK  CLC−ODSカラム、アセ
トニトリル展開: 254n−検出)により純度を求め
たところ99.2%であった。又、クロロホルム中の8
6on−における透過率は99%であった。(該化合物
4■/クロロホルム100 dD実施例2 実施例1のp−トルイジンの代わりにp−n−ブチルア
ニリン76.2部を用い、全く同様にして製造したとこ
ろ、目的の1.4.5.8−テトラキス(p−n−〕゛
チチルアニリノントラキノン13部(収率68%)を得
た。高速液体クロマトグラフィーによって純度を求めた
ところ、99.8%であった。又、クロロホルム中の8
60nmにおける透過率は99%であった。
(該化合物4■/クロロホルム100 m)実施例3〜
11 実施例1と同様にして次表の色素を合成し、収率及び純
度、さらに860n−における透過率を求めた。ただし
表中のベンゼン核は式(1)中のベンゼン核と同一であ
る。
以下余白 比較例1 1.4.5.8−テトラクロルアントラキノン84.6
部と9−)ルイジン214部を混合し、15時間加熱撹
拌して、冷却し、濾過後、メタノール600部で4回洗
浄し、水500部で2回洗浄した。乾燥後、トルエンで
2回再結晶をし、実施例1と同様の目的物を20.1部
(収率13.1%)を得た。高速液体クロマトグラフィ
ーによる純度の測定結果は16%であり1、クロロホル
ム中での86on−における透過率は83%であった。
(該化合物4■/クロロホルム10011図−1は実施
例1、比較例1における該化合物のクロロホルム中、各
波長での透過率を示すものであり、図中の符号は次の意
味である。
1:実施例の化合物 2:比較例1の化合物 特許出願人 三井東圧化学株式会社

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1)下記式( I ) ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) (式中、ベンゼン核A、B、C、Dは同一、または各々
    独立に低級アルキル基、シクロアルキル基、低級アルコ
    キシ基、トリフロロメチル基、フェノキシ基、ヒドロキ
    シ基、またはハロゲン原子で置換されていてもよい。〕 で表される色素化合物の製造時、反応副生成物が1重量
    %以下であることを特徴とする近赤外線吸収フィルター
    用高純度アントラキノン系色素。 2)反応副生成物が下記式(II)、(III)、及び(IV
    ) ▲数式、化学式、表等があります▼(II) ▲数式、化学式、表等があります▼(III) 〔式中、ベンゼン核A、B、C、Dは同一、または各々
    独立に低級アルキル基、シクロアルキル基、低級アルコ
    キシ基、トリフロロメチル基、フェノキシ基、ヒドロキ
    シ基、またはハロゲン原子で置換されてもよい。mは1
    〜4の整数を示す〕▲数式、化学式、表等があります▼
    (IV) 〔式中、ベンゼン核A、B、C、D、E、F、G、Hは
    同一、または各々独立に低級アルキル基、シクロアルキ
    ル基、低級アルコキシ基、トリフロロメチル基、フェノ
    キシ基、またはハロゲン原子で置換されてもよい。mは
    0〜3の整数、置換アニリノ基は1、4、5、8位置換
    アニリノを含め5〜8個の範囲を示す。〕 で表される特許請求の範囲第1項記載のアントラキノン
    系色素。
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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002274087A (ja) * 2001-03-15 2002-09-25 Dainippon Printing Co Ltd 透明カード
US20110001205A1 (en) * 2009-07-06 2011-01-06 Samsung Electronics Co., Ltd. Image sensor and semiconductor device including the same
US8011998B2 (en) 2007-04-12 2011-09-06 Lamarche Paul Expansible sanding block exhibiting oblique extending surfaces
US8231440B2 (en) 2007-04-12 2012-07-31 Lamarche Paul Expansible sanding block exhibiting oblique extending surfaces

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS61291651A (ja) * 1985-06-19 1986-12-22 Mitsui Toatsu Chem Inc アントラキノン系長波長吸収色素
JPS62903A (ja) * 1985-06-05 1987-01-06 Sumitomo Chem Co Ltd 近赤外線吸収フイルタ−

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS62903A (ja) * 1985-06-05 1987-01-06 Sumitomo Chem Co Ltd 近赤外線吸収フイルタ−
JPS61291651A (ja) * 1985-06-19 1986-12-22 Mitsui Toatsu Chem Inc アントラキノン系長波長吸収色素

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002274087A (ja) * 2001-03-15 2002-09-25 Dainippon Printing Co Ltd 透明カード
US8011998B2 (en) 2007-04-12 2011-09-06 Lamarche Paul Expansible sanding block exhibiting oblique extending surfaces
US8231440B2 (en) 2007-04-12 2012-07-31 Lamarche Paul Expansible sanding block exhibiting oblique extending surfaces
US20110001205A1 (en) * 2009-07-06 2011-01-06 Samsung Electronics Co., Ltd. Image sensor and semiconductor device including the same

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