JPH02250402A - 超電導キャビティの製造方法 - Google Patents

超電導キャビティの製造方法

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Publication number
JPH02250402A
JPH02250402A JP1071465A JP7146589A JPH02250402A JP H02250402 A JPH02250402 A JP H02250402A JP 1071465 A JP1071465 A JP 1071465A JP 7146589 A JP7146589 A JP 7146589A JP H02250402 A JPH02250402 A JP H02250402A
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JP
Japan
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film
core metal
cavity
thin film
thin
Prior art date
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Pending
Application number
JP1071465A
Other languages
English (en)
Inventor
Takuya Suzuki
卓哉 鈴木
Takeshi Endo
壮 遠藤
Hatakazu Oohashi
大橋 秦和
Mitsuaki Fukuda
福田 光明
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Furukawa Electric Co Ltd
Original Assignee
Furukawa Electric Co Ltd
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、粒子加速器に用いられる超電導空洞共振器(
超電導キャビティ)の製造方法に関するものである。
〔従来の技術とその課題〕
従来超電導キャビティの製造方法としては、例えば次の
如き工程により製造されている。すなわちNb板をスピ
ニング加工、絞゛り加工または切削加工などにより第3
図に示すようにキャビティ(5)部とフランジ(6)を
構成する部品を作り、この部品を互いに電子ビーム溶接
法により溶接し、その内面をフン酸と硫酸の混酸で電解
研摩を行ない内面を平滑にすると共に不純物を除去し、
その外周面に熱伝導を良好にするためCu被覆層(4)
をメツキなどにより設けて超電導キャビティとしたもの
である。
なお上記の溶接は内面の平滑性を向上させるために内面
より電子ビームをあて溶接するものである。
ところで上記のNbキャビティは液圧バルジ加工法によ
り拡管するものであるが、−度に必要な形状に拡管する
ことが出来ないため、その途中において真空焼鈍を行な
いながら少しずつ拡げなりればならない。この焼鈍と加
工に長時間を要し必熱的に高価なものになる難点があっ
た。
またNbの焼鈍、溶接を行なうに際しては、酸化および
脆化を防止するため真空焼鈍、電子ビーム溶接を必要と
するもので、この面においてもコストアップの要因とな
っていた。さらにNbの加工中に、その表面から不純物
が入り超電導状態を破壊することもあるため上記のよう
に表面をフッ酸と硫酸との混酸により電解研摩を必要と
するが、この電解研摩は危険性を伴うと共に工程の複雑
なことから生産性を向上することができないなどの問題
があった。
超電導キャビティの他の製造方法として、加工性のよい
アルミニウムを空洞部に成形し、この外周面にCuSN
b、Cuを順次メツキによりそれぞれの層を形成し、最
後にアルミニウムを溶解除去してキャビティを得る方法
がある。しかしこの方法においてもNbは耐食性に優れ
ているため、メツキ膜が薄くかつ高品位のNb1llを
得ることは困難であった。
〔発明が解決しようとする課題〕
本発明は上記の問題について検討の結果、Nb膜が極め
て薄く、高品位の膜を外面から電気的な操作によって設
けることができる超電導キャビティの製造方法を開発し
たものである。
〔課題を解決するための手段および作用〕本発明は、C
uまたはCu合金により外側寸法と所望の超電導キャビ
ティの内側寸法と同一に成型した芯金の外周面にNbの
薄膜を密着せしめ、該芯金を250°C以上に加熱して
Snの薄膜を設け、次にSnNを除去した上でさらにN
bの薄膜を設は次にCuの被覆層を設けてキャビティの
形状とした後、上記のCuまたはCu合金の芯金を熔解
せしめることを特徴とする超電導キャビティの製造方法
である。
すなわち本発明は加工性の良いCuまたはCu合金を液
圧バルジ加工法などの方法によりキャビティの形に成形
し、この芯金の外周面にNbの薄膜を設け、上記の芯金
を250°C以上に加熱してSnの薄膜を設け、この表
面にCuの被覆層を設けた後、芯金を溶解除去してキャ
ビティを得るものである。
しかして本発明において上記のNbおよびSnの被覆層
を設ける際にはPVD法、CVD法などの方法により行
な・うことか必要であり、この方法によれば不純物の混
入が少なく、かつ適切な厚さの薄膜が膜の良否を判定し
ながら設けることができる。
またSn被覆の際に芯金を250 ’C以上に加熱する
のは、SnとNbの拡散およびSnを欠陥に浸透せしめ
る為で750℃位までが好ましい。またSnをイオンブ
レーティングなどにより設けた後大気中で加熱してSn
を融体にし、ふき取ることが好ましい、これはNbとS
nは反応して金属間化合物を形成しNb膜のピンホール
を埋めるが余分のSnは除去することが好ましいからで
ある。
上記のNb115Iの厚さは5〜10−の範囲が経済上
好ましく、またSn膜の厚さは5−程度が適当である。
〔実施例] 以下に本発明の一実施例について説明する。
第1図に示すように製造しようとする超電導キャビティ
の内側寸法と同一外側寸法からなるCu芯金(1)の外
周面にNbをイオンブレーティングにより厚さ10μの
Nb膜(2)を形成する。上記のCU芯金を温度750
°Cに保ち、イオンブレーティングにより厚さ5−のS
n膜(3)を設けた。次に大気中で300″Cに加熱し
てSnを融体にし、ふき取った。さらに約3μNb膜を
ポリッシングで除去した。この芯金を電気メツキ法によ
り、Snl膜上に厚さ2閣以上、好ましくは2〜3閣の
Cu被覆111(4)を設けた。そして最終工程として
Cu芯金を硝酸で溶解し、キャビティ(5)を得た。
(効果) 以上に説明したように本発明によればNbのような高価
な超電導材料を厚さ5〜IoJnAのように薄膜として
使用するためキャビティを安価に製造することができる
。また外面より超電導材料をPVD、CVD法により加
工するため超電導部分の良否を容易に判定し得るため優
れたNb1lfiを設けることができ、かつ熱電導性の
よいCu材料を構造材として用いるため超電導特性の破
壊が生じ難く、キャビティとしての特性が向上するなど
工業上顕著な効果を奏するものである。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の一実施例に係るCu芯金溶解前のキャ
ビティの断面図、第2図は第1図のCu芯金溶解後のキ
ャビティの断面図、第3図は従来のキャビティの断面図
である。 1・・・Cu芯金、 2・・・Nb膜、 3・・・Sn
膜、4・・・Cu被覆層、 5・・・キャビティ、 6
・・・フランジ部。

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)CuまたはCu合金によりその外側寸法を、所望
    の超電導キャビティの内側寸法と同一に成型した芯金の
    外周面にNbの薄膜を密着せしめ、該芯金を250℃以
    上に加熱してSnの薄膜を設け、次にSn層を除去して
    さらにそのNbの薄膜を設け、次にCuの被覆層を設け
    てキャビティの形状とした後、上記CuまたはCu合金
    の芯金を溶解せしめることを特徴とする超電導キャビテ
    ィの製造方法。
  2. (2)NbおよびSnの薄膜をPVD、CVDにより設
    けることを特徴とする請求項1記載の超電導キャビティ
    の製造方法。
JP1071465A 1989-03-23 1989-03-23 超電導キャビティの製造方法 Pending JPH02250402A (ja)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN113388872A (zh) * 2021-06-10 2021-09-14 中国科学院近代物理研究所 复合结构超导谐振加速腔的制备方法及超导谐振加速腔

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN113388872A (zh) * 2021-06-10 2021-09-14 中国科学院近代物理研究所 复合结构超导谐振加速腔的制备方法及超导谐振加速腔
CN113388872B (zh) * 2021-06-10 2022-11-15 中国科学院近代物理研究所 复合结构超导谐振加速腔的制备方法及超导谐振加速腔

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