JPH0224816B2 - - Google Patents
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C309/00—Sulfonic acids; Halides, esters, or anhydrides thereof
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Description
本発明は新規なスチルベン化合物、その製造方
法に関する。 ホルナー−ヴイテイヒ合成(Horner−Wittig
Synthese)によつて4,4′−ジアルコキシホスホ
リルメチル−ビフエニルとベンズアルヒデドとか
ら4,4′−ジスチリルビフエニルを製造すること
は米国特許第3984399号明細書から公知である。
出発物質として使用されるメタン−ホスホン酸エ
ステルは4,4′−ビス−クロロメチル−ビフエニ
ルから出発して得られる。このクロロメチル−ビ
フエニルはビフエニルをクロロメチル化すること
によつて得られる。しかしがら、この際に副生成
物としてクロロメチル−ビフエニルが生じ、これ
は皮膚刺激性が強い。 本発明の目的は、このような欠点を有しない
4,4−ジスチリルビフエニル系螢光増白剤製造
のための出発物質を提供することである。 本発明によるスチルベン化合物は下記の一般式
で示される。 (式中、Xはハロゲン、Rは水素、−SO3M、
ハロゲン、C1-4−アルキルまたはC1-4−アルコキ
シを意味し、そしてMは水素または塩形成性陽イ
オンである)。 XとRとが意味するハロゲンとしては塩素、臭
素、フツ素が考慮され、特に塩素と臭素が好まし
い。 塩形成性陽イオンMとしてはアルカリ金属イオ
ン、アンモニウムイオン、アミン塩イオンが例示
される。好適なアミン塩イオンは、式H
NR゜1R゜2R゜3で表わされるものである。こゝで、
R゜1,R゜2,R゜3は互に独立的に水素アルキル、ア
ルケニル、ヒドロキシアルキル、シアノアルキ
ル、ハロゲンアルキルまたはフエニルアルキルを
意味するか、あるいはR゜3が水素を意味してR゜1と
R゜2とは両者一緒で5乃至7員の飽和窒素複素環
(これは環員としてさらに1個の窒素原子または
酸素原子を含有しうる)、たとえばピペリジン環、
ピペラジン環、ピロリジン環、イミダゾリン環ま
たはモルホリン環を形成する。 式(1)のスチルベン化合物のうちで好ましいもの
は下記式(2)のスチルベン化合物である。 (式中、X′は塩素または臭素、R′は水素、−
SO3M′、塩素、臭素、C1-4−アルキルまたはC1-4
−アルコキシそしてM′はアルカリ金属イオン、
アンモニウムイオンまたはアミン塩イオンであ
る)。 特に好ましいのは下記式(3)のスチルベン化合物
である。 (式中、X′は塩素または臭素、R″は水素、塩
素、メチルまたはメトキシそしてM′はアルカリ
金属イオン、アンモニウムイオンまたはアミン塩
イオンを意味する)。 最も好適なスチルベン化合物は下記式(4)および
(5)のスチルベン化合物である。 (式中、M″はナトリウムまたはカリウムを意
味する)。 式(1)のスチルベン化合物はそれ自体公知の方法
によつて、強塩基の存在且つ極性溶剤の存在で式
(6) の化合物の1モルを、式(7) の化合物の1モルと反応させることによつて製造
することができる。 上記式(6)および(7)において、Z1とZ2とは一方が
HOC−基を意味しそして他方が式
法に関する。 ホルナー−ヴイテイヒ合成(Horner−Wittig
Synthese)によつて4,4′−ジアルコキシホスホ
リルメチル−ビフエニルとベンズアルヒデドとか
ら4,4′−ジスチリルビフエニルを製造すること
は米国特許第3984399号明細書から公知である。
出発物質として使用されるメタン−ホスホン酸エ
ステルは4,4′−ビス−クロロメチル−ビフエニ
ルから出発して得られる。このクロロメチル−ビ
フエニルはビフエニルをクロロメチル化すること
によつて得られる。しかしがら、この際に副生成
物としてクロロメチル−ビフエニルが生じ、これ
は皮膚刺激性が強い。 本発明の目的は、このような欠点を有しない
4,4−ジスチリルビフエニル系螢光増白剤製造
のための出発物質を提供することである。 本発明によるスチルベン化合物は下記の一般式
で示される。 (式中、Xはハロゲン、Rは水素、−SO3M、
ハロゲン、C1-4−アルキルまたはC1-4−アルコキ
シを意味し、そしてMは水素または塩形成性陽イ
オンである)。 XとRとが意味するハロゲンとしては塩素、臭
素、フツ素が考慮され、特に塩素と臭素が好まし
い。 塩形成性陽イオンMとしてはアルカリ金属イオ
ン、アンモニウムイオン、アミン塩イオンが例示
される。好適なアミン塩イオンは、式H
NR゜1R゜2R゜3で表わされるものである。こゝで、
R゜1,R゜2,R゜3は互に独立的に水素アルキル、ア
ルケニル、ヒドロキシアルキル、シアノアルキ
ル、ハロゲンアルキルまたはフエニルアルキルを
意味するか、あるいはR゜3が水素を意味してR゜1と
R゜2とは両者一緒で5乃至7員の飽和窒素複素環
(これは環員としてさらに1個の窒素原子または
酸素原子を含有しうる)、たとえばピペリジン環、
ピペラジン環、ピロリジン環、イミダゾリン環ま
たはモルホリン環を形成する。 式(1)のスチルベン化合物のうちで好ましいもの
は下記式(2)のスチルベン化合物である。 (式中、X′は塩素または臭素、R′は水素、−
SO3M′、塩素、臭素、C1-4−アルキルまたはC1-4
−アルコキシそしてM′はアルカリ金属イオン、
アンモニウムイオンまたはアミン塩イオンであ
る)。 特に好ましいのは下記式(3)のスチルベン化合物
である。 (式中、X′は塩素または臭素、R″は水素、塩
素、メチルまたはメトキシそしてM′はアルカリ
金属イオン、アンモニウムイオンまたはアミン塩
イオンを意味する)。 最も好適なスチルベン化合物は下記式(4)および
(5)のスチルベン化合物である。 (式中、M″はナトリウムまたはカリウムを意
味する)。 式(1)のスチルベン化合物はそれ自体公知の方法
によつて、強塩基の存在且つ極性溶剤の存在で式
(6) の化合物の1モルを、式(7) の化合物の1モルと反応させることによつて製造
することができる。 上記式(6)および(7)において、Z1とZ2とは一方が
HOC−基を意味しそして他方が式
【式】
【式】または
【式】
(式中、Qは置換または非置換の1乃至6個の
炭素原子を有するアルキル基、アリール基好まし
くはフエニル基、シクロアルキル基好ましくはシ
クロヘキシル基またはアラルキル基好ましくはベ
ンジル基を意味する)の基を意味する。 式(1)の化合物は好ましくは式(8) の化合物の1モルを、式(9) の化合物の1モルと、強塩基の存在且つ極性溶剤
の存在下で反応させることによつて製造される。 なお、上記式において、Q′はC1-4−アルキルを
意味しそしてXとMとRとは前記した意味を有す
る。 溶剤としては例えば下記のものが適している。 アルコールたとえばメタノール、エタノール、
イソプロパノール、ブタノール、グリコール類、
グリコールエーテル類たとえば2−メトキシエタ
ノール、ヘキサノール類、シクロヘキサノールお
よびシクロオクタノール、さらにはエーテル類た
とえばジイソプロピルエーテル、テトラヒドロフ
ランおよびジオキサンならびにジメチルスルホキ
シド、ホルムアミドおよびN−メチルピロリド
ン。特に適当なものはジメチルホルムアミドおよ
びジメチルスルホキシドのごとき極性有機溶剤で
ある。たゞし反応のいくつかは水性溶剤中でも実
施可能である。 上記の反応が実施される温度は広い範囲で変り
うる。反応温度は次のフアクターによつて決定さ
れる。 α 反応関与物質、特に強塩基アルカリ金属化合
物に対する使用溶剤の安定性、 β 縮合パートナーの反応性、 γ 縮合剤としての溶剤−塩基の組合わせの有効
性。 実際上、特に溶剤としてジメチルホルムアミド
またはジメチルスルホキシドが使用される場合に
おいては、一般に適当な温度範囲は約10゜乃至100
℃である。特に好ましい温度範囲は20゜乃至60℃
である。 強塩基としては特にアルカリ金属の水酸化物、
アミドおよびアルコラート(好ましくは炭素原子
1乃至4個の第一アルコールのアルコラート)が
適している。アルカリ金属としては経済的理由か
らしてリチウム、ナトリウム、カリウムの使用や
有利である。たゞし、原則的には且つ特別な場合
には好結果を伴つてアルカリ金属硫化物およびア
ルカリ金属の炭酸塩、アリールアルカリ化合物た
とえばフエニルリチウムあるいは強塩基アミン
(アンモニウム塩基を含む)たとえばトリアルキ
ル水酸化アンモニウム等も使用できる。 以下に本発明の実施例を記す。これは本発明を
説明するためのものであつて本発明を限定するも
のではない。実施例中のパーセントは特に別途記
載のない限り重量パーセントである。 実施例 1 (4−クロロフエニル)−メタン−ホスホン酸
ジエチルエステル530g(純分98.8%)およびベ
ンズアルデヒド−2−スルホン酸のナトリウム塩
442g(純分94%)を撹拌しながらジメチルホル
ムアミド2000mlに溶解する。ついで70分間で396
gのナトリウムメチラート(含量30%)のメタノ
ール溶液を添加する。この際に温度が50℃まで上
昇する。このあと室温でさらに20時間撹拌し、そ
して塩酸で中和したのち乾燥体まで真空蒸発させ
る。その残留物を脱イオン水500ml中に90℃で溶
解し、この溶液を冷却する。晶出した生成物を吸
引過して110℃で真空乾燥する。かくして得ら
れた粗生成物を最初に6の無水アルコールか
ら、次に脱塩イオン水250mlから再結晶する。110
℃で真空乾燥して白色針状結晶として下記式
(100)の化合物387gが得られる。この生成物は
なお0.29モルの結晶水を含む。 UVスペクトリ:λnax=302nm; ε=29500(H2O)。 出発物質として使用した(4−クロロ−フエニ
ル)−メタン−ホスホン酸ジエチルエステルは下
記により製造された。 4−クロロ塩化ベンジル495gと亜リン酸トリ
エチルエステル1531gとを撹拌しながらゆつくり
と150℃まで加熱し、そしてこの温度で7時間撹
拌を続ける。次に過剰の亜リン酸トリエチルエス
テルを水流真空下で蒸留除去する。しかして(4
−クロロ−フエニル)−メタン−ホスホン酸ジエ
チルエステルの含量が98.8%である淡黄色油800
gを得る。 実施例 2 上記の式(100)の化合物63.4gを脱イオン水
100mlに95℃で溶解する。塩化カリウム23gを添
加して室温まで冷却する。晶出した生成物を吸引
過し、そして5%の塩化カリウム溶液で洗う。
湿潤過ケーキを95℃で脱イオン水200mlに溶解
し、そして溶液にわずかに濁りが生じるまで塩化
カリウムを少しずつ添加する。冷却後に晶出した
生成物を吸引過し、5%の塩化カリウム溶液で
洗い、そして最初に脱イオン水200mlから、次に
脱イオン水50mlとエタノール50mlとの混合物から
再結晶する。乾燥後白色結晶状粉末の形状で下記
式(200)の化合物52gが得られる。この生成物
はなお3.8%の結晶水を含む。 UVスペクトル:λnax=302nm(H2O)。 実施例 3 (4−クロロフエニル)−メタン−ホスホン酸
ジエチルエステル52.5g(純分98.8%)と4−ク
ロロベンズアルデヒド−3−スルホン酸のナトリ
ウム塩51.2g(純分94.7%)とを40〜45℃で撹拌
しながら250mlのジメチルホルムアミドに溶解す
る。このあと20分間でナトリウムメチラート(含
量30%)のメタノール溶液39.6gを滴下する。こ
の際に温度を40〜45℃に保持する。ついで40〜45
℃で3時間撹拌し、この反応混合物を塩酸で中和
し、そして乾燥体まで真空濃縮する。その残留物
を95℃で脱イオン水800mlに溶解し、濁つた溶液
を清澄過し、そして液を放置冷却させる。晶
出した生成物を吸引過し、再度、脱イオン水
600mlから再結晶して120℃で真空乾燥する。しか
して、白色結晶として下記式(301)の化合物57
gを得る。 UVスペクトル: λ1nax=305nm; ε=33′000 λ2nax=320nm; ε=35′000 (ジメチルホルムアミド/H2O=1:1) 同様にして対応するベンズアルデヒドスルホン
酸を用いて下記の化合物が得られた。 白色結晶 UVスペクトル: λ1nax.=304nm; ε=31′000 λ2nax.=319nm; ε=30′500 (ジメチルホルムアミド/H2O=1:1) 白色結晶 UVスペクトル: λ1nax.=305nm; ε=32′000 λ1nax.=316nm; ε=33′000 (ジメチルホルムアミド/H2O=1:1) 白色結晶 UVスペクトル:λ1nax=316nmε;=33′500 (ジメチルホルムアミド/H2O=1:1) 実施例 4 (4−ブロムフエニル)−メタン−ホスホン酸
ジエチルエステル121g(純分98.5%)とベンズ
アルデヒド−2−スルホン酸ナトリウム塩88.5g
(純分94.5%)とを撹拌しながら400mlのジメチル
ホルムアミドに溶解する。このあと30分間で79g
のナトリウムメチラート(含量30%)のメタノー
ル溶液を滴下する。この際温度が48℃まで上昇す
る。さらに3時間40〜50℃で撹拌を続け、その反
応混合物を酢酸で中和し、そして乾燥体まで真空
濃縮する。その残留物を各600mlの脱イオン水か
ら2回再結晶する。 しかして白色結晶として下記式(400)の化合
物106gを得る。 UVスペクトル: λ1nax=305nm; ε=30′500 λ2nax=315nm; ε=30′000 (ジメチルホルムアミド/H2O=1:1) 使用した(4−ブロムフエニル)メタン−ホス
ホン酸ジエチルエステルは次のようにして製造さ
れた。 4−ブロム臭化ベンジル100gと亜リン酸トリ
エチル300mlとを撹拌しながらゆつくりと140℃ま
で加熱し、そしてこの温度で3時間撹拌を続け
る。このあと過剰の亜リン酸トリエチルを水流真
空で蒸留除去する。しかして、(4−ブロムフエ
ニル)−メタン−ホスホン酸ジエチルエステルの
含量が98.5%である淡黄色油121gを得る。
炭素原子を有するアルキル基、アリール基好まし
くはフエニル基、シクロアルキル基好ましくはシ
クロヘキシル基またはアラルキル基好ましくはベ
ンジル基を意味する)の基を意味する。 式(1)の化合物は好ましくは式(8) の化合物の1モルを、式(9) の化合物の1モルと、強塩基の存在且つ極性溶剤
の存在下で反応させることによつて製造される。 なお、上記式において、Q′はC1-4−アルキルを
意味しそしてXとMとRとは前記した意味を有す
る。 溶剤としては例えば下記のものが適している。 アルコールたとえばメタノール、エタノール、
イソプロパノール、ブタノール、グリコール類、
グリコールエーテル類たとえば2−メトキシエタ
ノール、ヘキサノール類、シクロヘキサノールお
よびシクロオクタノール、さらにはエーテル類た
とえばジイソプロピルエーテル、テトラヒドロフ
ランおよびジオキサンならびにジメチルスルホキ
シド、ホルムアミドおよびN−メチルピロリド
ン。特に適当なものはジメチルホルムアミドおよ
びジメチルスルホキシドのごとき極性有機溶剤で
ある。たゞし反応のいくつかは水性溶剤中でも実
施可能である。 上記の反応が実施される温度は広い範囲で変り
うる。反応温度は次のフアクターによつて決定さ
れる。 α 反応関与物質、特に強塩基アルカリ金属化合
物に対する使用溶剤の安定性、 β 縮合パートナーの反応性、 γ 縮合剤としての溶剤−塩基の組合わせの有効
性。 実際上、特に溶剤としてジメチルホルムアミド
またはジメチルスルホキシドが使用される場合に
おいては、一般に適当な温度範囲は約10゜乃至100
℃である。特に好ましい温度範囲は20゜乃至60℃
である。 強塩基としては特にアルカリ金属の水酸化物、
アミドおよびアルコラート(好ましくは炭素原子
1乃至4個の第一アルコールのアルコラート)が
適している。アルカリ金属としては経済的理由か
らしてリチウム、ナトリウム、カリウムの使用や
有利である。たゞし、原則的には且つ特別な場合
には好結果を伴つてアルカリ金属硫化物およびア
ルカリ金属の炭酸塩、アリールアルカリ化合物た
とえばフエニルリチウムあるいは強塩基アミン
(アンモニウム塩基を含む)たとえばトリアルキ
ル水酸化アンモニウム等も使用できる。 以下に本発明の実施例を記す。これは本発明を
説明するためのものであつて本発明を限定するも
のではない。実施例中のパーセントは特に別途記
載のない限り重量パーセントである。 実施例 1 (4−クロロフエニル)−メタン−ホスホン酸
ジエチルエステル530g(純分98.8%)およびベ
ンズアルデヒド−2−スルホン酸のナトリウム塩
442g(純分94%)を撹拌しながらジメチルホル
ムアミド2000mlに溶解する。ついで70分間で396
gのナトリウムメチラート(含量30%)のメタノ
ール溶液を添加する。この際に温度が50℃まで上
昇する。このあと室温でさらに20時間撹拌し、そ
して塩酸で中和したのち乾燥体まで真空蒸発させ
る。その残留物を脱イオン水500ml中に90℃で溶
解し、この溶液を冷却する。晶出した生成物を吸
引過して110℃で真空乾燥する。かくして得ら
れた粗生成物を最初に6の無水アルコールか
ら、次に脱塩イオン水250mlから再結晶する。110
℃で真空乾燥して白色針状結晶として下記式
(100)の化合物387gが得られる。この生成物は
なお0.29モルの結晶水を含む。 UVスペクトリ:λnax=302nm; ε=29500(H2O)。 出発物質として使用した(4−クロロ−フエニ
ル)−メタン−ホスホン酸ジエチルエステルは下
記により製造された。 4−クロロ塩化ベンジル495gと亜リン酸トリ
エチルエステル1531gとを撹拌しながらゆつくり
と150℃まで加熱し、そしてこの温度で7時間撹
拌を続ける。次に過剰の亜リン酸トリエチルエス
テルを水流真空下で蒸留除去する。しかして(4
−クロロ−フエニル)−メタン−ホスホン酸ジエ
チルエステルの含量が98.8%である淡黄色油800
gを得る。 実施例 2 上記の式(100)の化合物63.4gを脱イオン水
100mlに95℃で溶解する。塩化カリウム23gを添
加して室温まで冷却する。晶出した生成物を吸引
過し、そして5%の塩化カリウム溶液で洗う。
湿潤過ケーキを95℃で脱イオン水200mlに溶解
し、そして溶液にわずかに濁りが生じるまで塩化
カリウムを少しずつ添加する。冷却後に晶出した
生成物を吸引過し、5%の塩化カリウム溶液で
洗い、そして最初に脱イオン水200mlから、次に
脱イオン水50mlとエタノール50mlとの混合物から
再結晶する。乾燥後白色結晶状粉末の形状で下記
式(200)の化合物52gが得られる。この生成物
はなお3.8%の結晶水を含む。 UVスペクトル:λnax=302nm(H2O)。 実施例 3 (4−クロロフエニル)−メタン−ホスホン酸
ジエチルエステル52.5g(純分98.8%)と4−ク
ロロベンズアルデヒド−3−スルホン酸のナトリ
ウム塩51.2g(純分94.7%)とを40〜45℃で撹拌
しながら250mlのジメチルホルムアミドに溶解す
る。このあと20分間でナトリウムメチラート(含
量30%)のメタノール溶液39.6gを滴下する。こ
の際に温度を40〜45℃に保持する。ついで40〜45
℃で3時間撹拌し、この反応混合物を塩酸で中和
し、そして乾燥体まで真空濃縮する。その残留物
を95℃で脱イオン水800mlに溶解し、濁つた溶液
を清澄過し、そして液を放置冷却させる。晶
出した生成物を吸引過し、再度、脱イオン水
600mlから再結晶して120℃で真空乾燥する。しか
して、白色結晶として下記式(301)の化合物57
gを得る。 UVスペクトル: λ1nax=305nm; ε=33′000 λ2nax=320nm; ε=35′000 (ジメチルホルムアミド/H2O=1:1) 同様にして対応するベンズアルデヒドスルホン
酸を用いて下記の化合物が得られた。 白色結晶 UVスペクトル: λ1nax.=304nm; ε=31′000 λ2nax.=319nm; ε=30′500 (ジメチルホルムアミド/H2O=1:1) 白色結晶 UVスペクトル: λ1nax.=305nm; ε=32′000 λ1nax.=316nm; ε=33′000 (ジメチルホルムアミド/H2O=1:1) 白色結晶 UVスペクトル:λ1nax=316nmε;=33′500 (ジメチルホルムアミド/H2O=1:1) 実施例 4 (4−ブロムフエニル)−メタン−ホスホン酸
ジエチルエステル121g(純分98.5%)とベンズ
アルデヒド−2−スルホン酸ナトリウム塩88.5g
(純分94.5%)とを撹拌しながら400mlのジメチル
ホルムアミドに溶解する。このあと30分間で79g
のナトリウムメチラート(含量30%)のメタノー
ル溶液を滴下する。この際温度が48℃まで上昇す
る。さらに3時間40〜50℃で撹拌を続け、その反
応混合物を酢酸で中和し、そして乾燥体まで真空
濃縮する。その残留物を各600mlの脱イオン水か
ら2回再結晶する。 しかして白色結晶として下記式(400)の化合
物106gを得る。 UVスペクトル: λ1nax=305nm; ε=30′500 λ2nax=315nm; ε=30′000 (ジメチルホルムアミド/H2O=1:1) 使用した(4−ブロムフエニル)メタン−ホス
ホン酸ジエチルエステルは次のようにして製造さ
れた。 4−ブロム臭化ベンジル100gと亜リン酸トリ
エチル300mlとを撹拌しながらゆつくりと140℃ま
で加熱し、そしてこの温度で3時間撹拌を続け
る。このあと過剰の亜リン酸トリエチルを水流真
空で蒸留除去する。しかして、(4−ブロムフエ
ニル)−メタン−ホスホン酸ジエチルエステルの
含量が98.5%である淡黄色油121gを得る。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 式 (式中、Xはハロゲン、Rは水素、−SO3M、
ハロゲン、C1-4−アルキル又はC1-4−アルコキシ
を意味し、そしてMは水素又は塩形成性陽イオン
である)のスチルベン化合物。 2 式 (式中、X′は塩素又は臭素、R′は水素、−
SO3M′、塩素、臭素、C1-4−アルキル又はC1-4−
アルコキシを意味し、そしてM′はアルカリ金属
イオン、アンモニウムイオン又はアミン塩イオン
である)の特許請求の範囲第1項に記載のスチル
ベン化合物。 3 式 (式中、X′は塩素又は臭素、R″は水素、塩素、
メチル又はメトキシ、そしてM′はアルカリ金属
イオン、アンモニウムイオン又はアミン塩イオン
を意味する)の特許請求の範囲第2項に記載のス
チルベン化合物。 4 式 (式中、M″はナトリウム又はカリウムを意味
する)の特許請求の範囲第3項に記載のスチルベ
ン化合物。 5 式 (式中、M″はナトリウム又はカリウムを意味
する)の特許請求の範囲第3項に記載のスチレル
ベン化合物。 6 式 (式中、Xはハロゲン、Rは水素、−SO3M、
ハロゲン、C1-4−アルキル又はC1-4アルコキシを
意味し、そしてMは水素又は塩形成性陽イオンで
ある)のスチルベン化合物の製造法において、式 (式中、Xは前記の意味を有し、Z1は後記の意
味を有する)の化合物の1モルを、式 (式中、RとMとは前記の意味を有し、Z2は後
記の意味を有する)の化合物の1モルと、強塩基
の存在且つ極性溶剤の存在下で反応させる(ここ
で、上記のZ1とZ2はその一方がHOC−基を意味
し、そして他方が式【式】 【式】【式】又は 【式】 (各式中、Qは置換又は非置換の1乃至6個の
炭素原子を有するアルキル基、アリール基、シク
ロアルキル基又はアラルキル基を意味する)の基
を意味する)ことを特徴とするスチルベン化合物
の製造方法。 7 式 (式中、Xは特許請求の範囲第6項に記した意
味を有し、そしてQ′はC1-4−アルキルを意味す
る)化合物の1モルを、強塩基の存在且つ極性溶
剤の存在下において式 (式中、MとRとは特許請求の範囲第6項に記
載した意味を有する)の化合物の1モルと反応さ
せることを特徴とする特許請求の範囲第6項に記
載の方法。
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CH314381 | 1981-05-14 |
Related Child Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1276165A Division JPH02167257A (ja) | 1981-05-14 | 1989-10-25 | ジスチリルビフエニル化合物 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS57193441A JPS57193441A (en) | 1982-11-27 |
JPH0224816B2 true JPH0224816B2 (ja) | 1990-05-30 |
Family
ID=4249529
Family Applications (2)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP57080344A Granted JPS57193441A (en) | 1981-05-14 | 1982-05-14 | Stilbene compound |
JP1276165A Granted JPH02167257A (ja) | 1981-05-14 | 1989-10-25 | ジスチリルビフエニル化合物 |
Family Applications After (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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JP1276165A Granted JPH02167257A (ja) | 1981-05-14 | 1989-10-25 | ジスチリルビフエニル化合物 |
Country Status (5)
Country | Link |
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EP (1) | EP0064953B1 (ja) |
JP (2) | JPS57193441A (ja) |
BR (1) | BR8202771A (ja) |
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Families Citing this family (2)
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GB9710925D0 (en) * | 1997-05-29 | 1997-07-23 | Ciba Geigy Ag | Process for preparing distyrylbiphenyl compounds |
Family Cites Families (3)
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CH554848A (de) * | 1967-10-03 | 1974-10-15 | Ciba Geigy Ag | Verfahren zur herstellung neuer stilben-derivate. |
US4285885A (en) * | 1979-01-17 | 1981-08-25 | Ciba-Geigy Corporation | Novel distyrylbenzene containing sulfonic acid groups |
DE3001876A1 (de) * | 1980-01-19 | 1981-07-23 | Bayer Ag, 5090 Leverkusen | Verfahren zur herstellung von styrylsulfonsaeurederivaten |
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1982
- 1982-05-06 US US06/375,607 patent/US4424170A/en not_active Expired - Fee Related
- 1982-05-10 DE DE8282810195T patent/DE3260827D1/de not_active Expired
- 1982-05-10 EP EP82810195A patent/EP0064953B1/de not_active Expired
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- 1982-05-14 JP JP57080344A patent/JPS57193441A/ja active Granted
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