JPH02247400A - Surface-treating apparatus for component part - Google Patents

Surface-treating apparatus for component part

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JPH02247400A
JPH02247400A JP3166090A JP3166090A JPH02247400A JP H02247400 A JPH02247400 A JP H02247400A JP 3166090 A JP3166090 A JP 3166090A JP 3166090 A JP3166090 A JP 3166090A JP H02247400 A JPH02247400 A JP H02247400A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
processing
treatment
station
components
plane
Prior art date
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Pending
Application number
JP3166090A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Rudi Hossmann
ルデイ・ホースマン
Roland Zichner
ローラント・ツイヒナー
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
ZF Friedrichshafen AG
Original Assignee
Fichtel and Sachs AG
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Filing date
Publication date
Application filed by Fichtel and Sachs AG filed Critical Fichtel and Sachs AG
Publication of JPH02247400A publication Critical patent/JPH02247400A/en
Pending legal-status Critical Current

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    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25DPROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D17/00Constructional parts, or assemblies thereof, of cells for electrolytic coating
    • C25D17/16Apparatus for electrolytic coating of small objects in bulk
    • C25D17/28Apparatus for electrolytic coating of small objects in bulk with means for moving the objects individually through the apparatus during treatment

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Electrochemistry (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
  • Coating Apparatus (AREA)

Abstract

PURPOSE: To drastically shorten the cycle time of surface treatments by providing respective treatment stations with plural treatment cells and alternately executing the treatments at the time of successively treating components with the plural treatment stations and a washing station.
CONSTITUTION: The components 16 are held introduced into a supply station 3, the treatment stations 4, 5, 6, the washing station 7, 8, 9 and an unloading/ drying station 10. The components 16 are drawn in this state out of the treatment cell 13 of the treatment plane 11 of the treatment stations 4, 5, 6. The components 16 of the respective stations 3 to 9 are gripped by the respective grippers 2 of a transportation unit 1. The components 16 are taken out of the station 10 and are transported leftward by one treatment step. The grips 2 are returned to their home positions. At this time, the components 16 are withdrawn into the treatment cell 13 in the treatment stations 4, 5, 6 and in the next work cycle, the components 16 of the treatment cell 14 of the treatment plane 12 are drawn out. The treatments of the treatment stations 4, 5, 6 are alternately executed in such a manner by the treatment cells 13, 14, by which the cycle time is shortened.
COPYRIGHT: (C)1990,JPO

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は構成部品を表面処理する装置、特に表面被覆す
る装置であって、前記構成部品が相前後して配置された
複数の処理ステーションと洗浄ステーションとを通過す
るようになっており、この場合前記構成部品が搬送ユニ
ットによって収容されて、位置決めされ、かつ搬送され
本$Sに本)忽岐き、各処理ステーンヨ/が1つの処理
平面に配置された複数の処理セルを有しており、該処理
セルにプロセス媒体が供給される%SK’m〜%113
1>%形式のものに関する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Industrial Field of Application] The present invention relates to an apparatus for surface treatment of component parts, in particular an apparatus for surface coating, which comprises a plurality of treatment stations in which the component parts are arranged one after the other. cleaning stations, in which case the components are received, positioned and transported by a transport unit to a cleaning station, where each processing station is located in one processing plane. It has a plurality of processing cells arranged in %SK'm~%113 to which the processing medium is supplied.
Regarding the 1>% format.

〔従来の技術〕[Conventional technology]

欧州特許第0060444号明細書に基づいて公知の、
構成部品をメツキする装置は少なくとも1つの前処理浴
とメツキユニットと後処理浴とを有している。これらの
処理ステーションのそれぞれは複数の処理セル金有して
おp、この場合これらの処理セルには各プロセス媒体が
供給される。構成部品を搬送するために、移動装置が設
けられており、これにより前記処理ステーションにおけ
る本来の処理時間に対して付加的に、相応する装てん時
間と取出し時間とが考慮されなければならなくなる。し
たがって、装てん時間と取出し時間と搬送時間とは、最
も長くかかる処理の処理時間に加算されて、サイクル時
間、つまり構成部分がさらに先へ引き渡される時間全形
成している。
Known from European Patent No. 0060444,
The device for plating components has at least one pretreatment bath, a plating unit, and an aftertreatment bath. Each of these processing stations has a plurality of processing cells, each of which is supplied with a respective process medium. In order to transport the components, a moving device is provided, so that in addition to the actual processing time at the processing station, corresponding loading and unloading times have to be taken into account. The loading, unloading and transport times are therefore added to the processing time of the longest process to form the total cycle time, ie the time during which the component is transferred further.

〔発明が解決しようとする課題〕[Problem to be solved by the invention]

本発明の課題は冒頭で述べた形式の、構成部吊金表面処
理する装置を改良して、できるだけ僅かな費用をかげる
だけで規定の処理時間においてサイクル時間の短縮を可
能にし、これによジ単位時間当友りに被覆される構成部
品の数が著しく高められるような装置を提供することで
ある。
The object of the invention is to improve a device for surface treatment of component hangers of the type mentioned in the introduction, which makes it possible to shorten the cycle time for a given treatment time with as little expense as possible. The object of the present invention is to provide an apparatus in which the number of components coated per unit time can be significantly increased.

〔課題全解決するための手段〕[Means to solve all problems]

この課題全解決するために不発明の構成では、各処理ス
テーションに少なくとも1つの第2の処理平面が配属さ
れており、該処理平面が第1の処理平面と同数の処理セ
ルを有しており、これらの処理平面に交互に構成部品が
供給されるようにした。
In order to solve this problem, an inventive configuration is provided in which each processing station is assigned at least one second processing plane, which processing plane has the same number of processing cells as the first processing plane. , components were supplied alternately to these processing planes.

〔発明の効果〕〔Effect of the invention〕

不発明によれば、処理平面をこのように配置し、これら
の処理平面に構成部品を交互に供給することにより、サ
イクル時間を著しく短縮することが可能となる。たとえ
ば搬送時間が、最も長くかかる処理時間にほぼ相当して
いる場合、2つの処理平面が配置されていると、単位時
間当たりほぼ倍数の構成部品全被覆することができる。
According to the invention, by arranging the processing planes in this way and supplying these processing planes with components alternately, it is possible to significantly shorten the cycle time. If, for example, the transport time approximately corresponds to the longest processing time, the arrangement of two processing planes allows approximately a multiple of the components to be covered per unit time.

このような場合は、設備効率の倍加が得られ、その一方
では第2の処理平面を組み込むための費用は全設備費用
に比べて小ていので、1ワーク当たりの著しく僅かな投
資が得られる。
In such a case, a doubling of the equipment efficiency is obtained, while the costs for installing the second processing plane are small compared to the total equipment costs, so that a significantly lower investment per workpiece is obtained.

それと同時に、スペース節約型の設備が得られる。その
理由は、たんに処理ステーションだけが別の処理平面の
配置によって変えられるからである。
At the same time, a space-saving installation is obtained. This is because only the processing station can be changed by arranging another processing plane.

不発明の1構成では、前記処理平面が水平に延びてかつ
互いに重なり合うように配置されているので、全設備は
拡張または延長ケ受けるのではなく、処理ステーション
の範囲でのみ、より高く構成される。
In one inventive configuration, the processing planes are arranged horizontally and on top of each other, so that the entire installation is not subject to expansion or extension, but is constructed higher only in the area of the processing stations. .

この装置の特に有利な構成は不発明の別の構成によれば
、処理平面が鉛直にかつ互いに平行に延びるように配置
されていることによって得られる。このような鉛直の配
置形式は、処理セルから構成部品を出し入れする際に水
平の配置装 形式において必要となる/てん時間および取出し時間が
出現しないことを可能にし、このことはサイクル時間の
減少を生せしめる。さらに、洗浄ステーションに構成部
品が鉛直に配置されると、洗浄も改善される。その理由
は、より良好な鏑り落ちが保証されているからである。
A particularly advantageous embodiment of the device is obtained in that the treatment planes are arranged in such a way that they run vertically and parallel to each other. Such a vertical arrangement makes it possible to dispense with the handling/unloading times required in a horizontal arrangement when loading and unloading components from the processing cell, which reduces cycle times. Bring forth. Furthermore, cleaning is also improved when the components are vertically arranged in the cleaning station. The reason is that better chiseling is guaranteed.

本発明によればプロセス媒体が交互に処理平面に供給さ
れるので、前記プロセス媒体の均一で連続的な使用が保
証てれている。この場合、プロセス経過において通常で
は光分に使用てれていなかった工業的な装置、たとえば
搬送二二ット、媒体系、エネルギ、制御装置、廃棄装置
等は100%まで光分に利用される。さらに、不発明に
よれば1つの処理平面に少なくとも5つの処理セルが配
置されている。各処理平面におけるセル数を増やすこと
によって、同様により高い設備能率が得られる。
According to the invention, the process medium is supplied alternately to the processing plane, so that a uniform and continuous use of said process medium is guaranteed. In this case, up to 100% of industrial equipment that is not normally used for optical separation during the process, such as transport units, media systems, energy, control equipment, disposal equipment, etc., is used for optical separation. . Furthermore, according to the invention, at least five processing cells are arranged in one processing plane. By increasing the number of cells in each processing plane, higher equipment efficiencies can be obtained as well.

本発明による装置の簡単な構造における特に経済的な作
業法は、各処理ステーションの処理平面に、洗浄平面金
偏えた洗浄ステーションが後置されていることにより得
られる。したがって、この場合には洗浄ステーションの
極めて強力な使用が得られる。
A particularly economical method of operation with a simple construction of the device according to the invention is obtained in that the processing plane of each processing station is followed by a cleaning station with a cleaning plane offset. A very powerful use of the cleaning station is therefore obtained in this case.

〔実施例〕〔Example〕

以下に、不発明の実施例を図面につき詳しく説明する。 In the following, embodiments of the invention will be explained in detail with reference to the drawings.

図示の不発明による装置は搬送ユニット1全有しており
、この搬送ユニットは水平方向および鉛直方向に運動可
能に配置されており、互いに接続されたグリップユニッ
トから成っている。
The illustrated device according to the invention has a complete transport unit 1, which is arranged to be movable horizontally and vertically and consists of gripping units connected to one another.

これらのグリップユニットはグリッパ2を備えている。These gripping units are equipped with grippers 2.

前記搬送ユニット1によって、この搬送ユニットの下に
位置して、相前後して配置されたこの装置のステーショ
ンに構成部品が供給される。第1のステーションである
供給ステーション3には、各グリップユニットに配置さ
れたグリッパ2の数および位置に相応して構成部品(第
1図には図示しない)が準備される。この供給ステーシ
ョン3に絖いて処理ステーション4が設けられており、
この処理ステーションは第1の処理平面11と第2の処
理平面12とを有している。図示の実施例において処理
平面11には5つの処理セル13が配属されておム処理
平面12にはやは95つの処理セル14が配属されてい
る。通常、この第1の処理ステーション4で構成部品は
掃除される。搬送ユニット1の次の搬送ステップにおい
て、これらの構成部品は唯一つの洗浄平面15全備えた
洗浄ステーション7にもたらされる。続いて設けられた
処理ステーション5および6の構造は処理ステーション
4に相当しており、洗浄ステーション8および9は処理
ステーション5もしくは6における処理の後の洗浄過程
音引き受ける。処理ステーション5はたとえば構成部品
16のエツチングに役立つのに対して、処理ステーショ
ン6ではたとえばクロムメツキによる表面彼復が行なわ
れる、洗浄ステーション9から取り出された構成部品は
卸し無乾燥ステーション10に卸されて、この場所でこ
の装置から取り出される。
The transport unit 1 supplies components to the stations of the apparatus which are arranged one after the other and located below the transport unit. The first station, supply station 3, is equipped with components (not shown in FIG. 1) corresponding to the number and position of the grippers 2 arranged in each gripping unit. A processing station 4 is provided in addition to the supply station 3.
This processing station has a first processing plane 11 and a second processing plane 12 . In the exemplary embodiment shown, five processing cells 13 are assigned to the processing plane 11 and ninety-five processing cells 14 are assigned to the processing plane 12. Typically, the components are cleaned at this first processing station 4. In the next transport step of the transport unit 1, these components are brought to a cleaning station 7, which is equipped with only one cleaning plane 15. The structure of the subsequent processing stations 5 and 6 corresponds to the processing station 4, and the cleaning stations 8 and 9 take over the cleaning process sound after the treatment in the treatment station 5 or 6. The processing station 5 serves, for example, for etching the component 16, while the processing station 6 carries out surface refining, for example by chroming. , is removed from this device at this location.

この装置において構成部品を処理する場合、全てのステ
ーション3〜10に構成部品16が導入されていて、搬
送ユニット1が図示の位置に位置していることから出発
することができる。
When processing component parts in this device, it is possible to start from the fact that all stations 3 to 10 have introduced component parts 16 and that transport unit 1 is located in the position shown.

次に、たとえばこれらの構成部品は処理ステーション4
.5および6の第1の処理平面に設げられた処理セル1
3から引き出される。続いて搬送ユニット1がグリッパ
2會有するグリップユニットを出発させて、前記ステー
ション3〜9に位置する構成部品16を掴み、その−万
で卸し兼乾燥ステーション10から構成部品16が取り
出される。処理ステップ1つ分だけ前記構成部品をさら
に搬送するために、搬送ユニット1にこれらの構成部品
と一緒に上昇し、続いて右に次のステーションへと移動
する。すなわち、この搬送ユニットはたとえば処理ステ
ーション4から洗浄ステーション7に、もしくは処理ス
テーション5から洗浄ステーション8に移動する。搬送
ユニット1の降下後に、必要に応じて電気エネルギの接
触接続が特に処理ステーション6で行なわれる。次のス
テップにおいて、グリッパ2は構成部品を解放し、搬送
ユニット1は上方に移動し、かつ左へ移動して出発位置
に戻る。それと同時に、構成部品16は処理セル13に
引き込まれる。最も長くかかる処理時間、たとえば処理
ステーション6における処理時間に関連して次の作業サ
イクルが規定され、この作業サイクルは、処理セル14
における処理時間の経過後にこれらの構成部品が引き出
されることで開始する。次に、前述の作業経過が今度は
処理ステーション4,5および6の第2の処理平面12
に対して繰り返される。画処理平面11および12が交
互に操作され、かつ搬送時間が、最も長くかかる処理時
間よりも僅かに短かいだけであるので、搬送ユニット1
の極めて僅かな停止時間が得られる。その理由は、この
搬送ユニットによって処理ステーション4゜5および6
の画処理平面11および12が交互に操作されるからで
ある。
These components are then, for example, processed at processing station 4.
.. Processing cells 1 provided in the first processing plane of 5 and 6
It is drawn from 3. Subsequently, the transport unit 1 sends out a gripping unit with two grippers to grasp the components 16 located at the stations 3 to 9, and then the components 16 are removed from the unloading and drying station 10. In order to further transport said components by one processing step, they are raised together with these components into the transport unit 1 and subsequently moved to the right to the next station. This transport unit thus moves, for example, from processing station 4 to cleaning station 7 or from processing station 5 to cleaning station 8. After the transport unit 1 has been lowered, electrical energy contact is made, if necessary, in particular at the processing station 6. In the next step, the gripper 2 releases the component and the transport unit 1 moves upwards and to the left back to the starting position. At the same time, component 16 is drawn into processing cell 13. The next working cycle is defined in relation to the processing time that takes the longest, for example in the processing station 6, and this working cycle is defined in the processing cell 14.
The process begins with these components being pulled out after the processing time has elapsed. The aforementioned working sequence then now takes place in the second processing plane 12 of the processing stations 4, 5 and 6.
repeated for. Since the image processing planes 11 and 12 are operated alternately and the transport time is only slightly shorter than the longest processing time, the transport unit 1
This results in extremely short downtimes. The reason is that this transport unit allows processing stations 4.5 and 6.
This is because the image processing planes 11 and 12 of are operated alternately.

構成部品が鉛直に設けられて処理されるようになってい
て、かつ同じく複数の互いに平行に延びる処理平面を有
しているような装置は容易に可能となる。たんにグリッ
プ装置と処理セルの構造だけが異なっており、この場合
にも前記の構成と同様に作業経過が行なわれる。処理セ
ルが鉛直に配置されている場合には、構成部品が交換時
にこれらの処理セルから平行に取り出され、かつこれら
の処理セルに平行に装てんされる必要はなく、工作物が
機能副面で掴1れるので、部品精度が改善されることが
有利である。
Such a device is easily possible in which the components are arranged vertically for processing and also have a plurality of mutually parallel processing planes. The only difference is in the structure of the gripping device and the processing cell, the working sequence being carried out in this case as well as in the previously described embodiment. If the processing cells are arranged vertically, it is not necessary for the components to be taken out of these processing cells and loaded parallel to them during replacement, and the workpiece is not a functional subsurface. Advantageously, part accuracy is improved because of the grip.

これに応じて、平行の取出しおよび装てんに必要であっ
た時間だけ、サイクル時間は減少する。
Cycle time is correspondingly reduced by the time required for parallel unloading and loading.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図は構成部品を表面処理する本発明による装置を長
手方向で示す図、第2図は第1図に示した装置の処理ス
テーションの範囲の側面図である。 1・・・搬送ユニット、2・・・グリッパ、3・・・供
給ステーション、4.5.6・・・処理ステーション、
7.8.9・・・洗浄ステーション、10・・・卸し無
乾燥ステーション、1、12・・・処理平面、13.1
4・・・処理セル、15・・・洗浄平面、16・・・構
成部品。
1 is a longitudinal view of an apparatus according to the invention for surface treating component parts, and FIG. 2 is a side view of the area of the treatment station of the apparatus according to FIG. DESCRIPTION OF SYMBOLS 1... Conveyance unit, 2... Gripper, 3... Supply station, 4.5.6... Processing station,
7.8.9...Washing station, 10...Unloading non-drying station, 1, 12...Processing plane, 13.1
4... Processing cell, 15... Cleaning plane, 16... Component.

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1、構成部品を表面処理する装置であつて、前記構成部
品が相前後して配置された複数の処理ステーションと洗
浄ステーションとを通過するようになつており、この場
合前記構成部品が搬送ユニットによつて収容されて、位
置決めされ、かつ搬送され、 各処理ステーションが1つの処理平面に配置された複数
の処理セルを有しており、該処理セルにプロセス媒体が
供給される 形式のものにおいて、各処理ステーシ ョン(4,5,6)に少なくとも1つの第2の処理平面
(12)が配属されており、該処理ステーションが第1
の処理平面(11)と同数の処理セル(14)を有して
おり、これらの処理平面(11,12)に交互に構成部
品が供給されるようになつていることを特徴とする、構
成部品を表面処理する装置。 2、前記処理平面(11,12)が水平に延びてかつ互
いに重なり合うように配置されている、請求項1記載の
装置。 3、 前記処理平面(11,12)が鉛直にかつ互いに
平行に延びるように配置されている、請求項1記載の装
置。 4、プロセス媒体が交互に第1の処理平面 (11)と第2の処理平面(12)とに供給されるよう
になつている、請求項1から3までのいずれか1項記載
の装置。 5、各処理平面(11,12)に少なくとも5つの処理
セル(13,14)が配置されている、請求項1から4
までのいずれか1項記載の装置。 6、各処理ステーション(4,5,6)の処理平面(1
1,12)に、洗浄平面(15)を備えた洗浄ステーシ
ョン(7,8,9)が後置されている、請求項1から5
までのいずれか1項記載の装置。
[Scope of Claims] 1. An apparatus for surface treating a component, in which the component passes through a plurality of treatment stations and cleaning stations arranged one after the other, in which case the The components are received, positioned and transported by a transport unit, each processing station having a plurality of processing cells arranged in a processing plane, the processing cells being supplied with a process medium. of the type, in which each processing station (4, 5, 6) is assigned at least one second processing plane (12), which processing station
An arrangement characterized in that it has the same number of processing cells (14) as processing planes (11), and is arranged such that the processing planes (11, 12) are supplied with component parts alternately. Equipment for surface treatment of parts. 2. Device according to claim 1, characterized in that the processing planes (11, 12) extend horizontally and are arranged one above the other. 3. Device according to claim 1, characterized in that the processing planes (11, 12) are arranged to extend vertically and parallel to each other. 4. The device according to claim 1, wherein the process medium is supplied alternately to the first treatment plane (11) and to the second treatment plane (12). 5. Claims 1 to 4, wherein at least five processing cells (13, 14) are arranged in each processing plane (11, 12).
The device according to any one of the preceding items. 6. Processing plane (1) of each processing station (4, 5, 6)
1, 12) is followed by a cleaning station (7, 8, 9) with a cleaning plane (15).
The device according to any one of the preceding items.
JP3166090A 1989-02-16 1990-02-14 Surface-treating apparatus for component part Pending JPH02247400A (en)

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Application Number Priority Date Filing Date Title
DE19893904581 DE3904581A1 (en) 1989-02-16 1989-02-16 Appliance for the surface treatment of components
DE3904581.1 1989-02-16

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH02247400A true JPH02247400A (en) 1990-10-03

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ID=6374161

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Application Number Title Priority Date Filing Date
JP3166090A Pending JPH02247400A (en) 1989-02-16 1990-02-14 Surface-treating apparatus for component part

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DE3904581A1 (en) 1990-08-23

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