JPH02230596A - スタティック型半導体メモリ - Google Patents

スタティック型半導体メモリ

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JPH02230596A
JPH02230596A JP1051712A JP5171289A JPH02230596A JP H02230596 A JPH02230596 A JP H02230596A JP 1051712 A JP1051712 A JP 1051712A JP 5171289 A JP5171289 A JP 5171289A JP H02230596 A JPH02230596 A JP H02230596A
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JP
Japan
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circuit
column
bit line
column selection
data
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Application number
JP1051712A
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English (en)
Inventor
Michio Kurihara
栗原 美智男
Hidehiko Tachibana
立花 秀彦
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Toshiba Corp
Toshiba Electronic Device Solutions Corp
Original Assignee
Toshiba Corp
Toshiba Microelectronics Corp
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Publication date
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Publication of JPH02230596A publication Critical patent/JPH02230596A/ja
Pending legal-status Critical Current

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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [発明の目的] (産業上の利用分野) 本発明は、スタティック型半導体メモリに係り、特にM
OS型(絶縁ゲート型)スタティック型ランダムアクセ
スメモリ(以下、SRAMと記す)のビット線電位検知
・増幅用のセンス回路に関する。
(従来の技術) 第4図は、従来の大規模集積回路(LSI)て用いられ
る高速動作が可能なSRAMの一部のブロック回路を示
している。ここで、MAはスタティック型メモリセルが
二次元の格子状に配列されたメモリセルアレイ、1は行
アドレス入力信号をデコードしてメモリセルアレイMA
のワード線を選択するローデコーダ、2はメモリセルア
レイMAの各カラム毎に設りられているビッ1・線プリ
チャージ回路、3はメモリセルアレイMAの各カラム毎
に設けられたビッ1・線電位検知・増幅用のセンス回路
、4は列アドレス人力信号をデコードしてカラム選択の
制御を行うカラムデコーダ、5はカラムデコーダ4の出
力により制御されて特定のカラムを選択するカラム選択
回路、6は選択カラムのデータを出力するデータ出力回
路である。
なお、メモリセルアレイMAの各カラム毎にセンス回路
か設1プられる理由は、一般に、メモリセルの駆動1・
ランジスタのディメンジョンはデザイン・ルールの最小
値に近いので、その駆動能力か低く、読出し時のビット
線の電圧変化は緩やかであり、この変化を回路的に加速
し、データ成立時間を短くするためてある。
第5図は、第4図中のローデコーダ1およびカラムデコ
ーダ4の一部、並びに1カラム分の具体的な回路を示し
ている。即ち、WLI、・・・WLnはワード線、BL
およびBLは相補的な一対のビッ1・線であり、メモリ
セルMC・・・は、データ保持用のフリップフロップF
FIと、このフリツプフロップFFIの相補的な2つの
記憶データの保持ノードとビット線BL,BL対との間
に接続され、ゲー1・にワード線W L 1、・・WL
nの1本が接続されている転送ケート用の一対のNチャ
ネルMOS}ランジスタN]とからなる。
なお、フリップフロツプFF1は、図示しないか、負荷
用の2個の高抵抗またはMOS+−ランジスタおよび交
差接続された駆動用の2個のNチャネルMOShランシ
スタからなる。
ローデコーダ1は、プリチャージ信号PRが活性状態の
時にはワード線WLI、・・W L nを選択ぜす、ブ
リチャージ信号PRが非活性状態の時に行ア1・レス人
力信号をデコードしてワード線WL1、・・W L n
を選択するように構成されている。
カラムデコーダ4は、プリチャージ信号PRか活性状態
の時にはカラムを選択せず、ブリチャージ信号PRが非
活性状態の時に列アドレス人力伯号をデコードしてカラ
ム選択を行うように構成されている。
ビット線プリチャージ回路2は、プリチャージ電源とビ
ッ1・線BLXBL対との間に接続された一対のPチャ
ネルMOS+−ランジスタP]からなり、この一対のP
チャネルMOS}ランジスタP]のゲー1・にはブリチ
ャーシ信号PRが与えられる。
センス回路3は、相袖性MOS (CMOS)型のフリ
ップフロップ回路FF2および活性化制御用のNチャネ
ルMOS+−ランジスタN2からなり、このNチャネル
MO.S}ランジスタN2のゲートにはセンスイネーブ
ル信号SEが与えられる。
カラム選択回路5は、カラムデコーダ4の出力により制
御される転送ゲート(例えばクロックドインバータ7)
・からなり、複数のカラム(たとえは1つのセクション
に相当する)の各転送ゲー1・7・・の各一端はワイヤ
ードオア接続されて共通ビッ1・線CLに接続されてい
る。
データ出力回路6は、ビツ1・線BLSBLのデ夕を外
部データパスに出力する出力バツファ8からなり、この
出力ノ1ツファ8は出力イネーブル信号RDにより出力
制御される。
なお、図示しないが、共通ビット線CLには書込の回路
か接続され、この書込み回路には書込みデータ人力か与
えられる。
また、ブリチャージ信号PRは、アドレス遷移を検出す
るだめのアドレス遷移検出回路(図示せず)の出力およ
びカラムデコーダ4からのセクション選択(=号に基す
いてパルス状に生成される。
次に、第5図のS RAMの読出し時の動作を、第6図
に示すタイミングチャー1・を参照しながら説明する。
先ず、プリチャージ信号PRか活性状態(ここでは低レ
ベル゛0”)にされ、ビ・ソト線プリチャージ回路2が
オンになってビ・ソト線BL,BL対の電位がプリチャ
ージ電源レベル(“1“レベル)になる。これにより、
前回のアドレス入力に対応してメモリセルMC・・・か
らビット線BL,BL対に読出されていたデータが高速
にリセットされ、次のアドレス入力に対応するメモリセ
ルMC・・・のビット線BL,BL対へのデータ読出し
の高速化が可能になる。
この後、プリチャージ信号PRが非活性状態にされ、ビ
ット線プリチャージ回路2はオフになってビット線BL
SBL対は寄生容量によりダイナミックに“1“レベル
に保持される。この後、行アドレス入力信号をデコード
するローデコーダ1によりワード線WLI、・・・WL
nが選択制御され、一定時間選択された特定のワード線
の“1″レベルにより選択されるメモリセルMC・・・
のデータはビット線BLSBL対に出力される。
この場合、メモリセルMC・・・からの読出しデータに
よりビッI・線BL,BL対のうちの一方(例えばBL
)の電位がプルダウンされ、ビット線BLSBL対間に
電位差が生じる。メモリセルMC・・・から例えば“0
”データが読出された場合、このビット線BLの電位が
プルダウンされるものとすれば、このビット線BLの電
位かセンス回路3の閾値電圧以下になってからセンス信
号SEが活性状態(ここでは″1″レベル)にされると
、センス回路3のフリップフロップFF2は上記プルダ
ウンされているビット線BLの電荷を加速的に放電して
データ成立時間を短くする。
一方、列アドレス入力信号をデコードするカラムデコー
ダ4から出力するカラム選択信号によってカラム選択回
路5が選択制御されることにより一定時間選択されるカ
ラムに接続されているセンス回路3の出力データ(つま
り、選択されたメモリセルMCから読出されたデータ)
が共通ビット線CLに出力され、さらに、出力イネーブ
ル信号RDのタイミングにしたがってデータ出力回路6
を経て外部データパスに出力される。
しかし、上記従来のSRAMは、センス回路3が活性化
する時点でビット線BL,BL対間にある程度の電位差
が存在することが前提になっており、ワード線選択から
センス信号SEの活性化までにプランキング時間tlの
確保が必要である。
しかし、このようなタイミングの設定は困難であり、こ
の前提が成立しない場合、即ち、ブランキング時間t1
が不十分であってビット線BL,BL対のうちの一方の
電位が十分にプルダウンされていない場合には、センス
回路3は誤ったデー夕を検知・増幅してしまい、メモリ
セルMC・・・のデータ破壊が発生し易くなる。
また、上記従来のSRAMは、センス回路3を各カラム
毎に設ける必要があるので、メモリチップ上に占めるセ
ンス回路3のパターン面積が増大する。
上記したような問題点を除去するためには、各カラムの
ビット線BL,BL対間に接続されているセンス回路3
を除去した第7図に示す構成が考えられる。
しかし、この構成においても、メモリセルMC・・・の
駆動トランジスタのディメンジョンはデザイン・ルール
の最小値に近いので、その駆動能力が低く、カラム選択
回路5のクロックドインバータ7のディメンジョンをあ
まり大きくすることができない。そして、カラム選択回
路5の各クロックドインバータ7がワイヤードオア接続
された共通ビット線CLには大きな寄生容量が存在する
ので、この共通ビット線CLのデータを直ぐに成立させ
ることができない。そのため、第8図に示すタイミング
チャートのように、出力イネーブル信号RDが活性化し
てから外部データパスにデータが出力する時間はt2た
け短くなり、外部データパスのデータを完全に成立させ
ることができない。
(発明が解決しようとする課題) 上記したように従来のSRAMは、ワード線選択からセ
ンス信号の活性化までにプランキング時間t1が不十分
であると、センス回路の誤動作によるメモリセルのデー
タ破壊が発生し易くなり、しかも、センス回路を各カラ
ム毎に設ける必要があるので、メモリチップ上に占める
センス回路のパターン面積か増大するという問題がある
また、各カラムのセンス回路を除去した場合には、共通
ビット線のデータを直ぐに成立させることができす、外
部データパスのデータを完全に成立させることかできな
いという問題かある。
本発明は、上記問題点を解決すべくなされたもので、そ
の目的は、センス回路の誤動作によるメモリセルのデー
タ破壊を防止でぎ、しかも、メモリチップ上に占めるセ
ンス回路のパターン面積を縮小てき、消費電力を削減し
得る高速動作可能なスタティック型半導体メモリを提供
することにある。
[発明の構成] (課題を解決するための手段) 本発明のスタティック型半導体メモリは、カラム選択回
路とデータ出力回路との間にセンス回路を設け、このセ
ンス回路をインバータおよびクロックドインハー夕の逆
並列回路により構成し、上記カラム選択回路によるカラ
ム選択終了後に上記センス回路のクロックドインバータ
を活性化制御するようにしてなることを特徴とする。
(作用) 読出し時に、ビット線の電位がカラム選択回路により選
択された後、センス回路のクロックドインバータか活性
状態になり、センス回路の入力レベルおよび出力レベル
が加速的に決定され、デタ成立時間か短くなる。
(実施例) 以下、図面を参照して本発明の一実施例を詳細に説明す
る。
第1図は、SRAMの一部のブロック回路を示しており
、第4図および第5図を参照して前述した従来のSRA
Mと比べて、カラムデコーダ10と、センス回路]1の
接続位置およびその回路構成が異なり、その他は同一で
あるので第4図および第5図中と同一符号を付している
。即ち、MAはメモリセルアレイ、WL1、・・・WL
nはワード線、BLおよびBLは相補的な一対のビット
線である。
メモリセルMC・・・は、データ保持用のフリップフロ
ップFFIおよび転送ゲート用の一対のNチャネルMO
SトランジスタN1からなり、1はローデコーダ、2は
ビット線プリチャージ回路である。カラム選択回路5は
カラム転送ゲート(例えばクロックドインバータ7)か
らなり、複数のカラムが共通ビット線CLに接続されて
いる。デタ出力回路6はインバータ9および出力バッフ
ァ8からなる。
カラムデコーダ10は、カラム選択制御信号φが非活性
状態の時にはカラムを選択せず、カラム選択制御クロッ
クφか活性状態の時に列アドレス入力信号をデコードし
てカラム選択を行うように構成されている。
ビット線電位検知・増幅用のセンス回路11は、カラム
選択回路5の共通ビット線CLとデータ出力回路6との
間に接続され、カラム選択回路5によるカラム選択終了
後にセンス動作するように構成されており、例えばイン
バータ12およびクロックドインバータ13の逆並列回
路からなり、このクロツクドインバータ13がカラム選
択制御クロツクφの反転借号φにより活性化される。
]3 なお、カラム選択制御クロックφおよびその反転信号φ
は、後述するように所定のタイミングで活性/非活性状
態が制御される。
次に、上記SRAMの読出し動作を、第2図に示すタイ
ミングチャー1・を参照しながら説明する。
プリチャージ信号PRによりビット線プリチャージ回路
2か一時的にオンになってビット線BL,BL対の電位
が“1”レベルになり、ビット線BL,BL対が寄生容
量によりダイナミックに“1″レベルに保持されている
状態で、行アドレス入力信号に応じて一定時間選択され
た特定のワード線の″′1“レベルにより選択されるメ
モリセルMC・・・のデータかビッ1・線BL,BL対
に出力されると、ビット線BL,BL対のうちの一方の
電位がプルダウンされるまでの動作は従来と同様である
そして、本実施例では、このビット線のプルダウンされ
た電位がカラム選択回路5のクロックドインバータフの
閾値電圧以下になってから、カラム選択制御クロックφ
が活性状態(ここでは“1”レベル)にされる。これに
より、列アドレス入力信号をデコードするカラムデコー
ダ10から出力するカラム選択信号CDによってカラム
選択回路5が選択制御されることによって一定時間選択
される特定のカラムに接続されているクロツクドインバ
ータ7が活性化し、選択されたメモリセルMCから読出
されたデータが共通ビット線CLに出力されるようにな
る。
この場合、メモリセルMC・・・の駆動トランジスタの
ディメンジョンはデザイン・ルールの最小値に近いので
、その駆動能力が低く、カラム選択回路5のクロツクド
インバータ7のディメンジョンをあまり大きくすること
ができず、しかも、カラム選択回路5の各クロックドイ
ンバータ7がワイヤードオア接続された共通ビット線C
Lには大きな寄生容量が存在するので、この共通ビット
線CLのデータを直ぐに成立させることができないおそ
れがある。
しかし、本発明では、このカラム選択回路5のクロック
ドインバータフの出力がセンス回路11のインバータ1
2の閾値電圧以上(選択されたメモリセルMCから読出
されたデータか“0“レベルの場合)、または閾値電圧
以下(選択されたメモリセルMCから読出されたデータ
が“1”レベルの場合)になってから、カラム選択制御
クロックφが非活性状態(ここでは゛0″レベル)にさ
れる。
これにより、カラム選択回路5のクロツクドインバータ
7が非活性状態になると同時にセンス回路11のクロツ
クドインバータ13が活性状態になり、センス回路11
の入カレベルおよび出力レベルが加速的に決定され、デ
ータ成立時間が短《なる。このセンス回路11の出力デ
ータは、インバータ9により反転され、さらに、出力イ
ネーブル信号RDのタイミングにしたがってデータバッ
ファ8を経て外部データパスに出力される。
上記SRAMによれば、センス回路11はカラム選択回
路5とデータ出力回路6との間に設けられ、カラム選択
回路5によるカラム選択終了後にセンス回路11が活性
化するように構成されているので、従来のようにセンス
回路の動作タイミングの設定の困難さに伴う誤動作によ
りメモリセルのデータ破壊が発生するという問題は生じ
ない。
また、カラム選択回路5の共通ビット線CLのデータが
センス回路11により加速的に決定されるので、出力イ
ネーブル信号RDが活性化すると、直ぐに外部データパ
スにデータが出力するようになり、外部出力時間は充分
に確保される。
また、上記SRAMは、センス回路11を各カラム毎に
設ける必要がなく、複数のカラムに1個設ければ済むの
で、メモリチップ上に占めるセンス回路11のパターン
面積が大幅に減少し、これに伴い使用素子数も大幅に減
少するので、消費電力も削減される。
なお、上記したようなSRAMは、記憶容量が大きくな
った場合、メモリセルアレイMAの行数を増加させ、こ
れに伴いビット線BLSBLを長くすると、このビット
線BL,BLの容量が増大してしまい、ビット線プリチ
ャージ時間およびビット線BL,BLのデータ成立時間
が長くなってしまうので、行数をあまり増加させること
はできず、列数を増さなければならない。
このことによって、カラム選択回路5のワイヤードオア
すべきカラム数を増加させると、共通ビット線CLの容
量がますます増加してしまい、ここでのデータ成立時間
が遅れてしまう。これを避けるために、カラム選択回路
5のクロックドインバータ7のディメンジョンを大きく
すればよいが、メモリセルMC・・・の駆動トランジス
タのディメンジョンが最小であるので、それはできない
このような点に鑑み、本発明の他の実施例として、SR
AMの記憶容量が大きくなっても、カラム選択回路5の
共通ビット線CLの容量の増加を抑制でき、ここでのデ
ータ成立時間を短かくすることが可能なSRAMを第3
図に示している。
このSRAMは、メモリセルアレイMAを列方向に複数
に分割(本例では2分割)し、この2つの分割アレイM
AI、MA2にそれぞれ対応して、ローデコーダ1・・
・ ビット線プリチャージ回路2・・・、カラム選択回
路5・・・、カラムデコーダ10・を設け、2つの分割
アレイMA1、MA2に対して、ビット線センス回路3
]を選択的に接続し、このセンス回路31の出力をデー
タ出力回路6により所定のタイミングで出力するように
している。ここで、第1図中と同一部分には、第1図中
と同一符号を{=Iしている。
センス回路3]は、カラム選択回路5・・・の各川力が
対応して2つのアンド回路32・・・の一方の入力とな
り、アドレス信号およびこれをインバータ33で反転し
た信号が対応してアンド回路32・・の他方の人力とな
り、この2つのアンド回路32・・・の各出力はノア回
路34に入力している。
そして、このノア回路34の出力端とアンド回路32・
の一方の入力端との間に、クロックドインバータ35・
・・が帰還接続されている。
従って、アドレス信号に応じて、2つの分割アレイMA
R、MA2のいすれか一方からの読出し出力がアンド回
路32・・・により選択されてノア回路34により反転
され、クロックドインバータ35・・・が活性化制御さ
れると、ノア回路34の出力か反転されてアンド回路3
2・の一方の入力端に帰還され、センス回路31の入力
端および出力端のデータが加速的に決定されるようにな
る。この場合、,アンド回路32・・のうちの選択され
ていない側のアンド回路の一方の入力端にも帰還される
か、この入力端は選択されていないので、何ら問題はな
い。
このSRAMによれば、カラム選択回路5・・・におけ
るワイヤードオアすべきカラム数の増加を抑え、共通ビ
ッ1・線CLの容量の増加を抑制し、ここでのデータ成
立1147間を短かくすることかできる。
[発明の効果] 上述したように本発明によれば、センス回路の誤動作に
よるメモリセルのデータ破壊を防Iトてき、しかも、メ
モリチップ上に占めるセンス回路のパターン面積を縮小
てき、消費電力を削減し得る高速動作可能なスタティッ
ク型半導体メモリを実現できる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の一実施例に係るS R A kiの−
部を示す構成説明図、第2図は第1図のS RAMの読
出し動作を示すタイミングチャート、第3図は本発明の
他の実施例に係るSRAMの一部を示す構成説明図、第
4図は従来のSRAMの一部を示す構成説明図、第5図
は第4図のSRAMの一部の具体例を示す回路図、第6
図は第5図のSRAMの読出し動作を示すタイミングチ
ャート、第7図は第4図のSRAMの変更例を示す構成
説明図、第8図は第7図のSRAMの読出し動作を示す
タイミングチャートである。 MCI,MC2・・・スタティック型メモリセル、MA
・・メモリセルアレイ、BL,BL・・・ビット線対、
WLI〜W L n・・・ワード線、CL・共通ビット
線、1・・・ローデコーダ、2・・・ビッ1・線プリチ
ャージ回路、5・・カラム選択回路、6・・データ出力
回路、]0・・・カラムデコーダ、11.31・・・セ
ンス回路、7,1.3・ クロックドインバータ、12
・・インバータ。 出願人代理人 弁理士 鈴江武彦 2 ]

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 ワード線により選択制御され、相補的な記憶データをビ
    ット線対に出力するスタティック型メモリセルが格子状
    に配列されたメモリセルアレイと、 前記ビット線対とビット線プリチャージ電源との間に接
    続され、プリチャージ信号により制御されてビット線対
    を所定期間プリチャージするプリチャージ回路と、 前記メモリセルアレイの各カラムに対応して設けられた
    クロックドインバータからなり、複数のカラムに対応す
    る複数のクロックドインバータの各出力がワイヤードオ
    ア接続されて共通ビット線に接続され、このクロックド
    インバータがカラムデコーダの出力により活性化制御さ
    れて前記メモリセルアレイの特定のカラムを所定期間選
    択するカラム選択回路と、 このカラム選択回路の共通ビット線に入力側が接続され
    たインバータおよび、このインバータの出力端と入力端
    との間に帰還接続されたクロックドインバータからなり
    、このクロックドインバータは前記カラム選択回路のク
    ロックドインバータとは相補的に活性化制御されるセン
    ス回路と、このセンス回路の出力データを所定のタイミ
    ングで出力するデータ出力回路と を具備することを特徴とするスタティック型半導体メモ
    リ。
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2012212500A (ja) * 2005-06-14 2012-11-01 Qualcomm Inc フル・スイング・メモリ・アレイを読み出すための方法及び装置

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