JPH02229745A - セメントクリンカの製造装置並びに該装置に用いる流動層焼成炉及び該炉底部の粗粒検出・抜出方法 - Google Patents

セメントクリンカの製造装置並びに該装置に用いる流動層焼成炉及び該炉底部の粗粒検出・抜出方法

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JPH02229745A
JPH02229745A JP28492388A JP28492388A JPH02229745A JP H02229745 A JPH02229745 A JP H02229745A JP 28492388 A JP28492388 A JP 28492388A JP 28492388 A JP28492388 A JP 28492388A JP H02229745 A JPH02229745 A JP H02229745A
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furnace
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関和 富一
Katsuharu Mukai
向井 克治
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館林 恂
Chikanori Kumagai
親徳 熊谷
Isao Hashimoto
勲 橋本
Tatsuya Watanabe
達也 渡辺
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、セメントクリンカを流動層焼成炉などを用い
て製造する装置、並びに該装置に用いる流動層焼成炉及
び該流動層焼成炉の炉底部の粗粒検出・抜出方法に関す
るものである. 〔従来の技術〕 従来、セメントクリンカの製造装置として、特開昭62
 − 230657号公報に示される装置が知られてい
る. この装置は、第7図に示すように、セメント原料粉を予
熱するサスベンシッンブレヒータ(予熱部)3と、この
サスベンシ四ンブレヒータに接続され予熱セメント原料
粉を造粒する噴流層造粒炉1と、この噴流層造粒炉に排
ガスダクト13及び気密排出装置7を介して接続された
流動層焼成炉2と、この流動層焼成炉に接続され焼成物
を冷却する冷却lflロとからなっている.CI−C*
はサイクロン、4、5はフラップダンパ、6は誘引ファ
ン、8は気密排出装置、11は気密装置、12は押込み
ファンである.なお噴流層造粒炉1の代りに、流動層造
粒炉を設ける場合もある.〔発明が解決しようとする課
題〕 前記の特開昭62 − 230657号公報記載のセメ
ントクリンカの製造装置においては、流動化空気(燃焼
空気)の全量が、冷却装置10、流動層焼成炉2、噴流
層造粒炉1を通過するため、つぎのような不都合点があ
った. (1)  冷却装置1ロ、流動層焼成炉2、噴流層造粒
炉1が空気の流れからみて直列に配置されているので、
流動化空気の押込み動力が大きい.(2)流動層焼成炉
2からの排出クリンカが、移動層で排出されるために、
排出シュート14内で徐冷され、品質上、バラツキが生
じるおそれがある. 《3】  流動層焼成炉2の炉床熱負荷が非常に高くな
り、フリーボード燃焼になりやすい.また、前記の特開
昭62 − 230657号公報記載の装置においては
、前記の(2)項及び第8図に示すように、流動層焼成
炉2の排出シュート14内では、高温のセメントクリン
カが移動層となるため、セメントクリンカ粒子が相互に
付着し、排出シュート14を閉塞するおそれがある.そ
して、流動層焼成炉2と冷却装置1ロとの間で、移動層
を形成させながら、ある時間滞留して移送される間に、
セメントクリンカは1400−1000℃域で徐冷され
る.その結果、移動層での移動時間が長い場合は、焼成
セメントクリンカの品質が劣化する.さらに、第9図に
示すような、オーバフロー排出口15を備えた流動層炉
16においては、粗粒が偏析して、炉底部に蓄積し、流
動層炉16の流動化状態が悪化し、運転継続がむずかし
くなる.とくに、セメントクリンカの製造装置における
流動層焼成炉においては、一旦、この粗粒による流動化
状態の悪化が発生すれば、流動化状態の改善を図ること
はむずかしい. なお、従来技術においては、粗粒の蓄積の検出は、温度
計17を空気分散板18の直上に設置し、この検知温度
と層温度との差をみることで行われているが、事前に流
動化状態の悪化を検知することは、きわめてむずかしい
. 本発明は上記の諸点に鑑みなされたもので、流動化用空
気の押込み動力が少なく、かつセメントクリンカを連続
安定して排出し、急冷して、焼成セメントクリンカの品
質の低下を防止することができるセメントクリンカの製
造装置並びに該装置に用いる流動層焼成炉及び該炉底部
に蓄積される粗粒による流動化状態の悪化を事前に検出
する、該炉底部の粗粒検出・抜出方法を提供することを
目的とするものである. 〔課題を解決するための手段〕 上記の目的を達成するために、請求項1のセメントクリ
ンカの製造装置は、第1図に示すように、セメント原料
粉を予熱するサスペンシッンプレヒータ3と、このサス
ペンシッンプレヒー夕に接続され予熱セメント原料粉を
造粒する噴流層造粒炉1と、この噴流層造粒炉に排ガス
ダクト13及び気密排出装置7を介して接続された流動
層焼成炉2と、この流動層焼成炉に接続され焼成物を冷
却する冷却装置とからなるセメントクリンカの製造装置
において、冷却装置を1次流動層冷却装置20と2次冷
却装置21とで構成し、1次流動層冷却装置20の上部
と流動層焼成炉2のフリーボード部22とを排ガスダク
ト23を介して接続し、流動層焼成炉2の流動層の上側
と1次流動層冷却装置20の流動層の界面付近とを焼成
セメントクリンカがオーバフローして排出されるように
オーバフロー排出シュート24を介して接続し、1次流
動層冷却装置20と2次冷却装置21とを気密排出装f
fi25を介して接続し、2次冷却装置21の上部と流
動層焼成炉2の風箱とを排ガスダクト27を介して接続
したものである. 請求項2のセメントクリンカの製造装置は、第1図に示
すように、1次流動層冷却装置20の流動層に層圧tU
測定器35を接続し、層圧損を制御してこの流動層界面
上に焼成セメントクリンカが供給されるように、層圧損
測定器35と、1次流動層冷却装置20の気密排出装置
25の空気供給弁36とを演算器37を介して接続した
ものである。
請求項3のセメントタリンカの製造装置は、第1図及び
第5図に示すように、流動層焼成炉2のオーバフロー排
出シュート24に水冷ジャケット38を設け、この水冷
ジャケットの下流側のオーバフロー排出シュート24に
可変通風抵抗装置40を設けたものである. また、請求項4の流動層焼成炉は、第2図〜第5図に示
すように、流動層の上側の炉本体側壁にオーハフロー排
出シュート24を接続し、このオーバフロー排出シュー
トの入口部にオーバフロー堰45を設け、この堰に隣接
してオーバフロー排出シュート24に水冷ジャケット3
8を設け、オーバフロー排出シュート24の下端を流動
層冷却装置41の層界面付近に接続したものである.請
求項5の流動層焼成炉は、第3図及び第4図に示すよう
に、オーバフロー堰45に隣接して鉛直排出シュート部
48を設け、この鉛直排出シュート部の下流側に隣接し
て水冷ジャケット38を設けたものである. 請求項6の流動層焼成炉は、第2図〜第5図に示すよう
に、流動層焼成炉への造粒物の投入口46を、オーバフ
ロー堰45の上端より下方に設けたものである. 請求項7の流動層焼成炉は、第3図及び第4図に示すよ
うに、オーバフロー堰45を上部が炉芯から離れる方向
に傾斜させたものである.さらに、請求項8の流動層焼
成炉底部の粗粒検出・抜出方法は、第6図に示すように
、流動層50の空気分散板3ロに隣接した部分における
任意高さ(j!)間の層差圧を検知し、この層差圧が設
定価以上になると、流動層に接続して設けた粗粒抜出装
置51を作動させて、粗粒を抜き出すようにしたもので
ある. 〔作用〕 サスペンシッンブレヒータ(予熱部)3で予熱されたセ
メント原料粉は、噴流層造粒炉1に投入され、造粒され
る.噴流層造粒炉1内で造粒されなかったセメント原料
は、サイクロンC+を経由して再び噴流層造粒炉1に戻
される. 噴流層造粒炉1内で滞留・成長した造粒物は、気密排出
装置7によって流動層焼成炉2に排出され、そこで再び
1400〜1450℃で焼成される.焼成されたセメン
トクリンカはオーバフローにて瞬間に1次流動層冷却装
置20に排出される.1次流動層冷却装置20では、1
000〜1100℃域にセメントクリンカは急冷される
.1次冷却されたセメントクリンカは、気密排出装置2
5を介して2次冷却装置21に排出され、2次冷却装置
内の仕切板34をオーバフローしながら、順次冷却され
る. 1次流動層冷却装置20で、焼成されたセメントクリン
カと熱交換した高温の冷却空気は、排ガスダクト23及
びオーバフロー排出シュート24を介して流動層焼成炉
2のフリーボード部22に導入され、流動層焼成炉排ガ
スと混合されて、流動層焼成炉排ガスの温度が下がる. その結果、流動層焼成炉2のフリーボード部22の壁面
温度が下がり、このため、流動層焼成炉2の流動層から
飛び出した高温のセメントクリンカ小粒子が、壁面に付
着することがなくなる.〔実施例〕 以下、図面を参照して本発明の好適な実施例を詳細に説
明する.ただしこの実施例に記載されている構成機器の
形状、その相対配置などは、とくに特定的な記載がない
限りは、本発明の範囲をそれらのみに限定する趣旨のも
のではなく、単なる説明例にすぎない. 実施例1 本例のセメントクリンカの製造装置は、第1図に示すよ
うに、セメント原料粉を予熱するサスペンシッンブレヒ
ータ(予熱部)3と、このサスペンションプレヒー夕に
接続され予熱セメント原料粉を造粒する噴流層造粒炉1
と、この噴流層造粒炉に排ガスダクト13及び気密徘出
装置7を介して接続された流動層焼成炉2と、この流動
層焼成炉に接続され焼成物を冷却する冷却装置とからな
るセメントクリンカの製造装置において、冷却装置を1
次流動層冷却装置20と2次流動層冷却装置21とで構
成し、一次流動層冷却装置20の上部と流動層焼成炉2
のフリーボード部22とを排ガスダクト23を介して接
続し、流動層焼成炉2の流動層の上側と1次流動層冷却
装置20の流動層の界面付近とを、焼成セメントクリン
カをオーバフローして排出できるように、オーバフロー
排出シュート24を介して接続し、1次流動層冷却装置
20と2次流動層冷却装置21とを気密排出装置25を
介して接続し、2次流動層冷却装置21の上部と流動層
焼成炉2の風箱26とを排ガスダクト27を介して接続
して構成されている.28はバーナ、30、31、32
は空気分散板、33は押込みファン、34は仕切板であ
る.なお、2次流動層冷却装置21として、多室のもの
を図示しているが、これに限定されるものではなく、1
室などの他の形式のものでもよい.また、流動層冷却装
置に限定されるものでもな《、たとえば、充填層ターラ
などの他の形式の冷却装置でもよい.上記のように構成
されたセメントクリンカの製造装置において、サスペン
シッンブレヒータ(予熱部》3で予熱されたセメント原
料粉は、噴流層造粒炉1に投入され、造粒される.噴流
層造粒炉1内で造粒されなかったセメント原料は、サイ
クロンCIを経由して再び噴流層造粒炉1に戻される.
噴流層造粒炉1内で滞留・成長した造粒物は、気密排出
装置7によって流動層焼成炉2に排出され、そこで再び
1400〜1450℃で焼成される.焼成されたセメン
トクリンカはオーバフ口一にて瞬時に1次流動層冷却装
置20に排出される.1次流動層冷却装宜20では、1
000〜1100℃域にセメントクリンカは急冷される
.1次冷却されたセメントクリンカは、気密排出装置2
5を介して2次流動層冷却装置21に排出され、2次流
動層冷却装置内の仕切板34をオーバフローしながら、
順次冷却される. 1次流動層冷却装置20で、焼成されたセメントクリン
カと熱交換した高温の冷却空気は、排ガスダクト23及
びオーバフロー排出シュート24を介して流動層焼成炉
2のフリーボード部22に導入され、流動層焼成炉排ガ
スと混合されて、流動層焼成炉排ガスの温度が下がる. その結果、流動層焼成炉2のフリーボード部22の壁面
温度が下がり、このため、流動層焼成炉2の流動層から
飛び出した高温のセメントクリンカ小粒子が、壁面に付
着することがなくなる.実施例2 本例のセメントクリンカの製造装置は、第1図に示すよ
うに、1次流動層冷却装置20の流動層に層圧損測定器
35を接続し、層圧損を制御してこの流動層界面上に焼
成セメントクリンカが供給されるように、層圧損測定器
35と、1次流動層冷却装120の気密排出装置25の
空気供給弁36とを演算器37を介して接続したもので
ある。
このようにして、1次流動層冷却装置20の層圧損を、
気密排出装置25の排出量を調節することにより制御し
、流動層焼成炉2からの排出セメントクリンカが、1次
流動層冷却装置2Gの流動層界面上に常に供給されるよ
うにする.他の構成、作用は実施例1と同様である. 実施例3 本例のセメントクリンカの製造装置は、第1図及び第5
図に示すように、流動層焼成炉2のオーバフロー排出シ
ュート24に水冷ジャケット38を設け、この水冷ジャ
ケットの下流側のオーバフロー排出シエ− ト2 4に
可変絞りなどの可変通風抵抗装置4ロを設けたものであ
る.41は流動層冷却装置で、第1図に示すような1次
流動層冷却装置又は第7図に示すような流動層冷却装置
のいずれでもよい.42はバーナ、43、44は風箱、
45は堰、46は造粒物投入口である.このように、本
例は、オーバフロー排出シュート24内において流動層
冷却装置41から流動層焼成炉2へ流れるガス流速を小
さくするために、水冷ジャケット38より冷却装置側に
、たとえば上下移動自在の可変絞りなどの可変通風抵抗
装置40を設けたものである. その結果,、流動層焼成炉2のオーバフロー排出口付近
で、風篩効果により、小粒子が排出しにくかったのが、
排出シュート途中に通風抵抗を設けることにより、小粒
子も容易に排出できるようになった. 実施例4 本例の流動層焼成炉2は、第2図〜第5図に示すように
、流動層の上側の炉本体側壁にオーバフロー排出シュー
ト24を接続し、このオーバフロー排出シュートの入口
部にオーバフロー堰45を設け、この堰に隣接してオー
バフロー排出シュート24に水冷ジャケット38を設け
、オーバフロー排出シュート24の下端を流動層冷却装
置41の層界面付近に接続したものである. 流動層焼成炉2に供給された造粒物は、流動層内の粒子
と混合し、滞留しながら1400〜1450℃の温度で
焼成される.焼成されたセメントクリンカは、堰45を
オーバフローして排出シュート24内に移送される. ところが、堰45に隣接して水冷ジャケット38が設け
られているために、堰45をオーバフローしてきた高温
の粘着性を帯びたセメントクリンカ粒子は、水冷ジャケ
ット38に接触し、直ちにセメントクリンカ粒子の表面
が冷却される.そのため、粒子は粘着性を失って、排出
シュート24内壁に付着せずに、流動層冷却装置41に
移送される. また、流動層冷却装置41のセメントクリンカ供給口4
7は、層界面付近に設けられているので、排出シュート
24内にセメントクリンヵ粒子が充填されることはなく
、したがって、移動層を形成することは全くなく、セメ
ントクリンカ粒子は円滑に冷却装置41内に供給される
. したがって、排出シュート24内で粒子が壁面に付着す
ることもなく、また、粒子相互で付着することもなく、
流動層焼成炉2から冷却装置にセメントクリン力が円滑
に移送される. このように、排出シュート24内に移動層を形成しない
ので、セメントクリンカは瞬時に冷却装胃41内に排出
される.このため、セメントクリンカは1400〜14
50℃の温度レベルから1000〜1100℃の温度レ
ベルまで急冷され、高品質のセメントクリンカを製造す
ることができる. 実施例5 本例の流動層焼成炉2は、第3図及び第4図に示すよう
に、オーバフロー堰45に隣接して鉛直排出シュート部
48を設け、この鉛直排出シュート部の下流側に隣接し
て水冷ジャケット38を設けたものである. 流動層焼成炉2から排出シュート24内に移送されるセ
メントクリンカ粒子は、まず鉛直排出シュート部48を
重力落下する.このため、セメントクリンカ粒子に慣性
力がつき、排出シュート24内に転がり、円滑に排出す
ることができる.他の構成、作用は実施例4と同様であ
る.実施例6 本例の流動層焼成炉2は、第2図〜第5図に示すように
、流動層焼成炉2への造粒物の投入口46を、オーバフ
ロー堰45の上端より下方に設けたものである.このた
め、流動層焼成炉2に投入された造粒物が、流動層焼成
炉の層内に滞留せずに直ちにオーバフロー排出シュート
24の排出口に排出されることがな《なる.他の構成、
作用は実施例4゛と同様である. 実施例7 本例の流動層焼成炉2は、第3図〜第5図に示すように
、オーバフロー堰45を上部が炉芯から離れる方向に、
角度θだけ傾斜させたものである.このため、層内に残
留しやすい比較的大きい粗粒は、オーバフロー排出しや
すくなる.また、堰45の上端面に焼成物が堆積するこ
とはなく、したがって、オーバフロー排出口を閉塞する
ことを回避することができる.他の構成、作用は実施例
4と同様である. 実施例8 本例の流動層焼成炉底部の粗粒検出・抜出方法は、第6
図に示すように、流動層50の空気分散板3ロに隣接し
た部分における任意高さl間の層差圧を検知し、この層
差圧が設定値以上になると、流動層50に接続して設け
た粗粒抜出装置51を作動させて、粗粒を抜き出すよう
にしたものである. この方法をさらに詳しく説明すると、空気分散板30の
直上の層内にて、任意高さl間の層差圧(標準差圧)を
層差圧検出器52で検出する.なお、標準差圧は、静止
層高より空気分散板側での標準差圧とする. この標準差圧がある値以上になると、演算器53を介し
て、粗粒抜出シュート54の電動シール弁55、56を
交互に開閉して粗粒を抜き出し、ある値以上に戻ると、
粗粒抜出しを停止する.セメントクリンカの製造装置に
おける流動層焼成炉などにおいては、空塔速度が一定で
あるために、粒子の径が大きくなると、層膨張が小さく
なり、標準差圧が大きくなる.一方、逆に粒子の径が小
さくなると、層膨張が大きくなり、標準差圧が小さくな
る.この現象を利用して、流動層底部に偏析する粗粒に
よって起こる流動化不良状態を事前に検知して、粗粒抜
出しを実施し、流動層焼成炉2の流動化状態を常に良好
に保とうとするものである. なお、本例においては、粗粒抜出装置51の−例として
、粗粒抜出シュート54、電動シール弁55、56を用
いたものを図示しているが、電動シール弁の代りに電気
圧制御弁など他の手段を用いることも可能である. 〔発明の効果〕 本発明は上記のように構成されているので、つぎのよう
な効果を奏する. +11  請求Ellのセメントクリンカの製造装置に
おいては、1次流動層冷却装置の流動化用空気の押込み
圧を小さくできるので、流動化用空気押込み動力が少な
くて済む.流動層焼成炉からの焼成クリンカをオーバフ
ローで排出するので、排出シュート内で徐冷されること
なく、1次冷却装置内で急冷される.流動層焼成炉のフ
リーボード部に、1次流動層冷却装置からの低温の冷却
空気が導入されるために、フリーボード部の温度が下が
り、セメントタリンカ小粒子の壁面への熔着が防止でき
る。流動層焼成炉が小型化でき、放熱損失が低減される
ため、エネルギー消費量が低減される.2次流動層冷却
装置からの比較的低温の空気を、焼成炉の流動化空気と
して使用するため、焼成炉の空気分散板耐熱構造が簡単
になる.などの効果がある.(2)請求項2のセメント
クリンカの製造装置においては、前記(11の効果に加
えて、流動層焼成炉からの排出セメントクリンカが、1
次流動層冷却装置の層界面上に常に供給されるので、よ
り円滑にセメントクリンカを1次流動層冷却装置内に排
出することができる. 《3》請求項3のセメントタリンカの製造装置において
は、前記(11の効果に加えて、流動層焼成炉から1次
流動層冷却装置へ小粒子をも容易に排出することができ
る. (4)請求項4の流動層焼成炉においては、流動層焼成
炉の排出シュート内で移動層を形成しないので、セメン
トクリンカ粒子が相互に付着することがなく、このため
排出シュートでの閉塞が発生せず、円滑に粒子が排出さ
れる.焼成セメントクリンカが瞬時に冷却装置内に排出
されるので、1400−1000℃域において急冷され
、このため、焼成物の品質が良好である.また、排出シ
ュートには水冷ジャケットを設けているので、焼成セメ
ントクリンカの表面が急冷され、粒子の排出シュート内
壁への付着が回壁される.などの効果がある. (5)請求項5の流動層焼成炉においては、前記(4)
の効果に加えて、排出シュートの入口部に鉛直排出シュ
ート部を設けているので、排出クリンカ粒子に下向きの
慣性力が与えられ、このため、粒子が円滑に排出される
. (6)  請求項乙の流動層焼成炉においては、前記《
4》の効果に加えて、投入された造粒物が流動層内に滞
留し、このため直ちにオーバフロー排出されることが防
止される. (7)請求項7の流動層焼成炉においては、前記+41
の効果に加えて、流動層内に残留しやすい比較的大きい
粗粒が、オーバフロー排出しやすくなる.また堰の上端
面に焼成物が堆積するのを防止し、このため、オーバフ
ロー排出口を閉塞することが回壁できる. 《8》請求項8の流動層焼成炉底部の粗粒検出・抜出方
法においては、流動層焼成炉底部に偏析した粗粒による
流動化不良状態を事前に検知することができ、このため
、流動層焼成炉の流動化状態を常に良好に保つことがで
きる.
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明のセメントクリンカの製造装置の一実施
例を示す説明図、第2図は本発明の流動層焼成炉の一実
施例を示す断面説明図、第3図及び第5図は本発明の流
動層焼成炉の他の実施例を示す断面説明図、第4図は第
3図におけるA−Am拡大断面図、第6図は本発明の流
動層焼成炉の炉底部の粗粒検出・抜出方法を実施する装
置の説明図、第7図は従来のセメントクリンカの製造装
置の一例を示す説明図、第8図及び第9図は従来の流動
層焼成炉まわりを示す説明図である.C.−C.・・・
サイクロン、1・・・噴流層造粒炉、2・・・流動層焼
成炉、3・・・サスペンシッンブレヒータ(予熱部)、
4、5・・・フラップダンバ、6・・・誘引ファン、7
、8・・・気密排出装置、10・・・冷却装置、11・
・・気密装置、12・・・押込みファン、13・・・排
ガスダクト、14・・・排出シュート、15・・・オー
バフロー排出口、16・・・流動層炉、17・・・温度
計、18・・・空気分散板、2 0−1次流動層冷却装
置、21・・・2次流動層冷却装置、22・・・フリー
ボード部、23・・・排ガスダクト、24・・・オーバ
フロー排出シュート、25・・・気密排出装置、26・
・・風箱、27・・・排ガスダクト、28・・・バーナ
、30、31、32・・・空気分散板、33・・・押込
みファン、34・・・仕切板、35・・・層圧損測定器
、36・・・空気供給弁、37・・・演算器、38・・
・水冷ジャケット、40・・・可変通風抵抗装置、41
・・・流動層冷却装置、42・・・バーナ、43、44
・・・風箱、45・・・堰、46・・・造粒物投入口、
47・・・セメントクリンカ供給口、48・・・鉛直排
出シュート部、50・・・流動フ、51・・・粗粒抜出
装置、52・・・層差圧検出器、53・・・演算器、5
4・・・粗粒抜出シュート、55、56・・・電動シー
ル弁 出 願 人  住友セメント株式会社

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 セメント原料粉を予熱するサスペンションプレヒー
    タ(3)と、このサスペンションプレヒータに接続され
    予熱セメント原料粉を造粒する噴流層造粒炉(1)と、
    この噴流層造粒炉に排ガスダクト(13)及び気密排出
    装置(7)を介して接続された流動層焼成炉(2)と、
    この流動層焼成炉に接続され焼成物を冷却する冷却装置
    とからなるセメントクリンカの製造装置において、冷却
    装置を1次流動層冷却装置(20)と2次冷却装置(2
    1)とで構成し、1次流動層冷却装置(20)の上部と
    流動層焼成炉(2)のフリーボード部(22)とを排ガ
    スダクト(23)を介して接続し、流動層焼成炉(2)
    の流動層の上側と1次流動層冷却装置(20)の流動層
    の界面付近とを焼成セメントクリンカがオーバフローし
    て排出されるようにオーバフロー排出シュート(24)
    を介して接続し、1次流動層冷却装置(20)と2次冷
    却装置(21)とを気密排出装置(25)を介して接続
    し、2次冷却装置(21)の上部と流動層焼成炉(2)
    の風箱とを排ガスダクト(27)を介して接続したこと
    を特徴とするセメントクリンカの製造装置。 2 1次流動層冷却装置(20)の流動層に層圧損測定
    器(35)を接続し、層圧損を制御してこの流動層界面
    上に焼成セメントクリンカが供給されるように、層圧損
    測定器(35)と、1次流動層冷却装置(20)の気密
    排出装置(25)の空気供給弁(36)とを演算器(3
    7)を介して接続した請求項1記載のセメントクリンカ
    の製造装置。 3 流動層焼成炉(2)のオーバフロー排出シュート(
    24)に水冷ジャケット(38)を設け、この水冷ジャ
    ケットの下流側のオーバフロー排出シュート(24)に
    可変通風抵抗装置(40)を設けた請求項1記載のセメ
    ントクリンカの製造装置。 4 流動層の上側の炉本体側壁にオーバフロー排出シュ
    ート(24)を接続し、このオーバフロー排出シュート
    の入口部にオーバフロー堰(45)を設け、この堰に隣
    接してオーバフロー排出シュート(24)に水冷ジャケ
    ット(38)を設け、オーバフロー排出シュート(24
    )の下端を流動層冷却装置(41)の層界面付近に接続
    したことを特徴とする、請求項1記載のセメントクリン
    カの製造装置に用いる流動層焼成炉。 5 オーバフロー堰(45)に隣接して鉛直排出シュー
    ト部(48)を設け、この鉛直排出シュート部の下流側
    に隣接して水冷ジャケット(38)を設けた請求項4記
    載の流動層焼成炉。 6 流動層焼成炉への造粒物の投入口(46)を、オー
    バフロー堰(45)の上端より下方に設けた請求項4記
    載の流動層焼成炉。 7 オーバフロー堰(45)を上部が炉芯から離れる方
    向に傾斜させた請求項4記載の流動層焼成炉。 8 流動層(50)の空気分散板(30)に隣接した部
    分における任意高さ(l)間の層差圧を検知し、この層
    差圧が設定値以上になると、流動層に接続して設けた粗
    粒抜出装置(51)を作動させて、粗粒を抜き出すこと
    を特徴とする、セメントクリンカの製造装置に用いる流
    動層焼成炉底部の粗粒検出・抜出方法。
JP28492388A 1988-11-10 1988-11-10 セメントクリンカの製造装置並びに該装置に用いる流動層焼成炉及び該炉底部の粗粒検出・抜出方法 Granted JPH02229745A (ja)

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Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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US5478234A (en) * 1992-12-28 1995-12-26 Kawasaki Jukogyo Kabushiki Kaisha Apparatus for manufacturing cement clinker
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