JPH02225585A - 防汚加工剤 - Google Patents
防汚加工剤Info
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- JPH02225585A JPH02225585A JP4510089A JP4510089A JPH02225585A JP H02225585 A JPH02225585 A JP H02225585A JP 4510089 A JP4510089 A JP 4510089A JP 4510089 A JP4510089 A JP 4510089A JP H02225585 A JPH02225585 A JP H02225585A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
本発明はシーラントや塗料に防汚性および汚れ除去性を
付与する防汚加工剤に関するものである。
付与する防汚加工剤に関するものである。
[従来の技術及び発明が解決しようとする課題]従来シ
ーラントや塗料等の建築、自動車、船舶、航空機等の分
野で使用される材料は、経時的に汚れが蓄積されること
により美観が損なわれることより、その改良が要望され
ている。
ーラントや塗料等の建築、自動車、船舶、航空機等の分
野で使用される材料は、経時的に汚れが蓄積されること
により美観が損なわれることより、その改良が要望され
ている。
特にシリコーン系のシーラントや塗料等の材料は、耐熱
性、耐光性、耐オゾン性、耐水性等に優れている長所を
活かして長期耐候性の必要な部位へ適用されているもの
の、帯電し易いため塵埃が付着し、かつその除去が容易
でないという問題点があった。
性、耐光性、耐オゾン性、耐水性等に優れている長所を
活かして長期耐候性の必要な部位へ適用されているもの
の、帯電し易いため塵埃が付着し、かつその除去が容易
でないという問題点があった。
その解決方法として帯電性を低下させるとともに汚れの
除去性を付与する目的で界面活性剤の塗布や添加が行な
われているが、その耐久性は十分でなく、経時的に防汚
効果を消失することがわかった。また帯電性の低い塗料
の表面への塗布や有機樹脂の添加による改質等も防汚性
を改良するものの、シリコーン材料本来の耐候性が維持
されなかったり、汚れ除去性が十分でないことがわかっ
た。
除去性を付与する目的で界面活性剤の塗布や添加が行な
われているが、その耐久性は十分でなく、経時的に防汚
効果を消失することがわかった。また帯電性の低い塗料
の表面への塗布や有機樹脂の添加による改質等も防汚性
を改良するものの、シリコーン材料本来の耐候性が維持
されなかったり、汚れ除去性が十分でないことがわかっ
た。
[課題を解決するための手段1
本発明は上記問題点を解決すべくなされたものであり、
ポリフルオロアルキル基と加水分解ポリフルオロアルキ
ル基(R3)としてはR+ 4CHJp (R1は炭素
数3〜16のパーフルオロアルキル基、pはON5の整
数である)で表わされるもの又は、その炭素に結合した
水素が部分的に水酸基に置換されたものが好ましく採用
される。パーフルオロアルキル基の炭素数が3より小さ
い場合には防汚性の改良効果は十分ではない。また16
より大きくなると、耐久性が十分でなくなる。ポリフル
オロアルキル基は直鎖状、分岐状のいずれのものであっ
てもよいが、直鎖状のものであることが防汚性が高く、
好ましい。さらに好ましくはR2の炭素数が4〜14で
あり、pが2〜4である。
ポリフルオロアルキル基と加水分解ポリフルオロアルキ
ル基(R3)としてはR+ 4CHJp (R1は炭素
数3〜16のパーフルオロアルキル基、pはON5の整
数である)で表わされるもの又は、その炭素に結合した
水素が部分的に水酸基に置換されたものが好ましく採用
される。パーフルオロアルキル基の炭素数が3より小さ
い場合には防汚性の改良効果は十分ではない。また16
より大きくなると、耐久性が十分でなくなる。ポリフル
オロアルキル基は直鎖状、分岐状のいずれのものであっ
てもよいが、直鎖状のものであることが防汚性が高く、
好ましい。さらに好ましくはR2の炭素数が4〜14で
あり、pが2〜4である。
一価の有機基(R2)としては、前述のポリフルオロア
ルキル基含有基、炭素数1〜10のアルキル基、アルケ
ニル基、フェニル基などが採用されるが、好ましくは、
メチル基、又はフェニル基である。加水分解性官能基(
X)としては、QC)13.0CJsなとのアルコキシ
基、 ococo、など性官能基を併有する有機ケイ素
化合物(A)とポリオキシアルキレン基とポリフルオロ
アルキル基を併有するポリオルガノシロキサン(B)を
配合してなる防汚加工剤に関するものである。
ルキル基含有基、炭素数1〜10のアルキル基、アルケ
ニル基、フェニル基などが採用されるが、好ましくは、
メチル基、又はフェニル基である。加水分解性官能基(
X)としては、QC)13.0CJsなとのアルコキシ
基、 ococo、など性官能基を併有する有機ケイ素
化合物(A)とポリオキシアルキレン基とポリフルオロ
アルキル基を併有するポリオルガノシロキサン(B)を
配合してなる防汚加工剤に関するものである。
本加工剤中の(A)成分の加水分解性の官能基とポリフ
ルオロアルキル基(パーフルオロアルキル基又はパーフ
ルオロアルキル基のフッ素原子の一部が水素や塩素原子
で置換されたもの)を併有する有機ケイ素化合物は一般
式 %式% (式中R1はポリフルオロアルキル基を含有する一価の
有機基、R2は一価の有機基、Xは加水分解性の官能基
、aは0.1又は2である)で表わされる化合物もしく
は、その部分加水分解物が好ましい。
ルオロアルキル基(パーフルオロアルキル基又はパーフ
ルオロアルキル基のフッ素原子の一部が水素や塩素原子
で置換されたもの)を併有する有機ケイ素化合物は一般
式 %式% (式中R1はポリフルオロアルキル基を含有する一価の
有機基、R2は一価の有機基、Xは加水分解性の官能基
、aは0.1又は2である)で表わされる化合物もしく
は、その部分加水分解物が好ましい。
R1としては、R”−YI、−(R”はポリフルオロア
ルキル基、Yは−Z(CH2)、、ZはS、 NO,0
,C0N)l、 COOであり、qは1〜4の整数、b
は0又は1である)で表わされる基が採用される。
ルキル基、Yは−Z(CH2)、、ZはS、 NO,0
,C0N)l、 COOであり、qは1〜4の整数、b
は0又は1である)で表わされる基が採用される。
R’ OR”
(R’〜R+oは一価の炭化水素基を表わす)などの基
が例示される。これらの基を有する有機ケイ素化合物と
しては、具体的には、 CH8 CJt+CJ4Si(OCL)z、 c4F9c21
14si(oN=+ct、us)。
が例示される。これらの基を有する有機ケイ素化合物と
しては、具体的には、 CH8 CJt+CJ4Si(OCL)z、 c4F9c21
14si(oN=+ct、us)。
CJsCJ4SL [ON (Czl(s)zl s、
CaFeCzH4Si [N (C113) 2]
s 。
CaFeCzH4Si [N (C113) 2]
s 。
C4FICJ4(OCOCHI)1.C4FeCtH4
SiC1l。
SiC1l。
Hs
CsF 1tcJ4Si(QC)Is)s、CaF+t
czt(4Si(ON二CCJs)a。
czt(4Si(ON二CCJs)a。
CaF+tCgHJi[0N(CJs)2]s。
(:aF+yCaH4Si[N(CHi)zla。
C4FsCa)i4Sl(OCHz)z。
CJeCJJi(ON”CCJs)a。
CaFl?C1H45i(OCOCHI)a、CaFt
tC□H45ICLS。
tC□H45ICLS。
(C,F*C□H4)xsi(OCHs)2+((:4
FsCx)14)zSi [0N(C2Hs)zla。
FsCx)14)zSi [0N(C2Hs)zla。
(CJsCJ4)gsi[N(CHz)ilz。
(C4F*CJJ2Si(OCOCt(s)z。
(CJeC*)14)zSi、C1z。
(CsF+?CJ4)tsi(OCRs)z。
(C,F 、 ycJ4j 、Sl [ON (caH
s) zl z。
s) zl z。
(CaF+yCJ4)sSi[N(CHs)ilt。
(CaF+tCJ<)gsi(OCOCL)i。
(CeF+tCJ4)*SiC1g。
C,F
tcJ4s(C)lx)sSi(OCHs)i。
CaF+tCN(CHり3Si(OCHI)s。
H
などや、
それらの加水分解物、
または部分加水
分解が例示される。
また、
本発明において、
特
定の有機ケイ素化合物は、
一種の化合物の単独
使用に限られず、
複数の化合物の混合物または
その部分加水分解物を使用してもよい。
好まし
くは、加水分解性官能基の数が一分子当り平均2個以上
となる様に特定の有機ケイ素化合物を選定することが好
ましい。
となる様に特定の有機ケイ素化合物を選定することが好
ましい。
一方、本加工剤中の(B)成分のポリオキシアルキレン
基とポリフルシルオロアルキル基を併有するポリオルガ
ノシロキサンは下記一般式で表わされる含フツ素ポリオ
ルガノシロキサンが好ましい。
基とポリフルシルオロアルキル基を併有するポリオルガ
ノシロキサンは下記一般式で表わされる含フツ素ポリオ
ルガノシロキサンが好ましい。
RI +cR12゜R13,5iQ4−c−、−1(式
中、 R11はHまたは炭素数1−10の1価の炭化水素基 R12は式R” (CtH,0)、(R” 0)、(R
” )、(0)。
中、 R11はHまたは炭素数1−10の1価の炭化水素基 R12は式R” (CtH,0)、(R” 0)、(R
” )、(0)。
で表わされ、
R14は末端基、R1l+・は炭素数3〜6の二価炭化
水素基、R+aは炭素数2〜lOの二価炭化水素基を示
す。
水素基、R+aは炭素数2〜lOの二価炭化水素基を示
す。
r、sはr>1.s>Ol
t、uはそれぞれO又はl
R+iは炭素数3〜16のポリフルオロアルキル基を含
有する1価の有機基、 c、d、eはc、d、ego、1<C+d+e<3の正
数、) 上記一般式中のR11は前述のR1と同様に表わされる
ポリフルオロアルキル基を含有する1価の有機基であり
、基のパーフルオロアルキル基の炭素数が3より小さい
と防汚性が十分でなく、16より大きいと汚れの除去性
が不十分となる。
有する1価の有機基、 c、d、eはc、d、ego、1<C+d+e<3の正
数、) 上記一般式中のR11は前述のR1と同様に表わされる
ポリフルオロアルキル基を含有する1価の有機基であり
、基のパーフルオロアルキル基の炭素数が3より小さい
と防汚性が十分でなく、16より大きいと汚れの除去性
が不十分となる。
次にR12としては、エチレンオキシドと炭素数3〜6
のアルキレンオキシドの共重合体がアルキレン基又はエ
ーテル基あるいはアルキレンエーテル基と結合したもの
であり、この共重合体はランダムでもブロックのいずれ
でもよいが共重合体中のエチレンオキシド単位は10モ
ル%より多いことが必要であり、これにより表面に汚れ
除去性が付与される。より好ましくは30〜100モル
%である。その鎖長は任意に選ぶことができるが、あま
り長いと粘度が上昇するため、好ましくはエチレンオキ
シドのモル数rが100より少ない数である。すなわち
、rSはr>1.S≦O1好ましくはl≦r≦100.
0 < s <100 、r/(r + S) >0.
1を満す整数である。
のアルキレンオキシドの共重合体がアルキレン基又はエ
ーテル基あるいはアルキレンエーテル基と結合したもの
であり、この共重合体はランダムでもブロックのいずれ
でもよいが共重合体中のエチレンオキシド単位は10モ
ル%より多いことが必要であり、これにより表面に汚れ
除去性が付与される。より好ましくは30〜100モル
%である。その鎖長は任意に選ぶことができるが、あま
り長いと粘度が上昇するため、好ましくはエチレンオキ
シドのモル数rが100より少ない数である。すなわち
、rSはr>1.S≦O1好ましくはl≦r≦100.
0 < s <100 、r/(r + S) >0.
1を満す整数である。
末端基R14としては、−H,CH3−、COCH3等
が例示され、fir%としては、炭素数3〜6の二価炭
化水素基であり、好ましくは炭素数3〜4のプロピレン
又はブチレン基である。
が例示され、fir%としては、炭素数3〜6の二価炭
化水素基であり、好ましくは炭素数3〜4のプロピレン
又はブチレン基である。
R18としては炭素数2〜10の二価炭化水素基が例示
されるが通常(C1h)3が製造上最も好ましい。
されるが通常(C1h)3が製造上最も好ましい。
さらにt、uはO又はlであり、l(+6を介して又は
酸素原子を介して幹中のケイ素原子に結合されるが、耐
加水分解性が向上することにより、t=iでu−0のR
111を介した結合が好ましい。H+aは同種でもよく
、鎖長が異なる等異種を併用してもよい。
酸素原子を介して幹中のケイ素原子に結合されるが、耐
加水分解性が向上することにより、t=iでu−0のR
111を介した結合が好ましい。H+aは同種でもよく
、鎖長が異なる等異種を併用してもよい。
置換基(8口)としては、Hの他メチル、エチル、プロ
ピル、ブチル、ペンチル、ヘキシルなどのアルキル基、
フェニルなどのアリール基。
ピル、ブチル、ペンチル、ヘキシルなどのアルキル基、
フェニルなどのアリール基。
フェネチルなどのアリールアルキル基、ビニル、アリル
などのアルケニル基などの炭素数1〜10の1価の炭化
水素基が例示されるがあまり長鎖の置換基を用いると防
汚性を損なうため、メチル、エチル、プロピル、ブチル
等が好ましく、メチル基が最も好ましい。前記炭化水素
基は、F、 C1,Br等のハロゲン、アミノ基、エポ
キシ基、シアン基等で置換されていてもよい。
などのアルケニル基などの炭素数1〜10の1価の炭化
水素基が例示されるがあまり長鎖の置換基を用いると防
汚性を損なうため、メチル、エチル、プロピル、ブチル
等が好ましく、メチル基が最も好ましい。前記炭化水素
基は、F、 C1,Br等のハロゲン、アミノ基、エポ
キシ基、シアン基等で置換されていてもよい。
これら3種の置換基1(11,R12,l(1″の割合
はc、d、ego、1 <c+d+e≦3の正数の範囲
内で直鎖状、分岐状、網目状のいかなる構造も任意に選
ぶことができるが、eが少なすぎたり、Cやdが多すぎ
ると防汚性が十分でな(、dが少なすぎると汚れ除去性
が十分でなくなり好ましくない。又、す(なくとも本発
明の含フツ素ポリオルガノシロキサンの全分子量に対す
る全811含・有量が80重量%以下であることが性能
上好ましく、より好ましくは70〜20重量%である。
はc、d、ego、1 <c+d+e≦3の正数の範囲
内で直鎖状、分岐状、網目状のいかなる構造も任意に選
ぶことができるが、eが少なすぎたり、Cやdが多すぎ
ると防汚性が十分でな(、dが少なすぎると汚れ除去性
が十分でなくなり好ましくない。又、す(なくとも本発
明の含フツ素ポリオルガノシロキサンの全分子量に対す
る全811含・有量が80重量%以下であることが性能
上好ましく、より好ましくは70〜20重量%である。
該ポリオルガノシロキサンは25℃での粘度10〜l、
000.000cPの範囲のものを使用することがで
きるが、低すぎると耐久性が十分でな(高すぎると混合
、塗布等の作業性に劣るため、好ましくは100〜10
0,000cPが用いられる。具体的に例示すると、 (C)In) so (CJ40) + s−(CsH
+0) s−He (CHり3o (CJ−0) to−(C−H−0)
1o−CCH−等が例示される。
000.000cPの範囲のものを使用することがで
きるが、低すぎると耐久性が十分でな(高すぎると混合
、塗布等の作業性に劣るため、好ましくは100〜10
0,000cPが用いられる。具体的に例示すると、 (C)In) so (CJ40) + s−(CsH
+0) s−He (CHり3o (CJ−0) to−(C−H−0)
1o−CCH−等が例示される。
これら(A)および(B)成分の混合割合は9515〜
5/95の範囲で任意に選ぶことができるが、(A)成
分が多すぎると防汚性は向上するものの汚れ除去性が十
分でなく、(B)成分が多すぎると逆に、防汚性は低下
するが、汚れ除去性が向上する。より好ましくは70/
30〜10/90の範囲が用いられる。
5/95の範囲で任意に選ぶことができるが、(A)成
分が多すぎると防汚性は向上するものの汚れ除去性が十
分でなく、(B)成分が多すぎると逆に、防汚性は低下
するが、汚れ除去性が向上する。より好ましくは70/
30〜10/90の範囲が用いられる。
本組成物には、これら(A)、(B)成分の他に加らの
部分加水分解物や官能基を有するシランカップリング剤
()lJcJ4N)l(C)It)isi(OMe)
s。
部分加水分解物や官能基を有するシランカップリング剤
()lJcJ4N)l(C)It)isi(OMe)
s。
い。
本発明加工剤はシーラントや塗料に添加するか、表面に
コーティングすることにより用いられるが、コーティン
グ剤として適用する場合、粘度を低下させる等の目的で
溶剤で希釈してもよい、溶剤としては、トルエン等の芳
香族化合物、酢酸ブチル等のエステル系化合物、イソプ
ロパツール等のアルコール類等が好ましく用いられる。
コーティングすることにより用いられるが、コーティン
グ剤として適用する場合、粘度を低下させる等の目的で
溶剤で希釈してもよい、溶剤としては、トルエン等の芳
香族化合物、酢酸ブチル等のエステル系化合物、イソプ
ロパツール等のアルコール類等が好ましく用いられる。
[作 用]
本発明において、防汚加工剤中の有機ケイ素化合物(A
)およびポリオルガノシロキサン(B)の作用は必ずし
も明確ではないが、ポリフルオロアルキル基が撥水撥油
性、非粘着性、を与える一方、有機ケイ素中の加水分解
性官能基は。
)およびポリオルガノシロキサン(B)の作用は必ずし
も明確ではないが、ポリフルオロアルキル基が撥水撥油
性、非粘着性、を与える一方、有機ケイ素中の加水分解
性官能基は。
シーラントや塗料への結合性や接着性が増加し耐久性が
向上する。またポリオルガノシロキサン中のポリオキシ
アルキレン基は帯電防止性および汚れ除去性を与えるこ
とにより、すぐれた防汚性を発現するものと考えられる
。
向上する。またポリオルガノシロキサン中のポリオキシ
アルキレン基は帯電防止性および汚れ除去性を与えるこ
とにより、すぐれた防汚性を発現するものと考えられる
。
シーラントや塗料へ添加された場合でも、ポリフルオロ
アルキル基が、その表面エネルギーを低下させるため、
加工剤の表面への移行が促進され、少量の添加でも顕著
な効果を示すものと考えられる。
アルキル基が、その表面エネルギーを低下させるため、
加工剤の表面への移行が促進され、少量の添加でも顕著
な効果を示すものと考えられる。
〔実施例]
実施例1
2成分低モジュラスシリコーンシーラント(信越化学社
製、主剤100g、硬化剤10g)にポリフルオロアル
キル基とオキシム型の加水分解性基を有する有機ケイ素
化合物(A)e CsF+tCzLSi(ON=C)s O,7g、お
よびポリニーt ル基を有するフルオロシリコーン(B)0.5gを添当
し攪拌、脱泡後、結晶化ガラス(旭硝子製クリストン)
パネルの目地にシーリング剤として打設した。
製、主剤100g、硬化剤10g)にポリフルオロアル
キル基とオキシム型の加水分解性基を有する有機ケイ素
化合物(A)e CsF+tCzLSi(ON=C)s O,7g、お
よびポリニーt ル基を有するフルオロシリコーン(B)0.5gを添当
し攪拌、脱泡後、結晶化ガラス(旭硝子製クリストン)
パネルの目地にシーリング剤として打設した。
室温2週間放置後屋外暴露試験に供した。
実施例2〜4
ポリエーテル基を有するフルオロシリコーンの添加量お
よび構造を変えること以外は実施例1と同様にして、目
地を打設し、屋外暴露試験に供した。
よび構造を変えること以外は実施例1と同様にして、目
地を打設し、屋外暴露試験に供した。
1.0 gだけを使用して実施例1と同様にして目地を
打設し、屋外暴露試験に供した。
打設し、屋外暴露試験に供した。
比較例2
(A)を使用せず、(81ポリエーテル基を有するフル
オロシリコーン0.5gだけを使用し実施例1と同様に
して目地を打設し、屋外暴露試験に供した。
オロシリコーン0.5gだけを使用し実施例1と同様に
して目地を打設し、屋外暴露試験に供した。
比較例3
添加物を加えずに低モジユラスシリコーンシーラントで
、実施例1と同様にして目地を打設し、屋外暴露試験に
供した。
、実施例1と同様にして目地を打設し、屋外暴露試験に
供した。
目地の汚染性評価は目視で行なった。
5:全く汚れなし
4:はとんど汚れなし
3:少し汚れている
2:相当に汚れている
l二非常に汚れている
0;目地上に汚れた埃が堆っている
〔発明の効果]
本発明の加工剤は、汚染し易い、シリコーン系のシーラ
ントや塗料に防汚性を付与する優れた効果を有するが、
シリコーン系以外のシーラントや塗料にも同様の効果を
発現する。また加工剤中の有機ケイ素化合物の含有量を
高めることにより耐久性がさらに向上する効果が認めら
れ、プラスチックや無機系材料の防汚性コーティング剤
としても使用できる。
ントや塗料に防汚性を付与する優れた効果を有するが、
シリコーン系以外のシーラントや塗料にも同様の効果を
発現する。また加工剤中の有機ケイ素化合物の含有量を
高めることにより耐久性がさらに向上する効果が認めら
れ、プラスチックや無機系材料の防汚性コーティング剤
としても使用できる。
一方、ポリエーテル基を有するフルオロシリコーン含有
量の高いものは、帯電防止性が著しく向上する効果が認
められ、繊維処理剤や防滑剤としても使用できる。
量の高いものは、帯電防止性が著しく向上する効果が認
められ、繊維処理剤や防滑剤としても使用できる。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、ポリフルオロアルキル基と加水分解性官能基を併有
する有機ケイ素化合物(A)とポリオキシアルキレン基
とポリフルオロアルキル基を併有するポリオルガノシロ
キサン(B)を配合してなる防汚加工剤。 2、(A)/(B)の重量比が95/5〜5/95であ
る請求項1記載の防汚加工剤。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1045100A JP2841427B2 (ja) | 1989-02-28 | 1989-02-28 | 防汚加工剤 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1045100A JP2841427B2 (ja) | 1989-02-28 | 1989-02-28 | 防汚加工剤 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH02225585A true JPH02225585A (ja) | 1990-09-07 |
JP2841427B2 JP2841427B2 (ja) | 1998-12-24 |
Family
ID=12709873
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1045100A Expired - Lifetime JP2841427B2 (ja) | 1989-02-28 | 1989-02-28 | 防汚加工剤 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2841427B2 (ja) |
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO1994022595A1 (en) * | 1993-03-31 | 1994-10-13 | Osi Specialties, Inc. | Fluorosilicone compositions as wash durable soil and stain repellent finishes |
JP2002129110A (ja) * | 2000-10-31 | 2002-05-09 | Asahi Glass Co Ltd | 水性塗料用組成物 |
JP2002138251A (ja) * | 2000-11-01 | 2002-05-14 | Asahi Glass Co Ltd | 水性塗料用組成物 |
JP2002138250A (ja) * | 2000-10-31 | 2002-05-14 | Asahi Glass Co Ltd | 水性塗料用組成物 |
JP2007238834A (ja) * | 2006-03-10 | 2007-09-20 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 一液型フッ素樹脂塗料および汚染防止方法 |
US7723414B2 (en) | 2006-12-22 | 2010-05-25 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Antistatic system for polymers |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6049062A (ja) * | 1983-08-29 | 1985-03-18 | Toshiba Silicone Co Ltd | 室温硬化性ポリオルガノシロキサン組成物 |
JPS6051103A (ja) * | 1983-08-30 | 1985-03-22 | Shin Etsu Chem Co Ltd | 防汚処理剤 |
-
1989
- 1989-02-28 JP JP1045100A patent/JP2841427B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6049062A (ja) * | 1983-08-29 | 1985-03-18 | Toshiba Silicone Co Ltd | 室温硬化性ポリオルガノシロキサン組成物 |
JPS6051103A (ja) * | 1983-08-30 | 1985-03-22 | Shin Etsu Chem Co Ltd | 防汚処理剤 |
Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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WO1994022595A1 (en) * | 1993-03-31 | 1994-10-13 | Osi Specialties, Inc. | Fluorosilicone compositions as wash durable soil and stain repellent finishes |
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JP2002138250A (ja) * | 2000-10-31 | 2002-05-14 | Asahi Glass Co Ltd | 水性塗料用組成物 |
JP2002138251A (ja) * | 2000-11-01 | 2002-05-14 | Asahi Glass Co Ltd | 水性塗料用組成物 |
JP2007238834A (ja) * | 2006-03-10 | 2007-09-20 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 一液型フッ素樹脂塗料および汚染防止方法 |
JP4625883B2 (ja) * | 2006-03-10 | 2011-02-02 | パナソニック株式会社 | 一液型フッ素樹脂塗料および汚染防止方法 |
US7723414B2 (en) | 2006-12-22 | 2010-05-25 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Antistatic system for polymers |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2841427B2 (ja) | 1998-12-24 |
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