JPH02223730A - 高周波加熱装置用発熱体 - Google Patents
高周波加熱装置用発熱体Info
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- JPH02223730A JPH02223730A JP4473989A JP4473989A JPH02223730A JP H02223730 A JPH02223730 A JP H02223730A JP 4473989 A JP4473989 A JP 4473989A JP 4473989 A JP4473989 A JP 4473989A JP H02223730 A JPH02223730 A JP H02223730A
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Landscapes
- Electric Ovens (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明は、電子レンジ等の高周波加熱装置により被調理
物を加熱する際に使用され、被調理物表面を高温にて加
熱し得る高周波加熱装置用発熱体に関する。
物を加熱する際に使用され、被調理物表面を高温にて加
熱し得る高周波加熱装置用発熱体に関する。
(従来の技術)
高周波加熱装置である電子レンジは、マグネトロンから
放射されたマイクロ波をオープン庫内に導いて被調理物
に照射し、該被調理物自体を発熱させることにより調理
するものである。しかしながら、被調理物によっては、
電子レンジのマイクロ波による直接加熱に適さないもの
があり、例えば、表面を高温にして被調理物の表面に焦
げ目をつける場合には、電子レンジで加熱しても、焦げ
目を付けることができない。
放射されたマイクロ波をオープン庫内に導いて被調理物
に照射し、該被調理物自体を発熱させることにより調理
するものである。しかしながら、被調理物によっては、
電子レンジのマイクロ波による直接加熱に適さないもの
があり、例えば、表面を高温にして被調理物の表面に焦
げ目をつける場合には、電子レンジで加熱しても、焦げ
目を付けることができない。
被調理物の表面に焦げ目を付けるために、オーブン庫内
にシーズヒーターを配備し、マイクロ波以外にも該シー
ズヒーターから放射される熱を利用して被調理物を加熱
調理し得る電子レンジが開発されている。しかし、この
ような電子レンジでは、熱源として、マグネトロンとシ
ーズヒーターの二種類の加熱装置が必要になるため、構
成が複雑になって電子レンジ目体が大型化し、経済性が
損なわれるという問題がある。
にシーズヒーターを配備し、マイクロ波以外にも該シー
ズヒーターから放射される熱を利用して被調理物を加熱
調理し得る電子レンジが開発されている。しかし、この
ような電子レンジでは、熱源として、マグネトロンとシ
ーズヒーターの二種類の加熱装置が必要になるため、構
成が複雑になって電子レンジ目体が大型化し、経済性が
損なわれるという問題がある。
このような問題を解決するために、近時、マイクロ波が
照射されることにより発熱する発熱物質(例えば、炭化
珪素、フェライト等)と、断熱性の無機質基材(例えば
、ガラス、セラミック等)とを重ね合わせて二重構造と
したプレート状の発熱体、あるいは、炭化珪素系セラミ
ックを用いたプレート状の発熱体が開発されている(例
えば、特開昭58−8928号公報、実公昭53−22
832号公報等参照)。また、マイクロ波透過ガラス、
陶磁器、セラミック等の表面を、電気伝導性の金属酸化
物薄膜にてコーティングした発熱体も開発されている(
US、P、3,965,323、特公昭48−1490
2号公報、特公昭51−3419号公報、特公昭51−
8223号公報、特開昭53−112536、特公昭5
9−18608号公報等参照)。
照射されることにより発熱する発熱物質(例えば、炭化
珪素、フェライト等)と、断熱性の無機質基材(例えば
、ガラス、セラミック等)とを重ね合わせて二重構造と
したプレート状の発熱体、あるいは、炭化珪素系セラミ
ックを用いたプレート状の発熱体が開発されている(例
えば、特開昭58−8928号公報、実公昭53−22
832号公報等参照)。また、マイクロ波透過ガラス、
陶磁器、セラミック等の表面を、電気伝導性の金属酸化
物薄膜にてコーティングした発熱体も開発されている(
US、P、3,965,323、特公昭48−1490
2号公報、特公昭51−3419号公報、特公昭51−
8223号公報、特開昭53−112536、特公昭5
9−18608号公報等参照)。
このような発熱体は、被調理物が載置されて、あるいは
被調理物が収容されて、電子レンジのオーブン庫内に配
設されて使用されると、マグネトロンから放射されるマ
イクロ波により、被調理物が直接加熱されるとともに、
該マイクロ波により発熱体自体が発熱し、該発熱体がマ
イクロ波を吸収して放射する熱によっても被調理物が加
熱される。従って、被調理物は、マイクロ波により内部
から加熱されるとともに、該発熱体により表面からも加
熱される。
被調理物が収容されて、電子レンジのオーブン庫内に配
設されて使用されると、マグネトロンから放射されるマ
イクロ波により、被調理物が直接加熱されるとともに、
該マイクロ波により発熱体自体が発熱し、該発熱体がマ
イクロ波を吸収して放射する熱によっても被調理物が加
熱される。従って、被調理物は、マイクロ波により内部
から加熱されるとともに、該発熱体により表面からも加
熱される。
(発明が解決しようとする課題)
このような発熱体を用いて、電子レンジ機能とともに製
パン機能を有する単機能型電子レンジが開発されている
。該電子レンジは、マグネトロンから放射されるマイク
ロ波を吸収して、パンの表面に焦げ目をつけ得る温度に
発熱する発熱体にて構成された製パン容器により、パン
の表面に焦げ目がつけられる。該製パン容器は、金属容
器の外周面全体に、マイクロ波を吸収して発熱する炭化
珪素(SiC) 、フェライト等の発熱物質が塗料化さ
れてコーティングされている。パン表面に焦げ目をつけ
るためには、通常、150〜160℃程度の温度が必要
であり、上述の製パン容器は、その程度の温度に発熱し
得る。
パン機能を有する単機能型電子レンジが開発されている
。該電子レンジは、マグネトロンから放射されるマイク
ロ波を吸収して、パンの表面に焦げ目をつけ得る温度に
発熱する発熱体にて構成された製パン容器により、パン
の表面に焦げ目がつけられる。該製パン容器は、金属容
器の外周面全体に、マイクロ波を吸収して発熱する炭化
珪素(SiC) 、フェライト等の発熱物質が塗料化さ
れてコーティングされている。パン表面に焦げ目をつけ
るためには、通常、150〜160℃程度の温度が必要
であり、上述の製パン容器は、その程度の温度に発熱し
得る。
最近では、電子レンジおよび冷凍食品の普及に伴い、こ
のようにパン表面に焦げ目をつける製パン機能のみなら
ず、冷凍ピザ等の冷凍食品に焦げ目をつける機能も有す
る電子レンジが要望されている。しかし、例えば、冷凍
ピザに焦げ目をつけるためには、パン表面に焦げ目を付
は得る温度よりも高い温度(300°C以上)が必要で
あるため、3分程度の短時間で、マイクロ波を吸収して
400°C〜500℃の高温に発熱し得る発熱体が必要
になる。
のようにパン表面に焦げ目をつける製パン機能のみなら
ず、冷凍ピザ等の冷凍食品に焦げ目をつける機能も有す
る電子レンジが要望されている。しかし、例えば、冷凍
ピザに焦げ目をつけるためには、パン表面に焦げ目を付
は得る温度よりも高い温度(300°C以上)が必要で
あるため、3分程度の短時間で、マイクロ波を吸収して
400°C〜500℃の高温に発熱し得る発熱体が必要
になる。
前述した炭化珪素やフェライト等の発熱物質を用いた発
熱体では、例えば、直径200W〜3001111%厚
さllll11〜10IIIllIの円盤状の皿であれ
ば、soow出力の電子レンジを3分間動作させること
によるマイクロ波照射により、最高250°C程度にし
か発熱しない。
熱体では、例えば、直径200W〜3001111%厚
さllll11〜10IIIllIの円盤状の皿であれ
ば、soow出力の電子レンジを3分間動作させること
によるマイクロ波照射により、最高250°C程度にし
か発熱しない。
また、前述したマイクロ波透過ガラス等に金属酸化物薄
膜をコーティングした発熱体では、同様の条件で最高3
00″C程度の温度にしか発熱しない。
膜をコーティングした発熱体では、同様の条件で最高3
00″C程度の温度にしか発熱しない。
本発明は上記従来の問題を解決するものであり、その目
的は、冷凍ピザ等の冷凍食品にも容易に焦げ目をつけ得
る高温に発熱できる高周波加熱装置用発熱体を提供する
ことにある。
的は、冷凍ピザ等の冷凍食品にも容易に焦げ目をつけ得
る高温に発熱できる高周波加熱装置用発熱体を提供する
ことにある。
(課題を解決するための手段)
本発明の高周波加熱装置発熱体は、炭化珪素層と、該炭
化珪素層に積層されたガラス層と、該ガラス層に積層さ
れた金属酸化物の電気伝導性薄膜層と、を具備してなり
、そのことにより上記目的が達成される。
化珪素層に積層されたガラス層と、該ガラス層に積層さ
れた金属酸化物の電気伝導性薄膜層と、を具備してなり
、そのことにより上記目的が達成される。
(実施例)
以下に本発明を実施例について説明する。
第1図は本発明の高周波加熱装置用発熱体の一例である
電子レンジ用ピザ調理容器の断面図である。該ピザ調理
容器10は、容器本体11と該容器本体ll内に配設さ
れたプレート12とを有する。容器本体11は比較的浅
い円盤状の受は皿状をしており、その上部周縁部は下部
よりも外方へ延出している。
電子レンジ用ピザ調理容器の断面図である。該ピザ調理
容器10は、容器本体11と該容器本体ll内に配設さ
れたプレート12とを有する。容器本体11は比較的浅
い円盤状の受は皿状をしており、その上部周縁部は下部
よりも外方へ延出している。
プレート12は、円板状をしており、該容器本体11の
下部内に嵌合している。そして、該プレート12の外周
面と容器本体11の下部内周面とが、シール接着剤13
にて接着されている。
下部内に嵌合している。そして、該プレート12の外周
面と容器本体11の下部内周面とが、シール接着剤13
にて接着されている。
容器本体11は、結晶化耐熱ガラス、ムライト等のガラ
スやセラミックのように、マイクロ波を透過し得て熱を
遮断し得る断熱性の材質にて構成されている。
スやセラミックのように、マイクロ波を透過し得て熱を
遮断し得る断熱性の材質にて構成されている。
プレート12は、第2図に示すように、炭化珪素(SI
C) ’FAの基材12aと、該基材12aの全面に被
覆されたガラス層12bと、該ガラス層12bの一面に
適当な面積にて積層された金属酸化物の電気伝導性薄膜
12cとを有する。基材12aおよびガラス層12bは
、例えば、高純度の電気用炭化珪素を85%以上含有す
る炭化珪素質のマイクロ波吸収発熱性材料を、セラミッ
ク化する焼結時に該発熱性材料表面に釉が自己軸化する
ことにより析出してガラス層12bを形成し得る自己軸
性の組成とし、該発熱性材料を焼結させることにより形
成される。このような自己軸性の炭化珪素組成物はすで
に開発されている。
C) ’FAの基材12aと、該基材12aの全面に被
覆されたガラス層12bと、該ガラス層12bの一面に
適当な面積にて積層された金属酸化物の電気伝導性薄膜
12cとを有する。基材12aおよびガラス層12bは
、例えば、高純度の電気用炭化珪素を85%以上含有す
る炭化珪素質のマイクロ波吸収発熱性材料を、セラミッ
ク化する焼結時に該発熱性材料表面に釉が自己軸化する
ことにより析出してガラス層12bを形成し得る自己軸
性の組成とし、該発熱性材料を焼結させることにより形
成される。このような自己軸性の炭化珪素組成物はすで
に開発されている。
あるいは、基材12aとして、多孔質焼結である炭化珪
素成形体を用い、該炭化珪素成形体の基材12aに酸化
珪素(Si02) 、ホウケイ酸ガラス系等のガラス質
を積層してガラス層12bとする。
素成形体を用い、該炭化珪素成形体の基材12aに酸化
珪素(Si02) 、ホウケイ酸ガラス系等のガラス質
を積層してガラス層12bとする。
ガラス層12bに積層される金属酸化物の電気伝導性薄
膜12cは、102〜103Ω/ cm 2の電気伝導
度を有し、酸化スズ、あるいは酸化スズと酸化アンチモ
ンとを含有する酸化物を、蒸着等の方法で焼結すること
により、ガラス層12bに固着される。
膜12cは、102〜103Ω/ cm 2の電気伝導
度を有し、酸化スズ、あるいは酸化スズと酸化アンチモ
ンとを含有する酸化物を、蒸着等の方法で焼結すること
により、ガラス層12bに固着される。
本実施例のピザ調理容器では、表面の外観を同上させる
ためには、例えば、反応焼結で製造する気孔率40−0
%の炭化珪素製の基材12aを用いればよい。また、高
価ではあるが、超高密度の炭化珪素を用いれば、表面研
磨により緻密でガラス状の光沢表面が得られる。
ためには、例えば、反応焼結で製造する気孔率40−0
%の炭化珪素製の基材12aを用いればよい。また、高
価ではあるが、超高密度の炭化珪素を用いれば、表面研
磨により緻密でガラス状の光沢表面が得られる。
本発明の高周波加熱装置用発熱体である電子レンジ用ピ
ザ調理容器10は、例えば、第3図に示す単機能型電子
レンジにて使用される。該電子レンジは、本実施例のピ
ザ調理容器10を収容し得るオーブン庫21を有する。
ザ調理容器10は、例えば、第3図に示す単機能型電子
レンジにて使用される。該電子レンジは、本実施例のピ
ザ調理容器10を収容し得るオーブン庫21を有する。
該オーブン庫21の上部には、導波管カバー23を介し
て導波管22の一端部が連通している。該導波管22の
他端部には、マグネトロン24が配設されており、該マ
グネトロン24から放射されるマイクロ波が導波管22
を通ってオーブン庫21内に照射される。
て導波管22の一端部が連通している。該導波管22の
他端部には、マグネトロン24が配設されており、該マ
グネトロン24から放射されるマイクロ波が導波管22
を通ってオーブン庫21内に照射される。
オーブン庫21内に収容された本実施例のピザ調理容器
IOは、マイクロ波が照射されることにより、プレート
12が400〜500℃の高温に発熱し、該プレート1
2に載置されたピザ生地に焦げ目がつけられる。
IOは、マイクロ波が照射されることにより、プレート
12が400〜500℃の高温に発熱し、該プレート1
2に載置されたピザ生地に焦げ目がつけられる。
第1図および第2図に示す本実施例のピザ調理容器10
において、例えば、炭化珪素をガラス化処理して得られ
た、厚さ3mのガラス層12bにて被覆された直径25
0mの円盤状の基材12aの、該ガラス層12b底面の
裏金面に、金属酸化物の電気伝導性薄膜層12cを積層
すると、該金属酸化物の電気伝導性薄膜12cは、最高
で102〜103Ω/は2の電気伝導度が得られる。そ
して、該プレート12は、5oot出力の電子レンジに
より、第4図Bに示すマイクロ波吸収発熱特性を示し、
3分程度の短時間で300°C以上の高温化が達成され
る。また、全面にガラス層12bが積層された直径25
0m+の円盤状の基材12aの該ガラス層12bの底面
真中心部に、直径160〜200Mの金属酸化物の電気
伝導性薄膜層12cを積層すれば、第4図にCで示すマ
イクロ波吸収特性が得られた。
において、例えば、炭化珪素をガラス化処理して得られ
た、厚さ3mのガラス層12bにて被覆された直径25
0mの円盤状の基材12aの、該ガラス層12b底面の
裏金面に、金属酸化物の電気伝導性薄膜層12cを積層
すると、該金属酸化物の電気伝導性薄膜12cは、最高
で102〜103Ω/は2の電気伝導度が得られる。そ
して、該プレート12は、5oot出力の電子レンジに
より、第4図Bに示すマイクロ波吸収発熱特性を示し、
3分程度の短時間で300°C以上の高温化が達成され
る。また、全面にガラス層12bが積層された直径25
0m+の円盤状の基材12aの該ガラス層12bの底面
真中心部に、直径160〜200Mの金属酸化物の電気
伝導性薄膜層12cを積層すれば、第4図にCで示すマ
イクロ波吸収特性が得られた。
炭化珪素製の基材に、ガラス層を介することな(、金属
酸化物の電気伝導性薄膜を蒸着またはコーティングによ
り積層すれば、該金属酸化物の電気伝導性薄膜の電気伝
導度は、107Ω/ am 2程度にしかならず、10
2〜103Ω/ cm 2の電気伝導度は得られない。
酸化物の電気伝導性薄膜を蒸着またはコーティングによ
り積層すれば、該金属酸化物の電気伝導性薄膜の電気伝
導度は、107Ω/ am 2程度にしかならず、10
2〜103Ω/ cm 2の電気伝導度は得られない。
この場合のマイクロ波吸収特性は、第4図のAに示すよ
うになり、300℃以上の高温は発熱されない。
うになり、300℃以上の高温は発熱されない。
第5図は、プレート12の他の実施例を示す断面図であ
る。本実施例では、ムライト、アルミナシリカ等の耐熱
性、耐衝撃強度、および断熱性に優れたセラミック製の
直径250mの円盤状基材12eの一面に、必要最小限
の厚さ(例えば、基材12eの厚さ3III!1に対し
て0.5+wの厚さ)に炭化珪素層12fを積層し、さ
らに該炭化珪素層12fに、厚さ数十μmのガラス層1
2gを積層する。そして、該ガラス層12gの中心部に
直径160〜200襲の金属酸化物の電気伝導性薄膜層
12hを積層したものである。本実施例のプレート12
では、第4図にCで示すマイクロ波吸収特性よりも一層
優れたマイクロ波吸収特性が得られた。
る。本実施例では、ムライト、アルミナシリカ等の耐熱
性、耐衝撃強度、および断熱性に優れたセラミック製の
直径250mの円盤状基材12eの一面に、必要最小限
の厚さ(例えば、基材12eの厚さ3III!1に対し
て0.5+wの厚さ)に炭化珪素層12fを積層し、さ
らに該炭化珪素層12fに、厚さ数十μmのガラス層1
2gを積層する。そして、該ガラス層12gの中心部に
直径160〜200襲の金属酸化物の電気伝導性薄膜層
12hを積層したものである。本実施例のプレート12
では、第4図にCで示すマイクロ波吸収特性よりも一層
優れたマイクロ波吸収特性が得られた。
本実施例のプレートでは、発熱面である金属酸化物の電
気伝導性薄膜層12hが、実際の調理に際して、汚染お
よび侵食されやすいために、300℃以下で使用する場
合には、フッ素樹脂、シリコン樹脂、ポリエーテルサル
フォン系樹脂等からなる非粘着性塗料皮膜にて、また、
300〜600℃の温度範囲で使用する場合には、ポリ
シロキサン、ボロシキサン、ポリチタノカルボシラン等
のシロキサン結合を有するバインダーにより、高温耐熱
金属酸化物顔料と塗料化したセラミックコーティング層
にて、コーティングすればよい。これらのコーティング
層は、酸化スズ系の金属酸化物の電気伝導性薄膜層とは
反応せず好適である。
気伝導性薄膜層12hが、実際の調理に際して、汚染お
よび侵食されやすいために、300℃以下で使用する場
合には、フッ素樹脂、シリコン樹脂、ポリエーテルサル
フォン系樹脂等からなる非粘着性塗料皮膜にて、また、
300〜600℃の温度範囲で使用する場合には、ポリ
シロキサン、ボロシキサン、ポリチタノカルボシラン等
のシロキサン結合を有するバインダーにより、高温耐熱
金属酸化物顔料と塗料化したセラミックコーティング層
にて、コーティングすればよい。これらのコーティング
層は、酸化スズ系の金属酸化物の電気伝導性薄膜層とは
反応せず好適である。
(発明の効果)
本発明の高周波加熱装置用発熱体は、このように、炭化
珪素層に、ガラス層を介して、金属酸化物の電気伝導性
薄膜層が積層されているために、該金属酸化物の電気伝
導性薄膜層の電気伝導度が102〜103Ω/ cm
2とすることができ、短時間にて、300°C以上の高
温に発熱する。従って、被調理物表面を効率よく加熱し
得る。
珪素層に、ガラス層を介して、金属酸化物の電気伝導性
薄膜層が積層されているために、該金属酸化物の電気伝
導性薄膜層の電気伝導度が102〜103Ω/ cm
2とすることができ、短時間にて、300°C以上の高
温に発熱する。従って、被調理物表面を効率よく加熱し
得る。
4、 の、 な!■
第1図は本発明の高周波加熱装置発熱体の一例である電
子レンジ用ピザ調理容器の断面図、第2図はそのプレー
トの断面図、第3図は該ピザ調理容器が収容された電子
レンジの概略構成図、第4図は発熱体のマイクロ波吸収
発熱特性を示すグラフ、第5図は本発明の高周波加熱装
置用発熱体の他の例のプレート断面図である。
子レンジ用ピザ調理容器の断面図、第2図はそのプレー
トの断面図、第3図は該ピザ調理容器が収容された電子
レンジの概略構成図、第4図は発熱体のマイクロ波吸収
発熱特性を示すグラフ、第5図は本発明の高周波加熱装
置用発熱体の他の例のプレート断面図である。
11・・・容器本体、12・・・プレート、12a・・
・基材、12b・・・ガラス層、L2c・・・金属酸化
物の電気伝導性薄膜層、12e・・・基材、12f・・
・炭化珪素層、12g・・・ガラス層、12h・・・金
属酸化物の電気伝導性薄膜層。
・基材、12b・・・ガラス層、L2c・・・金属酸化
物の電気伝導性薄膜層、12e・・・基材、12f・・
・炭化珪素層、12g・・・ガラス層、12h・・・金
属酸化物の電気伝導性薄膜層。
以上
Claims (1)
- 1、炭化珪素層と、該炭化珪素層に積層されたガラス層
と、該ガラス層に積層された金属酸化物の電気伝導性薄
膜層と、を具備する高周波加熱用発熱体。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP4473989A JPH02223730A (ja) | 1989-02-23 | 1989-02-23 | 高周波加熱装置用発熱体 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP4473989A JPH02223730A (ja) | 1989-02-23 | 1989-02-23 | 高周波加熱装置用発熱体 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH02223730A true JPH02223730A (ja) | 1990-09-06 |
Family
ID=12699816
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP4473989A Pending JPH02223730A (ja) | 1989-02-23 | 1989-02-23 | 高周波加熱装置用発熱体 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH02223730A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0486969A2 (en) * | 1990-11-21 | 1992-05-27 | Mitsubishi Materials Corporation | Method for Producing a Microwave Absorbing Heater |
-
1989
- 1989-02-23 JP JP4473989A patent/JPH02223730A/ja active Pending
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0486969A2 (en) * | 1990-11-21 | 1992-05-27 | Mitsubishi Materials Corporation | Method for Producing a Microwave Absorbing Heater |
US5189273A (en) * | 1990-11-21 | 1993-02-23 | Mitsubishi Materials Corporation | Microwave absorbing heater |
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