JPH02217479A - Production of conductive grain - Google Patents

Production of conductive grain

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Publication number
JPH02217479A
JPH02217479A JP3675189A JP3675189A JPH02217479A JP H02217479 A JPH02217479 A JP H02217479A JP 3675189 A JP3675189 A JP 3675189A JP 3675189 A JP3675189 A JP 3675189A JP H02217479 A JPH02217479 A JP H02217479A
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JP
Japan
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conductive
powder
conductive particles
noble metal
grains
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Application number
JP3675189A
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Japanese (ja)
Inventor
Ryo Kimura
涼 木村
Mariko Ishikawa
真理子 石川
Hideyuki Okinaka
秀行 沖中
Koji Kawakita
晃司 川北
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Panasonic Holdings Corp
Original Assignee
Matsushita Electric Industrial Co Ltd
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Publication date
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  • Chemically Coating (AREA)

Abstract

PURPOSE:To produce conductive grains having superior electric conductivity and excellent in thermal and chemical stability at a low cost by directly coating the surface of the grains of conductive multiple component oxide having a specific composition with noble metal in an electroless plating bath without exerting activating treatment. CONSTITUTION:A powder of conductive multiple component oxide having a solid solution-type composition consisting of one or >=2 kinds among La1-xSrxCoO3 (0.1<=x<=0.8), Pr1-xSrxCoO3 (0.2<=x<=0.8), Nd1-xSrxCoO3 (0.3<=x<=0.7), La1-xBaxCoO3 (0.1<=x<=0.5), and Pr1-xBaxCoO3 (0.2<=x<=0.5) is prepared. The surface of the grains of the above conductive multiple component oxide is directly coated with noble metal in an electroless plating bath without being previously subjected to activating treatment. By this method, the conductive grains in which high electric conductivity can be provided even if the thickness of the noble metal coating is reduced and, as a result, costs can be remarkably reduced can be obtained.

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は電極材料に用いる導電性粒子の製造方法に関す
るものである。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION Field of Industrial Application The present invention relates to a method for producing conductive particles used as electrode materials.

従来の技術 従来より、導電性粒子、樹脂と溶剤、場合によっては微
量のフリット、金属酸化物及び有機金属酸化物とからな
る導電性塗料が各種部品の電極材料として広範囲に使用
されている。上記導電性粒子としては、金、銀、白金、
パラジウム等の高価な貴会1が用いられてお)、電極材
料のコスト低減のため、貴金属の使用量削減あるいは卑
金属材料への置換などの検討がなされている。
BACKGROUND OF THE INVENTION Conventionally, conductive paints consisting of conductive particles, resin and solvent, in some cases trace amounts of frit, metal oxides and organometallic oxides have been widely used as electrode materials for various parts. The above-mentioned conductive particles include gold, silver, platinum,
In order to reduce the cost of electrode materials, studies are being made to reduce the amount of precious metals used or replace them with base metal materials.

ここで、卑金嘱材料への全面置換に対して銅及びニッケ
ル、一部置換に対して銀−鋼合金等が用いられているが
、いずれも空気中焼き付け、あるいは放置によシ酸化物
が形成され、導電性が低下するため、焼き付は雰囲気の
制御や電極表面のコーティングをしなければならず、製
造工程が複雑になるという問題がある。
Here, copper and nickel are used for full replacement with base metal materials, and silver-steel alloys are used for partial replacement, but in both cases, silicon oxides are formed by baking in air or by leaving them. The problem is that the baking process requires controlling the atmosphere and coating the electrode surface, complicating the manufacturing process.

また、貴金属の使用量削減については卑金属粉末を基体
物質としてこれに貴金属を被覆する方法が試みられてい
る。(例えば、特公昭46−40593号公報、特開昭
60−100679号公報) このような貴会4被覆粉末を用いた導電性塗料をセラミ
ック材料に塗布し、空気中で焼き付けて電極を形成した
場合、被覆された貴金属が連続した状態で焼結されてお
らず、基体物質が露出し、かつ酸化物が生成されること
によシ、導電性が低下してしまう。これを防ぐためには
、貴金属の被覆厚みを厚くしなければならず、コスト削
減の効果は抑えられてしまう。また、基体物質の露出を
抑制するためて貴会I!彼覆の際のメッキ法の改良も行
われている(例えば、特公昭61−22028号公報)
In addition, attempts have been made to reduce the amount of precious metal used by using base metal powder as a base material and coating it with noble metal. (For example, Japanese Patent Publication No. 46-40593, Japanese Patent Application Laid-Open No. 60-100679) A conductive paint using such Kikai 4 coating powder was applied to a ceramic material and baked in air to form an electrode. In this case, the coated noble metal is not sintered in a continuous state, the base material is exposed, and oxides are generated, resulting in a decrease in conductivity. In order to prevent this, the coating thickness of the noble metal must be increased, and the cost reduction effect is suppressed. In addition, in order to suppress the exposure of the base material, your company I! Improvements have also been made to the plating method used for coating (for example, Japanese Patent Publication No. 61-22028).
.

しかしながら、卑金属粉末を基体物質としてこれに貴金
属を被覆した粉末に関しては高温で焼き付ける際K、基
体物質の被覆金属への熱拡散を完全に抑制することは基
本的にできないため、基体物質の露出を抑制するKはど
うしても被覆貴金属の厚みを厚くしなければならず、や
はり大幅なコスト削減は期待できない。
However, when baking a base metal powder coated with a noble metal as a base material, it is basically impossible to completely suppress heat diffusion from the base material to the coated metal, so exposure of the base material is avoided. To suppress K, it is necessary to increase the thickness of the coated precious metal, and a significant cost reduction cannot be expected.

また、基体物質に酸化ケイ素、酸化アルミニウム、酸f
ヒパナジウム、酸化ジルコニウムあるいはチタン酸バリ
ウムなどの暖化物を用いることも検討されている。(例
えば、特公昭61−22029号公報、aasae号公
報) しかし、酸化物を用いた場合、卑金属と比べて貴金属層
への熱拡散は抑制されるが、上記酸化物はいずれも絶縁
体であるため、電極材料としての導電性を保持するには
、やはシ被覆厚みを厚くしなければならず、材料コスト
の大幅な低減は困難である。また、得られた電極の比抵
抗は基体が絶縁物であることから高くなシ、高周波特性
を必要とする電子部品の電極材料としては利用できない
In addition, the base material may include silicon oxide, aluminum oxide, acid f.
The use of warming substances such as hypanadium, zirconium oxide, or barium titanate is also being considered. (For example, Japanese Patent Publication No. 61-22029, AASAE Publication) However, when oxides are used, heat diffusion into the noble metal layer is suppressed compared to base metals, but all of the above oxides are insulators. Therefore, in order to maintain conductivity as an electrode material, the thickness of the coating must be increased, making it difficult to significantly reduce material costs. Furthermore, the specific resistance of the obtained electrode is high because the substrate is an insulator, and it cannot be used as an electrode material for electronic components that require high frequency characteristics.

発明が解決しようとする課題 上記した構成の卑金属あるいは酸化物を基体物質として
貴会鷹被覆を施した導電性粒子につ−ては、高温での焼
き付は処理による基体物質の露出あるいは導電性の低下
を防ぐためには、どうしても被覆厚みを厚くしなければ
ならず、従って貴金属使用量が多くなシ、導電性粒子の
コストを大幅に削減できないという問題がある。
Problems to be Solved by the Invention Regarding conductive particles coated with a base metal or oxide having the above-mentioned structure, baking at high temperatures may result in exposure of the base material or conductivity due to processing. In order to prevent a decrease in the conductive particles, the thickness of the coating must be increased, which results in the problem that the amount of precious metal used is large and the cost of the conductive particles cannot be reduced significantly.

本発明はかかる点に鑑みてなされたもので、導電性に優
れ、かつ熱的安定性にも優れた導電性粒子を安両に提供
することを目的としている。
The present invention has been made in view of this point, and an object of the present invention is to safely provide conductive particles that have excellent conductivity and excellent thermal stability.

課題を解決するための手段 上記課題を解決するために1本発明の導電性粒子の製造
方法は、導電性複合酸化物の粒子表面を活性化処理する
ことなく、直接無電解メッキ液中にて貴会4被覆すると
いう構成を備えたものである。
Means for Solving the Problems In order to solve the above problems, 1. The method for producing conductive particles of the present invention is to produce conductive particles directly in an electroless plating solution without activating the particle surface of a conductive composite oxide. It is equipped with a structure that covers four parts of the body.

ここで、導電性複合酸化物としては、特にLa、−,5
rxCoo、(0.1≦X≦o、s ) 、 pr、−
xsrxcoo。
Here, as the conductive composite oxide, especially La, -, 5
rxCoo, (0.1≦X≦o, s), pr, -
xsrxcoo.

(0.2≦X≦0.8 ) 、 N(1,−xSrxC
od、(Oβ≦X≦α7)。
(0.2≦X≦0.8), N(1,-xSrxC
od, (Oβ≦X≦α7).

La、−XBaXCoO、(0.1≦X≦o、s)。La, -XBaXCoO, (0.1≦X≦o, s).

Pr、−XBaXCoO、 (02≦X≦05)のうち
の1種あるいは2種以上の組成を有するもの、あるいは
La、xSrxCub4(o、 1≦X≦o、s)。
A composition having one or more of Pr, -XBaXCoO, (02≦X≦05), or La, xSrxCub4 (o, 1≦X≦o, s).

La、xBaxCuO4(o、o 1≦X≦0.6)の
うちの1種あるいは2種以上の固溶系の組成を有するも
の、さらにはYBa2Cu、O,系、 BiCaSrC
u2O5.5rCu20.5系の組成を有するものが好
ましい。
Those having a solid solution composition of one or more of La, xBaxCuO4 (o, o 1≦X≦0.6), as well as YBa2Cu, O, system, BiCaSrC
It is preferable to have a composition of u2O5.5rCu20.5 system.

作用 本発明は上記した構成により、基体物質が導電性酸化物
であるため、被覆貴金属層への拡散が抑制されるととも
に、自己活性の性質があることから、無電解メッキにお
ける活性化処理をなくすことによって工程の簡略化がで
きる。この特徴により、被覆厚みを非常に薄くすること
と工程コストの低減ができるので、コストを大幅に削減
できる。
Function: Due to the above-described structure, the base material is a conductive oxide, which suppresses diffusion into the coated noble metal layer, and also has self-activation properties, eliminating the need for activation treatment in electroless plating. This allows the process to be simplified. This feature allows the coating thickness to be made very thin and the process cost to be reduced, resulting in a significant cost reduction.

また、被覆された貴金属層による化学的安定性からくる
特徴として、誘電体材料・磁性材料等のセラミック材料
と高温での焼き付は処理によって基体物質がセラミック
材料と反応し、セラミック材料の誘電特性あるいは磁気
特性を劣化させ、電極としての導電性も劣化することを
抑制することができる。
In addition, as a characteristic due to the chemical stability of the coated noble metal layer, when baking with ceramic materials such as dielectric materials and magnetic materials at high temperatures, the substrate substance reacts with the ceramic material due to processing, and the dielectric properties of the ceramic material Alternatively, it is possible to suppress deterioration of magnetic properties and deterioration of conductivity as an electrode.

また、基体物質として複合酸化物としたのは、単一金属
元素を含む酸化物に比べて、導電性及びコストの点で複
合酸化物の方が優れているためである。
Further, the reason why a composite oxide is used as the base material is that a composite oxide is superior in terms of conductivity and cost compared to an oxide containing a single metal element.

特に、LIL、−xSrx Coo、(o、1≦X≦O
,B ) 。
In particular, LIL, -xSrx Coo, (o, 1≦X≦O
,B).

Pr、、5rxCoo、  (0.2≦X≦o、a )
 。
Pr,,5rxCoo, (0.2≦X≦o,a)
.

Nd、xSrxCoo、  (0.3Thx≦0.7 
) 。
Nd, xSrxCoo, (0.3Thx≦0.7
).

La、XBaXCoO、  (0.16X l−0.5
)。
La, XBaXCoO, (0.16X l-0.5
).

Pr、−XBaXCoO、  (0.2≦X≦0.6)
のうちの1種あるいは2種以上の組成を有するもの、あ
るいはLa、、5rxCub4(0.1≦X≦0.5 
) 。
Pr, -XBaXCoO, (0.2≦X≦0.6)
Those having one or more of the following compositions, or La, 5rxCub4 (0.1≦X≦0.5
).

La2−xBaxCub4(0.01≦X≦0.6)の
うちの1種あるいは2種以上の固溶系の組成を有するも
の、さらにはYBa2Cu3O7系、 BiCaSrC
u2O5.5rCu20 s、s系の組成を有するもの
はいずれも導電性に優れておシ、被覆貴会属厚みが薄く
ても高い導電性が得られるため、導電性粒子のコストを
大幅に削減することが可能である。
Those having a solid solution composition of one or more of La2-xBaxCub4 (0.01≦X≦0.6), as well as YBa2Cu3O7 system, BiCaSrC
u2O5.5rCu20 All those with s and s compositions have excellent conductivity, and high conductivity can be obtained even if the thickness of the coating material is thin, so the cost of conductive particles can be significantly reduced. Is possible.

また、被覆可能な貴金属としては、金、銀、パラジウム
、白金20ジウム、/1/テニウム、あるいはこれらの
合金などを挙げることができる。また。
Examples of noble metals that can be coated include gold, silver, palladium, platinum 20dium, /1/thenium, and alloys thereof. Also.

貴金属被覆に際して上記2種以上の貴金属を多層被覆す
ることも可能である。
When coating with noble metals, it is also possible to coat with two or more of the above noble metals in multiple layers.

実施例 以下本発明を実施例によって詳細に説明する。Example The present invention will be explained in detail below using examples.

(実施例1) La O、5rCO,、Go、04  を出発原料とし
て。
(Example 1) La O, 5rCO,, Go, 04 was used as a starting material.

各々の必要量を秤量し、エタノール中で12時間混合し
、乾燥後900 ”Cで仮焼した。この仮焼粉を粉砕後
、1100”Cで2時間焼成して。
The required amount of each was weighed, mixed in ethanol for 12 hours, dried and calcined at 900''C. This calcined powder was crushed and calcined at 1100''C for 2 hours.

La、Sr[L5CjoO,の組成を有する粉末を得た
A powder having a composition of La, Sr [L5CjoO, was obtained.

一方、メッキ液として塩化パラジウムを濃アンモニア水
Kmかし、これに塩酸を加えてPHを8.5に調整した
パラジウムメッキ液を準備した。
On the other hand, a palladium plating solution was prepared by dissolving palladium chloride in Km concentrated ammonia water and adding hydrochloric acid to adjust the pH to 8.5.

このパラジウムメッキ液に上記La(L5Sr、5Co
o。
The above La (L5Sr, 5Co) is added to this palladium plating solution.
o.

の組成を有する粉末をマグネチックスターラーにて分散
しながら投入した。次に、還元剤としてのヒドラジンを
加え、攪拌することによって粉末表面にパラジウムメッ
キを行った。そして、メッキ処理後、デカンテーシ胃ン
法による水洗を行い。
A powder having the following composition was added while being dispersed using a magnetic stirrer. Next, hydrazine as a reducing agent was added and stirred to plate the powder surface with palladium. After plating, it is washed with water using the decantation method.

乾燥してパラジウム被覆粉末を得た。このようにして得
られた粉末のLIL、5Sr、5G00.とパラジウム
メッキ皮膜との重量比は下記の表1に示す通りであった
。上記パラジウム被覆粉末100重世部。
After drying, a palladium-coated powder was obtained. LIL of the powder thus obtained, 5Sr, 5G00. The weight ratio of the sample and the palladium plating film was as shown in Table 1 below. 100 parts of the above palladium coated powder.

ガラスフリット6重量部、エチルセルローズ2重量部、
α−テレビノール10重量部からなる混合物を3本ロー
ルにて混練し、電極ペーストとした。
6 parts by weight of glass frit, 2 parts by weight of ethyl cellulose,
A mixture consisting of 10 parts by weight of α-televinol was kneaded using three rolls to form an electrode paste.

この電極ペーストをアルミナ基板上にスクリーン印刷後
、1000’Cで10分間の焼き付は処理を行った。こ
うして焼き付けられた厚膜の電気抵抗値は表1に示す通
シであり、優れた導電性を示した。一方、LIL15S
r[L5CoO3にパラジウム被覆をしない粉末をm−
て上記条件にて電極ペーストとして評価した。
This electrode paste was screen printed on an alumina substrate and then baked at 1000'C for 10 minutes. The electrical resistance value of the thick film baked in this manner was as shown in Table 1, indicating excellent electrical conductivity. On the other hand, LIL15S
r[L5CoO3 with m-
It was evaluated as an electrode paste under the above conditions.

これらの結果より、La、5Sr、5Coo、  のみ
にて電極として利用する場合には1反応の安定性という
点において充分な焼結時における安定性を有していない
ことが解る。従って、パラジウム被覆をすることによっ
て粉末の導電性を高めるとともに、基体物質と基板材料
であるアルミナ基板との反応が抑制されるという2つの
効果が相まって、アルミナ基板上に導電性に優れだ厚膜
が形成される。
From these results, it can be seen that when only La, 5Sr, and 5Coo are used as an electrode, they do not have sufficient stability during sintering in terms of stability for one reaction. Therefore, by coating palladium, the conductivity of the powder is increased, and the reaction between the base material and the alumina substrate, which is the substrate material, is suppressed, which are two effects that combine to create a thick film with excellent conductivity on the alumina substrate. is formed.

(実施例2) La20. 、 PF60.、  、 Nd2O,、B
aC0.、5r00. 。
(Example 2) La20. , PF60. , , Nd2O,,B
aC0. , 5r00. .

Cjo、04  を出発原料として、実施例1と同様の
方法によ)、La、−xSrxCoo、 、  Pr、
−xSrxCoo、 。
Using Cjo, 04 as the starting material, the same method as in Example 1), La, -xSrxCoo, , Pr,
-xSrxCoo, .

Ha、xSrICoo、 、  La、−XBaXCo
O、 。
Ha, xSrICoo, , La, -XBaXCo
O.

Pr、、Ba!OoO,の各組成系のXの異なる粉末を
作成した。これらの粉末を基本物質として、実施例1と
同様の方法によシメッキ処理を行い、基体物質とパラジ
ウムの重量比が1o/1のパラジウム被覆粉末を得た。
Pr,, Ba! Powders having different compositions of OoO and X were prepared. Using these powders as basic materials, plating treatment was performed in the same manner as in Example 1 to obtain palladium-coated powders having a weight ratio of base material to palladium of 10/1.

この粉末を用いて、同じ〈実施例1と同様の方法によ多
導体ペーストを作成し、アルミナ基板上に焼き付けて電
気抵抗値を測定した。測定値を01に単位換算した結果
を下記の〔表2〕に示す。
Using this powder, a multi-conductor paste was prepared in the same manner as in Example 1, and the paste was baked onto an alumina substrate and the electrical resistance was measured. The results of converting the measured values into units of 0.01 are shown in [Table 2] below.

(以下余 白) 〔表2〕の結果から、焼き付けられた厚膜の電気抵抗値
は被覆したパラジウムだけで決められるのではなく、基
体物質の組成によって決められることが解る。ここで、
パラジウムはセラミック材料との反応を防止する役割を
果たすものである。
(Margin below) From the results in Table 2, it can be seen that the electrical resistance value of the baked thick film is determined not only by the coated palladium but also by the composition of the base material. here,
Palladium plays a role in preventing reactions with ceramic materials.

そして、優れた導電性を得るだめには基体物質の組成と
して、La、−,5rxCod3(o、1≦X≦O,s
)。
In order to obtain excellent conductivity, the composition of the base material must be La, -, 5rxCod3 (o, 1≦X≦O, s
).

Pr、−xsrxcoo、 (0.2≦X≦0.8 )
 。
Pr, -xsrxcoo, (0.2≦X≦0.8)
.

N(1,−,5rxCoo、 (0.3≦X≦0.7 
) 。
N(1,−,5rxCoo, (0.3≦X≦0.7
).

Laf−xBILxCO03(α1≦X≦o、s ) 
Laf-xBILxCO03 (α1≦X≦o, s)
.

Pr、−xBaxCod、 (0.2≦X≦0.6)が
適している。
Pr, -xBaxCod, (0.2≦X≦0.6) is suitable.

次に、上記材料を複合化した酸化物を基体物質として上
記と同様の方法でメッキ処理にてパラジウム被覆し、ペ
ースト化および焼き付は処理を行い、得られた厚膜の電
気抵抗値を測定した結果。
Next, using an oxide that is a composite of the above materials as a base material, it is coated with palladium by plating in the same manner as above, and the electrical resistance of the resulting thick film is measured. The result.

下記の〔表3〕に示すように優れた導電性を確認した。Excellent conductivity was confirmed as shown in Table 3 below.

〔表 3〕 (実施例3) La20. 、5rCO,、BaC0.、CuOを出発
原料として、各々の必要量を秤量し、エタノール中で1
2時間混合し、乾燥後、9oO℃で2時間焼成した後、
aoo℃の酸素中で熱処理して La、xSrxOur4. La2−xBaxCub4
のXを種4に変えた組成を有する粉末を得た。この粉末
を別途塩化白金とアンモニア水と塩酸からなるメッキ液
にヒドラジンと一緒に投入し、攪拌することによって粉
末表面に白金をメッキした。そして、メッキ処理後デカ
ンチーシロン法による水洗を行い、乾燥して白金被覆粉
末を得た。こうして得られた粉末の基体物質と白金との
重量比は7 o/30であった。L記白金メッキ被覆粉
末を用いて、実施例1と同様の方法により導体ペースト
を作成し。
[Table 3] (Example 3) La20. , 5rCO, , BaC0. , CuO as a starting material, weigh the required amount of each, and add 1 ml of each in ethanol.
After mixing for 2 hours, drying, and baking at 9oO℃ for 2 hours,
Heat treated in oxygen at aoo°C to form La, xSrxOur4. La2-xBaxCub4
A powder having a composition in which X was changed to species 4 was obtained. This powder was separately added to a plating solution consisting of platinum chloride, aqueous ammonia, and hydrochloric acid together with hydrazine, and the powder surface was plated with platinum by stirring. After the plating treatment, the plate was washed with water using the decanty silon method and dried to obtain a platinum-coated powder. The powder thus obtained had a weight ratio of base material to platinum of 7 o/30. A conductive paste was prepared in the same manner as in Example 1 using the platinum plating powder described in L.

アルミナ基板上にeoo’Cの温度で焼き付け、電気抵
抗値を測定した。この測定値をΩ・1に単位換算した結
果を下記の〔表4〕に示す。
It was baked on an alumina substrate at a temperature of eoo'C, and the electrical resistance was measured. The results of converting this measured value into units of Ω·1 are shown in [Table 4] below.

(以下余 白) 〔表4〕の結果から、優れた導電性を得るためには、基
体物質の組成として、 LIL、−xSrxCuO。
(Left below) From the results in Table 4, in order to obtain excellent conductivity, the composition of the base material should be LIL, -xSrxCuO.

(0.1≦X≦o、s ) 、 La2−xBaxCu
O4(Q01≦X≦06)が適していることが解る。
(0.1≦X≦o, s), La2-xBaxCu
It can be seen that O4 (Q01≦X≦06) is suitable.

次に、上記材料を複合化した酸化物を基本物質として上
記と同様の方法で白金メッキ、ペースト化及び焼き付は
処理を行い、得られた厚膜の電気抵抗値を測定した結果
、下記の〔表6〕に示すように優れた導電性を確認した
Next, platinum plating, pasting, and baking were performed in the same manner as above using an oxide that is a composite of the above materials as a basic substance, and as a result of measuring the electrical resistance value of the obtained thick film, the following results were obtained. As shown in [Table 6], excellent conductivity was confirmed.

〔表5〕 (実施例4) T O、BaC0、CuO、Bi2’s 、O&CjO
s 。
[Table 5] (Example 4) T O, BaC0, CuO, Bi2's, O & CjO
s.

SrCO,を出発原料として、各々の必要量を秤量し、
エタノール中で12時間混合し、乾燥後。
Using SrCO as a starting material, weigh the required amount of each,
After mixing in ethanol for 12 hours and drying.

sso”cで2時間焼成した後、600℃の酸素中で熱
処理して、よりaffiCu、O,及び81Ca8rC
u20a5の組成を有する粉末を得た。一方、シアン化
金とIEDTム(エチレンジアミンテトラアセテート)
の4N液と塩酸からなるメッキ液を作成し、このメッキ
液に上記粉末とアスコルビン酸ナトリウムとを同時に投
入し、攪拌することによって粉末表面に金メッキを付着
させた。こうして得られた粉末の基体物質と金の重量比
は60 / 40であった。
After firing for 2 hours in sso"c, heat treatment in oxygen at 600°C results in more affiCu, O, and 81Ca8rC.
A powder having a composition of u20a5 was obtained. On the other hand, gold cyanide and IEDTM (ethylenediaminetetraacetate)
A plating solution consisting of a 4N solution and hydrochloric acid was prepared, and the above powder and sodium ascorbate were simultaneously added to the plating solution and stirred to adhere gold plating to the powder surface. The powder thus obtained had a weight ratio of base material to gold of 60/40.

上記金被覆粉末を用いて、実施例1と同様の方法″−よ
り、導体ペーストを作成し、アルミナ基板上二850’
Cの温度で焼き付け、電気抵抗値を測定、た。その結果
、基本物質がYBa、Cu、O,の場合電気抵抗値は8
 X 10−’Ω・1.1casrcu20cL5  
の場合は8X10−’Ω・1であり、優れた導電性を確
認した。
Using the above gold-coated powder, a conductive paste was prepared by the same method as in Example 1, and was placed on an alumina substrate at 850'.
It was baked at a temperature of C and the electrical resistance was measured. As a result, when the basic materials are YBa, Cu, and O, the electrical resistance value is 8.
X 10-'Ω・1.1casrcu20cL5
In this case, the resistance was 8×10-'Ω·1, and excellent conductivity was confirmed.

(実施例6) マグネシウム・ニオブ酸鉛(P b (M g 1/3
 Nb2A)03 )を主成分とする誘電体粉末100
重量部、ポリビニルブチラー/I/樹脂8重量部、ジブ
チルフタレート4重置部、トリクロルエタン40重量部
、酢酸ブチル26重量部を加えて、ボールミル した。こうして得られた誘電体スラリーをリバースロー
μ法にて40μmの厚みにシート成形した。
(Example 6) Magnesium lead niobate (P b (M g 1/3
Dielectric powder 100 whose main component is Nb2A)03)
Parts by weight, 8 parts by weight of polyvinyl butyler/I/resin, 4 parts by weight of dibutyl phthalate, 40 parts by weight of trichloroethane, and 26 parts by weight of butyl acetate were added, followed by ball milling. The dielectric slurry thus obtained was formed into a sheet with a thickness of 40 μm using the reverse throw μ method.

次に,実施例1と同様の方法によシLa,5Sr,5C
oo。
Next, in the same manner as in Example 1, La, 5Sr, 5C
oo.

粒子表面をパラジウムで被覆した粉末( Laas,k
r,scOOsとパラジウムの重量比:so/so)を
作成し。
Powder whose particle surface is coated with palladium (Laas,k
r, scOOs and palladium weight ratio: so/so).

これにエチルセルロースとα−テレピノールヲ加えて三
本ロールで混練して電極ペーストを作成した。この電極
ペーストを上記誘電体シートに所望の寸法に切断して1
100’C2時間にて焼成した。
Ethyl cellulose and α-terepinol were added to this and kneaded with a triple roll to prepare an electrode paste. This electrode paste is cut into desired dimensions on the dielectric sheet.
It was fired at 100'C for 2 hours.

こうして得られた焼結体の電極が露出している側面に,
実施例1と同様の方法で作成したパラジウムで被覆した
La,5Sr,5Coo,( LallL5Sra5C
oo,とパラジウムの重量比ニア0/30)とガラスフ
リット、エチルセルロース、αーテレビノールトからな
る電極ペーストを塗布し,8oO℃で焼き付けた。この
ようにして得られた積層チップコンデンサの静電容量値
は誘電体の誘電率(ε=1’2000)から計算された
設計値とよく一致しており,パラジウム被覆されたL&
,5SrI15Coo,を用いた電極の実用性が確認さ
れた。本実施例以外にも,貴金属被覆をした導電性複合
酸化物粒子がチップ抵抗,チップインダクタ、バリスタ
、圧電素子,さらにはセラミック多層配線基板等の電極
としての実用性があることはいうまでもない。
On the side surface of the sintered body thus obtained where the electrodes are exposed,
Palladium-coated La, 5Sr, 5Coo, (LallL5Sra5C) prepared in the same manner as in Example 1
An electrode paste consisting of glass frit, ethyl cellulose, and α-terebinolt was applied and baked at 80°C. The capacitance value of the multilayer chip capacitor obtained in this way agrees well with the design value calculated from the dielectric constant (ε=1'2000), and the palladium-coated L&
, 5SrI15Coo, was confirmed to be practical. In addition to this example, it goes without saying that conductive composite oxide particles coated with noble metals have practical applications as electrodes for chip resistors, chip inductors, varistors, piezoelectric elements, and even ceramic multilayer wiring boards. .

本発明が対象とする複合酸化物は,いずれも通常は酸素
欠陥を有しているため、酸素の組成については特に規定
されるものではない。また、基体物質の化学的安定性な
いしは電気特性を制御するために、主成分元素以外の金
属元素あるいは陰イオン元素を基体物質に添加してもよ
い。さらに、上記実施例で用いた複合凌化物粉末は、0
.1〜5、0μm の範囲の粒子径を有していたが、粒
子径及び粒子形状について特に規定されることはない。
Since all of the composite oxides targeted by the present invention usually have oxygen vacancies, the composition of oxygen is not particularly defined. Furthermore, in order to control the chemical stability or electrical properties of the base material, metal elements or anionic elements other than the main component elements may be added to the base material. Furthermore, the composite compound powder used in the above example had 0
.. Although the particle size was in the range of 1 to 5.0 μm, the particle size and shape are not particularly defined.

一方,被覆貴金属として上記実施例に加えて無電解メッ
キ被覆が可能な銀・ロジウム・イリジウム・ルテニウム
及びこれらの合金を用いてもよいことはいうまでもない
On the other hand, it goes without saying that in addition to the above embodiments, silver, rhodium, iridium, ruthenium, and alloys thereof, which can be coated by electroless plating, may be used as the noble metal to be coated.

発明の効果 以上のように本発明は,導電性複合酸化物の粒子表面を
活性化処理することなく,直接無電解メッキ液中にて貴
金属被覆した構成の導電性粒子であシ、導電性に優れ,
且つ熱的,化学的安定性に優れた導電性粒子を安国に製
造せしめることができ,実用上の両値は非常に大きいも
のである。
Effects of the Invention As described above, the present invention provides conductive particles coated with a precious metal directly in an electroless plating solution without activating the surface of the particles of a conductive composite oxide. Excellent,
Moreover, conductive particles with excellent thermal and chemical stability can be manufactured in Yasukuni, and both values are extremely large in practical use.

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] (1)導電性複合酸化物の粒子表面を活性化処理するこ
となく、直接無電解メッキ液中にて貴金属被覆したこと
を特徴とする導電性粒子の製造方法。
(1) A method for producing conductive particles, characterized in that the surface of conductive composite oxide particles is directly coated with a noble metal in an electroless plating solution without activation treatment.
(2)導電性複合酸化物がLa_1_−_XSr_XC
oO_3(0.1≦X≦0.8)、Pr_1_−_XS
r_XCoO_3(0.2≦X≦0.8)、Nd_1_
−_XSr_XCoO_3(0.3≦X≦0.7)、L
a_1_−_XBa_XCoO_3(0.1≦X≦0.
6)、Pr_1_−_XBa_XCoO_3(0.2≦
X≦0.6)のうちの1種あるいは2種以上の固溶系の
組成を有することを特徴とする請求項1記載の導電性粒
子の製造方法。
(2) The conductive composite oxide is La_1_-_XSr_XC
oO_3 (0.1≦X≦0.8), Pr_1_-_XS
r_XCoO_3 (0.2≦X≦0.8), Nd_1_
−_XSr_XCoO_3 (0.3≦X≦0.7), L
a_1_-_XBa_XCoO_3 (0.1≦X≦0.
6), Pr_1_−_XBa_XCoO_3 (0.2≦
2. The method for producing conductive particles according to claim 1, wherein the conductive particles have a solid solution composition of one or more of the following: X≦0.6.
(3)導電性複合酸化物がLa_2_−_XSr_XC
uO_4(0.1≦X≦0.5)、La_2_−_XB
a_XCuO_4(0.01≦X≦0.5)のうちの1
種あるいは2種以上の固溶系の組成を有することを特徴
とする請求項1記載の導電性粒子の製造方法。
(3) The conductive composite oxide is La_2_-_XSr_XC
uO_4 (0.1≦X≦0.5), La_2_-_XB
1 of a_XCuO_4 (0.01≦X≦0.5)
2. The method for producing conductive particles according to claim 1, wherein the conductive particles have a solid solution composition of one species or two or more species.
(4)導電性複合酸化物がYBa_2Cu_3O_7系
の組成を有することを特徴とする請求項1記載の導電性
粒子の製造方法。
(4) The method for producing conductive particles according to claim 1, wherein the conductive composite oxide has a YBa_2Cu_3O_7 composition.
(5)導電性複合酸化物がBiCaSrCu_2O_5
_._5系の組成を有することを特徴とする請求項1記
載の導電性粒子の製造方法。
(5) The conductive composite oxide is BiCaSrCu_2O_5
_. The method for producing conductive particles according to claim 1, characterized in that the conductive particles have a composition of _5 series.
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