JPH02214093A - 半導体記憶装置 - Google Patents

半導体記憶装置

Info

Publication number
JPH02214093A
JPH02214093A JP1033664A JP3366489A JPH02214093A JP H02214093 A JPH02214093 A JP H02214093A JP 1033664 A JP1033664 A JP 1033664A JP 3366489 A JP3366489 A JP 3366489A JP H02214093 A JPH02214093 A JP H02214093A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
sense amplifier
line
large number
ground
word
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP1033664A
Other languages
English (en)
Inventor
Atsushi Takasugi
敦 高杉
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Oki Electric Industry Co Ltd
Original Assignee
Oki Electric Industry Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Oki Electric Industry Co Ltd filed Critical Oki Electric Industry Co Ltd
Priority to JP1033664A priority Critical patent/JPH02214093A/ja
Publication of JPH02214093A publication Critical patent/JPH02214093A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Dram (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は、センスアンプによって読み出しが行われるD
RAM (ダイナミック・ランダム・アクセス・メモリ
)を備えた半導体記憶装置に関する。
[従来の技術] 従来、DRAMの周辺回路には、その構成が簡素化され
得ること、高速でプリチャージすることが可能なこと等
を理由として、CMOSトランジスタが用いられる傾向
にある。
この様な、従来技術゛になるDRAMを備えた半導体記
憶装置が、第4図に示されている。すなわち、図にも示
されるように、多数のメモリセルをXY平面上に配置し
た、いわゆるメモリセルアレイ1には、一対のビットラ
インBLI、BLI〜BL   BL  と、ワードラ
インWL1〜WLnn′     n とが格子状にに配列され、上記一対のビットラインBL
、BLは、それぞれ、上記メモリセルアレイ1の右側に
Y軸方向に一列に並んで配列されたセンスアンプ21〜
2nに接続されている。 また、上記ワードラインWL
1〜WLnは、それぞれ、その上端をワードリセット回
路3、〜3nに、その下端をXデコーダ及びワードライ
ンのドライバ回路41〜4nに接続されている。
そして、上記多数のセンスアンプ2、〜2nには、セン
スアンプ立ち上げ用(センスアンプラッチ用)のn型M
OSトランジスタ(p型トランジスタ)T  とn型M
OSトランジスタ(n型トp ランジスタ)T  を介して、それぞれ電源ライ n ンV  とグランドラインGNDに接続する駆動 C 用のライン11  が設けられている。この駆1・  
2 動用ライン1 1 は、丁度多数のセンスアント  2 プ2、〜2nを挾むようにY軸方向に平行に走っている
。上記n型トランジスタTrnはその一方の駆動用ライ
ン11の下端に、上記p型トランジスタT  は他方の
駆動用ライン12の上端に配p 置されている。
この様な半導体記憶装置において、上記のp型トランジ
スタT  及びn型トランジスタTr、。
p を駆動してセンスアンプのラッチ動作を行う場合、これ
らトランジスタT  とT  のドライブ信rp   
  rn 号Pa及びpbを、時間Δtだけずらして入力すること
が行われる。
また、この時のタイミング及び各部の信号波形が第5図
に示されている。ドライブ信号Pbに対してPaを時間
Δtだけ早めるのは、n型トランジスタT  の相互コ
ンダクタンスg が大きく、r n         
               mn型トランジスタT
  を先にオンさせた方が作 n 動が安定するためである。
[発明が解決しようとする課題] しかしながら、第4図及び第5図に示す従来技術になる
DRAMを備えた半導体記憶装置では、メモリアレイ1
の規模が大きくなり、これに伴い、上記センスアンプ2
、〜2nに接続されている駆動ライン11.12の配線
長がY軸方向に長くなれば長くなる程、その配線の寄生
容量による時定数は大きくなる。それに加え、上記ワー
ドラインWL1〜WLnと交差するビットラインB L
 1〜BL  とBL工〜BLnの数も増大していくた
め、ワードラインービットライン寄生容量カップリング
の影響が大きくなる傾向にある。
一方、第5図にも示したように、上記センスアンプをラ
ッチするため、上記p型トランジスタTrp及びn型ト
ランジスタ魯。にドライブ信号Pa及びpbを時間Δt
だけずらして入力した場合、ビットラインBLと百Tの
電位は、それぞれグランド(0)方向と電源レベル(V
oo)に向かうが、その変化、すなわち、両電位の開き
方は非対称になってしまう。第5図<e>はn型トラン
ジスタT  寄り(近端)ビットラインの電位 n 変化を示しているが、ビットラインBLは電源の、ビッ
トラインは百Tはグランドの影響を受けるため、グラン
ド方向には早く引かれるが、電源レベルに向かう速度が
遅くなるため、図のような非対称な開き方をしてしまう
従来の半導体記憶装置においては、ワードラインービッ
トライン寄生容量カップリングの影響は、ワードライン
WLに交差するビットラインBL、BLの数もそれ程大
きくはないことから、例えビットラインBLとπ丁の電
位が非対称に変化しても、特に問題はなかった。
しかしながら、メガビット級のデバイスでは、このワー
ドラインービットライン寄生容量カップリングの影響が
問題となって来る。すなわち、メガビット級のデバイス
では、アクセス時間が数百ナノセカンド(nsec)以
上とそれ程の高速は要求されず、それゆえ、上記駆動ラ
インIt1・ 2の配線長が長くても問題ないなめ、上記メモリセルア
レイ1の規模をY軸方向に増大する傾向にある。
ところがこの場合、第1にトランジスタT  。
 n Trpが駆動ライン11.12の下端、上端にそれぞれ
配設されているために、センスアンプのラッチがライン
11.12の寄生容量時定数の影響を非対称に受けるこ
とと、第2にドライブ信号をずらしていることとの2点
から、これらが相乗的に働(ために、ワードラインービ
ットライン寄生容量によるカップリングノイズの影響が
無視出来なくなる。この結果、上記ビットラインBLと
B「の電位の非対称等を原因としで、センスアンプ2の
ラッチ時に、グランドレベルにあるべき非選択のワード
ラインWLの電位にノイズ(第5図(a))が乗り、こ
れがアクセスしていないメモリセルの記憶情報を破壊し
、作動マージンを悪化させるという欠点を有していた。
そこで、本発明は、上記の従来技術における問題点に鑑
み、大容量化に伴うワードラインービットライン寄生容
量カップリングの影響を除去し、メモリセルアレイの規
模をY軸方向に増大しても回路の作動マージンを悪化さ
せることのない、大容量DRAMに適した半導体記憶装
置を提供することにある。
[課題を解決するための手段] 本発明の目的は、多数のメモリセルを平面上に配置して
成るメモリセルアレイと、上記多数のメモリセルの一対
のビットラインにそれぞれ接続され、上記メモリセルア
レイの多数のワードラインの内の選択されたワードライ
ンの駆動により選択されるメモリセルにストアされた情
報を、増幅して読み出すために配列された多数のセンス
アンプと、上記多数のセンスアンプのラッチを行うため
のセンスアンプ用ラッチ回路とを備えた半導体記憶装置
において、上記センスアンプ用ラッチ回路は、各センス
アンプの電源端子とグランド端子とにそれぞれ共通接続
され、上記センスアンプが配列された方向に延長された
グランド駆動ライン及び電源駆動ラインと、これらの駆
動ラインの各両端にそれぞれ配置接続され、ラッチ信号
により駆動されて各センスアンプを両方向からグランド
および電源に接続するトランジスタとを備え、上記トラ
ンジスタをほぼ同時に駆動するようにしたことを特徴と
する半導体記憶装置によって達成される。
し作  用] すなわち、上記の解決手段によれば、先ず、センスアン
プ用ラッチ回路を構成するトランジスタを、上記センス
アンプが配列された方向に延長されたグランド駆動ライ
ン及び電源駆動ラインの各両端に配置したことにより、
どの位置におけるセンスアンプにおいても、グランドに
至るライン距離と電源に至るライン距離とがほぼ等しく
、従ってグランド接続と電源接続との立ち上げ時の寄生
時定数を等しくすることが出来る。
また、センスアンプをラッチする際、上記センスアンプ
用ラッチ回路を構成する各トランジスタを、はぼ同時に
駆動することにより、各センスアンプに接続された一対
のビットライン上の電位の変化、あるいはその開き方を
対称的にすることが可能になり、もって、ワードライン
ービットライン寄生容量カップリングによるワードライ
ンノイズを相殺し、非選択ワードラインの電位を安定さ
せ、非選択メモリセルへの誤書込みあるいは保持電荷の
リークを防止する。
[実 施 例] 以下、本発明の実施例について、添付の図面を参照しな
がら説明する。
先ず、第1図には、本発明の実施例になる半導体記憶装
置の回路図が示されている。このDRAMのメモリセル
アレイ10の周辺回路部は、理解を容易にするため、簡
素化して示しである。
すなわち、多数のメモリセルをXY平面上に配置したメ
モリセルアレイ10には、それぞれ一対のビットライン
BLt、BL1〜BLn、BLnと、ワードラインWL
1〜WLoとが格子状に直交して配列されている。
このメモリセルアレイ10の底辺部には、Xデコーダと
ワードラインWL1〜WLnをドライブするためのドラ
イバ回路40□〜40oが多数側設けられ、上記ワード
ラインノイズ〜WLnの下端に接続されている。
また、これとは反対側の、すなわち上記ワードラインW
L1〜WLnの上端は、メモリ動作していない時は上記
ワードラインWLをリセット状態に保って置くためのワ
ードリセット回路301〜30nが、それぞれ接続され
ている。これらのことは上記従来技術になる半導体記憶
装置と同様である。
さらに、上記各一対の相補ビットラインBLとBLは、
それぞれ、上記メモリセルアレイ10の右側に、図中Y
軸方向に一列に並んで配列されたセンスアンプ201〜
20nに接続されている。
また、上記メモリセルアレイ10の各メモリセルは、第
2図の一部拡大図にも示されるように、上記一対の相補
ビットラインBL、B王と、メモリ容JLCMと、この
メモリ容量に接続されるトランスファーゲートT  と
から構成されている。
 m そして、この図からも明らかなように、各メモリセルで
は、上記ワードラインWLと上記一対のビットラインB
L、BLとは、お互いに交差することから、その間には
、必然的に、寄生のカップリング容量C6,coが形成
されてしまう。
ここで再度第1図に戻る。上記に説明した各メモリセル
は、上記一対のビットラインBL、BLと、上記センス
アンプ201〜20nのそれぞれと共に、いわゆるコラ
ム回路単位E1〜Enを構成し、Y軸方向に多数個並ん
でメモリセルアレイ10を構成している。
一方、上記多数のセンスアンプ20、〜20nには、そ
の左側に駆動ラインl工が、その右側には駆動ライン1
゜がそれぞれ接続されている。そして、上記駆動ライン
線l工は、図中Y軸方向に上下に伸ばされ、その下端を
センスアンプラッチ用n型トランジスタT   を介し
てゲランドラnl インGNDに接続されると共に、その上端も、上記と同
様、センスアンプラッチ用n型I・ランジスタT   
を介してグランドラインGNDに接続n2 されている、さらに、上記駆動ラインI2も、図中Y軸
方向に上下に伸ばされ、その下端をセンスアンプラッチ
用p型トランジスタT   を介しpl て電源ラインV。0に接続されると共に、その上端も、
同様に、センスアンプラッチ用p型トランジスタT  
 を介して電源ラインV  に接続rp2      
      cc されている。すなわち、駆動ライン11  に1・  
2 接続される一対のトランジスタTrnよ、Trn)2及
びTrpl、Trp2は、−列に並ぶセンスアンプのう
ちの真中のセンスアンプに接続されるビットラインBL
、BLに対して幾何学的に対称に配置される。
そして、上記センスアンプラッチ用n型トランジスタT
   及びT   はう゛ツチ信号Pa1rnl   
   rn2 及びPa2により駆動され、一方、上記センスアンプラ
ッチ用p型トランジスタT   及びTrp1 2゜はラッチ信号Pbl及びPb2により駆動されるよ
うに構成されている。
このように、本実施例によれば、上記センスアンプラッ
チ用n型トランジスタTr11、Trn2及びセンスア
ンプラッチ用p型トランジスタTrp□、 rp2を、
グランドラインGND及び電源ラインV。0に接続する
ため、上記メモリセルアレイ10上、上記センスアンプ
201〜20□が配列されたY軸方向に延長された駆動
ライン11.12の両端に配置している。このことによ
り、上記センスアンプ20のどの位置においても、Vc
cラインとGNDラインについて、上記駆動ライン11
.12の配線容量に伴う配線寄生時定数を等しくするこ
とが出来る。この様に、Vcc及びGNDから上記駆動
ライン11,12を介して立ち上げられるセンスアンプ
までの寄生時定数を等しくすることにより、上記センス
アンプラッチ用トランジスタTrn工、Trn2、” 
r p 2、Trp□を駆動する際、上記一対のビット
ラインBL、BL上に現れる電位の変化、すなわちその
開き方を対称にすることが可能になる。そして、上記一
対のビットラインBL、BL上に現れる電位の開き方を
対称にすることにより、ワードラインービットライン寄
生容量カップリングによるワードラインノイズを相殺し
、もって、非選択ワードラインの電位を安定させ、非選
択メモリセルへの誤書込みあるいは保持電荷のリークを
防止することが可能となる。
次に、以上に詳細に説明した本発明になる半導体記憶装
置の回路動作及びタイミングについて、以下に、第3図
を参照しながら説明する。
第3図中の横軸に示す時間tを追って説明すると、まず
、時刻toにおいて、上記ドライバ回路401〜40n
のXデコーダにより、ワードラインWL1〜WLnの中
から所望のワードラインWLが選択され、第3図(b)
に示すように、この1本のワードラインWLの電位が立
ち上がる。この時、一対のビットラインBLとBLには
、メモリセルの情報が転送され、メモリ容量CM(第2
図)に蓄えられた微少電位Δ■が発生する。その後、時
刻t1において、上記センスアンプラッチ用n型トラン
ジスタT   及びT   を駆動rnl    rn
2 するためのラッチ信号P  及びPa2が、第3図(c
)に示すように、” L o w”レベルから“Hig
h”°レベルに変化し、これに伴い、上記センスアンプ
ラッチ用n型トランジスタTrnよ及びT   がオン
状態となる。これとほぼ同時n2 に、もう一方のラッチ信号P  及びPb2は、第3図
(d)に示すように、“Hfgh’”レベルから’Lo
w”レベルに変化し、これに伴い、上記センスアンプラ
ッチ用p型トランジスタTrp、及びT   もオン状
態となる。
p2 そして、これらのセンスアンプラッチ用トランジスタT
TT rnl・ rn2□  rpl・Trp2がオン状態と
なった時の、上記一対のビットラインBLとBLの電位
の変化状態が、第3図(e)及び(f)に、それぞれ示
されている。これら第3図(e)及び(f)に示した2
種類の信号波形は、第1図の半導体記憶装置の回路図に
おいて、そのドライバ回路40、〜40oが設けられた
底辺部を近端とし、上記ワードリセット回路30、〜3
0 が設けられた上辺部を遠端とし、そして、これら近
端と遠端との中央部を中間とした場合、上記近端及び遠
端における上記一対のビットラインBLとBLの電位の
変化状態を第3図(e)に、そして、上記中間における
上記一対のビットラインBLとBLの電位の変化状態を
第3図(f)に示したものである。
そして、これら一対のビットラインBLとBLの電位は
、近端及び遠端では時刻t2において開ききるのに対し
、上記中間のビットラインBLとBLでは、配線l 及
び12の寄生時定数のため、さらに遅い時刻の七3にお
いて開ききる。この様に、一対のビットラインBLとB
Lの電位は、その位置によって、その電位の変化状況、
すなわち開ききるまでの時間を異にするが、しかしなが
ら、上記第3図(e)及び(f)に示す波形からも明ら
かなように、その開き方は、グランド側へ向かう電位及
び電源電圧■。0側へ向かう電位ともに対称的に変化す
る。従って、メモリセルアレイ10のビットラインBL
とBL及びワードラインWLどの間に存在する上記寄生
カップリング容量C0(第2図)により、上記ワードラ
イン方向上にカップリングノイズが発生しても、上記ビ
ットラインBLとBLの電位の対称性により相殺される
即ち、非選択ワードラインWLは、第3図(a)に示す
ように、その電位は立ち上がらず、安定するため、非選
択メモリセルへの誤書込みあるいは保持電荷のリークを
防止することが出来る。
なお、上記実施例では各駆動ラインの両端にトランジス
タを配設するようにしたが、さらに各駆動ラインの中間
に設けるようにしても良い。このようにすることにより
、遅れがちな中間部のセンスアンプのラッチ時間を短く
することができ、記憶装置全体としてアクセス時間の高
速化が計れる。
[発明の効果] 以上の説明からも明らかなように、本発明によれば、メ
ガビット級の大容量デバイス等においてメモリセルアレ
イの規模をワードライン方向に増大し、これに伴って、
ワードラインービットライン寄生容量カップリングが増
大し、さらに、駆動ラインの配線長が長くなっても、こ
のワードラインービットライン寄生容量によるカップリ
ングノイズの影響を無視することが出来、その結果、セ
ンスアンプのラッチ時等における非選択ワードラインW
Lの電位へのノイズの重畳、さらには非アクセスメモリ
セルの記憶情報の破壊がなく、回路の作動マージンを悪
化させることのない優れた効果を発揮する。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の実施例である半導体記憶装置の回路図
、第2図は上記第1図に点線丸印で示す半導体記憶装置
の一部拡大図、第3図は上記第1図に示す半導体記憶装
置の各部の動作を説明するための動作波形図、第4図は
従来技術になる半導体記憶装置を説明するための回路図
、そして、第5図は上記第4図の従来技術になる半導体
記憶装置の動作を説明するための動作波形図である。 10・・・メモリセルアレイ 201〜20n・・・セ
ンスアンプ 301〜30o・・・ワードリセット回路
 401〜40n・・・ドライバ回路 B L 1〜B
Ln、BL1〜BLnビットライン WL1〜WL ・
・・ワードライン l工・・・グランド駆動ライン、■
 ・・・電源駆動ライン Trnl、Trn2・・・セ
ンスアンプラッチ用n型[・ランジスタ Trpl、T
   ・・・センスアンプラッチ用p型トランジスp2 タ Pa1〜Pa2・Pb1、Pb2°°°うゞノチ信
号 10:メモリ七ル7レイ

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 多数のメモリセルを平面上に配置して成るメモリセルア
    レイと、上記多数のメモリセルの一対のビットラインに
    それぞれ接続され、上記メモリセルアレイの多数のワー
    ドラインの内の選択されたワードラインの駆動により選
    択されるメモリセルにストアされた情報を、増幅して読
    み出すために配列された多数のセンスアンプと、上記多
    数のセンスアンプのラッチを行うためのセンスアンプ用
    ラッチ回路とを備えた半導体記憶装置において、上記セ
    ンスアンプ用ラッチ回路は、 各センスアンプの電源端子とグランド端子とにそれぞれ
    共通接続され、上記センスアンプが配列された方向に延
    長されたグランド駆動ライン及び電源駆動ラインと、 これらの駆動ラインの各両端にそれぞれ接続され、ラッ
    チ信号により駆動されて各センスアンプを両方向からグ
    ランドおよび電源に接続するトランジスタとを備え、 上記トランジスタをほぼ同時に駆動するようにした ことを特徴とする半導体記憶装置。
JP1033664A 1989-02-15 1989-02-15 半導体記憶装置 Pending JPH02214093A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP1033664A JPH02214093A (ja) 1989-02-15 1989-02-15 半導体記憶装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP1033664A JPH02214093A (ja) 1989-02-15 1989-02-15 半導体記憶装置

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH02214093A true JPH02214093A (ja) 1990-08-27

Family

ID=12392725

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP1033664A Pending JPH02214093A (ja) 1989-02-15 1989-02-15 半導体記憶装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH02214093A (ja)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH06195964A (ja) * 1992-10-01 1994-07-15 Nec Corp 半導体メモリ
JP2019518250A (ja) * 2016-08-15 2019-06-27 京東方科技集團股▲ふん▼有限公司Boe Technology Group Co.,Ltd. テクスチャ認識表示装置および駆動方法

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH06195964A (ja) * 1992-10-01 1994-07-15 Nec Corp 半導体メモリ
JP2019518250A (ja) * 2016-08-15 2019-06-27 京東方科技集團股▲ふん▼有限公司Boe Technology Group Co.,Ltd. テクスチャ認識表示装置および駆動方法

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2001053167A (ja) 半導体記憶装置
JPS60242592A (ja) 金属酸化膜半導体ダイナミック・ランダム アクセス・メモリ
JP2000022010A (ja) 半導体記憶装置
JP2001053164A (ja) 半導体記憶装置
US4791616A (en) Semiconductor memory device
US9177619B2 (en) Semiconductor device having hierarchical bit line structure
KR100702355B1 (ko) 은닉 리프레시를 지원하는 듀얼 포트 셀을 구비한 반도체메모리
JPH03272171A (ja) 半導体記憶装置
US5323345A (en) Semiconductor memory device having read/write circuitry
KR19990045386A (ko) 메모리 셀 중 캐패시터에 축적된 전하를 판독하는반도체 기억 장치 및 그 데이터 판독 방법
JP2001093989A (ja) 半導体装置
JPS6145316B2 (ja)
US8077494B2 (en) Ferroelectric memory with sub bit-lines connected to each other and to fixed potentials
JP2599833B2 (ja) 低雑音特性をもつダイナミックram
US5666306A (en) Multiplication of storage capacitance in memory cells by using the Miller effect
US7733681B2 (en) Ferroelectric memory with amplification between sub bit-line and main bit-line
JPH0421277B2 (ja)
JPH02214093A (ja) 半導体記憶装置
US5995410A (en) Multiplication of storage capacitance in memory cells by using the Miller effect
KR920001331B1 (ko) 반도체기억장치
KR100326236B1 (ko) 모스/바이폴라복합트랜지스터를이용한반도체메모리장치의감지증폭기
US20050052914A1 (en) Semiconductor memory device
JPH06176572A (ja) 半導体記憶装置
JPS5935114B2 (ja) 増巾回路
JPH0510756B2 (ja)