JPH02209731A - スピンナー装置 - Google Patents
スピンナー装置Info
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- JPH02209731A JPH02209731A JP3045689A JP3045689A JPH02209731A JP H02209731 A JPH02209731 A JP H02209731A JP 3045689 A JP3045689 A JP 3045689A JP 3045689 A JP3045689 A JP 3045689A JP H02209731 A JPH02209731 A JP H02209731A
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- JP
- Japan
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- substrate
- holding claws
- weights
- holding
- rotation
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- Pending
Links
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Landscapes
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
［産業上の利用分野コ
本発明は、半導体工業等におけるガラス基板。
シリコンウェハー等に薬品の塗布、エッチング、洗浄等
を行なうスピンナー装置の構造に関する。
を行なうスピンナー装置の構造に関する。
［発明が解決しようとする課Ｍ］
従来の方式によれば、基板裏面への薬品の残留及゛び、
基板とチャックとの中心位置のズレによる装置自体の振
動、塗布品質の低下等が見られる。
基板とチャックとの中心位置のズレによる装置自体の振
動、塗布品質の低下等が見られる。
［課題を解決するための手段］
本発明は前記問題点を解決する為に基板の保持、機構に
回転錘を用いた自動調心機構を採用し、かつ基板裏面非
接触とすることにより、薬品の残留を防止した。
回転錘を用いた自動調心機構を採用し、かつ基板裏面非
接触とすることにより、薬品の残留を防止した。
［実施例］
第１図に本発明の方式を用いたウェハースピンナー基板
保持部の断面図を示す。
保持部の断面図を示す。
図中５で示される基板保持爪上に基板１を置いた後、基
板保持具を中心軸２により回転させる事により重錘６が
その回転中心軸４を中心として遠心力により外方に移動
し、基板保持爪５が起立し基板を強固に保持する。
板保持具を中心軸２により回転させる事により重錘６が
その回転中心軸４を中心として遠心力により外方に移動
し、基板保持爪５が起立し基板を強固に保持する。
基板が仮に回転中心よりズした位置に置かれた場合、若
しくは基板外形に大小が生じていた場合においては、左
右各々の基板保持爪の起立角度に差が生じており、左右
各重錘の回転中心軸回りの回転角度の差が基板保持爪の
曲げモーメント力の違いとして現れ、その結果、基板の
自動中心出しを行なう。
しくは基板外形に大小が生じていた場合においては、左
右各々の基板保持爪の起立角度に差が生じており、左右
各重錘の回転中心軸回りの回転角度の差が基板保持爪の
曲げモーメント力の違いとして現れ、その結果、基板の
自動中心出しを行なう。
［発明の効果］
前記実施例の装置を用いて行った結果によれば基板の裏
面洗浄も効果的に行われ薬品の残留汚染もなく、基板寸
法のバラツキも吸収でき安定的に処理を行うことが出来
た。本実施例においては半導体装置製造に使用されるマ
スクブランクスの処理に使用されたが、他にシリコン基
板、液晶表示用ガラス基板等応用範囲は非常に広いもの
がある
面洗浄も効果的に行われ薬品の残留汚染もなく、基板寸
法のバラツキも吸収でき安定的に処理を行うことが出来
た。本実施例においては半導体装置製造に使用されるマ
スクブランクスの処理に使用されたが、他にシリコン基
板、液晶表示用ガラス基板等応用範囲は非常に広いもの
がある
第１図は、本発明の実施例による基板保持部の断面図。
第２図は、角型ガラス基板用スピンナーの基板保持具の
断面図。 第６図は、ウェハー真空チャックを示す図。 １・・・・・・・、・・基 板 ２・・・・・・・・・回転軸 ３・・・・・・・・・回転重錘 ４・・・・・・・・・重錘回転軸 ５・・・・・・・・・基板保持爪 ０・・・・・・・・・基 板 ０・・・・・・・・・段差付基板保持部１・・・・・・
・・・ステージ ０・・・・・・・・・真空穴部 以上 某 ／Ｉ’Ｍ
断面図。 第６図は、ウェハー真空チャックを示す図。 １・・・・・・・、・・基 板 ２・・・・・・・・・回転軸 ３・・・・・・・・・回転重錘 ４・・・・・・・・・重錘回転軸 ５・・・・・・・・・基板保持爪 ０・・・・・・・・・基 板 ０・・・・・・・・・段差付基板保持部１・・・・・・
・・・ステージ ０・・・・・・・・・真空穴部 以上 某 ／Ｉ’Ｍ
Claims (1)
- ガラス基板、シリコンウェハー等を保持し、回転するこ
とによって、薬品の塗布、エッチング、洗浄等を均一性
良く行なうスピンナー装置に、おいて基板の保持部に回
転錘を設け、スピンナーの回転に伴う遠心力によって、
基板を保持する構造を有することを特徴とするスピンナ
ー装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3045689A JPH02209731A (ja) | 1989-02-09 | 1989-02-09 | スピンナー装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3045689A JPH02209731A (ja) | 1989-02-09 | 1989-02-09 | スピンナー装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02209731A true JPH02209731A (ja) | 1990-08-21 |
Family
ID=12304406
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3045689A Pending JPH02209731A (ja) | 1989-02-09 | 1989-02-09 | スピンナー装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH02209731A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01161365U (ja) * | 1988-04-26 | 1989-11-09 | ||
| JPH02278713A (ja) * | 1989-04-19 | 1990-11-15 | Tokyo Electron Ltd | レジスト処理装置 |
| JPH0613136U (ja) * | 1992-07-23 | 1994-02-18 | 森尾電機株式会社 | 半導体製造装置に於ける半導体ウエハー保持機構 |
| KR100340154B1 (ko) * | 1999-12-06 | 2002-06-10 | 김광교 | 웨이퍼를 스피닝하기 위한 웨이퍼 척 |
-
1989
- 1989-02-09 JP JP3045689A patent/JPH02209731A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01161365U (ja) * | 1988-04-26 | 1989-11-09 | ||
| JPH02278713A (ja) * | 1989-04-19 | 1990-11-15 | Tokyo Electron Ltd | レジスト処理装置 |
| JPH0613136U (ja) * | 1992-07-23 | 1994-02-18 | 森尾電機株式会社 | 半導体製造装置に於ける半導体ウエハー保持機構 |
| KR100340154B1 (ko) * | 1999-12-06 | 2002-06-10 | 김광교 | 웨이퍼를 스피닝하기 위한 웨이퍼 척 |
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