JPH02208227A - 低嵩密度の四三酸化コバルトの製造方法 - Google Patents

低嵩密度の四三酸化コバルトの製造方法

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JPH02208227A
JPH02208227A JP2756489A JP2756489A JPH02208227A JP H02208227 A JPH02208227 A JP H02208227A JP 2756489 A JP2756489 A JP 2756489A JP 2756489 A JP2756489 A JP 2756489A JP H02208227 A JPH02208227 A JP H02208227A
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JP
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cobalt
oxalate
bulk density
precipitate
slurry
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JP2756489A
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Eiji Funatsu
英司 船津
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Sumitomo Metal Mining Co Ltd
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Sumitomo Metal Mining Co Ltd
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    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C01INORGANIC CHEMISTRY
    • C01GCOMPOUNDS CONTAINING METALS NOT COVERED BY SUBCLASSES C01D OR C01F
    • C01G51/00Compounds of cobalt
    • C01G51/04Oxides; Hydroxides

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  • Organic Chemistry (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • Inorganic Compounds Of Heavy Metals (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野コ 本発明は嵩密度が0.5 g/cm”以下の四三酸化コ
バルトの製造方法に関する。
[従来の技術] 従来より、四三酸化コバルトは、顔料や化学工業用触媒
やバリスタ等に使用されているが、近年の省資源化の流
れと共に嵩密度の小さい四三酸化コバルトが要求される
に至っている。従来より、四三酸化コバルトは二価のコ
バルト塩水溶液にほぼ当量の苛性ソーダ等の苛性アルカ
リを添加して水酸化コバルトを沈殿させ、あるいは、炭
酸ソーダ等の炭酸アルカリを添加して塩基性炭酸コバル
トを沈殿させ、得た沈殿を洗浄したのちに脱水し、乾燥
し、焼成することにより製造されているが、これら従来
法では上記要求を満たす嵩密度の小さい四三酸化コバル
トを得ることができない。
[発明が解決しようとする課題] 即ち、従来方法では凝集性の高い水酸化コバル1−や塩
基性炭酸コバル)・を中間体として得、この中間体をば
い焼するために、得られた四三酸化コバルトは塊砕性も
悪く、嵩密度の大きいものとならざるを得ない。
本発明の目的は上記要求を満足させる嵩密度が0.5 
g/cm3以下の四三酸化コバルトの製造方法の提供に
ある。
[課題を解決するための手段] 上記課題を解決するための本発明の第1の発明は、二価
のコバルトイオンを200 g/l以下の濃度で含む溶
液を室温以下に維持しつつ、該溶液と、該溶液に含まれ
る二価のコバルトイオンに対して当量以上のシュウ酸、
又はシュウ酸アンモニウムとを速やかに混合し、次いで
少なくとも30分以上攪はんを継続し、沈殿を得、得た
沈殿を洗浄してシュウ酸コバルトを得る第1工程と、第
1工程で得たシュウ酸コバルトを空気中等、酸素共存下
300〜500℃の温度でばい焼する第2工程とからな
る低嵩密度の四三酸化コバルトの製造方法であり、第2
の発明は二価のコバルトを200 g/l以下の濃度で
含む二価のコバルト複塩スラリーを室温以下に維持しつ
つ、該スラリーと、該スラリー中の二価のコバルトに対
して当量以上のシュウ酸、又はシュウ酸アンモニウムと
を速やかに混合し、次いて30分以上攪はんして沈殿を
得、得た沈殿を洗浄してシュウ酸コバルト得る第1工程
と前記第1の発明の第2工程とからなる低嵩密度の四三
酸化コバルトの製造方法であり、第3の発明は二価のコ
バルトイオンを200 g/l以下の濃度で含む溶液に
、攪はんしつつ当量以上の重炭酸ソーダを添加してスラ
リーを得、該スラリーと、該スラリー中のコバルトに対
して当量以上のシュウ酸、又はシュウ酸アンモニウムと
を速やかに混合し、次いで30分以上攪はんして沈殿を
得、得た沈殿を洗浄してシュウ酸コバルト得る第1工程
と前記第1の発明の第2工程とからなる低嵩密度の四三
酸化コバルI〜の製造方法である。
[作用] 一般に粒子の粒径が小さくなるに従い嵩密度は低下する
ことが知られている。しかし、四三酸1ヒコバルト粉の
場合に粒径と嵩密度との関係を明確に示したものはない
。また、嵩密度は粒子の粒径のみでなく、粒形および粒
子間の相互作用にも影響されることもよく知られている
が、特に本発明のようにシュウ酸コバルトを酸化分解し
て得な四三酸化コバルトの場合には形骸粒子等の影響も
あり、嵩密度と粒径との関係は不明瞭であり、シュウ酸
コバルトの粒径と得られる四三酸化コバルトの粒径と四
三酸化コバルトの嵩密度との関係は必ずしも一般論と一
致しているとは言えないとされている。よって、本発明
において嵩密度と粒径との関係を議論することは現段階
では有効ではないと判断している。
まず、第1の発明について説明する。
本発明の第1の発明において二価のコバルトイオンを含
む溶液として使用できるものは、硝酸コバルト、硫酸コ
バルト、塩化コバル1〜、酢酸コバルト等の可溶性コバ
ルト塩を水に溶解して得た溶液であるが、金属コバルト
を鉱酸等て溶解して得た二価のコバルト溶液や炭酸コバ
ルトや水酸化コバル1−等の酸可溶性コバルト塩類を鉱
酸等で溶解して得た溶液のpHを1〜3に調整して用い
ることも可能である。本箱1の発明の第1工程において
、用いる二価のコバルト溶液のコバルト濃度をあまりに
高くすると得られる四三酸化コバルトの嵩密度が0.5
 g/cm3を越えるため、コバルト濃度は200 g
/l以下とする必要がある。コバルト濃度を低くしても
得られる四三酸化コバル1−の嵩密度は0.5 g7c
m”を越えることはないが、あまりに低くすると生産性
が悪化するなめに10g/1以上とすることが望ましい
反応温度が上昇すると得られる四三酸化コバルトの嵩密
度は0.5 g/cm3を越えるため反応中の温度を室
温以下に維持することが必要であり、好ましくは25℃
以下にすることが望ましい。また、冷却しすぎても得ら
れる四三酸化コバル)〜の嵩密度は0.5 g/cm”
を越えることはないか、冷却するための装置の大型化や
経費の増加をきたすため0℃以上とすることが望ましい
本発明の方法の条件下においては、コバル)〜はシュウ
酸イオンと定量的に反応しシュウ酸塩を生成する。よっ
て、コバルト溶液に加えるシュウ酸イオンの量は溶液中
に含有されるコバルトの量の当量以上であれば良い。ま
た、シュウ酸イオン源として使用できるものとしてシュ
ウ酸やシュウ酸アンモニウムがあり、これらを混合して
使用することも可能である。シュウ酸やシュウ酸アンモ
ニウムは固体のまま添加しても良く、水溶液としたグ)
ち添加しても良いが、ゆっくりと添加すると4“4られ
る四三酸化コバルトの嵩密度が大きくなりずぎるため、
攪はんしつつ速やかに添加する必要がある。
反応を完結させるためにはシュウ酸やシュウ酸アンモニ
ウムの添加が終了したのち、少なくとも3Q min以
上攬はんを継続することが必要である。
これを怠ると、得られるシュウ酸コバルト中に未反応の
シュウ酸やシュウ酸アンモニウムが混入し収率を低下さ
ぜるばかりでなく、得られる四三酸化コバルトの嵩密度
を上昇させることになる。
得られたシュウ酸コバル1〜沈殿中には液中に共存する
各種イオンを不純物として含み、これをそのままばい焼
すると、得られる四三酸化コバル)・中の不純物が上昇
するばかりでなく、分散性も悪化し、ばい焼しても嵩密
度の低いものが得られない。そのため、純水を用いて洗
浄する必要がある。
なお、洗浄方法については特にこだわらない。
第2工程は、上記第1工程で得られたシュウ酸コバルト
を300〜500℃でばい焼するが、通常ぽい焼に際し
て予備乾燥する必要はない。ましてや、乾燥帯を設けた
ばい焼炉を使用する場合には第1工程で得られたシュウ
酸コバル1〜を乾燥する必要性はなんらない。しかし、
シュウ酸コバルトをルツボやトレイに入れマツフル炉等
を用いてばい焼する際に、水の蒸発により突沸現象を生
しシュウ酸コバルトの飛散が生ずるような場合には、事
前に乾燥しておくことが望ましいが1、乾燥は時として
シュウ酸コバルト粒子の凝集を助長することもあるので
、できるだけ低温て穏やかに乾燥することが望ましい。
ばい焼温度はあまりに高いと四三酸化コバル1〜が焼結
し、嵩密度が高くなり、ばい焼温度があまりに低いとシ
ュウ酸コバルトが残存する恐れがある。よって、ばい焼
温度はシュウ酸コバルトが完全に分解し、かつばい焼に
より生成した四三酸化コバルトの焼結が生じない300
〜500℃とすることが必要であり、好ましくは350
〜450℃とすることが望ましい。また、ばい焼は通気
ぽい焼が好ましく、純酸素を流しながらばい焼する場合
には、ばい焼温度を低めに調節したり、純酸素の流量を
調節したりすることによりコバルト酸化物の焼結を防止
しすることが望ましい。
ばい焼時間は用いる炉や雰囲気、あるいは温度により異
なるため特定できないが、例えば、マツフル炉を用いて
350〜450℃で、シュウ酸コバルトを厚さ50 m
m程度の層としてトレイに入れて通気ぽい焼する場合に
は2〜4時間のばい焼時間が必要とされる。
なお、本第2の工程に使用することのできるばい焼炉は
特に限定されるものではないことは言うまでもない。
次に第2の発明について説明する。
本発明の第2の発明の第1工程において使用できる二価
のコバルト複塩は水に難溶性である塩基性炭酸コバルト
や塩基性硫酸コバル)・等である。
本工程は難溶性塩と液中のシュウ酸イオンとの固液反応
であり、通常、本第1の発明と比較して時間もかかり、
かつ低嵩密度の四三酸化コバルトも生成しにくいと考え
られるが、実際にはシュウ酸化の反応速度は早く、かつ
定量的に進行するために固液反応としての不利は特に見
られない。
本方法において、適用できるスラリー濃度は、コバルト
量として200 g/l以下の濃度となる範囲である。
この理由は、コバルト濃度を200 g/1以上とする
と得られる四三酸化コバルトの嵩密度が0.5 g/a
m”を越えるためである。また、コバルト濃度を低くし
ても得られる四三酸化コバルI〜の嵩密度は0.5 g
/c+n3を越えることはないが、あまりに低くすると
生産性が悪1ヒするために10g/1以上とすることが
望ましい。
本工程において、必要とされるシュウ酸イオンはスラリ
ー中に存在するコバルト量と当量以上であれば良く、か
つ、嵩密度が 0.5 g、7cm3以下の四三酸化コ
バルトを得るためにはシュウ酸イオン源の添加を速やか
にすると共に反応温度も室温以下にすることが必要であ
り、前記説明と同じ理由で0〜25℃とすることが望ま
しい。また、シュウ酸イオン源として使用できるものは
シュウ酸やシュウ酸アンモニウl\であり、これらを混
合して用いることも可能である。反応を完結さぜるなめ
にはシュウ酸やシュウ酸アンモニウムの添加が終了した
のち、少なくとも30分以上攪はんを継続することが必
要である。これを怠ると、得られるシュウ酸コバルト中
に未反応のシュウ酸やシュウ酸アンモニウムや原f)と
して用いた塩基性炭酸コバルトや塩基性硫酸コバルト等
が混入し、第2工程で如何なる条件を選択しても、得ら
れる四三酸化コバルトの嵩密度を0.5 g/cm”以
下にすることができない。
得られたシュウ酸コバルト沈殿は洗浄した後、前記第1
の発明の第2工程に従ってばい焼される。
次に第3の発明について説明する。
本第3の発明の第1工程は二価のコバルトイオンを含む
溶液に重炭酸ソーダを添加し、塩基性炭酸コバルトを作
成し、これにシュウ酸イオンを反応させることによりシ
ュウ酸コバルトを作成するものであり、重炭酸ソーダと
コバルトイオンとの吸熱反応による液温の低下を利用す
ることにより冷却手段を不用にすることを目的とするも
のである。
ここにおいて、二価のコバルトイオンを含む溶液として
使用できるものは、本第1の発明と同様に硝酸コバルト
、硫酸コバルト、塩化コバルト、酢酸コバルト等の可溶
性コバルト塩を溶解して得た溶液であるが、金属コバル
トを鉱酸等で溶解して得た二価のコバルト溶液や炭酸コ
バルI・や水酸化コバルト等の酸可溶性コバルト塩類を
鉱酸等で溶解して得た溶液のl) Hを1〜3に調整し
て用いることも可能である。
本工程を適用できる溶液のコバルト濃度は200g/l
以下であり、この理由はコバルト濃度を2 rX’1g
/1X上1gると得られる四三酸化コバルトの嵩密度が
0.5 g/cm3を越えるためである。また、コバル
ト濃度を低くしても得られる四三酸化コバルトの嵩密度
は0.5 g/cm”を越えることはないが、あまりに
低くすると生産性が悪化するために10 g/1以上と
することが望ましい。
本工程において、二価のコバルトイオンと重炭酸ソーダ
との反応は定量的、かつ迅速であるので二価のコバルト
イオン溶液に添加すべき重炭酸ソーダの量は溶液中に存
在するコバルトイオンと当量以上であれば良いが、吸熱
反応を有効に利用するためにはあまり過剰の重炭酸ソー
ダの使用は好ましくない。
塩基性炭酸コバルトとシュウ酸イオンとの反応は、前記
したように早く、かつ定量的に進行するために必要とさ
れるシュウ酸イオンはスラリー中に存在するコバルlへ
iと当量以上てあれば良い。
本工程ては、原料として高温の二価のコバルトイオン溶
液を用いない限り、コバルトイオンと重炭酸ソーダとの
吸熱反応により第1工程での反応温度は常に室温以下に
保たれるために何の冷却手段も必要とされない。
本工程においてシュウ酸イオン源として使用できるもの
はシュウ酸やシュウ酸アンモニウムであり、これらを混
合して用いることも可能である。
反応を完結させるためにはシュウ酸やシュウ酸アンモニ
ウムの添加が終了したのち、少なくとも30分以−り攪
はんを継続することが必要である。これを怠ると、得ら
れるシュウ酸コバルト中に末文応のシュウ酸やシュウ酸
アンモニウムや中間物である塩基性炭酸コバル1〜が混
入し、第2工程て加面なる条件を選択しても、得られる
四三酸化コハル)・の嵩密度を0.5 g/cm3以下
にすることができない。
得られたシュウ酸コバルト沈殿は洗浄後前記第1の発明
の第2工程に従ってばい焼される。なお、洗浄方法につ
いては特にこだわらないことは第1の発明と同様である
[実施例−1] 塩化コバルト・六水和’l!!I 344 g (Co
” = 1.45mol)を 11の純水に溶解した。
シュウ酸アンモニウム・−水和物210 g (C20
4”−−1,48mol)を51の純水に溶解した。t
o lの容器に500 mlの純水を入れ、純水を攪は
んしつつ、液の温度を5℃に保ちながら、ローラーポン
プを用いて上記コバルト溶液とシュウ酸アンモニウム溶
液とを夫々 18.90 ml/minの割合で送液し
、送液終了f& 3時間攪はんして沈殿を発生させた。
このスラリーを固液分離し、663gの沈殿を得た。得
た沈殿に21の純水を加え、室温で30分間攪はんし、
その後固液分離した。この洗浄操作を、洗浄廃液のpH
が5以上になるまで5回繰返した。
その後、沈殿を温風循環式の乾燥器を用いて、温風の温
度を60℃として乾燥して208gのシュウ酸コバルト
を得た。次いで、このシュウ酸コバルトを400℃で2
時間通気ぽい焼し1.10gの四三酸化コバルトを得た
。この四三酸化コバルトの嵩密度は0.40 g/cm
”であった。
[実施例−2コ 塩化コバルト・六水和物344 g (Co” = 1
.45mol)を 11の純水に溶解し、液温を5℃に
保ちながら、攪はんしつつシュウ酸・三水和物190 
g (C204’−−1,51mol)を−度に加え、
2時間攪はんして沈殿を発生させた。このスラリーを固
液分離し、660gの沈殿を得た。得た沈殿に21の純
水を加え、室温で30分間攪はんし、その後置液分離し
な。この洗浄操作を、洗浄廃液のpHが5以上になるま
で5回繰返した。その後、沈殿を温風循環式の乾燥器を
用いて、温風の温度を80℃として乾燥させた後400
℃で2時間通気ぽい焼し109gの四三酸化コバルトを
得た。
この四三酸化コバル1−の嵩密度は0.46 g/cm
3であった。
[実施例−3] 塩化コバルト 六水和物344 g (Co”−1,4
5mol)を 11の純水に溶解し、液温を5℃に保ち
ながら、攬はんしつつシュウ酸・二水和物190 g 
(C204”−= 1.51 mol)を−度に加え、
2時間攪はんして沈殿を発生させた。このスラリーを固
液分離して沈殿を得、得た沈殿に21の純水を加え、室
温て30分間攪はんし、その後固液分離した。この洗浄
操作を、洗浄廃液のp Hが5以上になるまで4回繰返
しな。その後、沈殿を乾燥させることなく400℃で2
時間通気ぽい焼し110gの四三酸化コバルトを得た。
この四三酸化コバルトの嵩密度は0.25 g/cm3
であった。
[実施例−4] コバルト濃度150 g/lの硝酸コバルト水溶液30
0 ml (+To”−0,76mol)中に、攪はん
し−”)−)重炭酸ソーダ45gを添加し、塩基性炭酸
コバルトを発生させ、次いでシュウ酸・二水和物96 
g(C204”−= 0.76 mat)を−度に加え
、2時間攪はんして沈殿を発生させた。このスラリーを
固液分離して沈殿を得、得た沈殿に21の純水を加え、
室温で30分間攪はんし、その後固液分離した。
この洗浄操作を、洗浄廃液のI) Hが5以上になるま
で5回繰返した。その後、沈殿を室温で放置し風乾した
後400℃て2時間通気ぽい焼し57 gの四三酸化コ
バルトを得た。この四三酸化コバルトの嵩密度は0.2
0 g/cm3であった。
[実施例−5] 純水11に塩基性炭酸コバルト310 g  (Co”
0.58 mat)を加え、液温を5℃に維持し、攪は
んしつつシュウ酸・二水和物80 g (C204”0
.63 mol)を−度に加え、2時間攪はんして沈殿
を発生さぜな。このスラリーを固液分離して沈殿を得、
得た沈殿に21の純水を加え、室温で関分間攪はんし、
その後固液分離した。この洗浄操作を、洗浄廃液のp 
Hが5以上になるまで5回繰返した。その後、沈殿を乾
燥さぜることなく400℃で2時間通気ぽい焼し43 
gの四三酸化コバルトを得た。この四三酸化コバル1〜
の嵩密度は0.32 g/ca+”であった。
[発明の効果] 本発明の方法によれば、凝集性が少なく分散性の良いシ
ュウ酸コバルトを中間体としてばい焼するために嵩密度
が0.2〜0.5 g/cm3の四三酸化コバルトを得
ることができる。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、二価のコバルトイオンを200g/l以下の濃度で
    含む溶液を室温以下に維持しつつ、該溶液と、該溶液に
    含まれる二価のコバルトイオンに対して当量以上のシュ
    ウ酸、又はシュウ酸アンモニウムとを速やかに混合し、
    次いで少なくとも30分以上攪はんを継続し、沈殿を得
    、得た沈殿を洗浄してシュウ酸コバルトを得る第1工程
    と、第1工程で得たシュウ酸コバルトを空気中等酸素共
    存下300〜500℃の温度でばい焼する第2工程とか
    らなる低嵩密度の四三酸化コバルトの製造方法 2、第1工程が、二価のコバルトを200g/l以下の
    濃度で含む二価のコバルト複塩スラリーを室温以下に維
    持しつつ、該スラリーと、該スラリー中の二価のコバル
    トに対して当量以上のシュウ酸、又はシュウ酸アンモニ
    ウムとを速やかに混合し、次いで30分以上攪はんして
    沈殿を得、得た沈殿を洗浄してシュウ酸コバルト得るこ
    とを特徴とする特許請求の範囲第1項記載の低嵩密度の
    四三酸化コバルトの製造方法 3、第1工程が、二価のコバルトイオンを200g/l
    以下の濃度で含む溶液に、攪はんしつつ当量以上の重炭
    酸ソーダを添加してスラリーを得、該スラリーと、該ス
    ラリー中のコバルトに対して当量以上のシュウ酸、又は
    シュウ酸アンモニウムとを速やかに混合し、次いで30
    分以上攪はんして沈殿を得、得た沈殿を洗浄してシュウ
    酸コバルト得ることを特徴とする特許請求の範囲第1項
    記載の低嵩密度の四三酸化コバルトの製造方法。
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