JPH02205479A - 積層体の研摩方法 - Google Patents
積層体の研摩方法Info
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- JPH02205479A JPH02205479A JP1025186A JP2518689A JPH02205479A JP H02205479 A JPH02205479 A JP H02205479A JP 1025186 A JP1025186 A JP 1025186A JP 2518689 A JP2518689 A JP 2518689A JP H02205479 A JPH02205479 A JP H02205479A
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Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B24—GRINDING; POLISHING
- B24B—MACHINES, DEVICES, OR PROCESSES FOR GRINDING OR POLISHING; DRESSING OR CONDITIONING OF ABRADING SURFACES; FEEDING OF GRINDING, POLISHING, OR LAPPING AGENTS
- B24B37/00—Lapping machines or devices; Accessories
- B24B37/04—Lapping machines or devices; Accessories designed for working plane surfaces
- B24B37/048—Lapping machines or devices; Accessories designed for working plane surfaces of sliders and magnetic heads of hard disc drives or the like
Landscapes
- Magnetic Heads (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Finish Polishing, Edge Sharpening, And Grinding By Specific Grinding Devices (AREA)
- Grinding-Machine Dressing And Accessory Apparatuses (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
「産業上の利用分野」
この発明は磁気ヘッドなどの積層体を研摩加工する方法
に関し、粒度分布で2つのピークを有するように砥粒を
混入した研摩液を用いて積層体の端面を研摩することに
より磁気ヘッドの媒体対向面などの端面における異種材
料層の間の段差を減少させるものである。
に関し、粒度分布で2つのピークを有するように砥粒を
混入した研摩液を用いて積層体の端面を研摩することに
より磁気ヘッドの媒体対向面などの端面における異種材
料層の間の段差を減少させるものである。
「従来の技術」
一般に高記録密度用の薄膜磁気ヘッドは、AI。
Os−T i C(アルチック)あるいはフェライトな
どの極めて硬質の材料からなるスライダ本体(基板)と
、このスライダ本体上に形成された比較的軟質のパーマ
ロイなどからなる磁極層および薄膜状のコイルと、これ
らを覆うSin、層、あるいはAI。
どの極めて硬質の材料からなるスライダ本体(基板)と
、このスライダ本体上に形成された比較的軟質のパーマ
ロイなどからなる磁極層および薄膜状のコイルと、これ
らを覆うSin、層、あるいはAI。
03層などの保護層とから構成され、各層からなる端面
が磁気記録媒体に対向する媒体対向面とされ、この媒体
対向面を磁気記録媒体に対して微小間隔離間させた状態
で、即ち、磁気記録媒体からスライダ本体を浮上させた
状態で信号の読み取りと書き込みを行うようになってい
る。
が磁気記録媒体に対向する媒体対向面とされ、この媒体
対向面を磁気記録媒体に対して微小間隔離間させた状態
で、即ち、磁気記録媒体からスライダ本体を浮上させた
状態で信号の読み取りと書き込みを行うようになってい
る。
従ってこれらの各層が積層されてなる薄膜磁気ヘッドの
媒体対向面を研摩してギャップデプスを加工する場合、
前述のように各層間に硬度差があるために、硬度の低い
パーマロイからなる磁極層の媒体対向面側の先端部が選
択的に研摩されて磁極層の先端部側に凹部が形成されて
しまう問題がある。このように磁極層の先端部に凹部が
形成されると磁気記録媒体と磁極層の先端部との間の間
隔が規定の値から変動することになり、記録密度の低下
を引き起こす問題がある。
媒体対向面を研摩してギャップデプスを加工する場合、
前述のように各層間に硬度差があるために、硬度の低い
パーマロイからなる磁極層の媒体対向面側の先端部が選
択的に研摩されて磁極層の先端部側に凹部が形成されて
しまう問題がある。このように磁極層の先端部に凹部が
形成されると磁気記録媒体と磁極層の先端部との間の間
隔が規定の値から変動することになり、記録密度の低下
を引き起こす問題がある。
「発明が解決しようとする課題」
そ、こでこのような背景から、従来、磁気ヘッドの媒体
対向面の研摩加工を精密に行う目的で、粒径の小さなダ
イヤモンド砥粒を混入したダイヤモンドペーストと錫製
のラップ定盤を使用して研摩加工を行っているが、この
場合であっても磁極層の先端部に500〜1000人(
50〜I00nm)程度の段差が生じている。
対向面の研摩加工を精密に行う目的で、粒径の小さなダ
イヤモンド砥粒を混入したダイヤモンドペーストと錫製
のラップ定盤を使用して研摩加工を行っているが、この
場合であっても磁極層の先端部に500〜1000人(
50〜I00nm)程度の段差が生じている。
ところが、今後、磁気ヘッドの性能向上に対応して前記
媒体対向面と磁気記録媒体との間の浮上隙間がO11〜
0.2μm程度以下と狭小化される傾向があるので、前
述のような凹部を生じないように更に高い精度で磁気ヘ
ッドの研摩加工を行うことが要求されている。
媒体対向面と磁気記録媒体との間の浮上隙間がO11〜
0.2μm程度以下と狭小化される傾向があるので、前
述のような凹部を生じないように更に高い精度で磁気ヘ
ッドの研摩加工を行うことが要求されている。
このため薄膜磁気ヘッドの研摩加工に関して種々の研究
がなされ、ラップ定盤の材質を錫から樹脂に変更して研
摩加工するとか、研摩砥粒の粒径と潤滑液と加工圧力と
加工速度を適宜選択して最適な条件で研摩加工するなど
の手段が採用されてきているが、これらの方法では再現
性に乏しいこと、研摩条件が変更する度に条件の設定を
変更し直す必要があり、実施が容易ではないなどの問題
がある。
がなされ、ラップ定盤の材質を錫から樹脂に変更して研
摩加工するとか、研摩砥粒の粒径と潤滑液と加工圧力と
加工速度を適宜選択して最適な条件で研摩加工するなど
の手段が採用されてきているが、これらの方法では再現
性に乏しいこと、研摩条件が変更する度に条件の設定を
変更し直す必要があり、実施が容易ではないなどの問題
がある。
本発明は前記課題を解決するためになされたしので、磁
気ヘッドなどの積層体を研摩する際に生じる段差部分を
簡単な方法で従来より小さくすることができ、層間に硬
度差の存在する磁気ヘッドなどの積層体を研摩する場合
であってら高精度で研摩できる方法を提供することを目
的とする。
気ヘッドなどの積層体を研摩する際に生じる段差部分を
簡単な方法で従来より小さくすることができ、層間に硬
度差の存在する磁気ヘッドなどの積層体を研摩する場合
であってら高精度で研摩できる方法を提供することを目
的とする。
「課題を解決するための手段」
本発明は前記課題を解決するために、硬度の異なる複数
の層が積層されてなる積層体において複数の層からなる
端面を研摩器具と研摩液を用いて研摩加工する際に、粒
径の異なる砥粒を潤滑液に混入してなる研摩液であって
、混入する砥粒の粒度分布を2つ以上のピークを有する
ようにしてなる研摩液を用いるものである。
の層が積層されてなる積層体において複数の層からなる
端面を研摩器具と研摩液を用いて研摩加工する際に、粒
径の異なる砥粒を潤滑液に混入してなる研摩液であって
、混入する砥粒の粒度分布を2つ以上のピークを有する
ようにしてなる研摩液を用いるものである。
「作用」
粒度分布で2つのピークを有するように砥粒を混入した
研摩液を用いて研摩器具で研摩するために、硬度の異な
る複数の層からなる磁気ヘッドの媒体対向面などを研摩
する場合であっても、軟質の層に生じる凹部が従来より
小さくなる。
研摩液を用いて研摩器具で研摩するために、硬度の異な
る複数の層からなる磁気ヘッドの媒体対向面などを研摩
する場合であっても、軟質の層に生じる凹部が従来より
小さくなる。
以下にこの発明を更に詳細に説明する。
第1図と第2図(よこの発明の方法を薄膜磁気ヘッドの
スライダ(積層体)の媒体対向面(端面)を研摩してギ
ャップデプスを加工する場合に適用した一例について説
明するためのらのであり、第2図ないし第4図はこの例
において研摩される薄膜磁気ヘッドのスライダを示して
いる。
スライダ(積層体)の媒体対向面(端面)を研摩してギ
ャップデプスを加工する場合に適用した一例について説
明するためのらのであり、第2図ないし第4図はこの例
において研摩される薄膜磁気ヘッドのスライダを示して
いる。
この例で研摩するスライダSは第2図に示す形状をなし
、その端部側の内部構造は、第4図に示すように、フェ
ライトからなるスライダ本体部lと、このスライダ本体
部I上(第4図では左側面上)に形成されたアルミナか
らなる下部絶縁層2と、下部絶縁層2上に形成された下
部磁極層3および上部磁極層4と、下部磁極層3と上部
磁極層4の間に形成された絶縁層6と、この絶縁層6の
内部側を貫通して形成された図示路の薄膜コイルと、上
部磁極層4を被覆して設けられた上部保護層7を具備し
て構成されている。
、その端部側の内部構造は、第4図に示すように、フェ
ライトからなるスライダ本体部lと、このスライダ本体
部I上(第4図では左側面上)に形成されたアルミナか
らなる下部絶縁層2と、下部絶縁層2上に形成された下
部磁極層3および上部磁極層4と、下部磁極層3と上部
磁極層4の間に形成された絶縁層6と、この絶縁層6の
内部側を貫通して形成された図示路の薄膜コイルと、上
部磁極層4を被覆して設けられた上部保護層7を具備し
て構成されている。
以上のように構成されたスライダSにおいて、第4図に
符号Mで示す面が媒体対向面(端面)であり、この媒体
対向面Mを研摩してギャップデプスを加工する場合にこ
の発明の方法を適用する。
符号Mで示す面が媒体対向面(端面)であり、この媒体
対向面Mを研摩してギャップデプスを加工する場合にこ
の発明の方法を適用する。
媒体対向面Mを研摩するには、まず、第1図に示すラッ
プ定盤(研摩器具)IOとベース板11と噴射容器12
を用意する。前記ラップ定盤10は、錫製のもの樹脂製
のものなど公知の材料からなるものを使用することがで
きる。
プ定盤(研摩器具)IOとベース板11と噴射容器12
を用意する。前記ラップ定盤10は、錫製のもの樹脂製
のものなど公知の材料からなるものを使用することがで
きる。
また、噴射容器I2はプラスチック製の容器の人口部に
噴霧管を取り付けてなるもので、その内部にはダイヤモ
ンドスラリ(研摩液)13が満たされている。このダイ
ヤモンドスラリ13は水溶性あるいは油性の潤滑液にダ
イヤモンド砥粒を混入してなるものである。ここで例え
ば、平均粒径が1/16μmのダイヤモンド砥粒の場合
、その粒度別の分布量は第5図に示すようになり、1/
16μm以外の粒径のダイヤモンド砥粒も少量含有して
いる。
噴霧管を取り付けてなるもので、その内部にはダイヤモ
ンドスラリ(研摩液)13が満たされている。このダイ
ヤモンドスラリ13は水溶性あるいは油性の潤滑液にダ
イヤモンド砥粒を混入してなるものである。ここで例え
ば、平均粒径が1/16μmのダイヤモンド砥粒の場合
、その粒度別の分布量は第5図に示すようになり、1/
16μm以外の粒径のダイヤモンド砥粒も少量含有して
いる。
そこでこの例において用いるダイヤモンド砥粒は、粒度
の異なるものが混合されてなるものであって、それらの
分布割合を第6図あるいは第7図に示すように分布量の
ピークが2つ形成されるように決定する。従って第6図
に示すように、1716μmの粒径のピークを有するダ
イヤモンド砥粒と1/8μmの粒径のピークを有するダ
イヤモンド砥粒を適当な割合で混合してなるもの、ある
いは、第7図に示すように、1/16μmの粒径のピー
クを有するダイヤモンド砥粒と1/4μmの粒径のピー
クを有するダイヤモンド砥粒を適当な割合で混合してな
るものなどを用いることができる。
の異なるものが混合されてなるものであって、それらの
分布割合を第6図あるいは第7図に示すように分布量の
ピークが2つ形成されるように決定する。従って第6図
に示すように、1716μmの粒径のピークを有するダ
イヤモンド砥粒と1/8μmの粒径のピークを有するダ
イヤモンド砥粒を適当な割合で混合してなるもの、ある
いは、第7図に示すように、1/16μmの粒径のピー
クを有するダイヤモンド砥粒と1/4μmの粒径のピー
クを有するダイヤモンド砥粒を適当な割合で混合してな
るものなどを用いることができる。
次にラップ定盤IOを回転させるとともに噴射容器12
からダイヤモンドスラリ13をラップ定盤10上に吹き
付け、次いでラップ定盤IOの上面にベース板11の底
面のスライダSを押し付けて回転させる。
からダイヤモンドスラリ13をラップ定盤10上に吹き
付け、次いでラップ定盤IOの上面にベース板11の底
面のスライダSを押し付けて回転させる。
以上の操作でスライダSがダイヤモンド砥粒によって研
摩される。この研摩に用いるダイヤモンド砥粒は、粒度
分布に2つのピークを有する砥粒が用いられているので
、硬度の高いスライダ本体lおよび絶縁層2.7と軟質
の磁極層3,4とからなる媒体対向面Mを研摩する場合
であっても、軟質の磁極層3.4の先端部に生じる凹部
を従来より小さくできる。従って磁極層3.4の先端部
と磁気記録媒体との間隔誤差が少なくなるので、得られ
る磁気ヘッドの性能劣化を防止することができる。
摩される。この研摩に用いるダイヤモンド砥粒は、粒度
分布に2つのピークを有する砥粒が用いられているので
、硬度の高いスライダ本体lおよび絶縁層2.7と軟質
の磁極層3,4とからなる媒体対向面Mを研摩する場合
であっても、軟質の磁極層3.4の先端部に生じる凹部
を従来より小さくできる。従って磁極層3.4の先端部
と磁気記録媒体との間隔誤差が少なくなるので、得られ
る磁気ヘッドの性能劣化を防止することができる。
なお、ダイヤモンド砥粒の混合割合は、粒径の小さなも
のを多く、粒径の大きなものを少なくすることが好まし
い。これは、粒径の小さな砥粒の方が研摩面に対して均
一に当たり、異なる層の間の段差を小さくするが、粒径
が1/16μmと非常に小さくなると、研摩力が小さく
なりすぎるために、むしれ現象が発生して逆に異なる層
の間の段差を増大させるためである。そこでこの例では
1/16μmのダイヤモンドスラリの中に1/4μmあ
るいは!/8μmの粒径のダイヤモンド砥粒を例えばl
O%程度混入することが好ましい。まず、粒径の大きな
砥粒で主に材料を研摩し、研摩され易い状態になったと
ころで、l/16μmの粒径の小さな砥粒で均一に研摩
することで研摩効果が相乗的に発揮されるようにする。
のを多く、粒径の大きなものを少なくすることが好まし
い。これは、粒径の小さな砥粒の方が研摩面に対して均
一に当たり、異なる層の間の段差を小さくするが、粒径
が1/16μmと非常に小さくなると、研摩力が小さく
なりすぎるために、むしれ現象が発生して逆に異なる層
の間の段差を増大させるためである。そこでこの例では
1/16μmのダイヤモンドスラリの中に1/4μmあ
るいは!/8μmの粒径のダイヤモンド砥粒を例えばl
O%程度混入することが好ましい。まず、粒径の大きな
砥粒で主に材料を研摩し、研摩され易い状態になったと
ころで、l/16μmの粒径の小さな砥粒で均一に研摩
することで研摩効果が相乗的に発揮されるようにする。
更に、大きな粒径の砥粒の混合割合は、5〜15%が好
ましい。混合割合が、5%を下回る場合、大きな砥粒の
研摩効果が薄れる一方、15%を超えると大きな砥粒の
研摩効果が支配的となって大きな砥粒のみで研摩を行っ
た場合と等しい効果になってしまうので好ましくない。
ましい。混合割合が、5%を下回る場合、大きな砥粒の
研摩効果が薄れる一方、15%を超えると大きな砥粒の
研摩効果が支配的となって大きな砥粒のみで研摩を行っ
た場合と等しい効果になってしまうので好ましくない。
また、この発明の方法は、粒度分布に2つのピークを有
するダイヤモンド砥粒を供給するのみの操作により、容
易に実施できるので、種々の条件設定を行う必要があっ
た従来方法に比較して実施が容易で手間がかからない利
点がある。
するダイヤモンド砥粒を供給するのみの操作により、容
易に実施できるので、種々の条件設定を行う必要があっ
た従来方法に比較して実施が容易で手間がかからない利
点がある。
なお、ラップ定盤IO上にダイヤモンドスラリ13を供
給する方法は、図面のような噴射容器12以外の噴射装
置などを用いても良いし、潤滑液とダイヤモンドスラリ
を別々にラップ定盤lO上に供給しても良い。
給する方法は、図面のような噴射容器12以外の噴射装
置などを用いても良いし、潤滑液とダイヤモンドスラリ
を別々にラップ定盤lO上に供給しても良い。
更にこの発明は、第2図ないし第4図に示す構造の磁気
ヘッドのスライダSの他にフェライト屑と金属層とガラ
ス層とを具備してなる通称M I Gヘッド(メタルイ
ンギャップヘッド)など、その他の構造の磁気ヘッドの
研摩に用いてら良いのは勿論である。
ヘッドのスライダSの他にフェライト屑と金属層とガラ
ス層とを具備してなる通称M I Gヘッド(メタルイ
ンギャップヘッド)など、その他の構造の磁気ヘッドの
研摩に用いてら良いのは勿論である。
「実施例」
第1図に示すラップ定盤とベース板と噴射容器を用い、
磁気ヘッドのスライダを底面に貼り付けたベース板をラ
ップ定盤に押し付けてラップ定盤とベース板を回゛転さ
せ、スライダの媒体対抗面の研摩を行った。この研摩の
際に、水溶性潤滑液に2つの粒度分布ピークを有するダ
イヤモンド砥粒を混入してなるダイヤモンドスラリを供
給して研摩を行った。なお、この実施例では、第4図に
示す磁気ヘッドの構造に類似した構造であって、磁極層
を1つのみ形成し、絶縁層6を省略した構造のサンプル
ヘッドを研摩用に用いた。
磁気ヘッドのスライダを底面に貼り付けたベース板をラ
ップ定盤に押し付けてラップ定盤とベース板を回゛転さ
せ、スライダの媒体対抗面の研摩を行った。この研摩の
際に、水溶性潤滑液に2つの粒度分布ピークを有するダ
イヤモンド砥粒を混入してなるダイヤモンドスラリを供
給して研摩を行った。なお、この実施例では、第4図に
示す磁気ヘッドの構造に類似した構造であって、磁極層
を1つのみ形成し、絶縁層6を省略した構造のサンプル
ヘッドを研摩用に用いた。
この研摩加工を行った場合の主な条件は以下の通りであ
る。
る。
以上説明したようにダイヤモンド砥粒を用いて研摩され
たスライダの媒体対向面における段差の状態と、1/1
6μmの粒径のダイヤモンド砥粒を混入した研摩液をラ
ップ定盤に供給しつつ研摩を行って得られたスライダの
媒体対向面における段差状態について測定した。
たスライダの媒体対向面における段差の状態と、1/1
6μmの粒径のダイヤモンド砥粒を混入した研摩液をラ
ップ定盤に供給しつつ研摩を行って得られたスライダの
媒体対向面における段差状態について測定した。
第8図はこの発明の方法に従って前記のように研摩して
得られたスライダの媒体対向面の段差状態を示し、第9
図は従来の方法に従って前記のように研摩して得られた
スライダの媒体対向面の段差状態を示す。
得られたスライダの媒体対向面の段差状態を示し、第9
図は従来の方法に従って前記のように研摩して得られた
スライダの媒体対向面の段差状態を示す。
第8図と第9図を比較して明らかなように、この発明の
方法を実施して研摩されたスライダの方が従来方法によ
り研摩されたスライダよりも段差部分が小さいことが明
らかになった。
方法を実施して研摩されたスライダの方が従来方法によ
り研摩されたスライダよりも段差部分が小さいことが明
らかになった。
一方、種々の粒径のダイヤモンド砥粒を用いて磁気ヘッ
ドを研摩した場合、A lzo s−’I’ iC(ア
ルチック)製のスライダ本体とパーマロイ製の磁極層と
の間に形成される段差と、スライダ本体とアルミナ製の
絶縁層との間に形成される段差を測定し、その結果を第
1θ図に示す。
ドを研摩した場合、A lzo s−’I’ iC(ア
ルチック)製のスライダ本体とパーマロイ製の磁極層と
の間に形成される段差と、スライダ本体とアルミナ製の
絶縁層との間に形成される段差を測定し、その結果を第
1θ図に示す。
第1O図から、使用するダイヤモンド砥粒の粒径が17
8μmまでは粒径が小さい程、段差ら小さくなるが、粒
径カ月716μmになると逆に段差が増加することが明
らかになった。第1O図から明らかなように、ダイヤモ
ンド粒径1/16μm+1./4μmの場合と、ダイヤ
モンド粒径1/16μm+1/8μmの場合では、ダイ
ヤモンド粒径1/8μmの場合よりも段差を小さくでき
ることが明らかになった。なお、fffi径1/18μ
ta+ 1/8μmのダイヤモンド砥粒を用いた場合に
、パーマロイ部分の凹部の深さを15nm(150人)
以下にできることが明らかになった。
8μmまでは粒径が小さい程、段差ら小さくなるが、粒
径カ月716μmになると逆に段差が増加することが明
らかになった。第1O図から明らかなように、ダイヤモ
ンド粒径1/16μm+1./4μmの場合と、ダイヤ
モンド粒径1/16μm+1/8μmの場合では、ダイ
ヤモンド粒径1/8μmの場合よりも段差を小さくでき
ることが明らかになった。なお、fffi径1/18μ
ta+ 1/8μmのダイヤモンド砥粒を用いた場合に
、パーマロイ部分の凹部の深さを15nm(150人)
以下にできることが明らかになった。
「発明の効果」
以上説明したように硬度が異なる層からなる磁気ヘッド
などの積層体の媒体対向面などの端面を研摩加工する場
合、この発明の方法で研摩加工を行うと軟質の層の先端
部に生じる凹部を従来よりも小さくすることができ、研
摩精度を向上させることができる効果がある。従ってこ
の場合、軟質の層の先端部と磁気記録媒体との距離変動
を従来よりも小さくすることかできるので磁気ヘッドの
記録特性の劣化(例えば、スペーンングロス)を防止す
ることができる効果がある。また、この発明の方法は粒
度分布に2つ以上のピークを有する砥粒を用いることで
実施できるので、種々の研摩条件を設定する必要があっ
た従来方法に比較して容易に実施できる効果がある。
などの積層体の媒体対向面などの端面を研摩加工する場
合、この発明の方法で研摩加工を行うと軟質の層の先端
部に生じる凹部を従来よりも小さくすることができ、研
摩精度を向上させることができる効果がある。従ってこ
の場合、軟質の層の先端部と磁気記録媒体との距離変動
を従来よりも小さくすることかできるので磁気ヘッドの
記録特性の劣化(例えば、スペーンングロス)を防止す
ることができる効果がある。また、この発明の方法は粒
度分布に2つ以上のピークを有する砥粒を用いることで
実施できるので、種々の研摩条件を設定する必要があっ
た従来方法に比較して容易に実施できる効果がある。
第1図はこの発明の一例を実施している状態を示す斜視
図、第2図ないし第4図はこの例で研摩される磁気ヘッ
ドのスライダを示すもので、第2図は斜視図、第3°図
は一部拡大図、第4図は第3図のA−A’線断面図、第
5図は粒径1/16μmのダイヤモンド砥粒の粒度分布
状態を示すグラフ、第6図は粒径1/1671mのダイ
ヤモンド砥粒と粒径1/8μmのダイヤモンド砥粒の混
合砥粒の粒度分布を示すグラフ、第7図は粒径j/16
μmのダイヤモンド砥粒と粒径1/4μ■のダイヤモン
ド砥粒の混合砥粒の粒度分布を示すグラフ、第8図はこ
の発明の方法で研摩したスライダの段差状態の測定例を
示す図、第9図は従来方法によって研摩したスライダの
段差状態の測定例を示す図、第10図は種々の粒度のダ
イヤモンド砥粒を用いて研摩したスライダの段差状態を
示すグラフである。 l・・・スライダ本体、2・・・下部保護層、3・・・
下部磁極層、4・・・上部磁極層、6・・絶縁層、7・
・・上部保護層、lO・・・ラップ定盤(研摩器具)、
11・・・ベース板、12・・・噴射容器、13・・・
ダイヤモンドスラリ(研摩液)、M・・・媒体対向面、
S・・・スライダ(積層体)。
図、第2図ないし第4図はこの例で研摩される磁気ヘッ
ドのスライダを示すもので、第2図は斜視図、第3°図
は一部拡大図、第4図は第3図のA−A’線断面図、第
5図は粒径1/16μmのダイヤモンド砥粒の粒度分布
状態を示すグラフ、第6図は粒径1/1671mのダイ
ヤモンド砥粒と粒径1/8μmのダイヤモンド砥粒の混
合砥粒の粒度分布を示すグラフ、第7図は粒径j/16
μmのダイヤモンド砥粒と粒径1/4μ■のダイヤモン
ド砥粒の混合砥粒の粒度分布を示すグラフ、第8図はこ
の発明の方法で研摩したスライダの段差状態の測定例を
示す図、第9図は従来方法によって研摩したスライダの
段差状態の測定例を示す図、第10図は種々の粒度のダ
イヤモンド砥粒を用いて研摩したスライダの段差状態を
示すグラフである。 l・・・スライダ本体、2・・・下部保護層、3・・・
下部磁極層、4・・・上部磁極層、6・・絶縁層、7・
・・上部保護層、lO・・・ラップ定盤(研摩器具)、
11・・・ベース板、12・・・噴射容器、13・・・
ダイヤモンドスラリ(研摩液)、M・・・媒体対向面、
S・・・スライダ(積層体)。
Claims (1)
- 硬度あるいは材質の異なる複数の層が積層されてなる積
層体において、複数の層からなる端面を研摩器具と研摩
液を用いて研摩加工する際に、粒径の異なる砥粒を潤滑
液に混入してなる研摩液であって、混入する砥粒の粒度
分布を2つ以上のピークを有するようにしてなる研摩液
を用いることを特徴とする積層体の研摩方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1025186A JPH02205479A (ja) | 1989-02-03 | 1989-02-03 | 積層体の研摩方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1025186A JPH02205479A (ja) | 1989-02-03 | 1989-02-03 | 積層体の研摩方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH02205479A true JPH02205479A (ja) | 1990-08-15 |
Family
ID=12158948
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1025186A Pending JPH02205479A (ja) | 1989-02-03 | 1989-02-03 | 積層体の研摩方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH02205479A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0880128A1 (en) * | 1995-05-17 | 1998-11-25 | Hitachi, Ltd. | Magnetic head and process for producing the head |
-
1989
- 1989-02-03 JP JP1025186A patent/JPH02205479A/ja active Pending
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0880128A1 (en) * | 1995-05-17 | 1998-11-25 | Hitachi, Ltd. | Magnetic head and process for producing the head |
EP0880128A4 (ja) * | 1995-05-17 | 1998-11-25 | ||
US6278582B1 (en) | 1995-05-17 | 2001-08-21 | Hiatchi, Ltd | Magnetic head and magnetic head manufacturing method |
US6504680B2 (en) | 1995-05-17 | 2003-01-07 | Hitachi, Ltd. | Magnetic head and magnetic head manufacturing method |
US6690544B2 (en) | 1995-05-17 | 2004-02-10 | Hitachi, Ltd. | Magnetic head and magnetic head manufacturing method |
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