JPH02203976A - 水を用いた除電クリーニング法及びその装置 - Google Patents

水を用いた除電クリーニング法及びその装置

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JPH02203976A
JPH02203976A JP1972689A JP1972689A JPH02203976A JP H02203976 A JPH02203976 A JP H02203976A JP 1972689 A JP1972689 A JP 1972689A JP 1972689 A JP1972689 A JP 1972689A JP H02203976 A JPH02203976 A JP H02203976A
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) この発明は帯電している合成樹脂等の物や人体、動物、
空気等の除電及び除塵を主な目的とした除電クリーニン
グ法及びその装置に関するものである。
(従来の技術) プラスチック成型品、フィルム、紙、布等のものの印刷
加工する際に除電をして静電気を取り、ホコリを取り除
かなければならない。そこで従来は5KV〜l0KVの
高電圧放電によりコロナ放電を行いイオン風を被処理物
に吹き付けて除電している。
(発明が解決しようとする課題) しかしながらこの方法の場合、被処理物に付着している
ホコリは電気的には中和されていて、表面には電荷が現
れない。それは被処理物表面に帯電している微粒子が付
着すると、被処理物表面に静電誘導現象により逆の極の
等量の電荷が誘起してしまい、見かけ上電荷は零となり
、バランスがとれ、安定し、強固に固定される。これに
イオン風を吹き付けてもこの付着している、見かけ上帯
電圧零の微粒子に対しては電気的には全く影響を与えな
い。従って付着しているホコリ等の微粒子に対しては純
電気的な放電による静電気乃至はホコリの除去は難しい
この様にコロナ放電による除電の場合空気中に浮遊して
いる粒子に対しては除電効果があるが、被処理物表面に
固定されている粒子に対しては除電効果は著しく阻害さ
れる。また電子機器等は内部のIC等の半導体が静電放
電等による電磁波によって破壊され易いため、このコロ
ナ放電による除電は向かない。
従って被処理物の帯電を完全に除電するのはかなり難し
いものである。
(課題を解決するための手段) そこでこの発明は上記コロナ放電に代えて、水を用いて
これを多数の微粒子にしてミストを一部イオン化し、こ
れらのミストを温風又は熱線雰囲気中 気に通して粒径を小さくしつつ被処理体に当てる除電除
塵方法及びその装置を提供するものである。
そしてこの発明の具体的構成は以下のものである。請求
項第1項の発明は1ml1分以上の分量の水を噴霧圧1
.0kg/cm2以上の割合で噴霧し、粒径約50μ以
下のミストにし、これを被処理体に噴霧する除電クリー
ニング方法である。また請求項第2項のものは上記方法
において噴霧中のミストを温風又は熱線雰囲気中に通し
て成る除電クリーニング法である。また請求項第3項の
ものは上記請求項第1項の方法において水に対し約6%
以下の分量で界面活性剤及び電荷移動錯体等の帯電電荷
を移動できる物質を混合して溶液をつくり、この溶液を
ミストとするとともにこのミストを被処理体に噴霧後上
記界面活性剤が気化するよう噴霧中のミストを温風又は
熱線雰囲気中に通すものである。
また請求項第4項乃至第6項の発明は水を粒径約50μ
以下のミストにし、このミストのイオン化を適宜の手段
で促進させて被処理体にこれを噴霧するとともにこれら
の噴霧中のミストを温風又は熱線雰囲気中に通して成る
除電クリーニング方法であり、第5項の発′明は上記ミ
ス1〜のイオン化促進手段として噴霧中のミス1−に電
界又は電場を与えるものであり、第6項の発明は」二記
ミス1−のイオン化促進手段として水の純度を高めて抵
抗値を上げ、イオン化を促進させるものである。また上
記ミストのイオン化促進方法としては他にイオン風をミ
スト中に送り込むとか、磁場を与えてこの中をミストを
通過させるとか、ミス1〜中に遠赤外線又は紫外線を照
射させるとか、超音波の発振域中をミストを通過させる
とか、超音波を与え乍らミストを噴霧させるとか、ミス
トにする際エアーの代わりに炭酸ガス等の酸性ガス又は
アンモニア等のアルカリ性ガスを吹き付けてミストとす
る等の手段がある。さらに請求項第7項の発明は下面が
開口した、断面略椀状の中空部を有する装置本体の中空
基部に、純水を粒径約50μ以下のミス]−にして中空
部の開口部に向けて噴霧するミスト噴霧口を設け、この
ミスト噴霧口の周囲の中空部内壁に、温風又は熱線噴出
口を多数設けた除電クリニング装置である。
この水のうち通常の水は抵抗値が約2〜5×103Ω程
度、全カチオン3001)P Mであるのに対し、イオ
ン交換樹脂で処理した純水は抵抗値約106Ω、全カチ
オン0.5PPM程度のものである。
(作 用) 上記請求項第1項の除電方法ではミストが噴霧された際
一部の粒子は空気中で帯電し、これらの各粒子はプラス
やマイナスの電荷を有する。ミストを成す水は純度が高
い程誘電率が高まり、分極帯電が多くなり電気的中和作
用が促進する。一方導電率も低く、これが微粒化に際し
て空気摩擦によって強力に帯電し、導電率の低下に伴い
プラスマイナスの帯電性が増太し、また安定化する。こ
れらの一部帯電されたミストは勢いよく噴霧され、被処
理体の表面にぶつかり、付着し、被処理体の温度等によ
って蒸発する。そして特に被処理体が常温より高い場合
は効果的に働き、蒸発、気化が促進される。このとき第
1図(A)に示す如く、被処理体(イ)の表面に付着し
た、電荷を有するホコリ等の微粒子(ロ)にミスI〜の
]―記電荷と逆の極の電荷を有する微粒子(ハ)が当り
、これが被処理体(イ)の表面に誇称された逆極の等量
の電荷(ニ)に対してより誘電率の高い水の粒子のため
微粒子(ロ)の電荷は微粒子(ハ)の電荷に誘導され、
この微粒子(ハ)が蒸発する時、電荷とともに消滅し、
第1図(C)に示す如く、電荷を有しないホコリ等の微
粒子(ロ)のみが残る。またこれはミストの電荷を有し
ない微粒子(ホ)が第1図(B)に示す如く電荷を有す
るホコリ等の微粒子(ロ)に当った場合でも、微粒子(
ホ)に静電誘導により逆極の電荷が誘起され、被処理体
(イ)の表面に誘導された逆極の等量の電荷(ニ)に対
してより誘電率の高い水の粒子のために微粒子(ロ)の
電荷は微粒子(ホ)の電荷に誘導されて、この微粒子(
ハ)が蒸発する時、電荷とともに消滅し、第1図(C)
の如くなる。これは液体の微粒子の気化による電荷の熱
エネルギーへの転換作用によって電荷はエネルギーの形
を変えて空中へ気化、消滅する。勿論被処理体表面に有
する静電気(へ)は第1図(D)に示す如く」二記ミス
トの微粒子(ト)の被処理体(イ)表面への付着によっ
て中和され、当該静電気は第1図(E)に示す如く消滅
する。これにより被処理体の表面の静電気は空中放電す
ることなく除去され、静電放電による電磁障害等の虞れ
も無い。そして被処理体の表面に付着したホコリ等の微
粒子は静電気力による影響が無くなり、かつ水の表面張
力によってホコリは遊離した状態であるので、これらに
エアー等を吹き付けたり、吸引すれば容易に除去できる
。また上記ミストは水から成るため、被処理体表面に吹
き付け、これらが蒸発すると表面には何も残らず、被処
理体表面はクリーンな状態となる。
この除水の純度が高ければ高い程不純物が被処理体表面
に残らず、被処理体表面はよりクリーンな状態となる。
また請求項第2項の発明は上記請求項第1項のものとほ
ぼ同様に作用するが、噴霧中のミストが温風又は熱線雰
囲気を通るため、ミストの粒子は次第に気化してその粒
径を小さくしながら被処理体にぶつかって付着し、直ち
に蒸発する。従って電子機器等の水に濡れては困るもの
でも、この方法に拠れば回路部品の絶縁破壊を起こすこ
と無く除電、除塵ができる。
また請求項第3項の発明は」1記請求項第2項のものと
ほぼ同様に作用するが、上記ミストを構成する水に極く
僅かの界面活性剤や電荷移動錯体等の物質を混ぜている
ため、これらのミス1−の各微粒子が被処理体表面に付
着した際より帯電電荷が移動し易く、除電効果が高い。
しかしながら混ぜた界面活性剤は極く僅かで、かつミス
ト噴霧中に加温しているため、被処理体へ付着後気化し
、除電処理後被処理体表面から除去し、従って表面には
何も残らない。また請求項第4項乃至第6項の発明は上
記請求項第2項のものとほぼ同様に作用するが、噴霧す
るミストのイオン化を促進させるもので、より多くのミ
ストの微粒子をイオン化させ被処理体表面の除電効果を
高めるものである。
さらに請求項第7項の除電クリーニング装置は装置本体
の開口部に近接して被処理体を当て、ミスト噴霧口から
ミストを噴霧する。すると一部の粒子は装置本体の中空
部内でイオン化し、帯電する。
これらの一部の帯電されたミストは勢いよく噴霧され、
装置中空部内壁に設けた多数の温風又は熱線噴出口から
噴出した温風又は熱線雰囲気の中を通り、これらの熱で
各粒子は外周が気化し、粒径を小さくしつつ被処理体表
面にぶつかり、直ちに蒸発する。これにより上記請求項
第1項のものと同様に被処理体の表面の静電気は除去さ
れる。そして被処理体の表面に付着したホコリ等の微粒
子にはもはや帯電しておらず、従ってこれらにエアー等
を吹き付けたり、吸引したりすれば容易にホコリ等の微
粒子を除去できる。
また上記ミストは水から成るため、被処理体の表面に吹
き付け、これらが蒸発すると表面には何も残らず吸湿性
の強いナイロンフィルム等の被処理体の場合でも変形す
ることなく、クリーンな状態となる。
(実施例) 以下この発明の実施例を第2図以降につき説明する。
第2図はこの発明の第1実施例の装置を示し、1は装置
本体、2はこの装置本体1の下面に開口部2aを有する
断面略椀状の中空部、3はこの中空部2の上部中央に噴
出口3aを突出せしめて装置本体1に支持固定したノズ
ル、5は装置本体1外からこのノズル3に一端を接続し
た純水供給管、6は同じく装置本体1外からこのノズル
3に一端を接続したエアー供給管、7は上記中空部2の
内周に沿って装置本体1内に設けた温風路、8は上記中
空部2の内周に多数設けた温風噴出口、9は、装置本体
1外から温風路7に一端を接続した温風供給管、10は
装置本体1の両側に設けたエアー吹出管である。
次にこの装置を用いてこの発明の詳細な説明する。適宜
の水をろ過し、イオン交換摺脂で処理して電気抵抗値1
0GΩ以上及び全カチオン0.5PPM以下の純水とす
る。この純水を純水供給管5に図外のポンプ等で送る。
一方装置本体1の下方、上記中空部2の開口部2aに近
接して被処理物たるプラスチックスフィルム11を移送
させる。そして第2図の右方のエアー吸引管10よりプ
ラスチックスフィルム11上のある程度のホコリを取り
除く。そして第2図矢印穴に示す如くプラスチックスフ
ィルム11を移送させ、上記中空部2の開口部2a下に
位置させ。そこで上記エアー供給管6のバルブ6aを開
き、ノズル3の噴出口3aから純水のミスト12を噴震
させる。このミスト12は1ml/分以上の分量を噴霧
圧1.Okg/cJ以上、エアー量20Q/分以上の割
合で噴霧させる。この噴霧されたミストの粒径は50μ
以下であり、これらのミスト体噴霧に際して空気摩擦に
よって強力に帯電する。さらに温風供給管9から温風路
7を介して各温風噴出口8から温風を中空部2内に送り
込む。これにより中空部2内は全体が40℃前後の加熱
雰囲気となる。従って噴霧された上記ミスト12の各微
粒子はこの加熱雰囲気中を通過し、この中で各微粒子は
外周が気化して粒径を小さくしつつ加速されて落下し、
プラスチックスフィルム11上にぶつかる。
このぶつかった各微粒子は粒径が小さくかつ加温されて
いるため直ちに蒸発する。これによりプラスチックスフ
イルム11の表面の静電気は除去される。そしてさらに
プラスチックスフィルム11を矢印Aの方向に移送させ
、エアー吸引管10によりプラスチックスフィルム11
上に付着した、もはや移動し易くなった電荷のないホコ
リ等の微粒子を吸引し、当該プラスチックスフィルム1
1の表面をクリーンにする。
なおこの実施例に代えて水に対し6%以−トの分量の界
面活性剤、電荷移動錯体等の電荷を移動できる物質を加
えたものをミストにし、これを噴霧せしめる場合もあり
、これによればミストの各微粒子が被処理体の表面に付
着した際、より帯電電荷が移動し易く、除電効果が高い
。しかし混ぜた界面活性剤は極く僅かであるため、かつ
ミス1〜を加温雰囲気中に通すため、気化し、除電処理
後被処理体表面に界面活性剤が何も残らない。
第3図はこの発明の第2実施例を示すもので、噴霧する
ミストのイオン化を促進させて被処理体にこれを噴霧し
、除電を行う方法の一例を示したものである。この方法
に使用する装置は」二記第1実施例のものとほぼ同一で
あり、さらにノズル3の噴出口3aの下方に近接して二
つの電極13.13を突出せしめ、これらの電極13、
】3に直流又は交流の高電圧をかけ、噴霧されたミス1
〜12のイオン化をより促進せしめるものである。この
イオン化促進方法としては上記第1実施例において温風
供給管9から供給する温風内にイオン風を送り込むもの
。また上記ノズル3の噴出口3aの下方に永久磁石又は
電磁石を設けて磁場をつくり、この磁場に噴霧したミス
トを通過させるもの。また上記実施例における中空部2
の内周面をセラミックス等で被い、このセラミックスに
より遠赤外線を発射させ、噴霧されたミス1〜に遠赤外
線を照射させる。また中空部2内で、噴霧されたミスト
に紫外線を照射させるとか、超音波を与えなからミスト
を噴霧させるとか、純水等をミストにする際エアーの代
わりに、炭酸ガス等の酸性ガス又はアンモニア等のアル
カリ性ガス、さらには酸化しやすい材料の場合アルゴン
、ヘリウム等の不活性ガスや窒素ガスを吹き付けてミス
トとする等の手段がある。
第4図はこの発明の第3実施例を示し、箱体型の装置本
体20の下部に純水を入れたタンク21を設け、このタ
ンク21の上方の棚部22に設けたノズル23にタンク
21の純水を導入し、一方圧縮エアーをバルブ24を介
してエアー供給管25を通し、ノズル23に供給する。
これによりノズル23の噴出口23aから純水のミスト
26が装置本体20の上部に設けたミスト発生室27内
に噴霧される。このミスト26は3mQ/分以上の分量
を噴霧圧5 kgici、エアー量60Ω/分の割合で
噴霧させる。このミス1〜26の粒径は50μ以下であ
り、噴霧に際して空気摩擦によって強力に帯電する。そ
して装置本体20の外部に設けたエアーブロアー28で
吸引したエアーをヒーター29を通して約60’Cの温
風とし、この温風を装置本体20の上部に送り、ミスト
発生室27の側壁周囲に多数設けた温風噴出口30から
ミスト発生室27に噴出させ、ミスト発生室27に一端
を接続して装置本体20外部へ導出したダクト31内に
、ミス1−26を加温しながら移送する。そして被処理
体にこれらのをミス1−26を噴霧する噴霧装置32は
第5図に示す如く上記ダク1へ31の一端が噴震装置3
2内に導入され、このダクト31の一端はラッパ状のガ
イド体33の基部に固定、開化している。この噴霧装置
32の中空内部に温風供給管34から約40°Cの温風
を導入し、かつガイド体33の側壁周囲及びガイド体3
3の下端外周の噴霧装置32の下面に多数設けた温風噴
出口35からガイド体33内及び下方周囲に温風を噴出
させる。これによりミスト26はこれらの温風によって
噴霧を付勢され、ガイド体33の開口部に接した被処理
体に吹き付けられる。しかもガイド体33内は温風によ
って加温雰囲気となり、この中をミスト26を通過させ
、そこでミスト26の各粒子の外周は温風に覆われるた
めミスト26の各粒径は小さくなりつつ被処理体に吹き
付けられる。
第6図乃至第10図はこの第3実施例における噴震装置
32の具体例を示すもので、第6図の噴霧装置32′ 
は上記ガイド体33を横長にしたもので、シート、フィ
ルム、板物、紙等の除電処理に適するものである。
また第7図のものはコンベアーベルト36に設けたゲー
ト型の噴霧装置37としたもので、これはコンベアーベ
ルト36上に成型品、梱包品等をのせ、これらを噴霧装
置37にくぐらせ、該箇所でミストを噴霧し、除電する
ものである。この場合この噴霧装置の脇に適宜の吸引装
置(図示省略)を設け、除電されたホコリ等の微粒子製
吸引除去することもできる。
また第8図のものは中空箱型の噴霧装置38であり、こ
の中に被処理体たる人又は作業衣等を入れ、中空内壁に
多数設けた開口部よりミスi〜を噴霧し、除電するもの
で、底部からホコリ等を吸引し、排気管39で外部に排
気するものである。さらに第9図のものはマット状の噴
霧装置40であり、例えばホテルの部屋、クリーンルー
ム等の人口にこれを置き、ミストを両側の虚部41内側
から中央四部42へ噴霧し、この中央凹部42上を人が
通過する際、ミストが人の足元に噴霧され、除電される
ものであり、中央凹部42上面からホコリ等を吸引して
排気管43で外部に排気する。また第10図のものはシ
ャワーノズル状の噴震装置44であり、これを作業者が
手で持って、適宜の被処理物に吹き付けるものである。
このシャワーノズル状の噴震装置44の噴震口面45に
温風、ヒーター等により赤外線を発する赤外線放射体5
3を設けてもよい。
また第11図はこの発明の第4実施例のシャワーノズル
状の噴霧装置46を示すものであるが、この実施例のも
のはラッパ状本体47の内周面中央基部に、ミストを噴
霧する噴霧ノズル48を設け、この噴霧ノズル48には
水供給管49及びエアー供給管50を導入し、このラッ
パ状本体47内には温風を導入し、上記噴震ノズル48
の周囲のラッパ状本体47内周面に多数設けた噴出口5
2から温風を噴出せしめるものである。
次に上記第2図に示した第1実施例の装置を用いてこの
発明の除電方法で除電した結果を示す。
上記第1実施例の装置本体1の開口部に当てる被処理体
は厚さ30μ、巾600nnのポリプロピレンフィルム
であり、処理スピード35m1分で移送した。
また水道水をイオン交換樹脂で処理して抵抗値106Ω
の純水とし、この純水を2On+ Q /分の分量で噴
霧圧2.5kg/a#でノズル3から粒径10μのミス
トを噴霧し、温風を温風供給管9から150m Q /
分の割合で供給し、温風噴出口8から40℃の温風を吹
き付けた。上記ノズル3の噴出口3aから上記被処理体
までの距離は約1mとした。この結果上記ポリプロピレ
ンフィルムは、除電処理前は帯電圧30.000〜50
,0OOV テあったが、これが処理後100vに低下
した。また3mの距離からの灰付着テストでは灰の付着
が0であった。これは除電処理後の帯電圧がIKV以下
の実用的範囲に十分入っているものである。
また上記第11図のシャワーノズル状の噴霧装置46を
用いて人体の除電を行った。これには抵抗値10GΩの
純水を用い、この純水を90m Q /分の分量で、エ
アー量200m Q /分、噴霧圧3.5kg/1ff
lで粒径10μのミストを噴霧し、同時に40℃の温風
を200TIIQ1分の分量で吹き付け、これをミスト
の噴霧距離50anで約2秒間行ったところ、帯電圧6
00■、静電容量150PFの人体が帯電圧300 V
、静電容量0.0IPFに低下した。
また次に第11図のシャワーノズル状の噴霧装置46を
用いて、抵抗値106Ωの純水を100〜500111
 Q /分の割合で、エアー量100〜50012/分
、噴震圧5kg/a#で粒径10μのミストを噴霧し、
50℃〜60℃の温風を200〜800 Q /分の分
量で吹き付け、3〜8m先の天井、壁面を1イ当り約1
秒の割合でミストを噴霧したところ帯電圧は3 、00
0 Vから100〜60Vに低下した。
(発明の効果) この発明は以上の構成であり1、請求項第1項の′発明
は、水を用いてこの水を微粒化に際しての帯電を利用し
、イオン化したミストを被処理体に噴震し、これらの水
の微粒子を被処理体に当て、これらの水の微粒子が蒸発
気化することにより、これと=緒に帯電電荷を空中に気
化、消滅させ、被処理体を除電するものである。従って
従来のコロナ放電によるイオン風よりも水のイオン化し
た微粒子の方が多極化されかつ極めて大きく、除電能力
は高い。それ放液処理体に付着したゴミやホコす等の帯
電微粒子に対しても除電できる。しかもこの発明では被
処理体に付着した水の微粒子の空気中への気化に伴い帯
電電荷が消滅するため、被処理体周囲は局部的に湿度が
高まり、いわゆる静電放電による電磁障害が発生しない
。従って電子機器等は内部のIC等の半導体が静電放電
による電磁波によって破壊され易く、それ故コロナ放電
が向かなかったが、この発明の除電方法を用いれば安心
して除電できる。またこの発明では水の微粒子をミスト
にして被処理体に付着させ、これを気化せしめているた
め、除電した被処理体の表面には薬剤や化学剤が残らず
、被処理体自体の特性が変わることがない。その点上配
水の純度を高めれば高める程不純物が被処理体表面に残
らない。
この様に水の微粒子を気化させるものであるが、被処理
体の材料によっては水の分子的な膜が表面に形成され、
これが表面を活性化し、印刷、塗装、接着等の場合、こ
れらが極めて付着、固定し易くなる。また被処理体が紙
等の繊維質のものはこれらの分子的な水の膜によって強
度が増す。
また一般に空気中に浮遊している雑菌類(大腸菌、ブド
ウ状球菌等のバクテリアとかカビ類)は帯電しているホ
コリ等の微粒子に付着し、その電気的反発力を利用して
会合せずに互いに安定した距離を維持している。この雰
囲気に従来のイオン風を送り込んでもイオン風が単一電
荷のため除電効果が少なく、かつ上記菌類の付着してい
る、数ミクロン以−ドのホコリ等の微粒子はイオン風の
影響を受けない。しかしながらこの発明の除電方法によ
れば、水の微粒子が上記菌類の付着したホコリ等の微粒
子に付着し易く、かつこれらの微粒子相互も凝隼し易く
、従って菌類相互が接触し、抗体がないためどちらか一
方の強い方が残り、このためこれを繰り返すことによっ
て菌類が極めて少なくなり、残存していないに等しい状
態となる。
従ってこの除電処理により衛生的な空気が得られ、特に
衛生的な状態を要する部屋の除電除塵に適している。
また請求項第2項の発明は上記のものに加え上記噴霧中
のミストを温風又は熱線雰囲気中に通すため、ミス1〜
の各微粒子は加温されて一部は気化してその粒径を小さ
くしながら被処理体にぶつかり、直ちに蒸発する。従っ
て被処理体がぬれることがない。
また請求項第3項の発明は上記水に界面11ζ性剤や電
荷移動錯体等の電荷を移動できる物質を極く僅か混ぜた
溶液をミストとしているため、ミスhの各粒子が被処理
体表面に付着した際、より帯電電荷が移動し易く、除電
効果が高い。しかしながら除電処理後には被処理体表面
にこれらの物質が残らない。
また請求項第4項乃至第6項の発明は水から成るミスト
のイオン化を促進させて被処理体に噴霧する除電方法で
あるが、その−例としては水の純度を高め、電気抵抗値
を」二げることにより、ミスト化する際の帯電を強め、
これにより多くのミストの微粒子を強力に帯電化させ、
これらの微粒子・を帯電している被処理体表面に当てる
ことにより除電効果を高めるものである。
また請求項第7項の除電クリーニング装置6は鋺状の中
空部基部にミス1−噴霧口を設け、この中空部内を温風
又は熱線雰囲気とし、この中にミス1−を通して微粒子
を加温し、気化させつつ噴霧するもので、上記除電方法
を実施する」二で、極めて効率の良くコンパクト化が計
れる最適の装置である。
【図面の簡単な説明】
第1図(A)、(B)、(C)、(D)、(E)は夫々
この発明の原理説明図、第2図はこの発明の第1実施例
の断面図、第3図はこの発明の第2実施例の断面図、第
4図はこの発明の第3実施例の装置本体の断面図、第5
図は同実施例の噴霧装置の断面図、第6図乃至第10図
は夫々同実施例の噴霧装置の具体例を示す斜視図、第1
1図はこの発明の第4実施例の噴霧装置の断面図である
。 なお図中1は装置本体、2は中空部、3は、ノズル、5
は純水供給管、6はエアー供給管、7は温風路、8は温
風噴出口、10はエアー吹出管、11はプラスチックス
フィルム、12はミスト、21は純水タンク、23はノ
ズル、25はエアー供給管、26はミスト、27はミス
ト発生室、28はエアーブロアー29はヒーター、30
は温風噴出口、31はダタ1−132は噴霧装置、33
はガイド体、34は温風供給管、35は温風噴出口であ
る。 特許出願入来 原 隆 代 理 人弁理士藤沢正則 代 理 人 弁理士藤沢川明 代 理 人弁理士金本哲男

Claims (7)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)1ml/分以上の分量の水を噴霧圧1.0kg/
    cm^2以上の割合で噴霧し、粒径約50μ以下のミス
    トにし、これを被処理体に噴霧することを特徴とする、
    水を用いた除電クリーニング方法、
  2. (2)1ml/分以上の分量の水を噴霧圧1.0kg/
    cm^2以上の割合で噴霧し、粒径約50μ以下のミス
    トにし、これを被処理体に噴霧するとともにこれらの噴
    霧中のミストを温風又は熱線雰囲気中に通すことを特徴
    とする、水を用いた除電クリーニング方法。
  3. (3)水に対し、約6%以下の分量で界面活性剤等の帯
    電電荷を移動できる物質を混合し、この溶液を1ml/
    分以上の分量を噴霧圧1.0kg/cm^2以上の割合
    で噴霧し、粒径約50μ以下のミストにし、これを被処
    理体に噴霧するとともに、上記界面活性剤が被処理体に
    噴霧後気化するよう噴霧中のミストを温風又は熱線雰囲
    気中に通すことを特徴とする、水を用いた除電クリーニ
    ング方法。
  4. (4)水を粒径約50μ以下のミストにし、このミスト
    のイオン化を適宜の手段で促進させて被処理体にこれを
    噴霧するとともにこれらの噴霧中のミストを温風又は熱
    線雰囲気中に通すことを特徴とする、水を用いた除電ク
    リーニング方法。
  5. (5)ミストのイオン化を促進させる手段が、ミストに
    電界又は電場を与えるものであることを特徴とする、特
    許請求の範囲(4)項記載の水を用いた除電クリーニン
    グ方法。
  6. (6)ミストのイオン化を促進させる手段が、純水から
    成るミストとしたことを特徴とする、特許請求の範囲(
    4)項記載の水を用いた除電クリーニング方法。
  7. (7)下面が開口した、断面略椀状の中空部を有する装
    置本体の中空基部に、水を粒径約50μ以下のミストに
    して中空部の開口部に向けて噴霧するミスト噴霧口を設
    け、このミスト噴霧口の周囲の中空部内壁に、温風又は
    熱線噴出口を多数設けたことを特徴とする、水を用いた
    除電クリーニング装置。
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