JPH02203087A - 流量制御弁 - Google Patents
流量制御弁Info
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- JPH02203087A JPH02203087A JP2333789A JP2333789A JPH02203087A JP H02203087 A JPH02203087 A JP H02203087A JP 2333789 A JP2333789 A JP 2333789A JP 2333789 A JP2333789 A JP 2333789A JP H02203087 A JPH02203087 A JP H02203087A
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- Japan
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- diaphragm
- valve
- piezoelectric element
- valve rod
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Links
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- 230000001105 regulatory effect Effects 0.000 claims 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 abstract description 3
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 abstract 4
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 abstract 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 22
- 230000007774 longterm Effects 0.000 description 4
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 3
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- 238000000034 method Methods 0.000 description 2
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 2
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- HFGPZNIAWCZYJU-UHFFFAOYSA-N lead zirconate titanate Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[Ti+4].[Zr+4].[Pb+2] HFGPZNIAWCZYJU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
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Landscapes
- Electrically Driven Valve-Operating Means (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、半導体製造装置、あるいは蒸着装置等に用い
られるプロセスガスの流量制御弁に関するものである。
られるプロセスガスの流量制御弁に関するものである。
半導体製造に用いられるプロセスガスには、含まれるパ
ーティフルの数が少ないクリーンなガスが要求される。
ーティフルの数が少ないクリーンなガスが要求される。
従って配管系の接ガス部には樹脂やゴム等の発塵性のあ
るものは使用できない。これは、弁においても同様で、
接ガス部は全てメタルにすることが望ましい。
るものは使用できない。これは、弁においても同様で、
接ガス部は全てメタルにすることが望ましい。
この種の弁としては、メタルダイアフラム弁がよく知ら
れており、実用化されている。ダイアフラムは金属の薄
板で形成されており、この弁体を弁座に密着したり離し
たりすることによって、そこを流れる流体の量を制御す
るものである。
れており、実用化されている。ダイアフラムは金属の薄
板で形成されており、この弁体を弁座に密着したり離し
たりすることによって、そこを流れる流体の量を制御す
るものである。
第4図に従ってその動作を説明する。ガスはガス入口1
6より流入し、弁座4を介して、ガス流出口17へと流
れる。ダイアフラム5は弁座4と対向するように構成さ
れており、ハンドル11を回転させることによりネジ付
スピンドル14を下方へ下げると、その先端に取り付け
られた弁棒2により、ダイアフラム5を下方へと押す。
6より流入し、弁座4を介して、ガス流出口17へと流
れる。ダイアフラム5は弁座4と対向するように構成さ
れており、ハンドル11を回転させることによりネジ付
スピンドル14を下方へ下げると、その先端に取り付け
られた弁棒2により、ダイアフラム5を下方へと押す。
これにより、弁座4とダイアフラム5のすきまが小さく
なり、流れるガスの量は減少する。上記と逆方間にハン
ドル11を回すと、ネジ付スピンドル14は上方へ上が
り、同時にダイアフラム5のばね力により弁棒2は上方
へ持ち上げられ、弁座4とダイアフラム5のすきまが太
き(なり、流れるガスの量は増える。弁座4は本体その
ものを使用できることもあって、シート面の構造自体が
比較的簡単にできる。また、流体は本体より上部へはダ
イアフラムがあるので行くことはない。従ってパツキン
やパツキン押さえは不要な構造となっている。
なり、流れるガスの量は減少する。上記と逆方間にハン
ドル11を回すと、ネジ付スピンドル14は上方へ上が
り、同時にダイアフラム5のばね力により弁棒2は上方
へ持ち上げられ、弁座4とダイアフラム5のすきまが太
き(なり、流れるガスの量は増える。弁座4は本体その
ものを使用できることもあって、シート面の構造自体が
比較的簡単にできる。また、流体は本体より上部へはダ
イアフラムがあるので行くことはない。従ってパツキン
やパツキン押さえは不要な構造となっている。
バルブ内部を点検する時には配管を取りはずさなくても
、バルブ上部のフタを取りはずしただけで充分である。
、バルブ上部のフタを取りはずしただけで充分である。
さらに構造が一種のピンチバルブであるので、小さなリ
フトで円滑な流N調節を行なえる。
フトで円滑な流N調節を行なえる。
しかしながら、上記のダイアフラム弁は、その動作が手
動であるため、自動化が出来ず、さらにネジ付スピンド
ルの動きで流量が変化するため、特に微小な流量の制’
+Bが行いにくいという問題点がある。また、弁棒の上
方への復元力は、ダイアフラムのばね力にたよっている
。ダイアフラムは周辺をダイアフラム固定ネジにより固
定されており、長期的に弁の開閉動作を行うと、その位
置ずれを起こし、ひいては弁棒上方への復元力の劣化に
つながる。
動であるため、自動化が出来ず、さらにネジ付スピンド
ルの動きで流量が変化するため、特に微小な流量の制’
+Bが行いにくいという問題点がある。また、弁棒の上
方への復元力は、ダイアフラムのばね力にたよっている
。ダイアフラムは周辺をダイアフラム固定ネジにより固
定されており、長期的に弁の開閉動作を行うと、その位
置ずれを起こし、ひいては弁棒上方への復元力の劣化に
つながる。
本発明の目的は、ダイアフラムバルブを電気的に制御し
、かつ微小な流量の制御も可能で長期的に再現性のある
流量制御弁を提供することである。
、かつ微小な流量の制御も可能で長期的に再現性のある
流量制御弁を提供することである。
上記課題を解決するために本発明の流体制御弁は、ダイ
アフラム板の表面と流体の吹き出し口になる弁座を対向
するよう取付け、前記ダイアフラムと前記弁棒間のすき
まにより流体の流量が決定すべく構成された流量制御弁
において、積層型圧電素子を、試験管状に加工した弁棒
の内底に、圧電素子の先端を固定し、前記圧電素子の変
位に応じて、前記弁棒の先端位置が変化し、ダイアフラ
ムを動かすように構成された弁棒の上方への復元力を外
部の荷重ばねにより与える手段とから構成したものであ
る。
アフラム板の表面と流体の吹き出し口になる弁座を対向
するよう取付け、前記ダイアフラムと前記弁棒間のすき
まにより流体の流量が決定すべく構成された流量制御弁
において、積層型圧電素子を、試験管状に加工した弁棒
の内底に、圧電素子の先端を固定し、前記圧電素子の変
位に応じて、前記弁棒の先端位置が変化し、ダイアフラ
ムを動かすように構成された弁棒の上方への復元力を外
部の荷重ばねにより与える手段とから構成したものであ
る。
以下、本発明の実施例を添付図面にもとづいて説明をす
る。第1図において、積層型圧電素子1は試験管状の弁
棒2内に収納されており、もう−方の面はアクチュエー
タキャップ8及び芯出し球9を介して、調整ねじ6の先
端に連絡している。
る。第1図において、積層型圧電素子1は試験管状の弁
棒2内に収納されており、もう−方の面はアクチュエー
タキャップ8及び芯出し球9を介して、調整ねじ6の先
端に連絡している。
これにより弁棒2の先端の位置は、調整ねじ6により決
定される。さらに、前記弁棒2はダイアフラム5の背面
に接触しているため、調整ねじ6を動かすと、同時にダ
イアフラム5も動き、弁座4と弁座5の間のすき間も変
化する。
定される。さらに、前記弁棒2はダイアフラム5の背面
に接触しているため、調整ねじ6を動かすと、同時にダ
イアフラム5も動き、弁座4と弁座5の間のすき間も変
化する。
本発明においては、圧電素子1への印加電圧をゼロとし
た際にガスを流し、調整ねじ6によりダイアフラム5を
下方へ押し、弁座4と弁座5の間のすきまを決定し、ガ
スの流量を調整する。これを初期設定流量(圧電体への
印加電圧ゼロの時に流れるガスの流量のこと)を便宜上
定義する。ここで、圧電素子1に電圧を印加すると、圧
電素子1は伸びて、弁棒2を下方へと押し下げる。これ
により、弁座4とダイアフラム5の間のすき間は小さく
なり、壕れるガスの流量は減少する。そしてさらに電圧
を印加すると、やがて弁棒4とダイアフラム5は密着し
、ガス流量はゼロになる。次にこの状態から圧電素子1
への印加電圧を下げていくと、圧電素子lは元の形状に
戻ろうとするため縮む。この際に、図中3の荷重ばねが
弁棒2を上方へと押し上げようとするため、ダイアフラ
ム5への復元力の負担は小さくなり、さらにダイアフラ
ム5と弁棒2を接着することにより、ダイアフラム5の
経時的なばね力の劣化をも補償することが可能となる。
た際にガスを流し、調整ねじ6によりダイアフラム5を
下方へ押し、弁座4と弁座5の間のすきまを決定し、ガ
スの流量を調整する。これを初期設定流量(圧電体への
印加電圧ゼロの時に流れるガスの流量のこと)を便宜上
定義する。ここで、圧電素子1に電圧を印加すると、圧
電素子1は伸びて、弁棒2を下方へと押し下げる。これ
により、弁座4とダイアフラム5の間のすき間は小さく
なり、壕れるガスの流量は減少する。そしてさらに電圧
を印加すると、やがて弁棒4とダイアフラム5は密着し
、ガス流量はゼロになる。次にこの状態から圧電素子1
への印加電圧を下げていくと、圧電素子lは元の形状に
戻ろうとするため縮む。この際に、図中3の荷重ばねが
弁棒2を上方へと押し上げようとするため、ダイアフラ
ム5への復元力の負担は小さくなり、さらにダイアフラ
ム5と弁棒2を接着することにより、ダイアフラム5の
経時的なばね力の劣化をも補償することが可能となる。
よって、電圧を下げると弁棒が上方へ押し上げられて、
ダイアフラム5と弁座4のすき間が大きくなり、再びガ
スは流れ始める。
ダイアフラム5と弁座4のすき間が大きくなり、再びガ
スは流れ始める。
本実施例では、圧電素子には、チタン酸ジルコン酸鉛系
の圧電素子を用い、その寸法は口5鶴×4Onとし、・
印加電圧150Vに対し最大発生変化量が35μmのも
のを用いた。そして、ダイアフラムの実効直径はφ20
mm、厚みt = 0.2 ll11のものを用い、弁
座の先端は内径φ2鰭、外径φ2゜4fiとした。尚、
荷重ばねは、k=3kg/鶴のものを用い、圧電素子に
は定常的に約10kgfの力がかかるよう構成した。
の圧電素子を用い、その寸法は口5鶴×4Onとし、・
印加電圧150Vに対し最大発生変化量が35μmのも
のを用いた。そして、ダイアフラムの実効直径はφ20
mm、厚みt = 0.2 ll11のものを用い、弁
座の先端は内径φ2鰭、外径φ2゜4fiとした。尚、
荷重ばねは、k=3kg/鶴のものを用い、圧電素子に
は定常的に約10kgfの力がかかるよう構成した。
上記の実施例の結果を示す。
第2図は、上記流量制御弁の圧電素子への印加電圧と、
ガス出口より流れ出る流量の関係を示したものである。
ガス出口より流れ出る流量の関係を示したものである。
実験のパラメータとして、ガス入口とガス出口のガス差
圧を、θ、 5 kgf/cdとした場合と、3. O
kgf/cfflとした場合の流量特性をとったが0.
51gf/cdの場合、初期設定流量が約11/win
であるのに対し、3.0 kgf/adの場合、約31
7m1riとなっている。また、電圧を印加していくと
、両者共に流量は減少してゆき、0.51gf/−の場
合、約80vで流量はゼロになり、3.0にぎf /
cdの場合、約120Vでゼロになる。これにより、ダ
イアフラム弁を電気的に制御することが可能であること
を確認できた。
圧を、θ、 5 kgf/cdとした場合と、3. O
kgf/cfflとした場合の流量特性をとったが0.
51gf/cdの場合、初期設定流量が約11/win
であるのに対し、3.0 kgf/adの場合、約31
7m1riとなっている。また、電圧を印加していくと
、両者共に流量は減少してゆき、0.51gf/−の場
合、約80vで流量はゼロになり、3.0にぎf /
cdの場合、約120Vでゼロになる。これにより、ダ
イアフラム弁を電気的に制御することが可能であること
を確認できた。
次に荷重ばねの効果を確認するため、上記流量制御弁に
おいて、荷重ばねにより主復元力を与えた場合と、荷重
ばねを取り除き、ダイ”アフラムのばね力のみに復元力
を与えた場合の長期的な再現性を確認した。第3図にそ
の結果を示した。実験方法は、ガス差圧0.5kgf/
−の際に調整ねじにより、初期設定流量を決定し、圧電
圧へ交番電圧(0,2H2,0←150V)を印加し、
その印加回数を横軸にとり、縦軸には初期設定流量の変
化をとった。図からもわかるように、明らかに′I:@
重ぼねを装着した方が、その再現性及び長期安定性が優
れていることがわかる。
おいて、荷重ばねにより主復元力を与えた場合と、荷重
ばねを取り除き、ダイ”アフラムのばね力のみに復元力
を与えた場合の長期的な再現性を確認した。第3図にそ
の結果を示した。実験方法は、ガス差圧0.5kgf/
−の際に調整ねじにより、初期設定流量を決定し、圧電
圧へ交番電圧(0,2H2,0←150V)を印加し、
その印加回数を横軸にとり、縦軸には初期設定流量の変
化をとった。図からもわかるように、明らかに′I:@
重ぼねを装着した方が、その再現性及び長期安定性が優
れていることがわかる。
以上述べたように本発明の流量制御弁によれば次の効果
が得られる。
が得られる。
(1)ダイアフラム弁を電気的に制御することが可能と
なるため、流量制御の自動化が可能となる。
なるため、流量制御の自動化が可能となる。
(2)アクチュエータに圧電素子を用いているため、精
密な流量の制御が容易に行える。
密な流量の制御が容易に行える。
(3)荷重ばねの装着により、制御弁の再現性及び長期
安定性が極めて向上する。
安定性が極めて向上する。
第1図は本発明に係る流量制御弁の一実施例を示す断面
図、第2図は本発明に係る流量制御弁の電圧−流量特性
、第3図は本発明に係る流量制御弁の再現性である。第
4図は従来ダイアフラム弁を示す断面図である。 1・・・積層型圧電素子、2・・・弁棒、3・・・荷重
ばね、4・・・弁座、5・・・ダイアフラム、6・・・
調整ねし、7・・・ハウジング、8・・・アクチュエー
タキャップ、9・・・芯出し球、10・・・アクリルキ
ャップ、11・・・ハンドル、12・・・弁開度指示器
、13・・・スラストベアリング、14・・・ネジ付ス
ピンドル、15・・・ダイアフラム固定ネジ、16・・
・ガス入口、17・・・ガス出口 第1図 第 図 印加電圧 [vl 第 図 ;荷重はね、装着 ;荷重ばねなし 電圧印加回数回
図、第2図は本発明に係る流量制御弁の電圧−流量特性
、第3図は本発明に係る流量制御弁の再現性である。第
4図は従来ダイアフラム弁を示す断面図である。 1・・・積層型圧電素子、2・・・弁棒、3・・・荷重
ばね、4・・・弁座、5・・・ダイアフラム、6・・・
調整ねし、7・・・ハウジング、8・・・アクチュエー
タキャップ、9・・・芯出し球、10・・・アクリルキ
ャップ、11・・・ハンドル、12・・・弁開度指示器
、13・・・スラストベアリング、14・・・ネジ付ス
ピンドル、15・・・ダイアフラム固定ネジ、16・・
・ガス入口、17・・・ガス出口 第1図 第 図 印加電圧 [vl 第 図 ;荷重はね、装着 ;荷重ばねなし 電圧印加回数回
Claims (1)
- 試験管状弁棒の内室に積層型圧電素子を配設してなるア
クチュエータと、前記アクチュエータの一端の移動位置
を規制する調整機構と、前記アクチュエータの他端であ
る弁棒先端に接合されたダイアフラムと、常に前記圧電
素子を圧縮する方向に力がかかるようにして前記弁棒の
外周部に設けた荷重ばねとを有し、前記ダイアフラムの
表面と流体の吹き出し口になる弁座を対向するよう構成
し、前記ダイアフラムと前記弁棒間のすきまにより流体
の流量が決定すべく構成されたことを特徴とする流量制
御弁。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2333789A JPH02203087A (ja) | 1989-02-01 | 1989-02-01 | 流量制御弁 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2333789A JPH02203087A (ja) | 1989-02-01 | 1989-02-01 | 流量制御弁 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH02203087A true JPH02203087A (ja) | 1990-08-13 |
Family
ID=12107775
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2333789A Pending JPH02203087A (ja) | 1989-02-01 | 1989-02-01 | 流量制御弁 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH02203087A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2000079609A1 (de) * | 1999-06-19 | 2000-12-28 | Robert Bosch Gmbh | Piezoaktor zur betätigung eines mechanischen bauteils |
WO2007083439A1 (ja) | 2006-01-18 | 2007-07-26 | Fujikin Incorporated | ノーマルオープン型の圧電素子駆動式金属ダイヤフラム型制御弁 |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS62159877A (ja) * | 1986-01-08 | 1987-07-15 | Diesel Kiki Co Ltd | アクチユエ−タ |
JPS62177384A (ja) * | 1986-01-31 | 1987-08-04 | Hitachi Metals Ltd | 圧電駆動式弁 |
-
1989
- 1989-02-01 JP JP2333789A patent/JPH02203087A/ja active Pending
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS62159877A (ja) * | 1986-01-08 | 1987-07-15 | Diesel Kiki Co Ltd | アクチユエ−タ |
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JP2007192269A (ja) * | 2006-01-18 | 2007-08-02 | Fujikin Inc | 圧電素子駆動式金属ダイヤフラム型制御弁 |
US8181932B2 (en) | 2006-01-18 | 2012-05-22 | Fujikin Incorporated | Normally open type piezoelectric element driven metal diaphragm control valve |
US8191856B2 (en) | 2006-01-18 | 2012-06-05 | Fujilin Incorporated | Piezoelectric element driven metal diaphragm control valve |
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