JPH02201741A - フォーカス検出装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ［発明の目的］ （産業上の利用分野） この発明は、フォーカス状態を検出するフォカス検出装
置に係り、特に光学的信号再生装置におけるフォーカス
検出装置に関する。

（従来技術） フォーカス検出方法としてナイフェツジ法或いは、非点
収差法等の種々の方法が知られている。

一種のナイフェツジ法として情報記録媒体から戻された
光ビームを２つに分離してその夫々の光ビムを対応する
検出器上に導かれて夫々の検出器上にビームスポットが
形成され、フォーカス状態に応じて夫々のビームスポッ
トのサイズが変化される光学系が既に提案されている。

このフォーカス検出方法では、光ビームを分離する部材
として■光ビームの中心に境界面を持つように挿入され
た段差を有する２枚のミラー、■光ビームの中心にその
頂部が配置された三角プリズム、■光ビムの中心でその
側面端面が接合され、対称に配置されたくさびプリズム
を用いることが提案されている。然しなから、これらの
光学部祠が用いられる場合、高精度の配置角度でこれら
の光学部材が配置されることが要求され、僅かな角度誤
差がある場合には、これらの光学部材で分離された光ビ
ームが正確に対応する検出器に向けられず、検出特性が
低下される慮れがある。それにより、組立てられた装置
毎に検出特性が異ったり、装置の調整組立てに時間を要
し、生産性が悪い問題もある。

特に、■のミラー及び■の一対のくさびプリズムを用い
た装置においては、環境温度が変化されこれらの光学部
材が熱膨張によってその配置が僅か変化されて僅かな倒
れ或いはねじれが生じると、それぞれの光検出器上に生
じる光ビームスポットの相対位置が変化し、フォーカス
検出特性が変化する慮れがある。

（発明が解決しようとする課題） 上述したように情報記録媒体から戻された光ビームを分
離してこれを対応する光検出器上に導き、光ビームスポ
ットのパターン形状の変化を検出するフォーカス検出装
置では、分離部材としてミラ、三角プリズム、及びくさ
びプリズム等が用いられていることから、僅かな配置誤
差や角度誤差、或いは環境温度の変化によりフォーカス
検出特性が劣化され、しかもそのようなフォーカス検出
装置は、組立て調整が複雑で生産性が悪い問題がある。

この発明の目的は、安定した検出特性を有し、しかも構
造が簡単で組立て調整か容易なフォーカス検出装置を提
供するにある。

［発明の構成コ （課題を解決するための手段） この発明によれば、光ビームを発生する光源と、この光
源からの光ビームを情報記録媒体上に集光する集光手段
と、この光ビームが導入される光学部材であって、光ビ
ームを構成する光線毎に異なる光路長を与える光路長変
換手段と、この光路長変換手段からの光ビームを検出す
る手段であってこの検出手段上における光ビームによっ
て生じるビームパターンの変化を検出する検出手段とを
具備することを特徴とするフォーカス検出装置が提供さ
れる。

（作用） この発明のフォーカス検出装置によれば、光路長変換手
段は、情報記録媒体からの光ビームを構成する光線毎に
異なる光路長を与えるだけで光検出手段上に光ビームス
ポットのパターンを変化させることかできることから、
光路長変換手段は、機械的に単純な形状にできる。従っ
て、光路長変換手段を光学系内に比較的許容度の大きな
配置関係に配置することができ、組立て調整が容易とな
る。

（実施例） 第１図は、この発明の一実施例に係るフォーカス検出装
置を示し、このフォーカス検出装置においては、光ビー
ムを発生する光源としての半導体レーザ２から発散性の
光ビーム即ち、レーザビームが偏光ビームスプリッタ４
に向けられ、この偏光ビームスプリッタ４の偏光面６及
びλ／４板８を介して対物レンズ１０に入射される。対
物レンズ１０に入射された発散性の光ビームは、この対
物レンズ１０によって記録領域を規定するトラック（図
示せず）を有する光記録情報媒体即ち、光ディスク１２
に集束される。対物レンズ１０が合焦状態に配置される
際には、集束性の光ビームのビームウェストが光ディス
ク１２０反射面上に投影され、最少ビームスポットがこ
の光ディスク１２の反射面上に形成される。対物レンズ
１０がその光軸に沿って合焦状態から僅かに光ディスク
１２に近付いたり、或いは、光ディスク１２から離れた
非合焦状態においては、集束性の光ビームのビームウェ
ストが光ディスク１２の反射面上に投影されず、最少ビ
ームスポットよりも大きなスポットがこの光ディスク１
２の反射面上に形成される。光ディスク１２から戻され
た発散性の光ビームは、対物レンズ１０によって集束性
の光ビームに変換され、再び４／λ板８を介して偏光ビ
ームスプリッタ４の偏光面６に戻される。４／λ板８ヲ
光ビームが往復することによって光ビームの偏光面が回
転され、従って偏光ビームスプリッタ４の偏光面６に戻
された光ビームは、この偏光面６で反射されて後に詳述
する光路長変換手段であるプリズム状光学部材１４に向
けられ、このプリズム状光学部材１４を透過して光検出
器１６に入射される。この光検出器１６は、後に説明す
るように複数の検出領域を有し、この検出領域からの検
出信号が信号処理回路］８によって処理されることによ
ってフォーカス制御信号及びトラック制御信号に変換さ
れる。フォーカス制御信号に応じてボイスコイル１９が
駆動されて対物レンズ１０もしくは光学系全体が光軸方
向に駆動されて対物レンズ１０が合焦状態に維持され、
トラック制御信号に応じて対物レンズ１０もしくは光学
系全体が光ディスク１２のトラックを横切る方向に駆動
されて集光された光ビームでトラックが追跡され、対物
レンズ１０が合トラック状態に維持される。

対物レンズ１０が合焦状態及び合トラック状態に維持さ
れている間に検出器１６の検出領域から発生された検出
信号は、信号処理回路１８で処理されて光ディスク１２
に記録されている情報に対応する再生信号に変換され、
信号処理回路１８から発生されされた再生信号は、図示
しない外部の表示装置等に再生情報として表示される。

第１図に示された光路長変換手段としてのプリズム状光
学部材１４には、既に述べたように集束性光ビームが入
射されるが、この集束性の光ビームは、第２Ａ図及び第
２Ｂ図に示すようにプリズム状光学部材１４によって屈
折されて集束点Ｐａ、Ｐｂ、Ｐｃで規定される集束線に
向かって集束される。

即ち、プリズム状光学部材１４を側面方向から示した第
２Ｂ図に示すようにこの集束性の光ビームを構成する光
線Ｌａ、Ｌｂ、Ｌｃは、夫々プリズム状光学部材１４の
入射面１４Ａ上の異なる入射点Ｒａ　、　Ｒｂ、Ｒｅに
入射されて屈折され、プリズム状光学部月１４中を通過
して出射面１４Ｂから出射される。

第２Ｂ図から明らかなように光線Ｌａ、Ｌｂ、Ｉ、ｃは
、プリズム状光学部材１４としての三角プリズムの面を
規定する入射面１４Ａ上の異なる入射点Ｒａ、Ｒｂ、Ｒ
ｅに入射されることから、プリズム状光学部材１４中で
は、第２Ａ図に示すように物理的距離Ａ。

Ｂ、Ｃを有する即ち、異なる光路長を有する光路を通っ
て出射面１４Ｂに達する。このことは、第２Ａ図に示す
ように平面的には、等しい入射角で光入射面１４Ａに入
射された光線Ｌａ　、　Ｌｂ　、　Ｌｃは、光軸に沿っ
た異なる入射点Ｒａ、Ｒｂ、Ｒｅで光入射面１４Ａに入
射されることから、光入射面１４Ａで屈折されるに際し
て平面的にも異なる光路を通る光線Ｌａ　、　Ｌｂ　、
　Ｌｃに分離されることとなる。従って、光出射面１４
Ｂから表れた光線Ｌａ　、　Ｌｂ　、　Ｌｃは、異なる
集束点Ｐａ、Ｐｂ、Ｐｃに集束される。

第２Ａ図及び第２Ｂ図を参照して説明したように集束性
の光ビームは、プリズム状光学部材１４によってコマ収
差に近い収差が与えられる。従って、光検出器１６の検
出面が第２Ｂ図に示すよう略光軸０に対して直角な点Ｄ
ａ　、　Ｄｂ　、　Ｄｃで規定される面に配置される場
合には、第３Ａ図、第３Ｂ図及び第３Ｃ図に示すような
光ビームスポットＳａ、Ｓｂ。

Ｓｃが光検出器１６の検出面に形成される。ここで、光
検出器１６の検出面は、その中心を通り、光軸０及び集
束点点Ｐａ、Ｐｂ、Ｐｃに対して直角な分割線２０で上
下の領域に区分され、また、この分割線２０に直交する
一対の分割線２２．２３によって、検出領域１６８〜１
６ｄが互いに等しい面積を有し、検出領域１６ｅ及び１
６ｆが互いに等しい面積を有するように６つの検出領域
１６ａ〜１６ｆに区分されている。このような検出器１
６の配置において、対物レンズ１０が合焦状態にある際
に光検出器１６の検出面の中心が集束点ｐｂに一致され
、光検出器１６の検出面の僅か前方に集束点Ｐａが形成
され、光検出器１６の検出面の僅か後方に集束点Ｐｃが
形成される場合には、光検出器１６の検出面の中心に集
束点ｐｂに対応する点状のスポットが形成される。また
、集束点Ｐａからは発散性の光ビームが光検出器１６の
検出面の上方の領域１６　ａ、　　１６　ｂ、　　１６
　ｅに入射されることからビームセグメントスポット５
ａ−１が形成され、集束点Ｐｃに向かう集束性の光ビー
ムが光検出器１６の検出面の下方の領域１６ｃ、１６ｄ
、１６ｆに入射されることからビームセグメントスポラ
）　５ａ−２が形成され、光検出器１６の検出面上には
、全体として８字型のパターンを有するビームスポット
Ｓａが形成される。これに対して、対物レンズ１０が光
ディスク１２に近付づいた非合焦状態にある場合には、
対物レンズ１０からの光ビームは、その集束性が弱まる
ことから、集束点Ｐａが光検出器１６の検出面に近付き
、集束点ｐｂが光検出器１６の検出面の後方にシフトさ
れ、また、集束点Ｐｃが光検出器１６の検出面からより
離れることとなる。従って、第３Ｂ図に示すように光検
出器１６の検出面の上方の領域１６ａ、１６ｂ、１６ｅ
に形成されるビームセグメントスポット５ｂ−１が合焦
時のビームセグメントスポット５ａ−１に比べ小さく形
成され、光検出器１６の検出面の下方の領域１６ｃ、１
６ｄ、１６ｆに形成されるビームセグメントスポット５
ｂ−２が合焦時のビームセグメントスポット５ａ−１に
比べ大きく形成される。また、対物レンズ１０が光ディ
スク１２から遠ざがった非合焦状態にある場合には、対
物レンズ１０からの光ビームは、その集束性が強まるこ
とから、集束点Ｐａが光検出器１６の検出面からより離
れ、集束点ｐｂが光検出器１６の検出面の前方にシフト
され、また、集束点Ｐｃが光検出器１６の検出面に近イ
ｑくこととなる。従って、第３Ｃ図に示すように光検出
器１６の検出面の上方の領域１６ａ。

１６ｂ、１６ｅに形成されるビームセグメントスポット
５ｃ−１が合焦時のビームセグメントスポット５ａ−１
に比べ大きく形成され、光検出器１６の検出面の下方の
領域１６ｃ、１６ｄ、１．６ｆに形成されるビームセグ
メントスポット５ｃ−２が合焦時のビームセグメントス
ポット５ａ−２に比べ大きく形成される。

第４図に示すように光検出器１６の検出領域１６ａ、１
６ｂ、１６ｆは、第１の加算器２６に接続され、その検
出領域１６ａ、１６ｂ、１６ｆからの検出信号が第１の
加算器２６で加算される。

また、光検出器１６の検出領域１６ｃ、１６ｄ。

１６ｅは、第２の加算器２８に接続され、その検出領域
１６　ｃ、　　１６　ｄ、　　１６　ｅからの検出信号
が第２の加算器２８によって加算される。第１及び第２
の加算器２６．２８からの加算信号が作動増幅器３０に
入力され、その差が増幅されてフォーカス制御信号とし
て発生される。第３Ａ図の説明から明らかなように合焦
時には、検出領域１６ａ。

１６ｂ、１６ｃ、１６ｄからの検出信号か互いに等しく
、また、検出領域１６ｅ、１６ｆからの検出信号が互い
に等しい。従って、合焦時においては、作動増幅器３０
から合焦を意味するゼロレベルのフォーカス制御信号が
発生される。これに対して、対物レンズ１０が光ディス
ク１２に近付づいた非合焦状態にある場合には、検出領
域１６ａ。

１６ｂ、１６ｆからの検出信号を第１の加算器２６によ
って加算した第１の和信号が検出領域１６ｃ、１６ｄ、
１６ｅからの検出信号を第２の加算器２８によって加算
した第２の和信号に比べて小さくなり、作動増幅器３０
から例えば、プラスレベルのフォーカス制御信号が発生
される。対物レンズ１０が光ディスク１２から遠ざかっ
た非合焦状態にある場合には、検出領域１６ａ、１６ｂ
。

１６ｆからの検出信号を第１の加算器２６によって加算
した第１の和信号が検出領域１６ｃ、１６ｄ、１６ｅか
らの検出信号を第２の加算器２８によって加算した第２
の和信号に比べて大きくなり、作動増幅器３０から例え
ば、マイナスレベルのフォーカス制御信号が発生される
。

第４図に示すように光ディスク１２のトラックで光ビー
ムが回折されることによって光検出器１６の検出面上に
形成されるビームスポットＳａ中に暗部として回折パタ
ーン３０が生じる。この回折パターン３０を検出する為
に第４図に示すように光検出器１６の検出領域１６　ａ
、　　１６　ｂ、　　１６ｅは、第３の加算器３２に接
続され、その検出領域１６ａ、１６ｂ、１６ｅからの検
出信号が第３の加算器３２で加算される。また、光検出
器１６の検出領域１６ｃ、１６ｄ、１６ｆは、第４の加
算器３４に接続され、その検出領域１６ｃ、１６ｄ。

１６ｆからの検出信号が第４の加算器３４によって加算
される。第１及び第２の加算器３２．３４からの第１及
び第２の加算信号が作動増幅器３６に入力され、その差
が増幅されてトラック制御信号として発生される。光デ
ィスク１２のトラックが光ビームで正確に追跡されてい
る合トラック状態では、第４図に示されるように回折パ
ターンが分割線２０に対して対称に生じる。従って、第
１及び第２の加算器３２．３４から等しいレベルの第１
及び第２の加算信号が発生され、作動増幅器３６からは
、ゼロレベルのトラック制御信号が発生される。これに
対して、光ディスク１２のトラツクの中心から光ビーム
が僅かに外れた非合トラック状態では、回折パターン３
０は、光ビームスポットＳａ中で光検出器１６の検出領
域１６ａ、１６ｂ、１６ｃ或いは、検出領域１６ｃ、１
６ｄ。

１６ｆのいずれかの側に僅かにシフトされる。従って、
第１及び第２の加算器３２．３４から異なるレベルの第
１及び第２の加算信号が発生され、作動増幅器３６から
は、プラス或いは、マイナスレベルのトラック制御信号
が発生される。

光検出器１６の検出領域１６ａ、１６ｂ、１６ｃ、１６
ｃ、１６ｄ、１６ｆは、第４図に示すように加算器３５
に接続されている。光デイスク１２上では、これに集束
された光ビームが光ディスク１２のトラックに記録され
た情報、例えば、ピットとして記録された情報によって
強度変調される。従って、光検出器１６上には、記録さ
れた情報に応じて強度変調された光ビームが入射され、
光検出器］６の検出領域１６ａ、１６ｂ、１６ｃ。

１６ｃ、１６ｄ、１６ｆからの検出信号が加算器３５に
よって加算されることによって再生信号が発生される。

第５Ａ図は、プリズム状光学部材１４に代えて他の光路
長変換手段として平行平板４０が用いられ、この平行平
板４０が光軸Ｏに対して斜めに配置されている。この平
行平板４０に集束性の光ビームが入射されると、光ビー
ムは、異なる集束点Ｐｅ、　Ｐｆ、　Ｐｇで規定される
集束線に向けて集束される。即ち、平行平板４０を側面
方向から示した第５Ａ図に示すようにこの集束性の光ビ
ームを構成する光線Ｌｅ、Ｌｆ、Ｌｇは、夫々平行平板
４０の入射面４０上の異なる入射点Ｒｅ、Ｒｆ、Ｒｄに
入射されて屈折され、平行平板４０中を通過して出射面
４０Ｂから出射される。第５Ａ図から明らかなように光
線Ｌｅ、Ｌｆ、Ｌｇは、平行平板４０の面を規定する入
射面４０Ａ上の異なる入射点Ｒｅ、Ｒｒ、Ｒｇに入射さ
れることから、平行平板４０中では、第５Ｂ図、第５Ｃ
図及び第５Ｃ図に示すように物理的距離Ｅ。

Ｆ、Ｇを有する即ち、異なる光路長を有する光路を通っ
て出射面４０Ｂに達する。従って、光出射面４０Ｂから
表れた光線Ｌｅ、Ｌｆ’、Ｌｇは、異なる集束点Ｐｅ、
ＰＩ’、Ｐｇに集束される。ここで、光検出器１６の検
出面が第５Ａ図に示すよう略光軸０に対して直角な点Ｄ
ｅ、Ｄｒ、Ｄｇで規定される面に配置される場合には、
第３Ａ図、第３Ｂ図及び第３Ｃ図を参照して説明したよ
うにビームスポットＳａ、Ｓｂ、Ｓｃが光検出器１６の
検出面に形成される。従って、ビムスポットＳａ、Ｓｂ
、Ｓｃの変化によりフォーカスを検出することができる
。

本発明の光路長変換手段を用いた他のフォーカス検出方
法として第６図に示すような遮光板或いは、遮光膜４２
が第１図に示されるプリズム状光学部材１４の光路中に
配置されてフォーカス検出装置が構成されても良い。遮
光板４２は、その中心が光軸上に配置され、光軸に交差
し、その中心を通る互いに直交する区分線によって夫々
一対の光透過領域４２ａ、４２ｂ及び光遮光領域４２Ｃ
１４２ｄに区分され、夫々一対の光透過領域４２ａ。

４２ｂ及び光遮光領域４２ｃ、４２ｄが対角方向に配置
されている。この遮光板４２が光路中に配置されること
によって第７Ａ図に示すような合焦時に生じる８の字形
のビームスポットパターンＳａが第７Ｂ図に示すように
８の字形が縦に欠けたビームスポットパターンｓｈに変
化される。このビームスポットパターンｓｈのフォーカ
ス状態に応じた変化は、第８Ａ図、第８Ｂ図及び第８Ｃ
図に示すように互いに直交する分割線で４つに区分され
た検出領域４４Ａ、４４Ｂ、４４Ｃ，４４Ｄを有する検
出器４４で検出される。第８Ａ図に示すように対物レン
ズ１０が合焦状態にある場合には、第７Ｂ図に示すよう
なビームスポットパターンＳｈが検出器４４の検出面上
に生じ、対角方向に配置された検出領域４４Ａ、４４Ｄ
からの検出信号を加算した第１の加算信号が対角方向に
配置された検出領域４４Ｂ、４４Ｃからの検出信号を加
算した第２の加算信号に等しくなるように検出領域４４
Ａ、４４Ｂ、４４Ｃ，４４Ｄから検出信号が発生される
。従って、第１及び第２の加算信号の差を出力する作動
増幅器からは、ゼロレベルのフォーカス信号が発生され
る。これに対して対物レンズ１０が光ディスク１２に近
付づいた非合焦状態にある場合には、第８Ｂ図に示すよ
うなビームスポットパターンＳｉが検出器４４の検出面
上に生じ、検出領域４４Ａ、４４Ｄからの検出信号を加
算した第１の加算信号が検出領域４４Ｂ、４４Ｃからの
検出信号を加算した第２の加算信号よりも小さくなる。

従って、第１及び第２の加算信号の差を出力する作動増
幅器からは、例えば、プラスレベルのフォーカス信号が
発生される。また、対物レンズ１０が光ディスク１２か
ら遠ざかった非合焦状態にある場合には、第８Ｃ図に示
すようなビームスポットパターンＳｊが検出器４４の検
出面上に生じ、検出領域４４Ａ、４４Ｄからの検出信号
を加算した第１の加算信号が検出領域４４Ｂ、４４Ｃか
らの検出信号を加算した第２の加算信号よりも大きくな
る。従って、第１及び第２の加算信号の差を出力する作
動増幅器からは、例えば、マイナスレベルのフォーカス
信号が発生される。第６図に示される遮光板４２は、第
１図の光学系では、透過領域４２ａ、４２ｄが偏光ビー
ムスプリッタ４の偏光面６の領域に相当し、遮光領域４
２ｂ、４２ｃが偏光ビームスプリッタ４の偏光面６が形
成されていないの領域に相当しても良い。このように偏
光面６を形成することによって半導体レーザ２からの光
ビームがそのまま偏光ビームスプリッタ４を透過て対物
レンズによって光ディスク１２に集束されるに対して、
光ディスク１２からの光ビームが偏光面で反射されるに
際して透過領域４２ａ、４２ｄに相当する偏光面６の領
域でのみ光ビームの一部が反射され、光ビームの残る一
部が遮光領域４２ｂ、４２ｃに相当する偏光面６が形成
されていないの領域を透過される。これによって、偏光
ビームスプリッタ４の偏光面６に遮光板４２と同様の機
能を与えることができる。

第９図に示される光学系においては、第１図に示される
プリズム状光学部材１４に代えて偏光面６から反射され
た光路上にシリンドリカルレンズ４８が光軸０に対して
斜めに配置され、偏光ビームスプリッタ４の光出射面４
Ａに第６図に示されるような遮光膜４２が設けられてい
る。この光学系においては、偏光面６から反射された光
ビームの一部がこの遮光膜４２によって抜き出されてシ
リンドリカルレンズ４８によって光検出器１６上に集束
される。この光学系においては、第５Ａ図から第５Ｄ図
を参照して説明した平行平板４０と同様にシリンドリカ
ルレンズ４８から出射された光ビームは、第１０図に示
すように集光線５０に集光されることから、この集光線
５０に交差し、光軸に直角に光検出器１６の検出面を配
置することによって同様にフォーカスを検出することが
できる。

第１１図に示される光学系においては、一方の面５４Ａ
が偏光面に形成され、他方の面５４Ｂに第６図に示され
るような遮光膜４２が形成されている光学部材５４が検
出器１６と対物レンズ１０の間に配置されている。この
光学系においては、半導体レーザ２からの光ビームがプ
リズム状光学部材５４の偏光面５４Ａで反射されて対物
レンズ］０に向けられ、光ディスク１２から反射され対
物レンズ１０によって集束された集束性の光ビームがプ
リズム状光学部祠５４の偏光面５４Ａを透過し、プリズ
ム状光学部材５４の遮光膜４２でその一部が抜出されて
光検出器１６に向けられる。

この光学系においても同様に正確にフォーカスが検出さ
れる。

第１２図に示される光学系においては、プリズム状光学
部材１４の一方の面５４Ａが偏光面に形成され、他方の
面５４Ｂに第６図に示されるような遮光膜４２と同一の
パターンを有する光反射膜がコーティングによって形成
されている。即ち、第６図に示される光透過領域４２ａ
、４２ｄに相当する領域にコーティング層が形成されて
光反射面が形成され、光遮蔽領域４２ｂ、４２ｃに相当
する領域が光透過領域に規定されている。この光学系に
おいては、半導体レーザ２からの光ビームがプリズム状
光学部材５４の偏光面５４Ａで反射されて対物レンズ１
０に向けられ、光ディスク１２から反射され対物レンズ
１０によって集束された集束性の光ビームがプリズム状
光学部祠５４の偏光面５４Ａを透過し、プリズム状光学
部材５４の遮光膜４２でその一部が反射されて光検出器
１６に向けられ、残る一部が他方の面５４Ｂを透過され
る。この光学系においても同様に正確にフォーカスが検
出される。

第１３図に示される光学系においては、一方の面５８Ａ
が偏光面に形成され、他方の面５８Ｂに第６図に示され
るような遮光膜４２と同一のパターンを有する光反射膜
が形成されている平行平板５８が光検出器１６と対物レ
ンズ１ｏの間に配置されている。この光学系においては
、半導体レザ２からの光ビームが平行平板５８の偏光面
５８Ａで反射されて対物レンズ１ｏに向けられ、光ディ
スク１２から反射され対物レンズ１ｏによって集束され
た集束性の光ビームが平行平板５８の偏光面５８Ａを透
過し、平行平板５８の光反射膜でその一部が抜出されて
光検出器１６に向けられる。

この光学系においても同様に正確にフォーカスが検出さ
れる。

上述した実施例においては、光ビームにコマ収差に近い
収差を与える光学部材に集束光が入射された実施例につ
いて説明したが、集束光に限らず発散光がこの光学部材
に入射されても良い。このような変形例にあっては、光
学部材がら出射される発散光が後段の集束レンズによっ
て集束されれば、上述したと同様に集束性の光ビームが
検出器に入射されることとなる。光ビームにコマ収差に
近い収差を与える光学部材は、上述したプリズム、平行
平板、シリンドリカルプリズム等に限らず、屈折率が光
透過領域によって異なる光屈折部材或いは、セルフフォ
ーカスレンズ又は、ロッドレンズとが用いられても良い
。これらの光学部材は、光ＩＣを製造するに用いられる
光導波路の屈折率を変′る技術によって製造することが
できる。

［発明の効果コ この発明によれば、光ビームにコマ収差に近い収差を与
える光学部材が単純な形状を有していることから光学系
の組立て調整が容易であり、しがも正確に且つ安定して
フォーカスを検出できる。

【図面の簡単な説明】

第１図は、この発明の一実施例に係るフォーカス検出装
置を概略的に示すブロック図、第２Ａ図及び第２Ｂ図は
、第１図に示されたプリズム状光学部材中の光線軌跡を
示す平面図及び側面図、第３Ａ図、第３Ｂ図及び第３Ｃ
図は、夫々合焦状態及び非合焦状態における第１図に示
された検出器の検出面上に生じる光ビームスポットパタ
ーンを示す平面図、第４図は、第１図に示された信号処
理回路の回路例を示すブロック図、第５Ａ図、第５Ｂ図
、第５Ｃ図、及び第５Ｄ図は、夫々フォーカス検出用光
線に光路差を与える光学部材としての平行平板及びこれ
を通過する光線軌跡を示す側面図及び平面図、第６図は
、この発明の変形実施例に係る光学系に組込まれる光遮
光板を示す平面図、第７Ａ図及び第７Ｂ図は、夫々第６
図に示される遮光板が組込まれない光学系及び遮光板が
組込まれた光学系における検出器面上に形成される光ビ
ームスポットパターンを示す平面図、第８Ａ図、第８Ｂ
図、第８Ｃ図は、夫々合焦状態及び非合焦状態における
第６図に示された遮光板が組込まれた光学系の検出器の
検出面上に生じる光ビームスポットパターンを示す平面
図、第９図から第１３図は、夫々この発明の変形実施例
に係る光学径を示すブロック図を示している。 ２・・・半導体レーザ、４・・・偏光ビームスプリッタ
、８・・・λ／４板、１０・・・対物レンズ、１２・・
・情報記録媒体、１４・・・プリズム状光学部材、１６
・・・光検出器、４０・・・平行平板、４２・・・遮光
板、４８・・・シリンドリカルレンズ。 出願人　代理人　弁理士　鈴　江　武　彦第 図 第 図

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 光ビームを発生する光源と、この光源からの光ビームを
   情報記録媒体上に集光する集光手段と、この光ビームが
   導入される光学部材であつて、光ビームを構成する光線
   毎に異なる光路長を与える光路長変換手段と、この光路
   長変換手段からの光ビームを検出する手段であつてこの
   検出手段上における光ビームによつて生じるビームパタ
   ーンの変化を検出する検出手段とを具備することを特徴
   とするフォーカス検出装置