JPH02194362A - 加速度センサ - Google Patents
加速度センサInfo
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- JPH02194362A JPH02194362A JP1013156A JP1315689A JPH02194362A JP H02194362 A JPH02194362 A JP H02194362A JP 1013156 A JP1013156 A JP 1013156A JP 1315689 A JP1315689 A JP 1315689A JP H02194362 A JPH02194362 A JP H02194362A
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01P—MEASURING LINEAR OR ANGULAR SPEED, ACCELERATION, DECELERATION, OR SHOCK; INDICATING PRESENCE, ABSENCE, OR DIRECTION, OF MOVEMENT
- G01P15/00—Measuring acceleration; Measuring deceleration; Measuring shock, i.e. sudden change of acceleration
- G01P15/02—Measuring acceleration; Measuring deceleration; Measuring shock, i.e. sudden change of acceleration by making use of inertia forces using solid seismic masses
- G01P15/08—Measuring acceleration; Measuring deceleration; Measuring shock, i.e. sudden change of acceleration by making use of inertia forces using solid seismic masses with conversion into electric or magnetic values
- G01P2015/0805—Measuring acceleration; Measuring deceleration; Measuring shock, i.e. sudden change of acceleration by making use of inertia forces using solid seismic masses with conversion into electric or magnetic values being provided with a particular type of spring-mass-system for defining the displacement of a seismic mass due to an external acceleration
- G01P2015/0822—Measuring acceleration; Measuring deceleration; Measuring shock, i.e. sudden change of acceleration by making use of inertia forces using solid seismic masses with conversion into electric or magnetic values being provided with a particular type of spring-mass-system for defining the displacement of a seismic mass due to an external acceleration for defining out-of-plane movement of the mass
- G01P2015/0825—Measuring acceleration; Measuring deceleration; Measuring shock, i.e. sudden change of acceleration by making use of inertia forces using solid seismic masses with conversion into electric or magnetic values being provided with a particular type of spring-mass-system for defining the displacement of a seismic mass due to an external acceleration for defining out-of-plane movement of the mass for one single degree of freedom of movement of the mass
- G01P2015/0828—Measuring acceleration; Measuring deceleration; Measuring shock, i.e. sudden change of acceleration by making use of inertia forces using solid seismic masses with conversion into electric or magnetic values being provided with a particular type of spring-mass-system for defining the displacement of a seismic mass due to an external acceleration for defining out-of-plane movement of the mass for one single degree of freedom of movement of the mass the mass being of the paddle type being suspended at one of its longitudinal ends
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- Pressure Sensors (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の目的〕
（産業上の利用分野）
本発明は、特にシリコン（８４） を構造体として用
いた微小機械（マイクロメカニズム）をなす加速度セン
サに関する。
いた微小機械（マイクロメカニズム）をなす加速度セン
サに関する。
（従来の技術）
近時、ＬＳＩ製造技術の進歩が機械の分野にも強い影響
を及ぼし始めている。とくに、リングラフィ、エツチン
グなどの微細パターン形成技術が極めて微小な機構部材
の加工を可能にしたことから、微来の常識を破る微小機
械（マイクロメカニズム）の実現の途が開けてきた。と
りわけ、シリコンウェハ上に形成されるマイクロメカニ
ズムにおいては、機構部材とともに電子回路をも一枚の
ウェハ上に形成して、一つのシステムをウエノ為上に作
す上げる「システム・オン・チップ」を実現できる。
を及ぼし始めている。とくに、リングラフィ、エツチン
グなどの微細パターン形成技術が極めて微小な機構部材
の加工を可能にしたことから、微来の常識を破る微小機
械（マイクロメカニズム）の実現の途が開けてきた。と
りわけ、シリコンウェハ上に形成されるマイクロメカニ
ズムにおいては、機構部材とともに電子回路をも一枚の
ウェハ上に形成して、一つのシステムをウエノ為上に作
す上げる「システム・オン・チップ」を実現できる。
たとえば、第５図は、スタンフォード大学で開発した加
速度計〔「アイ・イー・イー・イー・トランザクション
ズＪ （Ｖｏｌ、ＥＤ−２６，１９７９年１２月、第１
９１１〜１９１７頁）〕であるが、片持梁部（Ａ）は、
シリコンウェハ（Ｂ）をエツチング穿孔することにより
形成されている。そうして、片持梁部（Ａ）の付は根に
設けられた抵抗型ひずみゲージ（Ｃ）により、加速度に
より変形した片持梁部（Ａ）のたわみ量を１％の精度で
検出するものである。このような加速度計の質量は非常
に小さく、わずかに２０岬であり、微小質量の被測定物
に直接貼付けても加速度を精度良く測れるところに微小
化の意義がある。
速度計〔「アイ・イー・イー・イー・トランザクション
ズＪ （Ｖｏｌ、ＥＤ−２６，１９７９年１２月、第１
９１１〜１９１７頁）〕であるが、片持梁部（Ａ）は、
シリコンウェハ（Ｂ）をエツチング穿孔することにより
形成されている。そうして、片持梁部（Ａ）の付は根に
設けられた抵抗型ひずみゲージ（Ｃ）により、加速度に
より変形した片持梁部（Ａ）のたわみ量を１％の精度で
検出するものである。このような加速度計の質量は非常
に小さく、わずかに２０岬であり、微小質量の被測定物
に直接貼付けても加速度を精度良く測れるところに微小
化の意義がある。
しかしながら、上記従来の加速度計は、片持梁部（Ａ）
に、過大な加速度がかかった場合、根元部分が破壊して
しまう事があり、信頼性の点で問題があるため、用途に
制約を受けている。
に、過大な加速度がかかった場合、根元部分が破壊して
しまう事があり、信頼性の点で問題があるため、用途に
制約を受けている。
（発明が解決しようとする課題）
本発明は、上記事情を参酌してなされたもので、マイク
ロメカニズムをなす加速度センサを提供することを目的
とする。
ロメカニズムをなす加速度センサを提供することを目的
とする。
（課題を解決するための手段と作用）
マイクロメカニズムである加速度センサにおいて、シリ
コン基板を穿孔して形成された片持梁部に第１の電極を
設けるとともに、この片持梁部を封止する箱状の封止部
材の内底部に第２の電極を設け、これら第１及び第２の
電極を互に同極又は異他に帯電させることにより、片持
梁部が加速度によりその根元部から破壊しない方向に駆
動するようにしたものである。
コン基板を穿孔して形成された片持梁部に第１の電極を
設けるとともに、この片持梁部を封止する箱状の封止部
材の内底部に第２の電極を設け、これら第１及び第２の
電極を互に同極又は異他に帯電させることにより、片持
梁部が加速度によりその根元部から破壊しない方向に駆
動するようにしたものである。
（従来の技術）
以下、本発明の一実施例を図面を参照して詳述する。
第１図は、この実施例の加速度センサを示している。こ
の加速度センサは、加速度に応じて揺動する振り子部（
１）と、この振り子部（１）の上、下面に密着・封止す
る第１及び第２蓋体部（２）、 （３）と、後述する振
り子部（１）の加速度ｔこ基因する揺動を制御する変位
制御部（４）と、上記加速度を算出する加速度演算部（
５）とからなっている。しかして、振り子部（１）は、
シリコン（Ｓｉ）を素材とするもので、第２図に示すよ
うに、矩形状をなす基板（６）と、この基板（６）の一
つの内側面に加速度により揺動自在に突設された片持梁
部（７）とからなっている。そして、この片持梁部（７
）は、基板（６）から突出した根元部（８）と、この根
元部（８）の先端に連結された振り子片（９）と、根元
部（８）の上面に形成されたピエゾ抵抗素子α１と、振
り子片（９）の上、下面に形成された第１及び第２電極
任υ、αりとからなっている。これら第１及び第２電極
αυ、σａは、接地されている。一方、第１及び第２蓋
体部（２）、 （３）は、振り子部（１）を密封・閉止
するように、例えばシリコン基板を素材として、箱状ｌ
こ形成されている。そして、これら第１及び第２蓋体部
ｆ２）、 （３）に設けられた凹部α３．（１４１１の
内底部には、第１及び第２電極圓、俣３＃こ対面するよ
うに第３及び第４電極αつ、傾が形成されている。そし
て、第１及び第２蓋体部ｆ２）、 （３）の側壁の端面
は、基板（６）の端面に固着している。さらに、変位制
御部（４）は、基板（６）上にフォトリングラフィ技術
を用いて形成されたもので、ピエゾ抵抗素子α１に電気
的に接続され、このピエゾ抵抗素子（１１の根元部（８
）の加速度発生ｌこ伴う揺動変位１こ基因する抵抗変化
つまり、振り子片（９Ｊの変位量（回動量θ）を検出す
る変位検出部α榎と、この変位検出部（Ｌｓ＋こおける
検出結果に基づいて、変位している振り子片（９）を加
速度が付加されていない状態に復元させるのに必要な第
３又は第４電極ａｓ、 （ｌｉに印加させるべき電圧値
Ｖ、 、 Ｖ、を算出する印加電圧演算部Ｉと、この電
圧演算部（１９からの電圧値信号ＳＶを入力しこの電圧
値信号Ｓｖが示す電圧値Ｖ、 、 Ｖ、を実際に第３又
は第４電極（Ｌｓ、 囮に印加する電圧印加部翰とから
なっている。他方、加速度演算部（５）基板（６）上に
フォトリソグラフィ技術を用いて形成されたもので、印
加電圧演算部（１１において算出された電圧値Ｖ３．
Ｖ、を示す電圧値信号Ｓｖを入力しこの電圧値信号ＳＶ
が示す電圧値Ｖ、 、 Ｖ、に基づいて加速度ＡＸを算
出し、算出結果を示す加速度信号ＳＡを出力し、別設さ
れた表示器Ｑυに測定した加速度ＡＸを表示させるよう
になっている。なお、Ｓｉ基板への振り子部（１）の片
持梁部（力の形成並びにＳｉ基板への第１及び第２蓋体
部（２）、 （３）の凹部０３、瑣の形成は、異方性エ
ツチングにより行う。
の加速度センサは、加速度に応じて揺動する振り子部（
１）と、この振り子部（１）の上、下面に密着・封止す
る第１及び第２蓋体部（２）、 （３）と、後述する振
り子部（１）の加速度ｔこ基因する揺動を制御する変位
制御部（４）と、上記加速度を算出する加速度演算部（
５）とからなっている。しかして、振り子部（１）は、
シリコン（Ｓｉ）を素材とするもので、第２図に示すよ
うに、矩形状をなす基板（６）と、この基板（６）の一
つの内側面に加速度により揺動自在に突設された片持梁
部（７）とからなっている。そして、この片持梁部（７
）は、基板（６）から突出した根元部（８）と、この根
元部（８）の先端に連結された振り子片（９）と、根元
部（８）の上面に形成されたピエゾ抵抗素子α１と、振
り子片（９）の上、下面に形成された第１及び第２電極
任υ、αりとからなっている。これら第１及び第２電極
αυ、σａは、接地されている。一方、第１及び第２蓋
体部（２）、 （３）は、振り子部（１）を密封・閉止
するように、例えばシリコン基板を素材として、箱状ｌ
こ形成されている。そして、これら第１及び第２蓋体部
ｆ２）、 （３）に設けられた凹部α３．（１４１１の
内底部には、第１及び第２電極圓、俣３＃こ対面するよ
うに第３及び第４電極αつ、傾が形成されている。そし
て、第１及び第２蓋体部ｆ２）、 （３）の側壁の端面
は、基板（６）の端面に固着している。さらに、変位制
御部（４）は、基板（６）上にフォトリングラフィ技術
を用いて形成されたもので、ピエゾ抵抗素子α１に電気
的に接続され、このピエゾ抵抗素子（１１の根元部（８
）の加速度発生ｌこ伴う揺動変位１こ基因する抵抗変化
つまり、振り子片（９Ｊの変位量（回動量θ）を検出す
る変位検出部α榎と、この変位検出部（Ｌｓ＋こおける
検出結果に基づいて、変位している振り子片（９）を加
速度が付加されていない状態に復元させるのに必要な第
３又は第４電極ａｓ、 （ｌｉに印加させるべき電圧値
Ｖ、 、 Ｖ、を算出する印加電圧演算部Ｉと、この電
圧演算部（１９からの電圧値信号ＳＶを入力しこの電圧
値信号Ｓｖが示す電圧値Ｖ、 、 Ｖ、を実際に第３又
は第４電極（Ｌｓ、 囮に印加する電圧印加部翰とから
なっている。他方、加速度演算部（５）基板（６）上に
フォトリソグラフィ技術を用いて形成されたもので、印
加電圧演算部（１１において算出された電圧値Ｖ３．
Ｖ、を示す電圧値信号Ｓｖを入力しこの電圧値信号ＳＶ
が示す電圧値Ｖ、 、 Ｖ、に基づいて加速度ＡＸを算
出し、算出結果を示す加速度信号ＳＡを出力し、別設さ
れた表示器Ｑυに測定した加速度ＡＸを表示させるよう
になっている。なお、Ｓｉ基板への振り子部（１）の片
持梁部（力の形成並びにＳｉ基板への第１及び第２蓋体
部（２）、 （３）の凹部０３、瑣の形成は、異方性エ
ツチングにより行う。
また、第１乃至第４電極＋１．１）、 Ｃ［２１，α５
）、（１６１は、Ｓｔ基板上へのアルミニウムの蒸着に
より形成する。そして、片持梁部（７）の長さは、例え
ば１００μｍ〜５００μ町基板（６）の大きさは例えば
２ｗＸ：３ｍ である。さらに、ピエゾ抵抗素子ＯＩの
根元部（８）への形成も、フ］ト・リングラフィ技術に
より行う。
）、（１６１は、Ｓｔ基板上へのアルミニウムの蒸着に
より形成する。そして、片持梁部（７）の長さは、例え
ば１００μｍ〜５００μ町基板（６）の大きさは例えば
２ｗＸ：３ｍ である。さらに、ピエゾ抵抗素子ＯＩの
根元部（８）への形成も、フ］ト・リングラフィ技術に
より行う。
つぎに、上記構成の加速度センサの作動について述べる
。
。
まず、第２図に示すように、加速度センサに、矢印（２
２１方向に加速度が作用する古、振り子片（９１には、
矢印（２）方向の力が作用し、角度θだけ変位する。こ
れｊごともない根元部（８）に設けられているピエゾ抵
抗素子部の抵抗値が変化する。このときの抵抗値変化Δ
Ｒは、変位検出部０８にて検出される。
２１方向に加速度が作用する古、振り子片（９１には、
矢印（２）方向の力が作用し、角度θだけ変位する。こ
れｊごともない根元部（８）に設けられているピエゾ抵
抗素子部の抵抗値が変化する。このときの抵抗値変化Δ
Ｒは、変位検出部０８にて検出される。
ついて、この変位検出部α印からは、抵抗値変化Δ几を
示す検出信号ＳＲが、印加電圧演算部（１９に出力され
る。すると、検出信号Ｓｌｔを入力したこの印加電圧演
算部（Ｌｌにては、振り子片（９（を矢印＠方向に復元
させるのに必要な電圧Ｖ、 、 Ｖ、を算出する。
示す検出信号ＳＲが、印加電圧演算部（１９に出力され
る。すると、検出信号Ｓｌｔを入力したこの印加電圧演
算部（Ｌｌにては、振り子片（９（を矢印＠方向に復元
させるのに必要な電圧Ｖ、 、 Ｖ、を算出する。
このとき、第１及び第２ｉｔ極αυ、（１カは接地され
ている。したがって、振り子片（９）を加速度に逆って
矢印＠方向に駆動するには、第４電極囮に正電圧■４を
印加することにより、第２電極仕２と第４電極（ｌｅと
の同に静電引力を発生させればよい。このとき、第３電
極０５）への電圧Ｖ３ 印加は停止させておく。かくし
こ、算出された電圧Ｖ、 、 Ｖ、を示す電圧値信号Ｓ
Ｖが電圧印加部□□□に印加される。すると、この電圧
印加部（１）からは、第４電極αｅに正電圧Ｖ４が印加
される。その結果、第２電極（１２と第４電極（１６１
との間には、静電引力が発生し、振り子片ｔ９１は、矢
印口方向に変位し、加速度による慣性力（！：静電引力
とが平衡する態位ｉ！ （加速度が付加されるｉＩＪの
位置）にて停止する。一方、加速度演算部（５）にては
、印加電圧演算部α］から出力された電圧値信号Ｓｖを
入力し、印加丈べき電圧値Ｖ３゜■４を読み込んだ後、
これらの電圧値Ｖ、 、 Ｖ、から加速度ＡＸを算出し
、この加速度ＡＸを表示器（２１）にて表示させる。
ている。したがって、振り子片（９）を加速度に逆って
矢印＠方向に駆動するには、第４電極囮に正電圧■４を
印加することにより、第２電極仕２と第４電極（ｌｅと
の同に静電引力を発生させればよい。このとき、第３電
極０５）への電圧Ｖ３ 印加は停止させておく。かくし
こ、算出された電圧Ｖ、 、 Ｖ、を示す電圧値信号Ｓ
Ｖが電圧印加部□□□に印加される。すると、この電圧
印加部（１）からは、第４電極αｅに正電圧Ｖ４が印加
される。その結果、第２電極（１２と第４電極（１６１
との間には、静電引力が発生し、振り子片ｔ９１は、矢
印口方向に変位し、加速度による慣性力（！：静電引力
とが平衡する態位ｉ！ （加速度が付加されるｉＩＪの
位置）にて停止する。一方、加速度演算部（５）にては
、印加電圧演算部α］から出力された電圧値信号Ｓｖを
入力し、印加丈べき電圧値Ｖ３゜■４を読み込んだ後、
これらの電圧値Ｖ、 、 Ｖ、から加速度ＡＸを算出し
、この加速度ＡＸを表示器（２１）にて表示させる。
逆に、第４図に示すように、加速度センサに矢印（至）
方向に加速度が作用すると、振り子片（９）には、矢印
＠方向の力が作用し、角度θ′だけ変位する。
方向に加速度が作用すると、振り子片（９）には、矢印
＠方向の力が作用し、角度θ′だけ変位する。
この場合は、第４電極（１６）へ印加する電圧Ｖ４はＯ
にし、第３電極０９へ印加する電圧Ｖ、を印加電圧演算
部Ｑ’Ｊにて求める。そして、求めた電圧Ｖ、を電圧印
加部（２１を介して、電圧Ｖ、を第３電極叫へ印加する
と、第１電極０］）と第３電極Ｕ最との間には、静′亀
引力が発生し、撮り子片（９１は、矢印（２）方向に変
位し、加速度が付加される前の位置にて停止する。そう
して、加速度演算部（５）にては、このときのＶ、、Ｖ
、に基づいて、加速度ＡＸを算出し、この加速度ＡＸを
示す加速度信号８Ａを入力した表示器０１１にて表示さ
せる。
にし、第３電極０９へ印加する電圧Ｖ、を印加電圧演算
部Ｑ’Ｊにて求める。そして、求めた電圧Ｖ、を電圧印
加部（２１を介して、電圧Ｖ、を第３電極叫へ印加する
と、第１電極０］）と第３電極Ｕ最との間には、静′亀
引力が発生し、撮り子片（９１は、矢印（２）方向に変
位し、加速度が付加される前の位置にて停止する。そう
して、加速度演算部（５）にては、このときのＶ、、Ｖ
、に基づいて、加速度ＡＸを算出し、この加速度ＡＸを
示す加速度信号８Ａを入力した表示器０１１にて表示さ
せる。
以上のように、この実施例の加速度センサは。
付加された加速度により片持梁部（力に過大な力がかか
っても、変位制御部（４）により、静電気力を利用して
片持梁部（力を常に原位置に吉とまるように制御できる
ので、根元部（８）の破壊を招くことがない。したがっ
て、加速度センサ自体の質量が微小であることと相俟っ
て、この加速度センサの適応範囲が拡大する。
っても、変位制御部（４）により、静電気力を利用して
片持梁部（力を常に原位置に吉とまるように制御できる
ので、根元部（８）の破壊を招くことがない。したがっ
て、加速度センサ自体の質量が微小であることと相俟っ
て、この加速度センサの適応範囲が拡大する。
なお、上記実施例において、第１及び第２電極０υ、
Ｑ３接地となっているが、正・負電圧を印加しおいても
よい。この場合、第３及び第４電極０り。
Ｑ３接地となっているが、正・負電圧を印加しおいても
よい。この場合、第３及び第４電極０り。
（ｌｅには、同極又は異極の電圧を印加することにより
、振り子片（９）の揺動を制御するようにしてもよい。
、振り子片（９）の揺動を制御するようにしてもよい。
さらに、振り子片（９Ｊの揺動の制御を、例えば、第３
図において、第２図に示す第４電極住ｅに正電圧を印加
することにより、第２電極Ｑ３との間に静電引力を発生
させ、第１電極αυと第３電極（至）との間に発生して
いる静電付力と協働して振り子片（９）を零位置に保持
するようにしてもよい。さらにまた、加速度の算出を変
位検出部（ＩＩからの信号ＳＲに基づいて直接行うよう
にしてもよい。
図において、第２図に示す第４電極住ｅに正電圧を印加
することにより、第２電極Ｑ３との間に静電引力を発生
させ、第１電極αυと第３電極（至）との間に発生して
いる静電付力と協働して振り子片（９）を零位置に保持
するようにしてもよい。さらにまた、加速度の算出を変
位検出部（ＩＩからの信号ＳＲに基づいて直接行うよう
にしてもよい。
この発明の加速度センサは、付加された加速度により片
持梁部に過大な力がかかつても、変位制御部により静電
気力を利用して、片持梁部を常に零位置にとどまるよう
に制御できるので、根元部の破壊を招くことがない。し
たがって、加速度センサ自体の質量が微小であることと
相俟って、この加速度センサの適応範囲が拡大する。
持梁部に過大な力がかかつても、変位制御部により静電
気力を利用して、片持梁部を常に零位置にとどまるよう
に制御できるので、根元部の破壊を招くことがない。し
たがって、加速度センサ自体の質量が微小であることと
相俟って、この加速度センサの適応範囲が拡大する。
第１図は本発明の一実施例の加速度センサの平面図、第
２図は第１図の■−■線１こ沿った矢視断面図、第３図
及び第４図は同じく作動説明図１第５図は従来技術の説
明図である。 （］）・・・振り子部。 （２）、 （３１・・・蓋体部（封止部材）。 （４）・・・片持梁駆動手段（変位制御部）。 （６）・・・基板（シリコン基板）。 （７）・・片持梁部。 ａ〔・・・ピエゾ抵抗素子抵抗型ひずみゲージ）。 α１）・・・第１電極（第１の電極）。 ０２・・第２電極（第１の電極）。 （ＬＦｊＩ・・・第３電砺（第２の電極）（１０・・・
第４電極（第２の電極）。 代理人 弁理士 則 近 憲 佑 同 松 山 光 之 ど□へ
２図は第１図の■−■線１こ沿った矢視断面図、第３図
及び第４図は同じく作動説明図１第５図は従来技術の説
明図である。 （］）・・・振り子部。 （２）、 （３１・・・蓋体部（封止部材）。 （４）・・・片持梁駆動手段（変位制御部）。 （６）・・・基板（シリコン基板）。 （７）・・片持梁部。 ａ〔・・・ピエゾ抵抗素子抵抗型ひずみゲージ）。 α１）・・・第１電極（第１の電極）。 ０２・・第２電極（第１の電極）。 （ＬＦｊＩ・・・第３電砺（第２の電極）（１０・・・
第４電極（第２の電極）。 代理人 弁理士 則 近 憲 佑 同 松 山 光 之 ど□へ
Claims (1)
- 貫通溝が穿設されこの貫通溝により揺動変位自在に形成
された片持梁部が設けられたシリコン基板と、上記片持
梁部の根元に設けられた抵抗型ひずみゲージとを具備し
、上記片持梁部に与えられた加速度により生じるひずみ
の上記ひずみゲージによる検出結果に基づいて上記加速
度を測定する加速度センサにおいて、上記シリコン基板
の両主面に接着され上記片持梁部を封止する箱状の封止
部材と、上記片持梁部に設けられた第１の電極と、上記
封止部材に上記第１の電極に対向して設けられた第２の
電極と、上記ひずみゲージによる検出結果に基づいて上
記第１の電極及び上記第２の電極を互に同極、若しくは
、異極に帯電させて上記片持梁部を上記加速度による変
位方向とは逆方向に駆動する片持梁駆動手段とを具備す
ることを特徴とする加速度センサ。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1013156A JPH02194362A (ja) | 1989-01-24 | 1989-01-24 | 加速度センサ |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1013156A JPH02194362A (ja) | 1989-01-24 | 1989-01-24 | 加速度センサ |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02194362A true JPH02194362A (ja) | 1990-07-31 |
Family
ID=11825307
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1013156A Pending JPH02194362A (ja) | 1989-01-24 | 1989-01-24 | 加速度センサ |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH02194362A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH04273068A (ja) * | 1991-02-28 | 1992-09-29 | Nippon Seiki Co Ltd | 加速度センサ |
| US5596144A (en) * | 1995-08-04 | 1997-01-21 | Delco Electronics Corporation | Piezoresistive force rebalance accelerometer |
-
1989
- 1989-01-24 JP JP1013156A patent/JPH02194362A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH04273068A (ja) * | 1991-02-28 | 1992-09-29 | Nippon Seiki Co Ltd | 加速度センサ |
| US5596144A (en) * | 1995-08-04 | 1997-01-21 | Delco Electronics Corporation | Piezoresistive force rebalance accelerometer |
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