JPH02181417A - 位置合せ誤差補正機構 - Google Patents
位置合せ誤差補正機構Info
- Publication number
- JPH02181417A JPH02181417A JP64000327A JP32789A JPH02181417A JP H02181417 A JPH02181417 A JP H02181417A JP 64000327 A JP64000327 A JP 64000327A JP 32789 A JP32789 A JP 32789A JP H02181417 A JPH02181417 A JP H02181417A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- reticle
- wafer
- laser beam
- mark
- photosensor
- Prior art date
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- Pending
Links
- 238000001514 detection method Methods 0.000 claims abstract description 23
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims abstract description 17
- 239000011229 interlayer Substances 0.000 abstract description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 abstract description 2
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 abstract description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 238000000034 method Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は縮小投影露光装置のレーザ光源を用いた位置合
せ装置に係り、特にレーザ光の照射位置変化による位置
検出誤差の補正に好適な位置合せ補正機構から成る位置
合せ装置に関する。
せ装置に係り、特にレーザ光の照射位置変化による位置
検出誤差の補正に好適な位置合せ補正機構から成る位置
合せ装置に関する。
従来の装置は、レーザ光を用いたウェハ／レティクルの
位置合せ装置において、レーザ光のビームドリフトによ
る検出誤差を除去するため、ビームドリフトに起因する
周囲環境変動（温度、風向。
位置合せ装置において、レーザ光のビームドリフトによ
る検出誤差を除去するため、ビームドリフトに起因する
周囲環境変動（温度、風向。
気圧）に対する補正機能を搭載した高精度、かつ高価な
レーザ光源システムを搭載しなければならなかった。ま
た、レーザ光源の使用ｆＡ境も前述の要因により制約を
受けていた。
レーザ光源システムを搭載しなければならなかった。ま
た、レーザ光源の使用ｆＡ境も前述の要因により制約を
受けていた。
上記従来技術は、使用するレーザ光源の高精度化のみし
か図られておらず、そのビームドリフＩ・の完全な除去
まで到達していない。このため、このビームドリフトの
微小誤差により、ウェハ／レティクル位置合せ装置の精
度低下の問題があった。
か図られておらず、そのビームドリフＩ・の完全な除去
まで到達していない。このため、このビームドリフトの
微小誤差により、ウェハ／レティクル位置合せ装置の精
度低下の問題があった。
本発明の目的は、ウェハ／レティクル位置合せ装置の位
置検出光学系内にレーザ光の照射位置を計測する光セン
サを設け、照射位置変化量を算出する補正系により、位
置検出値に対して照射位置変動による誤差を補正し、ウ
ェハ／レティクルの高精度位置合せを行なう。
置検出光学系内にレーザ光の照射位置を計測する光セン
サを設け、照射位置変化量を算出する補正系により、位
置検出値に対して照射位置変動による誤差を補正し、ウ
ェハ／レティクルの高精度位置合せを行なう。
上記目的は、ウェハ／レティクル位置合せ装置の位置検
出光学系内に設けた光センサによりレーザ光の照射位置
を逐次計測し、照射位置の初期値（基準値）からの変化
量を算出し、ウェハ／レティクル位置検出値に補正を行
なう制御系を有することにより、達成される。
出光学系内に設けた光センサによりレーザ光の照射位置
を逐次計測し、照射位置の初期値（基準値）からの変化
量を算出し、ウェハ／レティクル位置検出値に補正を行
なう制御系を有することにより、達成される。
ウェハ／レティクル位置合せ装置の位置検出光学系内に
設けた光センサは、レーザ光の照射位置をウェハ／レテ
ィクル位置検出動作に同期して逐次計測をする。また、
レーザ光照射位置の変動量の補正系は、光センサによる
計測値と既に設定されている基準値との差により照射位
置の変動量を求め、ウェハ／レティクル位置検出の演算
処理系により求められた検出値に対し変動量の補正を行
なうように動作する。それによって、ウェハ／レティク
ル位置検出へのレーザ光源起因の検出誤差補正を行なう
ことができるので、高精度な位置合せが達成される。
設けた光センサは、レーザ光の照射位置をウェハ／レテ
ィクル位置検出動作に同期して逐次計測をする。また、
レーザ光照射位置の変動量の補正系は、光センサによる
計測値と既に設定されている基準値との差により照射位
置の変動量を求め、ウェハ／レティクル位置検出の演算
処理系により求められた検出値に対し変動量の補正を行
なうように動作する。それによって、ウェハ／レティク
ル位置検出へのレーザ光源起因の検出誤差補正を行なう
ことができるので、高精度な位置合せが達成される。
〔実施例〕
以下１本発明の一実施例を第１図、第２図により説明す
る。レーザ光源１０より出射したレーザ光１１はハーフ
ミラ−８により２分岐され、透過光は光センサ９により
受光され、レーザ光照射位置の計測をする。また、反射
光は偏向ビーム人プリッタ６、対物レンズ５を介してレ
ティクルマーク１２及びレティクル１．縮小レンズ２を
介してウェハマーク４は照射され、各マークからの検出
像は対物レンズ５により偏向ビームスプリッタ６を介し
て光センサ７に受光される。光センサ７により検出され
たウェハ／レティクル検出信号は位置検出処理により１
位置検出値が求められる。第２図にレーザ光の照射位置
変動誤差補正の処理手順を示す。光センサ９により検出
されたレーザ照射位置は、ウェハ／レティクル位置検出
動作に同期して計測される。この計測値と既に設定され
た基準値との誤差が求められる。一方、光センサ７によ
り検出されたウェハ／レティクル像によりウェハ／レテ
ィクル位置検出値が求められる。この位置検出値に対し
てレーザ光の照射位置誤差量の補正を行なうことにより
、ウェハ／レティクル位置検出の真値を算出する。この
値を用いてウェハ／レティクル位置合せ処理を行なう。
る。レーザ光源１０より出射したレーザ光１１はハーフ
ミラ−８により２分岐され、透過光は光センサ９により
受光され、レーザ光照射位置の計測をする。また、反射
光は偏向ビーム人プリッタ６、対物レンズ５を介してレ
ティクルマーク１２及びレティクル１．縮小レンズ２を
介してウェハマーク４は照射され、各マークからの検出
像は対物レンズ５により偏向ビームスプリッタ６を介し
て光センサ７に受光される。光センサ７により検出され
たウェハ／レティクル検出信号は位置検出処理により１
位置検出値が求められる。第２図にレーザ光の照射位置
変動誤差補正の処理手順を示す。光センサ９により検出
されたレーザ照射位置は、ウェハ／レティクル位置検出
動作に同期して計測される。この計測値と既に設定され
た基準値との誤差が求められる。一方、光センサ７によ
り検出されたウェハ／レティクル像によりウェハ／レテ
ィクル位置検出値が求められる。この位置検出値に対し
てレーザ光の照射位置誤差量の補正を行なうことにより
、ウェハ／レティクル位置検出の真値を算出する。この
値を用いてウェハ／レティクル位置合せ処理を行なう。
本実施例によれば、レーザ光源を用いたウェハ／レティ
クル位置合せ装置において、レーザ光起因による検出値
誤差を補正し、除去ができる。このため、高精度な位置
合せを行なうことができる。
クル位置合せ装置において、レーザ光起因による検出値
誤差を補正し、除去ができる。このため、高精度な位置
合せを行なうことができる。
本発明によれば、ウェハ／レティクル位置合せ装置にお
いてレーザ光源を用いることによるレーザ光の照射位置
変動によるウェハ／レティクル位置検出誤差量を補正、
除去することができるので、レーザ光源を用いた位置合
せ装置においてウェハ／レティクル位置の高精度な検出
が達成でき、かつ、半導体製造工程における層間合せ精
度の向上が図られる。
いてレーザ光源を用いることによるレーザ光の照射位置
変動によるウェハ／レティクル位置検出誤差量を補正、
除去することができるので、レーザ光源を用いた位置合
せ装置においてウェハ／レティクル位置の高精度な検出
が達成でき、かつ、半導体製造工程における層間合せ精
度の向上が図られる。
第１図は本発明の一実施例の構成図、第２図は本発明の
補正概念図である。 １・・・レティクル、２・・・縮小レンズ、３・・・ウ
ェハ。 ４・・・ウェハマーク、５・・・対物レンズ、６・・・
偏向ビームスプリッタ、７・・・光センサ、８・・・ハ
ーフミラ−１９・・・光センサ、１０・・・レーザ光源
、１１・・・レーザ光、１２・・・レティクルマーク。 第 図 第 図
補正概念図である。 １・・・レティクル、２・・・縮小レンズ、３・・・ウ
ェハ。 ４・・・ウェハマーク、５・・・対物レンズ、６・・・
偏向ビームスプリッタ、７・・・光センサ、８・・・ハ
ーフミラ−１９・・・光センサ、１０・・・レーザ光源
、１１・・・レーザ光、１２・・・レティクルマーク。 第 図 第 図
Claims (1)
- １、縮小投影露光装置において、レーザ光源と位置検出
光学系より成るウェハ／レテイクルの位置合せ装置にお
いてレーザ光の照射位置の変化量を検出する光センサを
設け、ウェハ／レテイクル位置の検出値補正を行なうこ
とを特徴とする位置合せ誤差補正機構。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP64000327A JPH02181417A (ja) | 1989-01-06 | 1989-01-06 | 位置合せ誤差補正機構 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP64000327A JPH02181417A (ja) | 1989-01-06 | 1989-01-06 | 位置合せ誤差補正機構 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02181417A true JPH02181417A (ja) | 1990-07-16 |
Family
ID=11470811
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP64000327A Pending JPH02181417A (ja) | 1989-01-06 | 1989-01-06 | 位置合せ誤差補正機構 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH02181417A (ja) |
-
1989
- 1989-01-06 JP JP64000327A patent/JPH02181417A/ja active Pending
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