JPH0217974A - 塗布方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は塗布液の主液に添加液を添加することにより反
応し経時によって物理的物性の変化を起こす塗布液の塗
布方法に関する、特に写真感光材料用の塗布液としてゼ
ラチンを含む主液に硬膜剤。

界面活性剤、媒染剤、増粘性等の添加液を加える塗布液
の塗布方法に関するものである−〔従来の技術〕 従来例えば写真感光材料の製造において、写真感光層及
びバック層、保護膜層等の物理的改質等をねらう添加剤
として、硬膜剤、界面活性剤、増粘剤、媒染剤等がある
。従来これらの添加剤は塗布前の溶解工程においてゼラ
チンを含む塗布液となる主液（乳剤層、バック層、保護
膜層の）に添加されていた。しかしながらこれらの添加
剤はゼラチンと反応することによって経時的にも粘度の
上昇やＰＨの変化を発生せしめ、塗布工程においてこれ
らの反応は工程の安定性を損ねるものであった。

このように添加によって反応し物理的性質の変化を生せ
しめる添加はこれらの薬剤の添加を塗布直前に行い出来
るだけ速やかにこれらの塗布液を塗布装置に給液するか
、又は特公昭３３−８９７７号公報に開示されている様
に多層ホッパーを用いて主液と添加液とを別の層に分け
て重層塗布する方法が用いられていた。

〔発明が解決しようとする課題〕

しかしながら、主液に添加液を塗布前に混合する方法で
は経時によって塗布液中で主液と添加液との反応が進行
するので、塗布装置内の液温留部や壁面の低流速部で反
応が進行し、局部的な増粘や凝集、品質の不均一を生じ
るので長時間連続して安定して塗布できない欠点がある
。

また、主液と添加液とを別の層に分けて重層塗布する方
法においては、層の数が増えるだけではなく、多層ホッ
パーの固体表面上で上下の二層が接する界面の付近で反
応生成物が付着し、塗布液の流れを乱したり生成物が剥
離して塗布液に混入したりして品質の低下をまねく。

本発明の目的は主液に添加することにより反応し経時的
に物理的特性の変化を起こす添加液を汁液器の滞留部や
壁面上に反応生成物が付着して品質をｔ員なうことなく
、又長時間連続して安定した良品質の塗布が出来る塗布
方法を提供することにある。

〔課題を解決するための手段及び作用］本発明の上記目
的は、連続走行しているウェブに対し、単層もしくは複
数層の塗布液を注液器のスリットから流出せしめて塗布
する方法において、該塗布液を塗布主液と添加液とに分
けて少（とも一つの該スリットに塗布液を分配・供給す
る分配室の中心部に塗布幅方向に亘って該添加液を分配
・供給する内管を設け、分配室へ該塗布主液を供給する
と同時に内管に該添加液を供給し、該添加液を塗布主液
によりサンドイッチ状に成層して該スリットより流出せ
しめることを特徴とする塗布方法によって達成される。

本発明において連続走行しているウェブに対し、単層も
しくは複数層の塗布液を汁液器のスリットから流出せし
めて塗布する方法とは、所謂汁液器としてはスライドホ
ッパー型、又はエキストルージッン型、より成るもので
あり、塗布方法としてはカーテンコート、ビードコート
に属する。塗布液膜として単層塗布も多層同時塗布方法
も含まれることを意味する。

本発明において、分配室の中心部に塗布幅方向に亘って
添加液を分配・供給する内管としては、具体的には多孔
管又はスリット状の供給口を持つ中空管もしくは内管の
壁より添加液をにじみ出す多孔質浸透管を用いることが
出来る。添加液は比較的少量であり低粘度な液であり、
それを幅方向に均一に分配・供給する管である。

本発明において添加液を分配・供給する内管の幅は主液
を分配供給する分配室の幅よりも多少狭く、添加液が塗
布主液に完全に囲まれて注液器の内壁に接しないように
することが望ましい。

なお浸透する添加液か拡散性のものであっても、スリッ
トから塗布ビードにかけては実質的に拡散は起こらず、
又添加液が塗布主液によってサンドイッチ状に成層する
ことになんら問題はない、これによって添加液は塗布主
液に保護されて注液器より流出させられるので注液器の
滞留部や壁面上に塗布主液と添加液との反応生成物が付
着することがなくなる。この場合には通常塗布後の乾燥
工程において充分な拡散が起こるため、事前に混合され
て塗布を行った場合と最終的な膜の性能に差はない。

以下、図面に基づいて本発明の内容をさらに詳細に説明
する。

第１図は、本発明の方法をスライドホッパーによる多層
同時塗布装置で実現した場合の一例である。勿論本発明
は−Ｆ５塗布の場合にも適用される。

注ｉｌＩ！器はエツジ１を含む先端ブロック２ａとその
後ろ側のブロック２ｂ、２ｃによりスリット３ａ。

３ｂを形成している。ここで層数が三層以上の場合は、
同様のブロックを増やすことで層数を増やすことができ
る０分配室４ａ、４ｂを満たす塗布主液は送液装置５ａ
、５ｂにより分配室人口６ａ、６ｂから供給され分配室
内で塗布幅方向に分配されたのちそれぞれスリット３ａ
、３ｂを通って傾斜面に流出する０分配室４ａ、４ｂに
は夫々多孔質素材からなる内管１２ａ、１２ｂが幅方向
にほぼ全幅あるいは全幅よりわずかに短くなるように挿
入されていて、その轡の一方もしくは両方の端部より添
加液が送液装置５ｃ、５ｄにより供給され分配室側に浸
透し、多孔質管を完全に包むように浸透液膜１３ａ、１
３ｂをつくる。これらの膜は分配室人口６ａ、６ｂから
供給された塗布主液とそれぞれのスリットにおいて３層
のサンドイッチとなり傾斜面に流出し液１％？ａ、７ｂ
を形成して、エツジ１からバックアップローラ８に支え
られた連続走行するウェブ９との間にビード１０を形成
し、塗膜１１となる。ここで、多孔質管を挿入し液を浸
出する分配室は全分配室数のうち少な（とも１以上であ
れば、必ずしも全分配室にある必要は無い。また、一種
類の塗布主液を２つの分配室に分配し下流側の分配室の
みに浸透管である内管を設置させることによって添加液
の幅方向の塗布量精密度をさらに向上させることが出来
る。

上記の内管に用いる浸透管としては特開昭４９−１０１
４５５号公報に記載された多孔質ポリエチレン管のみな
らず、多孔質素材であればセラミックスや焼結金属を用
いてもよい。

本発明で使用する塗布液は液状組成物であれば、水系か
有機溶剤系かを問わない。たとえば、感光材料用塗布液
であれば、感光乳剤層、下塗り層、保護層、バンク層、
アンチハレーション層等の塗布液を挙げることができる
。

他の例として、磁気記録媒体におけるような磁性層、下
塗り層、潤滑層、保護層、バック層などの塗布液も含み
うる。

また、その他の例として、接着材層、着色層、防錆層、
等の塗布液が挙げられる。

本発明に使用される「ウェブ」としては、紙、プラスチ
ックフィルム、レジンコーチイツト紙、合成紙、金属等
が包含される。プラスチックフィルムの材質は、例えば
、ポリエチレン、ポリプロピレン等のポリオレフィン、
ポリ酢酸ビニル、ポリ塩化ビニル、ポリスチレン等のビ
ニル重合体、６．６−ナイロン、６−ナイロン等のポリ
アミド、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレン−
２゜６−ナフタレート等のボエステル、ポリカーボネイ
ト、セルローストリアセテート、セルロースダイアセテ
ート等のセルロースアセテート等が使用される。ここで
レジンコーチイツト紙に用いる樹脂としては、ポリオレ
フィンが代表的であるが、必ずしもこれに限定されない
。さらに・レジンコーチイツト紙の表面は平滑面だけで
なく凹凸の成る粗面であってよい、また、金属ウェブと
しては例えばアルミニウム帯状物があげられるφ本発明
において特に写真感光材料を塗布液とした添加液として
は、硬膜剤液、界面活性剤、媒染剤、高分子増粘剤をあ
げることが出来る。

本発明における添加液として写真感光材料用硬膜剤の好
ましい例として、以下の一般式（１）　−（８）で表さ
れる化合物を挙げる事ができる。

一般式（１） 式中、Ｒ１は水酸基、−０Ｍ基（Ｍは１価の金属原子）
、アルキル基、−ＮＲ鵞Ｒ２基（Ｒ１Ｒ′はそれぞれア
ルキル基、アリール基を表す）。

−ＮＨＣＯＲ’　　（Ｒ’は水素原子、アルキル基、ア
リール基、アルキルチオ基、アリールチオ基を表す）、
あるいはアルコキシ基を表す。

一般式（１）のＲ１の表すアルキル基はたとえばメチル
基、エチル基、ブチル基等が好ましく、アルコキシ基は
メトキシ基、エトキシ基、ブトキシ基等が好ましい、ま
た、−“ＮＲ”Ｒ３ｇの具体例はＮＨｔ　、　ＮＨＣＨ
３、ＮＨＣｔＨｓ等があげられ、−ＮＨＣＯＲ’基の具
体例としては、Ｎ　ＨＣＯＣＨｘ　、Ｎ　ＨＣＯＣｂ　
Ｈｓ等があげられる。さらにＲ１の表す一〇Ｍ基のＭは
、例えばナトリウム原子、カリウム原子等が特に好まし
い。

前記一般式（１）で示されるシアヌルクロリド系硬膜剤
については、特公昭４７−６１５１号、同４７−３３３
８０号、同５４−２５４１１号、特開昭５６−１３０７
４０号各公報に詳細な記載がある。

一般式（２） Ｘ’　　　Ｓｏｗ　　　Ｌ　　ＳＯ２Ｘ”上記一般式中
、ｘｌおよび×２は−ＣＩＩ−ＣＨ！または、−ＣＨｔ
ＣＬＹのいずれかであり、ＸＩおよびＸ２は同じであっ
ても異なってもよい。Ｙは求核性基により置換されるか
、塩基によってＩＩＹの形で脱離しうる基（例えば、ハ
ロゲン原子、スルホニルオキシ、硫酸モノエステル等）
をあられす。Ｌは２価の連結基であり、置換されていて
もよい。

ｘｌ　・ｘｌＯ例として特に好ましいものは、Ｃ）ｌ＝
ｃＩＩｚ　、　　ＣＩ（ｚｃＨｇｃ　Ｉ、−ＣＩ。

ＣＨＵＢ　ｒ　、　　ＣＨｌＣＨｘＯＳ　ＯｚＣＲ３、
および−ＣＨｚＣＨｔＯ３ＯｓＮａであるがこれに限定
されない。

２価の連結ＭＬは、アルキレン基、アリーレン基または
これらの基と、−Ｏ−−ＣＯ−ｓｏ−−ｓｏアー　−ｓ
ｏ、−−ｃｏｏ−で示される結合を１つ或いは複数組み
合わせることにより形成される２価の基である。

Ｒ１は水素原子、または１から１５個の炭素原子を有す
るアルキル基またはアラルキル基を表わを二つ以上含む
場合、それらのＲ１同士が結合して環を形成してよい。

さらに、Ｌは置換基を有してもよく、置換法としてはヒ
ドロキシ基、アルコキシ基、カルバモイル基、スルファ
モイル基、アルキル基、アリール基が例として挙げられ
る。また、その置換基は、一つ以上のＸ’−３Ｏ！−で
表される基によって更に置換されていてもよい。ｘ３は
前述のＸＩおよびＸ！と同意義である。

一般式（２）で表されるビニルスルホン系硬膜剤につい
ては、例えば特公昭４７−２４２５９号、同５０−３５
８０７号、特開昭４９−２４４３５号、同５３−４１２
２１号、同５９−１８９４４号等の公報に詳細な記載が
ある。

一 式中、Ｒ’　、Ｒ１は炭素数１−１Ｏのアルキル基（例
えばメチル基、エチル基、２−エチルヘキシル基など）
、炭素数６−１５のアリール基（例えばフェニル基、ナ
フチル基など）、または炭素数７−１５のアラルキル基
（例えばベンジル基、フェネチル基など）を表し、たが
いに異なっても同じであっても良い、またＲ＋、Ｒｔは
互いに結合して窒素原子と共に複素環を形勢することも
好ましい、環を形勢する例としてはピロリジン環、ピペ
ラジン環、モルホリン環などがあげられる。

Ｒ３は水素原子、ハロゲン原子、カルバモイル基、スル
ホ基、ウレイド基、炭素数１−１０のアルコキシ基、炭
素数１−１０のアルキル基、炭素数２２０のジアルキル
置換アミノ基などの置換基をあられす。Ｒ３がアルコキ
シ基、アルキル基、ジアルキルアミノ基、Ｎ−アルキル
カルバモイル基であるとき、それらの基はさらに置換を
受けてもよく、置換基の例としては、ハロゲン原子、カ
ルバモイル基、スルホ基、スルホオキシ基、スルホアミ
ノ基、ウレイド基があげられる。Ｘ−は陰イオンを表し
、Ｎ−カルバモイルピリジニウム塩の対イオンとなる　
Ｒ３の置換基にスルホ基、スルホオキシ基、スルホアミ
ノ基を含むときは、分子内塩を形成して、Ｘ−は存在し
なくても良い。

一般式（３）であられされるカルバモイルアンモニウム
塩系硬膜剤についての詳細な記載は、特公昭５６−１２
８５３号、同５８−３２６９９号、特開昭４９−５１９
４５号、同５１−５９６２５号、同６１−９６４１号公
報に詳しい。

Ｒ１、Ｒｚ　、　ＲＳおよびＸ−の定義は一般式（３）
における定義と応用であり、これらの化合物はベルギー
特許第８２５７２６号明細書に詳しい。

Ｒ’　、Ｒ”　、Ｒ’　、およびＲ’　は炭素数１−２
０のアルキル基（例えばメチル基、エチル基、ブチル基
、２−エチルヘキシル基、ドデシル基など）、炭素数６
−２０のアラルキル基（例えばベンジル基、フェネチル
基、３−ピリジルメチル基など）または炭素数５−２０
のアリール基（例えばフェニル基、ナフチル基、ピリジ
ル基など）であり、それぞれ同じであっても異なっても
良い。

またＲ’　、Ｒ”　、Ｒ’　、およびＲ４は置換基を有
してもよく、その置換基の例としては、ハロゲン原子、
炭素数１−２０のアルコキシ基、炭素数６２０のアリー
ルオキシ基、Ｎ、Ｎ−ジ置換カルバモイル基などがあげ
られる。

またＲ’　、Ｒ”　、Ｒ’およびＲ４の中の任意の二つ
が結合して環を形成することものぞましい。

例えばＲ１とＲｚ、あるいはＲ３とＲ４が結合して窒素
原子と共に環を形成する例としては、ピロリジン環、ピ
ペラジン環、ベルヒドロアゼピン環、モルホリン環など
を形成する場合があげられる。

また、Ｒ１とＲ３、あるいはＲ２とＲ４が結合して二つ
の窒素原子およびそれらにはさまれた炭素原子と共に環
を形成する例としては、イミダシリン環、テトラヒドロ
ピリミジン環、テトラヒドロジアゼピン環などを形成す
る場合があげられる。

Ｘは一般式（５）で表される化合物が求核試薬と反応し
た際に離脱しうる基を表し、好ましい例としてハロゲン
原子、スルホニルオキシ基、１−ピリジニウム基などを
あげられる。

Ｙ−は陰イオンを表し、ハロゲン化物イオン、硫酸イオ
ン、スルホネートイオン、Ｃｌ０ａＢＦ、−、ＰＦ６−
などが好ましい。Ｙ−がスルホネートイオンをあられす
とき、Ｘ、Ｒ１、ＲＩＲ３またはＲ４と結合して分子内
塩を形成してもよい。

一般式（５）で表されるアミジニウム塩系硬膜剤につい
ては、特開昭６０−２２５１４８号公報に詳細な記述が
ある。

一般式（６） ％式％ 式中、Ｒ１は炭素数１−１０のアルキル基（例えばメチ
ル基、エチル基、２−エチルヘキシル基ど）、炭素数５
−８のシクロアルキル基（例えばシクロヘキシル基など
）、炭素数３−１Ｏのアルコキシアルキル基（例えばメ
トキシエチル基など）、または炭素数７−１５のアラル
キル基（例えばベンジル基、フェネチル基など）をあら
れす。

Ｒ１はＲ１に定義された基を表す他に −Ｒ３−、Ｎ−Ｒ’ Ｒ”　　　　　　　Ｘ− であられされる基が好ましい。Ｒ１は炭素数２−４のア
ルキレン基（例えばエチレン基、プロピレン基、トリメ
チレン基など）をあられす　Ｒ４ＲＳはそれぞれ同じで
あっても異なっても良い炭素数１−６のアルキル基（例
えばメチル基、エチル基など）をあられす、また、Ｒ４
、ＲＳが結合して窒素原子と共に複素環（例えばピロリ
ジン環、ピペラジン環、モルホリン環など）を形成する
こともこのましい、Ｒ−は炭素数１−６のアルキル基（
例えばメチル基、エチル基、ブチル基など）をあられす
が、置換されることも好ましい、置換基の例としては置
換あるいは無置換のカルバモイル基、スルホ基などが好
ましい、Ｘ−は陰イオンを表し、ハロゲン化物イオン、
硫酸イオン、スルホネートイオン、Ｃｌ０ｓ　−ＢＦ４
−　、ＰＦ６−などが好ましい、またＲ−がスルホ基で
置換された場合には、分子内塩を形成して、Ｘ−は存在
しなくても良い。

これらのカルボジイミド系硬膜剤については特開昭５１
−１２６１２５号、同５２−４８３１１詳細公報に詳し
い。

Ｙ 式中、Ｒ１は炭素数１−１０のアルキル基（例えばメチ
ル基、エチル基、ブチル基など）、炭素！＆６−１５の
アリール基（例えばフェニル基、ナフチル基など）、ま
たは炭素数７−１５のアラルキル基（例えばベンジル基
、フェネチル基など）を表す、これらの基は置換されて
も良く、置換基の例としてはカルバモイル基、スルファ
モイル基、スルホ基などがあげられる。Ｒ１、Ｒ３は水
素原子、ハロゲン原子、アシルアミド基、ニトロ基、カ
ルバモイル基、ウレイド基、アルコキシ基、アルキル基
、アルケニル基、アリール基、アラルキル基などの置換
基をあられし、それぞれ異なっても同じであっても良い
、またＲｔ　、Ｒ３は互いに結合してピリジニウム骨格
と共に複素環を形成するごとも好ましい。

Ｘは一般式（７）で表される化合物が求核試薬と反応し
た際に離脱しうる基をあられし、好ましい例としてハロ
ゲン原子、スルホニルオキシ基あるいは一〇Ｐ　（ＯＲ
’　）ｚで表される基（Ｒ４はアルキル基またはアリー
ル基をあられす、）をあげられる。Ｘがスルホニルオキ
シ基をあられす場合はＸとＲ１が結合していることも好
ましい。

Ｙ−は陰イオンを表し、ハロゲン化物イオン、硫酸イオ
ン、スルホネートイオン、Ｃｌ０ｓ−ＢＰ、−、ＰＦ、
−、などが好ましい、またＲ１がスルホ基で置換された
場合には、分子内塩を形成して、Ｙ−は存在しなくても
良い。

これらのピリジニウム塩基硬膜剤については、特公昭５
８−５０６９９号、同５７−４６５３８詳細公報に詳細
な記載がある。

式中、ＲＩ　、　Ｒｔの定義は一般式（３）におけるＲ
１Ｒ２の定義と全く同様であり、Ｒ３は炭素数１１Ｏの
アルキル基（例えばメチル基、エチル基、ブチル基など
）、炭素数６−１５の了り−ル基（例えばフェニル基、
ナフチル基など）、または炭素数７−１５のアラルキル
基（例えばベンジル基、フェネチル基など）を表す、Ｘ
−は陰イオンを表し、ハロゲン化物イオン、硫酸イオン
、スルホネートイオン、ＣＩ　Ｏａ−、Ｂ　Ｆａ−、Ｐ
　Ｆａ−などが好ましい。

一般式（８）であられされるピリジニウム塩系硬膜剤に
ついては特開昭５２−５４４２７号公報に詳しく記載さ
れている。

本発明で用いられる添加液としての硬膜剤としては、前
記の一般式（１）　−（８）で表される化合物の他にも
、特開昭５０−３８５４０号、同５２−９３４７０号、
同５６−４３３５３号、同５Ｂ−１１３９２９号、各公
報及び米国特許第３．３２１゜３１３号明細書に記載さ
れた化合物なども好ましい。

又本特許に用いられる添加液のアニオン系界面活性剤の
例として、アルキルカルボン酸塩、アルキルスルフォン
酸塩、アルキルベンゼンスルフォン酸塩、アルキルナフ
タレンスルフォン酸塩、アルキル硫酸エステル類、アル
キルリン酸エステル類、Ｎ−アシル−Ｎ−アルキルタウ
リン類、スルホコハク酸エステル類、スルホアルキルポ
リオキシエチレンアルキルフェニルエーテル類、ポリオ
キシエチレンアルキルリン酸エステル類などのような、
カルボキシル基、スルホ基、ホスホ基、硫酸エステル基
、リン酸エステル基等の酸性基を含むものが挙げられる
が必ずしもこれに限定されない。

本発明で使用される添加液としてのカチオン系界面活性
剤の一例として、アルキルアミン塩類、脂肪族あるいは
芳香族第４級アンモニウム塩類、ピリジニウム、イミダ
ゾリウムなどの複素原第４級アンモニウム塩類、および
脂肪族または複素環を含むホスホニウムまたはホスホニ
ウム塩類などを挙げることができるが必ずしもこれに限
定されない。

本発明において用いられる添加液としての媒染剤の例と
して次のようなものがあげられる０例えば、ピリジウム
構造を有するポリマー媒染剤（例えば、米国特許３．１
４Ｂ、０６１号明細書、特公昭５９−３１６９６号公報
に記載のもの）、イミダゾリウム構造を有するポリマー
媒染剤（例えば、特公昭５５−２９４１８号、特開昭５
９−５５４３６号各公報に記載のもの）、グアニジルケ
チミン構造を有するポリマー媒染剤（例えば、米国特許
２．８８２．１５６号明細書、特公昭４９−１５８２０
号公報に記載のもの）、アンモニウム構造を有するポリ
マー媒染剤（例えば、特開昭５０−６１２２８号、特開
昭５５−３３１７２号、特開昭５１−７３４４０号、特
開昭４９−１２１５２３号各公詳細記載のもの）などを
用いることができる。

本発明において使用される添加液としてアニオン系高分
子増粘剤としては少なくとも一つのスルホン酸基、硫酸
エステル基、カルボン酸基を含む化合物を挙げる事がで
きる。

例えば、ビニルベンゼンスルホン酸、２−アクリルアミ
ド−２−メチルプロパンスルホン酸、アクリル酸、メタ
クリル酸、マレイン酸、マレイン酸のハーフエステル、
ビニルベンゼンカルボン酸のように側鎖に一３Ｏ，Ｍ、
−０ＳＯ，Ｍ。

−ＣＯＯＭ　（ＭはＨ，金属イオンなどのカチオン）な
どの基を有する単量体の重合体またはこれらの単量体と
共重合可能な他の単量体との共重合体を挙げることがで
きるが必ずしも限定されない。

〔実　施　例〕

以下本発明の実施例を示すが、本発明はこれに限定され
るものではない。

第１図に示した塗布装置において内管として平均ポアサ
イズ３μｍの多孔質セラミックスの浸透管を用い次の条
件にて塗布を行ったところ、ゼラチン溶液と硬膜剤との
反応に起因する筋状の故障の発生などなく長時間安定な
塗布を行うことかできた。一方従来の事前混合法に依っ
た場合には、混合後数分のオーダーにて既に凝集物の発
生かみられ、塗布された膜面上にも多くの筋状の故障お
よび凝集物の存在がみられた。

塗布液 分配室に直接供給する塗布主液・・・等電点５．０のア
ルカリ処理ゼラチン６％水溶液内管に供給する添加液・
・・下に示した一般式（３）の硬膜剤の４％水溶液 湿潤塗布量 分配室に直接供給する塗布主液　　６ｇ／ポ内管（浸透
管）に供給する添加液０．１５ｇ／ｒｒｌ塗布速度：　
　　　２０ｍ／ｍｉｎ ウェブ：　セルローストリアセテートフィルム〔発明の
効果〕 本発明による方法で、塗布主液に添加することにより反
応し、経時によって物理的特性の変化をおこす添加液を
塗布主液によってサンドイッチ状にして塗布を行うこと
により、塗布汁液器の滞留部や壁面上に反応生成物が付
着して品質を損なうようなことがなくなり長時間連続し
て安定した良品質の塗布製品を作ることが出来るように
なった。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明による塗布方法を用いる塗布装置汁液器
の一実施例の横断面図である。 ｌ・・・エツジ ２ａ、２ｂ、２ｃ・−−ブｒｌツタ ３ａ、３ｂ・・・スリット ４ａ、４ｂ・・・分配室 ５ａ、５ｂ・・・塗布主液送液装置 ５ｃ、５ｄ・・・添加液送液装置 ６ａ、６ｂ・・・分配室人口 アａ、７ｂ・・・液膜 ８・・・バックアップローラ ９・・・ウェブ ＩＯ・・・ビード　　　１１−・・塗膜１２ａ。 １２ｂ　　・ ・内管 １３ａ。 １３ｂ　　・ ・浸透液膜 第 図

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 連続走行しているウェブに対し、単層もしくは複数層の
   塗布液を注液器のスリットから流出せしめて塗布する方
   法において、該塗布液を塗布主液と添加液とに分けて、
   少くとも一つの該スリットに塗布液を分配・供給する分
   配室の中心部に塗布幅方向に亘って該添加液を分配・供
   給する内管を設け、分配室へ該塗布主液を供給すると同
   時に内管に該添加液を供給し、該添加液を該塗布主液に
   よりサンドイッチ状に成層して該スリットより流出せし
   めることを特徴とする塗布方法。