JPH0217657A - 半導体集積回路 - Google Patents
半導体集積回路Info
- Publication number
- JPH0217657A JPH0217657A JP63168468A JP16846888A JPH0217657A JP H0217657 A JPH0217657 A JP H0217657A JP 63168468 A JP63168468 A JP 63168468A JP 16846888 A JP16846888 A JP 16846888A JP H0217657 A JPH0217657 A JP H0217657A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- dicing
- chips
- wafer
- chip
- integrated circuit
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- Pending
Links
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 title claims abstract description 8
- 238000000034 method Methods 0.000 abstract description 8
- 230000002950 deficient Effects 0.000 abstract description 5
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 5
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 3
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
Landscapes
- Dicing (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
この発明は半導体の集積回路において、ダイシングライ
ンの設計方法に関するものである。
ンの設計方法に関するものである。
第3図は半導体ウェハを示す平面図であり、(1)はウ
ェハ、 C2@)はダイシングライン、(3)はファセ
ット、(4)はチップである。第4図及び第5図は第3
図に示すA部の拡大平面図であり、ダイシングライン及
びカットライン(6)の形状を示す。チップ(4)6角
のダイシングライン(23)は直角であり、ダイシング
ライン(2m)の交差する面積は狭い、ダイシングはダ
イシングライン(2りの中央部を切断し、ブレーク工程
により圧力を加えチップ(4)に分割する。
ェハ、 C2@)はダイシングライン、(3)はファセ
ット、(4)はチップである。第4図及び第5図は第3
図に示すA部の拡大平面図であり、ダイシングライン及
びカットライン(6)の形状を示す。チップ(4)6角
のダイシングライン(23)は直角であり、ダイシング
ライン(2m)の交差する面積は狭い、ダイシングはダ
イシングライン(2りの中央部を切断し、ブレーク工程
により圧力を加えチップ(4)に分割する。
次にダイシングの方法Cζついて説明する。
第3図において、ウェハ(1)の一部に7アセツト(3
)(切欠き)があり、ウェハ(11の整列及びウェハ(
11の方向の見極めに用いらnる。ウェハ(1)には数
百側程度のチップ(4)があり、また、第5図に示すよ
うにチップ(4)相互間を切り離すため、ダイシングラ
イン(2@)の中央部をダイシングライン置にてカット
フィン(6〕を入れあブレーク工程にてウェハ(1)に
圧力を加え、個々のチップ(4)に分割する。第6図は
分割後のチップ(4)を示す斜視図である。
)(切欠き)があり、ウェハ(11の整列及びウェハ(
11の方向の見極めに用いらnる。ウェハ(1)には数
百側程度のチップ(4)があり、また、第5図に示すよ
うにチップ(4)相互間を切り離すため、ダイシングラ
イン(2@)の中央部をダイシングライン置にてカット
フィン(6〕を入れあブレーク工程にてウェハ(1)に
圧力を加え、個々のチップ(4)に分割する。第6図は
分割後のチップ(4)を示す斜視図である。
従来のダイシングライン(2りの構造では、ダイシング
工程で第6図のようにチップ(4)にチップ欠け(5)
が発生しやすく1発生した場合不良品となることが多く
、そのためダイシング歩留りが低下するという問題が発
生しており、その対策が課題となっていた。
工程で第6図のようにチップ(4)にチップ欠け(5)
が発生しやすく1発生した場合不良品となることが多く
、そのためダイシング歩留りが低下するという問題が発
生しており、その対策が課題となっていた。
この発明は上記の課題を解決するためになされたもので
、チップ(4)の各自に面取りを設けることによりダイ
シングライン(2りが交差する面積を広げ、チップ欠け
(5)不良の救済によるダイシング歩留りの向上を目的
としている。
、チップ(4)の各自に面取りを設けることによりダイ
シングライン(2りが交差する面積を広げ、チップ欠け
(5)不良の救済によるダイシング歩留りの向上を目的
としている。
この発明に係るダイシングラインの構造は、チップの各
自を面取りすることにより交差するダイシングラインの
面積を広げ、また、チップ欠けによる不良の発生を防ぐ
ことによりダイシング歩留の向上を図ったものである。
自を面取りすることにより交差するダイシングラインの
面積を広げ、また、チップ欠けによる不良の発生を防ぐ
ことによりダイシング歩留の向上を図ったものである。
この発明におけるダイシングラインの構造は、チップの
各自を面取りすることにより、アセンブリ工程における
チップ欠けが原因で発生する不良を防ぐ。
各自を面取りすることにより、アセンブリ工程における
チップ欠けが原因で発生する不良を防ぐ。
以下この発明に係る半導体集積回路の一実施例を図につ
いて説明する。
いて説明する。
第1図は第3図に示すA部の拡大平面図で、この発明の
ダイシングラインの形状を示している。
ダイシングラインの形状を示している。
図において(2b)はダイシングライン、(4)はチッ
プである。ウェハ(11上のチップ(4)の各自は面取
りされ、ダイシングライン(2b)の交差する面積は広
くなっており、ブレーク工程等によって生じるチップ欠
け(5)の影響を受けにくくなっている。第2図は第3
図に示すA部の拡大図で、ダイシングライン(2b)の
交差部分に位置決め用パターン(7)を設けた他の実施
例を示す。
プである。ウェハ(11上のチップ(4)の各自は面取
りされ、ダイシングライン(2b)の交差する面積は広
くなっており、ブレーク工程等によって生じるチップ欠
け(5)の影響を受けにくくなっている。第2図は第3
図に示すA部の拡大図で、ダイシングライン(2b)の
交差部分に位置決め用パターン(7)を設けた他の実施
例を示す。
次に作用について説明する。
チップ(4)の各自に面取りを行ったため、ダイシング
ライン(2b)が交差する面積が広がり、グイシング工
程でチップ(4)の角が欠けても不良となりにクク、ま
た欠けた場合でも信頼性等にほとんど影響が出す、ダイ
シング歩留りの向上が計れる。
ライン(2b)が交差する面積が広がり、グイシング工
程でチップ(4)の角が欠けても不良となりにクク、ま
た欠けた場合でも信頼性等にほとんど影響が出す、ダイ
シング歩留りの向上が計れる。
また、上記実施例に示すように交差したダイシングライ
ンが広(なったため、第5図のごとく位置決め用パター
ン(7)も入れらnるようになる。
ンが広(なったため、第5図のごとく位置決め用パター
ン(7)も入れらnるようになる。
以上のようにこの発明によればチップの各自を面取りす
ることによりチップ欠けによる不良発生を防ぐ効果があ
り、また欠けたチップでも信頼性等に問題が少ないきい
う効果もある。
ることによりチップ欠けによる不良発生を防ぐ効果があ
り、また欠けたチップでも信頼性等に問題が少ないきい
う効果もある。
第1図はこの発明に係る半導体集積回路のウェハに設け
たダイシングラインの形状を示す拡大平面図、第2図は
第1図のダイシングライン交差部分に位置決め用パター
ンを設けた他の実施例、第3囚はウェハの平面図、第4
図は従来のダイシングラインを示す拡大平面図、第5図
は従来のダイシングラインにカットツインを入れた状況
を示す拡大平面図、第6図は従来のウェハより分割され
た1チツプの斜視図である。 図において(2b)はダイシングライン、(4)はチッ
プ、(7)は位置決め用パターンである。 なお、図中、同一符号は同一、又は相嶺部分を示す。
たダイシングラインの形状を示す拡大平面図、第2図は
第1図のダイシングライン交差部分に位置決め用パター
ンを設けた他の実施例、第3囚はウェハの平面図、第4
図は従来のダイシングラインを示す拡大平面図、第5図
は従来のダイシングラインにカットツインを入れた状況
を示す拡大平面図、第6図は従来のウェハより分割され
た1チツプの斜視図である。 図において(2b)はダイシングライン、(4)はチッ
プ、(7)は位置決め用パターンである。 なお、図中、同一符号は同一、又は相嶺部分を示す。
Claims (1)
- 半導体ウェハに設けるダイシングラインにおいて、チッ
プの四角に面取りを付けたことを特徴とする半導体集積
回路。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63168468A JPH0217657A (ja) | 1988-07-05 | 1988-07-05 | 半導体集積回路 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63168468A JPH0217657A (ja) | 1988-07-05 | 1988-07-05 | 半導体集積回路 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0217657A true JPH0217657A (ja) | 1990-01-22 |
Family
ID=15868669
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP63168468A Pending JPH0217657A (ja) | 1988-07-05 | 1988-07-05 | 半導体集積回路 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0217657A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2007049356A1 (ja) * | 2005-10-28 | 2007-05-03 | Renesas Technology Corp. | 半導体装置およびその製造方法 |
US7759223B2 (en) | 2004-06-22 | 2010-07-20 | Nec Electronics Corporation | Semiconductor wafer and manufacturing process for semiconductor device |
-
1988
- 1988-07-05 JP JP63168468A patent/JPH0217657A/ja active Pending
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7759223B2 (en) | 2004-06-22 | 2010-07-20 | Nec Electronics Corporation | Semiconductor wafer and manufacturing process for semiconductor device |
WO2007049356A1 (ja) * | 2005-10-28 | 2007-05-03 | Renesas Technology Corp. | 半導体装置およびその製造方法 |
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