JPH02173266A - A1―炭化物系複合皮膜の形成方法 - Google Patents
A1―炭化物系複合皮膜の形成方法Info
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- JPH02173266A JPH02173266A JP32773188A JP32773188A JPH02173266A JP H02173266 A JPH02173266 A JP H02173266A JP 32773188 A JP32773188 A JP 32773188A JP 32773188 A JP32773188 A JP 32773188A JP H02173266 A JPH02173266 A JP H02173266A
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- 239000002131 composite material Substances 0.000 title claims description 13
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 title description 2
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims abstract description 11
- 150000001247 metal acetylides Chemical class 0.000 claims abstract description 11
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 claims abstract description 10
- 150000002430 hydrocarbons Chemical class 0.000 claims abstract description 10
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 claims abstract description 6
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 18
- 229910000838 Al alloy Inorganic materials 0.000 abstract description 9
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 abstract description 9
- HSFWRNGVRCDJHI-UHFFFAOYSA-N alpha-acetylene Natural products C#C HSFWRNGVRCDJHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 4
- 125000002534 ethynyl group Chemical group [H]C#C* 0.000 abstract description 4
- VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N methane Chemical compound C VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 4
- 239000000203 mixture Substances 0.000 abstract description 3
- VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N Ethene Chemical compound C=C VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 2
- 239000005977 Ethylene Substances 0.000 abstract description 2
- -1 TiC Chemical class 0.000 abstract description 2
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 abstract 1
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 abstract 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 abstract 1
- 230000000737 periodic effect Effects 0.000 abstract 1
- 229910003470 tongbaite Inorganic materials 0.000 abstract 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 7
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 7
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 6
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 4
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 3
- 229910001069 Ti alloy Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000002441 X-ray diffraction Methods 0.000 description 2
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 2
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 2
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 2
- 238000005468 ion implantation Methods 0.000 description 2
- 239000007769 metal material Substances 0.000 description 2
- 239000000523 sample Substances 0.000 description 2
- 229910018575 Al—Ti Inorganic materials 0.000 description 1
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005299 abrasion Methods 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 1
- 238000005422 blasting Methods 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005524 ceramic coating Methods 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 230000005684 electric field Effects 0.000 description 1
- 238000004453 electron probe microanalysis Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 239000000835 fiber Substances 0.000 description 1
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 238000005121 nitriding Methods 0.000 description 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 1
- 230000008016 vaporization Effects 0.000 description 1
Landscapes
- Physical Vapour Deposition (AREA)
- Chemical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
この発明は、Al−炭化物系複合皮膜の形成方法に関す
るものである。さらに詳しくは、この発明は、Al合金
上に耐牽耗性の優れたセラミック皮膜を安価にかつ簡便
に形成することのできるAl−炭化物系複合皮膜の形成
方法に関するものである。
るものである。さらに詳しくは、この発明は、Al合金
上に耐牽耗性の優れたセラミック皮膜を安価にかつ簡便
に形成することのできるAl−炭化物系複合皮膜の形成
方法に関するものである。
(従来の技術とその課題)
従来より、自動車部品、各種機械、工具の摺動部等には
Fe系金属材が使用されていたが、近年ではその軽量化
を図るために、Al合金材が使用されるようになってき
ている。この場合、Al合金材はFe系金属材に比べて
iljtm粍性が劣るので、その表面に窒化処理やイオ
ン注入などを施してAlNやTiC等のセラミック皮膜
を形成し、耐牽耗性を付与するようにしている。
Fe系金属材が使用されていたが、近年ではその軽量化
を図るために、Al合金材が使用されるようになってき
ている。この場合、Al合金材はFe系金属材に比べて
iljtm粍性が劣るので、その表面に窒化処理やイオ
ン注入などを施してAlNやTiC等のセラミック皮膜
を形成し、耐牽耗性を付与するようにしている。
しかしながら、これまでのセラミック皮膜の形成方法で
は、皮膜を構成するセラミック成分の量を制御してその
皮膜を所望の厚さと特性を有するものに形成することが
困難であり、十分な耐牽耗性を発揮するセラミック皮膜
を安価に形成することができないのが実状である。たと
えば、イオン注入法による場合には、注入できるセラミ
ック成分の量や深さに限界があるので、充分な耐摩耗性
を発揮するセラミック皮膜を形成することができない。
は、皮膜を構成するセラミック成分の量を制御してその
皮膜を所望の厚さと特性を有するものに形成することが
困難であり、十分な耐牽耗性を発揮するセラミック皮膜
を安価に形成することができないのが実状である。たと
えば、イオン注入法による場合には、注入できるセラミ
ック成分の量や深さに限界があるので、充分な耐摩耗性
を発揮するセラミック皮膜を形成することができない。
この発明は、以上の通りの事情を踏まえてなされたもの
であり、AlまたはAl合金上にセラミック皮膜を形成
するにあたり、その皮膜成分の量を簡便に制御できるよ
うにし、耐鷹耗性に優れた皮膜を安価にかつ容易に形成
できる方法を提供することを目自勺としている。
であり、AlまたはAl合金上にセラミック皮膜を形成
するにあたり、その皮膜成分の量を簡便に制御できるよ
うにし、耐鷹耗性に優れた皮膜を安価にかつ容易に形成
できる方法を提供することを目自勺としている。
(課題を解決するための手段)
この発明は、上記の目的を実現するため、炭化物を形成
しやすい元素、Alおよび炭化水素の混合蒸気をプラズ
マ化学反応させ、Al合金上にAl−炭化物系複合皮膜
を形成することを特徴とするAl−炭化物系複合皮膜の
形成方法を提供する。
しやすい元素、Alおよび炭化水素の混合蒸気をプラズ
マ化学反応させ、Al合金上にAl−炭化物系複合皮膜
を形成することを特徴とするAl−炭化物系複合皮膜の
形成方法を提供する。
この発明の方法においては、AlまたはAl合金の耐摩
耗性を向上させる皮膜として、炭化物を形成しやすい元
素の蒸気、At蒸気および炭化水素ガスからなる混合蒸
気をプラズマ化学反応させ、Alと炭化物とからなる複
合皮膜を形成する。
耗性を向上させる皮膜として、炭化物を形成しやすい元
素の蒸気、At蒸気および炭化水素ガスからなる混合蒸
気をプラズマ化学反応させ、Alと炭化物とからなる複
合皮膜を形成する。
この場合、炭化物を形成しやすい元素としては、その炭
化物が高い硬度を有するものを使用する。
化物が高い硬度を有するものを使用する。
このような元素としては、Ti等のIV、a族元素、V
等のva族元素、Cr 、 M o等のVl a族元素
、SiあるいはBを使用することができ、これらはいず
れか一種を使用しても複数種を混合便用してもよい。
等のva族元素、Cr 、 M o等のVl a族元素
、SiあるいはBを使用することができ、これらはいず
れか一種を使用しても複数種を混合便用してもよい。
一方、Alは、それ自体は炭化物を形成し難いが、上記
の炭化物と複合皮膜を形成し、それにより基材であるA
l合金とその上に形成する皮膜との間に脆い中間層が生
成するのを防止し、皮膜と基材との密着性を向上させる
ものとして使用する。
の炭化物と複合皮膜を形成し、それにより基材であるA
l合金とその上に形成する皮膜との間に脆い中間層が生
成するのを防止し、皮膜と基材との密着性を向上させる
ものとして使用する。
これにより、優れた耐摩耗性皮膜を所望の厚さに形成す
ることができる。
ることができる。
このAlや炭化物を形成しやすい元素を蒸気とする方法
には特に制限はなく、プラズマ化学反応を行う反応装置
等に応じて、抵抗加熱、高周波加熱、電子ビーム加熱等
を行えばよい。またこれらの蒸気を混合状態とするに際
しては、Alとの炭化物を形成しやすい元素を別個に蒸
発させて混合してもよく、Al−Ti合金のような合金
をMuさせるようにしてもよい。
には特に制限はなく、プラズマ化学反応を行う反応装置
等に応じて、抵抗加熱、高周波加熱、電子ビーム加熱等
を行えばよい。またこれらの蒸気を混合状態とするに際
しては、Alとの炭化物を形成しやすい元素を別個に蒸
発させて混合してもよく、Al−Ti合金のような合金
をMuさせるようにしてもよい。
混合蒸気の成分とする炭化水素としては、プラズマ中で
炭素と水素とに分解するものであれば、その種類に特段
の制限はないが、容易に分解し、安価に入手できるもの
が好ましい。このような炭化水素としては、アセチレン
、エチレン、メタン等の低級炭化水素を例示することが
できる。
炭素と水素とに分解するものであれば、その種類に特段
の制限はないが、容易に分解し、安価に入手できるもの
が好ましい。このような炭化水素としては、アセチレン
、エチレン、メタン等の低級炭化水素を例示することが
できる。
混合蒸気をプラズマ化学反応させる方法としては、熱電
子放出形、二極放電形、磁場収束形、無電極放電形等の
公知のプラズマ発生法を任意に採用し、イオンブレーテ
ィング法等の適宜な方法を採用することができる。その
際、反応の活性化あるいはイオン化の促進を図り、皮膜
組織を微細化し、皮膜硬度が向上するように条件を設定
することが好ましい。例えば、直流電界バイアス方式に
よるイオンブレーティング法を利用する場合には、プロ
ーブ電極に30〜150 Vの正のバイアス電圧を印加
するのが好ましい。また、コーティング温度は、組織の
粗大化による硬度の低下を防止するため、200℃以下
とするのが好ましい。
子放出形、二極放電形、磁場収束形、無電極放電形等の
公知のプラズマ発生法を任意に採用し、イオンブレーテ
ィング法等の適宜な方法を採用することができる。その
際、反応の活性化あるいはイオン化の促進を図り、皮膜
組織を微細化し、皮膜硬度が向上するように条件を設定
することが好ましい。例えば、直流電界バイアス方式に
よるイオンブレーティング法を利用する場合には、プロ
ーブ電極に30〜150 Vの正のバイアス電圧を印加
するのが好ましい。また、コーティング温度は、組織の
粗大化による硬度の低下を防止するため、200℃以下
とするのが好ましい。
以下、この発明を実施例に基づいて具内的に説明する。
(実施例)
7 X 10−’Torr のアセチレンガス中でA
l−30%Ti合金を蒸発源としてイオンブレーティン
グ法によりAl合金に皮膜を形成した。
l−30%Ti合金を蒸発源としてイオンブレーティン
グ法によりAl合金に皮膜を形成した。
この場合、まずイオンブレーティング装置内を排気し、
Al−30%Ti合金を電子ビームにより溶解蒸発させ
、次にアセチレンガスを装置内に導入し、Tiのみにプ
ラズマ化学反応を起こさせた。その際、混合蒸気の気体
粒子のイオン化を促進させて反応の活性化と皮膜組繊の
微細1ヒを図るために、蒸発源の真上にプローブ電極を
置き、その、グローブ電極に50Vの正の直流バイアス
電圧を印加した。また、コーティング温度は200℃と
した。
Al−30%Ti合金を電子ビームにより溶解蒸発させ
、次にアセチレンガスを装置内に導入し、Tiのみにプ
ラズマ化学反応を起こさせた。その際、混合蒸気の気体
粒子のイオン化を促進させて反応の活性化と皮膜組繊の
微細1ヒを図るために、蒸発源の真上にプローブ電極を
置き、その、グローブ電極に50Vの正の直流バイアス
電圧を印加した。また、コーティング温度は200℃と
した。
得られた皮膜についてEPMAによる組成分析を行なっ
たところ、Ti:C:Atの原子比は31:55:14
であった。また、X線回折分析を行ない、第1図に示し
たような回折結果を得た。
たところ、Ti:C:Atの原子比は31:55:14
であった。また、X線回折分析を行ない、第1図に示し
たような回折結果を得た。
これにより、得られた皮膜は、Alと
T i Cとの複合皮膜であることが確認できた。
また、硬度を測定したところ、ビッカース高度で150
0と高い値を示した。
0と高い値を示した。
(発明の効果)
この発明によれば、AlL合金上に、
Al=炭化物系複合皮膜をその皮膜成分を所、¥I!2
量に制御しつつ簡便に形成することができるので、耐摩
耗性に優れた皮膜を安価にかつ容易に製造することが可
能となる。
量に制御しつつ簡便に形成することができるので、耐摩
耗性に優れた皮膜を安価にかつ容易に製造することが可
能となる。
第1図は、この発明の実施例の皮膜のX線回折パターン
である。 第 2e (Cu 一
である。 第 2e (Cu 一
Claims (3)
- (1)炭化物を形成しやすい元素、Alおよび炭化水素
の混合蒸気をプラズマ化学反応させ、Al合金上にAl
−炭化物系複合皮膜を形成することを特徴とするAl−
炭化物系複合皮膜の形成方法。 - (2)炭化物を形成しやすい元素として、IVa族元素、
Va族元素、VIa族元素、SiおよびBの少なくとも一
種を使用する請求項(1)記載のAl−炭化物系複合皮
膜の形成方法。 - (3)炭化水素として、低級炭化水素を使用する請求項
(1)記載のAl−炭化物系複合皮膜の形成方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP32773188A JPH02173266A (ja) | 1988-12-27 | 1988-12-27 | A1―炭化物系複合皮膜の形成方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP32773188A JPH02173266A (ja) | 1988-12-27 | 1988-12-27 | A1―炭化物系複合皮膜の形成方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH02173266A true JPH02173266A (ja) | 1990-07-04 |
Family
ID=18202357
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP32773188A Pending JPH02173266A (ja) | 1988-12-27 | 1988-12-27 | A1―炭化物系複合皮膜の形成方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH02173266A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2001234363A (ja) * | 2000-02-28 | 2001-08-31 | Sumitomo Electric Ind Ltd | 複合被膜およびその被覆摺動部品 |
CN106492863A (zh) * | 2016-10-31 | 2017-03-15 | 合肥工业大学 | 利用冷等离子体制备非贵金属碳化钼催化剂的方法 |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5295580A (en) * | 1976-02-09 | 1977-08-11 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | Treatment of metal surface |
-
1988
- 1988-12-27 JP JP32773188A patent/JPH02173266A/ja active Pending
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5295580A (en) * | 1976-02-09 | 1977-08-11 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | Treatment of metal surface |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2001234363A (ja) * | 2000-02-28 | 2001-08-31 | Sumitomo Electric Ind Ltd | 複合被膜およびその被覆摺動部品 |
CN106492863A (zh) * | 2016-10-31 | 2017-03-15 | 合肥工业大学 | 利用冷等离子体制备非贵金属碳化钼催化剂的方法 |
CN106492863B (zh) * | 2016-10-31 | 2019-03-08 | 合肥工业大学 | 利用冷等离子体制备非贵金属碳化钼催化剂的方法 |
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