JPH02171573A - 液体窒素（ｌｎ↓２）浴を備えたクライオスタツト - Google Patents
液体窒素（ｌｎ↓２）浴を備えたクライオスタツトInfo
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- F25J1/0257—Construction and layout of liquefaction equipments, e.g. valves, machines
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- F17C2270/05—Applications for industrial use
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- Containers, Films, And Cooling For Superconductive Devices (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
クライオスタットは低温を調整しかつ維持する装置であ
る。塔形クライオスタットでは温度が冷媒の沸点にコン
スタントに保たれる。液体窒素（ＬＮ２）の沸点温度は
通常圧で７７にである。
る。塔形クライオスタットでは温度が冷媒の沸点にコン
スタントに保たれる。液体窒素（ＬＮ２）の沸点温度は
通常圧で７７にである。
浴中の正圧又は負正によって沸点温度は変化する。しか
し一般に窒素温式のクライオスタットはほぼ大気圧で運
転される。
し一般に窒素温式のクライオスタットはほぼ大気圧で運
転される。
７７Ｋまでの温度を維持するためにクライオスタットを
使用することがます１す意義深くなッテイる。電磁石、
コンピュータの制御回路等を高い出力密度の獲得のため
にこのオーダの温度に冷却することは公知である。同様
に８０によシ大きい転移温度を有する超伝導体ｌ１ＬＮ
２の沸点温度で運転可能である。
使用することがます１す意義深くなッテイる。電磁石、
コンピュータの制御回路等を高い出力密度の獲得のため
にこのオーダの温度に冷却することは公知である。同様
に８０によシ大きい転移温度を有する超伝導体ｌ１ＬＮ
２の沸点温度で運転可能である。
ＬＮ２浴式クライオスタットを使用する場合、窒素が沸
とうするために、浴の負荷に依存したガス損失が常時生
じる。
とうするために、浴の負荷に依存したガス損失が常時生
じる。
そこで本発明の課題はガス損失が回避されるようなＬＮ
２浴を備えたクライオスタットを提供することにある。
２浴を備えたクライオスタットを提供することにある。
上記課題を解決した本発明の要旨は、ＬＮ２浴を備えた
クライオスタットにおいて、ＬＮ２浴の収容のために、
カバーを備えた容器が設けられており、気化した窒素の
再凝結のために冷凍機の少なくとも１つの下向きの冷源
ヘッドが備えられており、かつ、カバーが単数又は複数
の冷却ヘッドのだめの支持体を形成していることにある
。
クライオスタットにおいて、ＬＮ２浴の収容のために、
カバーを備えた容器が設けられており、気化した窒素の
再凝結のために冷凍機の少なくとも１つの下向きの冷源
ヘッドが備えられており、かつ、カバーが単数又は複数
の冷却ヘッドのだめの支持体を形成していることにある
。
冷凍機は冷却ヘッドを備えたクライオゼネレータ又は低
温冷却機であシ、この冷却ヘッド内で熱力学的な循環プ
ロセスが行なわれる（例えばＵＳ−ＰＳ第２ ９０６
１０１号参照）。１段式の冷凍機冷却ヘッドは円筒形の
室を備え、この室内に往復運動する押しのけ体が配置さ
れている。室は所定形式で交互に高圧ガス貯蔵器と低圧
ガス貯蔵器とに接続され、それゆえ、押しのけ体の往復
運動時に熱力学的な循環プロセス（Ｓｔｉｒｌｉｎｇプ
ロセス、Ｇｉｆｆｏｒｄ ／ ＭｃＭａｈＯｎプロセス
等）が行なわれる。その結果、室の両端面の一方から熱
が奪われる。この種の１段式の冷凍機冷却ヘッドによシ
、作業ガスとしてヘリウムを使用すればほぼ４０Ｋまで
の温度を生じることができる。
温冷却機であシ、この冷却ヘッド内で熱力学的な循環プ
ロセスが行なわれる（例えばＵＳ−ＰＳ第２ ９０６
１０１号参照）。１段式の冷凍機冷却ヘッドは円筒形の
室を備え、この室内に往復運動する押しのけ体が配置さ
れている。室は所定形式で交互に高圧ガス貯蔵器と低圧
ガス貯蔵器とに接続され、それゆえ、押しのけ体の往復
運動時に熱力学的な循環プロセス（Ｓｔｉｒｌｉｎｇプ
ロセス、Ｇｉｆｆｏｒｄ ／ ＭｃＭａｈＯｎプロセス
等）が行なわれる。その結果、室の両端面の一方から熱
が奪われる。この種の１段式の冷凍機冷却ヘッドによシ
、作業ガスとしてヘリウムを使用すればほぼ４０Ｋまで
の温度を生じることができる。
温式クライオスタットの容器の内部に配置した冷凍機冷
却ヘッドによシ、気化した窒素の再凝結が生じる。冷却
ヘッドのそのつどの冷却端部はＬＮ２浴のすぐ上方に位
置するか又はＬＮ２浴中に浸漬されていてもよい。この
構成の重要な利点は冷却端部がじかにＬＮ２浴の液相又
は気相内に位置することにある。その作用は伝達エレメ
ントによって損なわれない。
却ヘッドによシ、気化した窒素の再凝結が生じる。冷却
ヘッドのそのつどの冷却端部はＬＮ２浴のすぐ上方に位
置するか又はＬＮ２浴中に浸漬されていてもよい。この
構成の重要な利点は冷却端部がじかにＬＮ２浴の液相又
は気相内に位置することにある。その作用は伝達エレメ
ントによって損なわれない。
そのつどの冷却ヘッドがＬＮ２浴の表面のすぐ上方に位
置する場合、この冷却ヘッドは凝結面を形成し、凝結さ
れた窒素がこの凝結面から浴ｔＨへ滴下して戻される。
置する場合、この冷却ヘッドは凝結面を形成し、凝結さ
れた窒素がこの凝結面から浴ｔＨへ滴下して戻される。
効果的にはそのつどの冷却ヘッドの表面が半径方向の薄
板片によって増大される。冷却ヘッドの冷却端部は浴中
に浸されると、冷媒としての窒素にじかに接触する。
板片によって増大される。冷却ヘッドの冷却端部は浴中
に浸されると、冷媒としての窒素にじかに接触する。
全体として温度低下が生じる。浴から気化した窒素は浴
の表面の上方に位置する冷えた面又は浴の表面自体に凝
結する。
の表面の上方に位置する冷えた面又は浴の表面自体に凝
結する。
冷却ヘッドが−１つ１つ又は全体的に−高さ調節可能で
あると効果的である。このように構成すれば、何個の冷
却ヘッドを持上げて運転頌域から遠ざけるか、又は単数
若しくは複数の冷却ヘッドの浸漬深さを変化させること
により、冷却能力を調整することができる。例えば浴の
熱負荷が比較的大きいときは、冷却能力を増大させる必
要があるが、これは浸漬深さの増大によって得ることが
できる。この過程は自動的に、それも例えばクライオス
タット内の圧力に依存して制御可能である。浴の負荷の
増大に伴なって生じる気化窒素量の増大は浴中の圧力を
生ぜしめる。この種の圧力変化によって、圧力がほぼコ
ンスタントにとどするように浸漬深さを制御することが
できる。冷却ヘッドの高さ調節の可能性に基づき、ＬＮ
２浴の液面への、冷却を生じる面の適合も可能である。
あると効果的である。このように構成すれば、何個の冷
却ヘッドを持上げて運転頌域から遠ざけるか、又は単数
若しくは複数の冷却ヘッドの浸漬深さを変化させること
により、冷却能力を調整することができる。例えば浴の
熱負荷が比較的大きいときは、冷却能力を増大させる必
要があるが、これは浸漬深さの増大によって得ることが
できる。この過程は自動的に、それも例えばクライオス
タット内の圧力に依存して制御可能である。浴の負荷の
増大に伴なって生じる気化窒素量の増大は浴中の圧力を
生ぜしめる。この種の圧力変化によって、圧力がほぼコ
ンスタントにとどするように浸漬深さを制御することが
できる。冷却ヘッドの高さ調節の可能性に基づき、ＬＮ
２浴の液面への、冷却を生じる面の適合も可能である。
図面でクライオスタットが符号１で示されている。この
クライオスタット１はカバー３を備えた容器２を有する
。二重壁の容器及びカバーは熱伝導性の悪い材料から成
り、真空絶縁部を備えている。容器２及びカバー３はそ
れぞれフランク４、５を備えており、これらフランクは
１転中互いに当接し、パツキンリング６（第６図参照）
及び図示しないクリップをブ「してシールされている。
クライオスタット１はカバー３を備えた容器２を有する
。二重壁の容器及びカバーは熱伝導性の悪い材料から成
り、真空絶縁部を備えている。容器２及びカバー３はそ
れぞれフランク４、５を備えており、これらフランクは
１転中互いに当接し、パツキンリング６（第６図参照）
及び図示しないクリップをブ「してシールされている。
容器２の内部にはＬＮ２浴（液体墾素浴）が設けられて
おり、その液面が符号７で示されている。冷却しようと
する図示しない部品はこのＬＮ２浴中に入れられる。符
号１０は電流案内部を示す（第５図、第７図）。
おり、その液面が符号７で示されている。冷却しようと
する図示しない部品はこのＬＮ２浴中に入れられる。符
号１０は電流案内部を示す（第５図、第７図）。
カバー３は一貫したフランジ底部８を備えたフード９を
具備している。フランジ底部には冷列」ヘッド１１が固
定されておシ、これはその冷却端部１２で容器２内へ突
入している。
具備している。フランジ底部には冷列」ヘッド１１が固
定されておシ、これはその冷却端部１２で容器２内へ突
入している。
第１図に基づ〈実施例では６つの冷却ヘッド１１がフラ
ンジ底部８に保持されている。各冷却ヘッド１１はそれ
ぞれガス制御装置１３を備えており、このガス制御装置
１３はそれぞれ、はぼ円筒状の冷却ヘッド１１の、冷却
端部とは逆の側に位置する端部に設けられている。ガス
制御装置１３は導管１４．１５を弁してそれぞれクライ
オスタット１の外部に位置する図示しない高圧ガス源及
び低圧ガス源（作動ガスはヘリウム）に接続されている
。冷凍機を分割し、ガス制御装置１３をクライオスタン
ド１の外部に配置することもできる。冷凍機のこの分割
はＤＥ−〇Ｂ第３ ２０１ ４９６号により公知である
。分割によって全容積が小さくなる。
ンジ底部８に保持されている。各冷却ヘッド１１はそれ
ぞれガス制御装置１３を備えており、このガス制御装置
１３はそれぞれ、はぼ円筒状の冷却ヘッド１１の、冷却
端部とは逆の側に位置する端部に設けられている。ガス
制御装置１３は導管１４．１５を弁してそれぞれクライ
オスタット１の外部に位置する図示しない高圧ガス源及
び低圧ガス源（作動ガスはヘリウム）に接続されている
。冷凍機を分割し、ガス制御装置１３をクライオスタン
ド１の外部に配置することもできる。冷凍機のこの分割
はＤＥ−〇Ｂ第３ ２０１ ４９６号により公知である
。分割によって全容積が小さくなる。
第２図には、ワイヤ巻線１Ｔと供給電線１８とによって
形成された電気的な加熱装置１６を備えた冷却端部１２
を具備した冷却ヘッド１１が示されている。この電気的
な加熱装置によって、クライオスタットの再凝結能力を
調整することができる。この調整はクライオスタット内
の圧力に依存して制御される。
形成された電気的な加熱装置１６を備えた冷却端部１２
を具備した冷却ヘッド１１が示されている。この電気的
な加熱装置によって、クライオスタットの再凝結能力を
調整することができる。この調整はクライオスタット内
の圧力に依存して制御される。
第６図に示す冷却ヘッド１１はガス制御装置１３を備え
ない実施例である。この冷却ヘッド１１は鉛直方向移動
可能にフランク底部８に保持されている。このことのた
めに、冷却ヘッド１１は冷却端部１２とは逆の側にフラ
ンク２１を備えている。このフランク２１と、冷却ヘッ
ド１１の貫通のためにフランク底部８に設けられた孔２
２の縁とが金属層ベローズ２３によって互いに結合され
ている。その結果、容器２の密な閉鎖が保証されている
。フランク底部８上にはフード２４が真空密に載着され
ている。フード２４内ではフランク２１が密に案内され
ている。フランク２１とベローズ２３とフード２４の円
筒部分とそれに隣合う、７ランノ底部８の部分とによっ
て形成された環状室２６は接続部２５を弁して、図示し
ない圧力調整装置に接続されている。圧縮ばね２７をブ
ｒしてフランジ２１ひいては冷却ヘッド１１がフランゾ
底部８に支持されている。フランジ２１の上部に７−ド
２４が室２８を形成しておシ、この室２８は接続部２９
を介してクライオスタット１の内室に連通している。
ない実施例である。この冷却ヘッド１１は鉛直方向移動
可能にフランク底部８に保持されている。このことのた
めに、冷却ヘッド１１は冷却端部１２とは逆の側にフラ
ンク２１を備えている。このフランク２１と、冷却ヘッ
ド１１の貫通のためにフランク底部８に設けられた孔２
２の縁とが金属層ベローズ２３によって互いに結合され
ている。その結果、容器２の密な閉鎖が保証されている
。フランク底部８上にはフード２４が真空密に載着され
ている。フード２４内ではフランク２１が密に案内され
ている。フランク２１とベローズ２３とフード２４の円
筒部分とそれに隣合う、７ランノ底部８の部分とによっ
て形成された環状室２６は接続部２５を弁して、図示し
ない圧力調整装置に接続されている。圧縮ばね２７をブ
ｒしてフランジ２１ひいては冷却ヘッド１１がフランゾ
底部８に支持されている。フランジ２１の上部に７−ド
２４が室２８を形成しておシ、この室２８は接続部２９
を介してクライオスタット１の内室に連通している。
圧縮ばね２Ｔは上向きの力を作用し、この力はベローズ
の弾性力とフライオスタクト内の圧力によって生じる力
とを補償する。
の弾性力とフライオスタクト内の圧力によって生じる力
とを補償する。
真空ポンプ又はクライオスタット内室内圧力によって外
部から室２８内の圧力全低下させることにより、圧縮ば
ね２７の力が冷却ヘッド１１を持上げる。これによシ、
冷却ヘッドの浸漬深さｉ ＬＮ２浴の負荷に依存して制
御することができる。例えばＬＮ２浴の負荷が高まった
場合、クライオスタット内部の圧力が上昇し、この圧力
に依存して室２８内の圧力も増大し、その結果、冷却ヘ
ッドは圧縮ばねの力に逆ってＬＮ２浴内へよシ深く浸漬
される。これによシ、冷却能力が高まり、ＬＮ２浴の比
較的高い負荷が補償される。
部から室２８内の圧力全低下させることにより、圧縮ば
ね２７の力が冷却ヘッド１１を持上げる。これによシ、
冷却ヘッドの浸漬深さｉ ＬＮ２浴の負荷に依存して制
御することができる。例えばＬＮ２浴の負荷が高まった
場合、クライオスタット内部の圧力が上昇し、この圧力
に依存して室２８内の圧力も増大し、その結果、冷却ヘ
ッドは圧縮ばねの力に逆ってＬＮ２浴内へよシ深く浸漬
される。これによシ、冷却能力が高まり、ＬＮ２浴の比
較的高い負荷が補償される。
冷却ヘッドの非運転時には室２６内への圧力の供給によ
って冷却ヘラｒが上方へ持上げ・もれ、その結果、冷却
ヘッドをブｒした熱伝導損失が著しく削減される。
って冷却ヘラｒが上方へ持上げ・もれ、その結果、冷却
ヘッドをブｒした熱伝導損失が著しく削減される。
第４図に示す冷却ヘッド１１の冷却端部１２に
ｍ−半径方向外向きに突起したひれ３０全備えたリング
２０が設けられており、これが表面積厖大手段を形成し
ている。この形式の冷却ヘッド１１は再刊にＬＮ２浴の
（液面の）すぐ上方に配置されるのに適している。増大
された面積が、気化した窒素を凝結させてＬＮ２浴中へ
滴下させて戻す。
２０が設けられており、これが表面積厖大手段を形成し
ている。この形式の冷却ヘッド１１は再刊にＬＮ２浴の
（液面の）すぐ上方に配置されるのに適している。増大
された面積が、気化した窒素を凝結させてＬＮ２浴中へ
滴下させて戻す。
第５図〜第７図から判るように、クライオスタット１内
に設けられた冷却ヘッドは交換又は深守作業可能である
。そのことのために、ホース部分３１が設けられており
、その端部がフランジ４、５に固定されている。フラン
ジの外縁に溝３２．３３が設けられており、この溝内に
０リング３４．３５が配置されておシ、これによシホー
ス部分３１の端部が気密に締付けられている（第６図）
。
に設けられた冷却ヘッドは交換又は深守作業可能である
。そのことのために、ホース部分３１が設けられており
、その端部がフランジ４、５に固定されている。フラン
ジの外縁に溝３２．３３が設けられており、この溝内に
０リング３４．３５が配置されておシ、これによシホー
ス部分３１の端部が気密に締付けられている（第６図）
。
第５図はクライオスタット１を部分的に分解して示し、
第２図、第４図に示した２つの冷却ヘッド１１が図示さ
れている。カバー３の７−ド９を介して冷却ヘッド１１
は可撓性導管によってコンプレッサ３６（高圧ガス源及
び低圧ガス源）に接続されている。冷却ヘッド、可撓性
導管及びコンプレッサは再凝結の目的に使用された冷凍
機を形成している。ＬＮ２の液面Ｉの上方ではクライオ
スタットに弁３８全備えた接続部３７が開口している。
第２図、第４図に示した２つの冷却ヘッド１１が図示さ
れている。カバー３の７−ド９を介して冷却ヘッド１１
は可撓性導管によってコンプレッサ３６（高圧ガス源及
び低圧ガス源）に接続されている。冷却ヘッド、可撓性
導管及びコンプレッサは再凝結の目的に使用された冷凍
機を形成している。ＬＮ２の液面Ｉの上方ではクライオ
スタットに弁３８全備えた接続部３７が開口している。
ホース部分３１も複数の接続部４１，４２．４３を備え
ており、各接続部はそれぞれ弁を備えている。
ており、各接続部はそれぞれ弁を備えている。
クライオスタット１内には負圧又は正圧が支配している
ため、カバー３の持上げ前には圧力補償を行なう必要が
ある。このことのために、窒素ガスが接続部３７を介し
て吹出され又は吹込まれる。クライオスタット°が負圧
下に在れば、所望の圧力増大が生じるように、冷却ヘッ
ド１１の加熱装置１６を弁して多量のＬＮ２量が蒸発さ
せられる。圧力補償の後、カバー３が持上げられる。ホ
ース部分３１の光てんのための付加的な窒素ガスは接続
部４１，４２．４３の１つをブｒして供給される。カバ
ー３の持上げ後、ホース部分３１はほぼその中央でクリ
ップによって締付けられる。次いで容器２内の浴内に空
気が入らないように保護される。次いでカバー３がホー
ス部分から解離される。
ため、カバー３の持上げ前には圧力補償を行なう必要が
ある。このことのために、窒素ガスが接続部３７を介し
て吹出され又は吹込まれる。クライオスタット°が負圧
下に在れば、所望の圧力増大が生じるように、冷却ヘッ
ド１１の加熱装置１６を弁して多量のＬＮ２量が蒸発さ
せられる。圧力補償の後、カバー３が持上げられる。ホ
ース部分３１の光てんのための付加的な窒素ガスは接続
部４１，４２．４３の１つをブｒして供給される。カバ
ー３の持上げ後、ホース部分３１はほぼその中央でクリ
ップによって締付けられる。次いで容器２内の浴内に空
気が入らないように保護される。次いでカバー３がホー
ス部分から解離される。
所要の作業を実施した後、カバー３は再びホース部分３
１の上部分に結合される。接続部４２．４３を介して、
上方のホース部分の内室が窒素によって掃気される。こ
れによシ、冷却ヘッドを窒素分囲気内で冷却することが
できる。
１の上部分に結合される。接続部４２．４３を介して、
上方のホース部分の内室が窒素によって掃気される。こ
れによシ、冷却ヘッドを窒素分囲気内で冷却することが
できる。
これにより、空気湿度及び酸素による汚染が回避される
。
。
第１図は本発明の１実施例に基づくクライオスタットの
部分破断斜視図、第２図は本発明の１実施例に基づく冷
凍機の斜視図、第６図は別の実施例に基づく冷凍機の部
分断面側面図、第４図はさらに別の実施例に基づく冷凍
機の斜視図、第５図は冷凍機の交換を説明するだめの図
、第６図は第５図の一点鎖線の円で囲った部分の拡大断
面図、第７図は第５図に示す容器からカバーを取外した
状態を示す図である。 １・・・クライオスタット、２・・・容器、３・・・カ
バ４．５・・・フランジ、６・・・パツキンリング、７
・・・液面、８・・・フランジ底部、９・・・フード、
１０・・・電流案内部、１１・・・冷却ヘッド、１２・
・・冷却端部、１３・・・ガス制御装置、１４．１５・
・・導管、１６・・・加熱装置、２０・・・す／グ、２
１・・・フランジ、２２・・・孔、２３・・・ベローズ
、２４・・・フード、２５・・・接続部、２６・・・環
状室、２７・・圧縮ばね、２８・・・室、２９・・・接
続部、３０・・・ひれ、３１・・・ホース部分、３２．
３３・・・溝、３４゜３５・・・０リング、３６・・・
コンプレッサ、３Ｔ・・・接続部、３８・・・弁、４１
，４２．４３・・・接続部。 鷺６図 ス
部分破断斜視図、第２図は本発明の１実施例に基づく冷
凍機の斜視図、第６図は別の実施例に基づく冷凍機の部
分断面側面図、第４図はさらに別の実施例に基づく冷凍
機の斜視図、第５図は冷凍機の交換を説明するだめの図
、第６図は第５図の一点鎖線の円で囲った部分の拡大断
面図、第７図は第５図に示す容器からカバーを取外した
状態を示す図である。 １・・・クライオスタット、２・・・容器、３・・・カ
バ４．５・・・フランジ、６・・・パツキンリング、７
・・・液面、８・・・フランジ底部、９・・・フード、
１０・・・電流案内部、１１・・・冷却ヘッド、１２・
・・冷却端部、１３・・・ガス制御装置、１４．１５・
・・導管、１６・・・加熱装置、２０・・・す／グ、２
１・・・フランジ、２２・・・孔、２３・・・ベローズ
、２４・・・フード、２５・・・接続部、２６・・・環
状室、２７・・圧縮ばね、２８・・・室、２９・・・接
続部、３０・・・ひれ、３１・・・ホース部分、３２．
３３・・・溝、３４゜３５・・・０リング、３６・・・
コンプレッサ、３Ｔ・・・接続部、３８・・・弁、４１
，４２．４３・・・接続部。 鷺６図 ス
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、ＬＮ＿２浴を備えたクライオスタットにおいて、Ｌ
Ｎ＿２浴の収容のために、カバー（３）を備えた容器（
２）が設けられており、気化した窒素の再凝結のために
冷凍機の少なくとも１つの下向きの冷却ヘッド（１１）
が備えられており、かつ、カバー（３）が単数又は複数
の冷却ヘッド（１１）のための支持体を形成しているこ
とを特徴とする液体窒素（ＬＮ＿２）浴を備えたクライ
オスタット。 ２、冷却ヘッド（１１）の下向きの冷却端部がＬＮ＿２
浴中に浸漬されているか又はそのすぐ上方に位置してい
る請求項１記載のクライオスタット。 ３、カバー（３）がフランジ底部（８）及びフード（９
）を備えており、かつ、単数又は複数の冷却ヘッド（１
１）がフランジ底部（８）に保持されている請求項２記
載のクライオスタット。 ４、単数又は複数の冷却ヘッド（１１）が高さ調節可能
にクライオスタット（１）内に配置されている請求項１
から３までのいずれか１項記載のクライオスタット。 ５、冷却ヘッド（１１）の高さ調節可能な固定のために
圧縮ばねとベローズ（２３）とが設けられており、これ
らは、冷却ヘッド（１１）に固定され移動可能にフード
内に配置されたフランジ（２１）と共に、２つの閉じた
室 （２６、２８）を形成している請求項４記載のクライオ
スタット。 ６、ＬＮ＿２浴の負荷に依存した再凝結が調整されるよ
うに圧縮ばね（２７）の力及び面の大きさが選択されて
いる請求項５記載のクライオスタット。 ７、ギフオード・マクマホン原理で作動する冷却ヘッド
（１１）が設けられており、かつ、ガス制御装置がクラ
イオスタットの外部に配置されている請求項１から６ま
でのいずれか１項記載のクライオスタット。 ８、冷却ヘッド（１２）の領域内に加熱装置が配置され
ている請求項１から７までのいずれか１項記載のクライ
オスタット。 ９、冷却ヘッド（１２）が表面増大手段（２８、２９）
を備えており、これが有利にはアルミニウム又は銅連続
プレス成形品から成る請求項１から８までのいずれか１
項記載のクライオスタット。 １０、容器（２）及びカバー（３）がフランジ（４、５
）を備えており、かつ、このフランジが保守作業の実施
のためにホース部分 （３１）を介して気密に接続されている請求項１から９
までのいずれか１項記載のクライオスタット。 １１、ホース部分（３１）又はホース部分とクライオス
タットとがＬＮ＿２浴の上方に接続部を備えている請求
項９記載のクライオスタット。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| EP19880118199 EP0366818A1 (de) | 1988-11-02 | 1988-11-02 | Kryostat mit einem Flüssig-Stickstoff (LN2)-Bad |
| EP88118199,4 | 1988-11-02 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02171573A true JPH02171573A (ja) | 1990-07-03 |
Family
ID=8199510
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1283173A Pending JPH02171573A (ja) | 1988-11-02 | 1989-11-01 | 液体窒素（ｌｎ↓２）浴を備えたクライオスタツト |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4967564A (ja) |
| EP (1) | EP0366818A1 (ja) |
| JP (1) | JPH02171573A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2014173755A (ja) * | 2013-03-06 | 2014-09-22 | Sumitomo Heavy Ind Ltd | 極低温冷却装置及び液面調整機構 |
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|---|---|---|---|---|
| US5163297A (en) * | 1991-01-15 | 1992-11-17 | Iwatani International Corporation | Device for preventing evaporation of liquefied gas in a liquefied gas reservoir |
| JPH04350906A (ja) * | 1991-05-28 | 1992-12-04 | Nippon Steel Corp | 酸化物超電導コイルの冷却方法および冷却装置 |
| US5417072A (en) * | 1993-11-08 | 1995-05-23 | Trw Inc. | Controlling the temperature in a cryogenic vessel |
| US6337205B1 (en) * | 1998-01-06 | 2002-01-08 | Integrated Biosystems, Inc | Cryopreservation vial apparatus and methods |
| FR2776762B1 (fr) * | 1998-03-31 | 2000-06-16 | Matra Marconi Space France | Dispositif de liaison thermique pour machine cryogenique |
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| US6477855B1 (en) * | 2001-05-01 | 2002-11-12 | Severn Trent Services - Water Purification Solutions, Inc | Chiller tank system and method for chilling liquids |
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| US6698213B2 (en) * | 2001-05-22 | 2004-03-02 | Integrated Biosystems, Inc. | Systems and methods for freezing and storing biopharmaceutical material |
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| US6430938B1 (en) | 2001-10-18 | 2002-08-13 | Praxair Technology, Inc. | Cryogenic vessel system with pulse tube refrigeration |
| US7104074B2 (en) * | 2001-11-01 | 2006-09-12 | Integrated Biosystems, Inc. | Systems and methods for freezing, storing, transporting and thawing biopharmaceutical material |
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| TWI325949B (en) * | 2004-02-09 | 2010-06-11 | Sanyo Electric Co | Refrigerant system |
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| DE102004037837B3 (de) * | 2004-08-04 | 2006-05-11 | Universität Augsburg | Vorrichtung zur Schaffung einer evakuierten Tieftemperaturumgebung für eine Probe und Verwendung der Vorrichtung |
| EP1630492A3 (en) * | 2004-08-23 | 2008-10-29 | Twinbird Corporation | Temperature controlling unit and container using the same |
| US20090200320A1 (en) * | 2004-08-23 | 2009-08-13 | Twinbird Corporation | Storage container |
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| US20060260328A1 (en) * | 2005-05-17 | 2006-11-23 | Rampersad Bryce M | Cryogenic biological preservation unit with active cooling and positive atmospheric seal lid |
| US20060260329A1 (en) * | 2005-05-17 | 2006-11-23 | Rampersad Bryce M | Cryogenic biological preservation unit with integrated cryocooler and nitrogen supply |
| GB2431981B (en) * | 2005-11-01 | 2008-06-18 | Siemens Magnet Technology Ltd | Apparatus and methods for transporting cryogenically cooled goods or equipement |
| US8028532B2 (en) | 2006-03-06 | 2011-10-04 | Sartorius Stedim North America Inc. | Systems and methods for freezing, storing and thawing biopharmaceutical materials |
| DE102014218773B4 (de) * | 2014-09-18 | 2020-11-26 | Bruker Biospin Gmbh | Automatische thermische Entkopplung eines Kühlkopfs |
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| US4223540A (en) * | 1979-03-02 | 1980-09-23 | Air Products And Chemicals, Inc. | Dewar and removable refrigerator for maintaining liquefied gas inventory |
| US4279127A (en) * | 1979-03-02 | 1981-07-21 | Air Products And Chemicals, Inc. | Removable refrigerator for maintaining liquefied gas inventory |
| US4689970A (en) * | 1985-06-29 | 1987-09-01 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Cryogenic apparatus |
| JPH0629635Y2 (ja) * | 1986-09-09 | 1994-08-10 | 古河電気工業株式会社 | 低温保持装置 |
| US4766741A (en) * | 1987-01-20 | 1988-08-30 | Helix Technology Corporation | Cryogenic recondenser with remote cold box |
-
1988
- 1988-11-02 EP EP19880118199 patent/EP0366818A1/de not_active Withdrawn
-
1989
- 1989-10-25 US US07/426,166 patent/US4967564A/en not_active Expired - Fee Related
- 1989-11-01 JP JP1283173A patent/JPH02171573A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2014173755A (ja) * | 2013-03-06 | 2014-09-22 | Sumitomo Heavy Ind Ltd | 極低温冷却装置及び液面調整機構 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US4967564A (en) | 1990-11-06 |
| EP0366818A1 (de) | 1990-05-09 |
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