JPH0217142A - Ｅ７／ｚ９―アルカジエン―１―オール及びそのヒドロキシル基で保護された誘導体の製法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は、−最大Ｉ： ［式中、 Ｒ１はＣ５〜Ｃ１−アルキル基及びＲ１は水素原子又は
塩基に安定なアルコール保護基を表す］で示されるＥ７
／Ｚ９−アルカジエン−１−オールを製造する方法に関
する。

特に、本発明はＥ　７　／　７．９−ドデカジェニルア
セテート（ＩＮ　’　＝　Ｃ，Ｉ＋、及びＲ’　＝　Ｃ
ＯＣｌ！、）　、即ち雑種のブドウハキガ（ロベシア・
ボトラナ：Ｌｏｂｅｓｉａ　ｂｏｔｒａｎａ）の性フエ
ロモンの製法に関する。

従来の技術 前記の、雄の動物に魅惑的なかつ強力な刺激作用を及ぼ
すフェロモンを使用することにより、中央ヨーロッパ及
び特に南ヨーロッパにおいて最も主要な有害昆虫である
と見なされる前記害虫をａ効に制御することができる（
例えばＲ７ｊｈｒｉｃｈ　　ｅｔ　　ａｌ、　　ｒｅｖ
、　　Ｚｏｏｌ、　　＾ｇｒｉｃ、　　ＰａＬｈｏｌＷ
ａｇ、　７６、２５．１９７７参照）。

従って、この経済的に重要、なフェロモンを合成するた
めには、従来種々の方法が記載され、それらの大多数の
ものはアセチレン誘導体のカブプリング反応に基づ＜　
（Ｌａｂｏｖｉｔｚ　ｅｔ　ａｌ、。

ＴｅＬｒａｈｅｄｒｏｎ　ＬｅＬｔ、　１９７５．４２
０！ｌ〜４２１２：　Ｎｅｇｉｓｈｉｃｌ　ａｌ、、　
Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ　　ＬｅｔＬ、１９７７、４１
１−４１４；　Ｄｅｓｃｏｉｎｓ　ｅＬ　ａｌ、、　Ｂ
ｕｌｌ、　Ｓｏｃ、　Ｃｈｉｓ、　Ｆｒａｎｃｅ１９７
７、９４１−９４６　；　Ｃａ５ｓａｎｉ　ｅｔ　ａｌ
、、Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎｌ、ｅＬｔ、　１９８０．
１４９７〜１５００参照）。これらの方法に共通なこと
は、工業的規模で実施することを不可能にする、取り扱
いが困難であり、敏感かつ高価な試薬を試用することに
ある。

その他にも、工程数が多いことに基づき採算が取れない
と見なされる合成法が記載された（Ｒｏｅｌｏｆｓ　ａ
ｔ　ａｔ、、米国特許第３，８４５，１０８号明細書参
照）。フランス国特許公開第２５０５８２０号明細力に
は、９−ヒドロキシ−ノナン−！−アールから出発する
４工程法が記載され、この場合には最後の工程で連鎖延
長を場合によりＯＨ官能基でアシル化された９−ヒドロ
キン−ノネンアールをホスホルイリドと反応させること
により行っている。

発明が解決しようとする課題 ところで、本発明の課題は、Ｅ７／Ｚ９−アルカジエン
−１−オール１、特に生物学的に活性であるもの、例え
ばＥ　７　／　７．９−ドデカジェニルアセテートを製
造するための、低コストの、工業的規模で実施可能な方
法を提供することであった。

課題を解決するための手段 従って、本発明は、−最大１： ［式中、 Ｒ１はＣ，−Ｃ，−アルキル基及び Ｒ１は水素原子又は塩基性安定性のアルコール保護基を
表す］で示されるＥ７／Ｚ９−アルカジエン−１−オー
ルを製造する方法に関し、該方法は大口： ０）１ｃｍ（Ｃ１１，）＠−ＯＲ”　　　　（ｎ　）１
式中、Ｒ１はＩＦｊ記のものを表す］で示される、場合
によりＯＨ官能基で保護された７−ヒドロキシへブタン
−１−アールを一般式■：１ｅ　Φ Ｒ４０−ＨＣ−Ｃ）ｌ−ＰＲ５ ■］ ［式中、 Ｒ’　　Ｒ“は低分子量のアルキル基を表すか又は相互
に結合して場合によりＣ８〜Ｃ４−アルキル置換された
ジオキサン又はジオキソラン系を形成しており、かつ Ｒ５はアルキル基、シクロアルキル基又は場合により置
換されたフェニル基を表す］で示されるホスホルイリド
とウィチッヒ反応に基づさ一般式■： １式中、Ｔｌ”、ｎ”及びＲ４は前記の６のを表す］で
示される化合物に転化し、該化合物を酸を作用さ仕て式
■： ［Ｒ’は前記のらのを表す］で示されるトランス−配置
の２−ノネン−アールに転化し、該化合物を更に式■： ｅ　Φ Ｒ１−ＣＨ−ＰＲ５ ｌ ［式中、Ｒ１及びＲ″′は前記のものを表す］で示され
るホスポルイリドとウィチッヒ反応させることにより、
前記式１の化合物に転化し、該化合物をｎ法で反応混合
物から回収することを特徴とする。

発明の作用 本発明は、２つの連続したウィチッヒ反応により所望の
フェロモンのジエン系の構成を開示するものである。該
方法は反応工程が短いことにより優れており、容易に入
手可能な、廉価なかつ筒単に取り扱い可能な出発物質を
使用することに基づき、エズ的規模で実施することがで
きかつ主として所望の立体異性体を生じる。

本方法の個々の工程は、以下の反応式により表される： は＾ ”＼　　　、（ｃ”コ１６−０Ｒ２ ７−ヒトロキンヘプタンアールａもしくはそのＯＩＩ−
官能基で保護された誘導体は、自体公知であるか又は公
知方法に基づき、例えば“Ｊ、　Ｃｈｅ＋＋、　Ｆ、ｃ
ｏｌ、　ＩＩ（１）、　１１３　（１９８５）”に記載
された方法に基づき製造可能である。

保護基Ｒ″としては、特に塩基に安定な基例えば１位に
第三炭素原子を有する０４〜ＣＩ？アルキル基例えば【
−ブチル基、１．１−ジメチルブロビー１−イル基、１
．１−ジメチルブチ−１−イル基：Ｃ８〜Ｃｍ−トリア
ルキルシリル基例えばトリメデルシリル基、トリエチル
シリル基、トリー〇−プロピルソリル基、トリイソプロ
ビルノリル基、トリーｎ−プチルソリル基、ジメチルエ
チルシリル基、ジエチルメチルシリル基及びジメチル−
〇−ブチルシリル基：ベンノル基；アシル基、例えばＣ
、−Ｃ、−アルカノイル基例えばアセチル基、プロピオ
ニル基及びブチリル基：ベンゾイルｇ、：非環式又は環
式アセタール基例えばＣ１〜Ｃ０−アルコキシメトキシ
基、Ｃ３〜Ｃ１−１−アルコキシエトキノ基、２−フラ
ニル基、２−テトラヒドロフラニル居、２−ピラニル居
、２−テトラヒト（Ｊピラニル基、１．３−ジオキサン
−２−イル基１．３−ジオキサン−４−イル基及び１．
４ノオキサン−２−イル基が該当する。ロベシアナ・ボ
トラ→−のフェロモン中にはアセチル基が存在するので
、この保護基がイイ利である。

基Ｒ３及びＲ４は、低分子囁のアルキル基、例えば枝分
れ鎖状又は非枝分れ鎖状Ｃ１−Ｃ１、ａ利には０１〜Ｃ
，−アルキル基例えばメチル基、エチル基、プロピル基
、イソプロピル基、ローブチル基、イソ−ブチル基、Ｓ
−ブチル基【−ブチル基、ペンチル基、ヘキンル居又は
オクチル基を表す。両考の基Ｒ３及びＲ４は、また相互
にエチレン橋又はプロピレン橋を形成することができる
、従ってジオキサン系もしくはノオキソラン系が存在す
る。

基Ｒ５は、Ｃ１〜Ｃ，−アルキル基、Ｃ２又はＣ８−シ
クロアルキル基及び特に場合により置換されたフェニル
基を表す、その際置換基としては不活性基例えばＣ１〜
Ｃ４−アルキル基、Ｃ，−Ｃ，−−アルコキシ基又はハ
ロゲン原子例えば弗素、塩素又は臭素が該当する。置換
されていないフェニル基がイｆ利である、それというの
もイリドを製造するために使用される出発物質のトリフ
ェニルホスフィンは特に廉価でありかつガに反応の際に
極めて低い反応性のかつ良好に分Ｍ　ＩＩｌ能な固体の
トリフェニルホスフィンオキノドを生成するからである
。

ホスホルイリド■又は■は、自体公知方法で、例えばＪ
、　Ｍａｒｃｈ、　Ａｄｖａｎｃｅｄ　Ｏｒｇａｎｉｃ
　ＣｈｅｍｉｓＬｒｙ’　第２版、８６４−８７２頁（
１９７７）、ＭｃＧｒａｗ−１１ｉ１１Ｋｏｇａｋｕｓ
ｈａ　Ｌｔｄ、に記載されているか又は該Ｔ１１行文献
に引用された方法に基づき、相応するホスホニウムハロ
ゲン化物、ａ利には臭素化物又は塩素化物を、塩基を用
いて脱プロトン化することにより製造することができる
。脱プロトン化は別の場所で又はＶｉ利にはその場で中
性溶剤中で室温又は０〜１００℃の温度で実施する（Ｊ
。

Ｃｈｅｗ、　Ｓｏｃ、、　Ｐｅｒｋｉｎ　Ｉ、　１９７
４．３７−４１）。溶剤としては、例えば窒素で完全に
置換された酸アミド例えばジメチルホルムアミド、ツメ
チルアセトアミド、ジエチルホルムアミド又はＮ−メチ
ルピロリドン：スルホン例えばジメチルスルホン：スル
ホキシド例えばジメチルスルホキシド：エーテル例えば
テトラヒドロフラン：グリコールエーテル例えばジメト
キシエタン、ジェトキシエタン、ジグリム：芳香族炭化
水素例えばベンゼン又はトルエン、ハロゲン化炭化水素
例えば塩化メチレン又はクロルベンゼンを使用する。水
／ａ機性２相系例えばＨ，Ｏ／）ルエン又はＨ２０／り
ａルベンゼンを使用することらできる。

塩基としては、２相系を使用する際には、低分子屯アル
コラード、例えばアルカリ金属アルコラード例えばナト
リウムメチラート又はナトリウムエチラート並びにアル
カリ金属水酸化物例えば水酸化ナトリウム又は水酸化カ
リウムを使用する。その他に、ブチルリチウム、アルカ
リ金属水素化物又はアミドを使用することもで、き、こ
の際には反応は場合により保護ガス下で実施する。

塩基の［ｄには特に制限はない、一般にホスホニウムハ
ロゲン化物１モル当り化学Ｍ論的！１１、又は僅かに過
剰、例えば１〜２０モル％過剰の塩基を使用する。より
多くの闇も可能であるがしかし一般により一層の利点を
もたすことはない。

ウィヂッヒ反応のために使用されるアルデヒド■又は■
１モル当り、化学量論的り（又はａ利には僅かに過剰、
例えば１０〜２０モル％過剰のイリド■又は■を使用す
ることができる。より多くの又は少ない槍も可能である
。

第１のウィチブヒ反応で形成されたα、β不飽和アセタ
ール■は、ラス／トランス混合物として生成しかつ該ア
セタールの後続の分解の際に酸性加水分解によって弔−
のトランス−配置のアルフデヒド■に転化される。

酸としては、鉱酸又は有機酸例えばカルボン酸、ジカル
ボン酸又はスルホン酸を使用することができる。例えば
、塩酸、酢酸、蓚酸又はトルエンスルホン酸が挙げられ
る。アセタール■１モル当り、一般に１〜２酸等４ｔを
使用する。

ａ利には、酸処理は希塩酸、例えば５〜３０％の塩酸を
用いて０〜５０℃の温度で不活性溶剤、例えばエーテル
例えばジエチルエーテル、メチル−【−ブチルエーテル
又はテトラヒドロフラン中で実施する。

引続いての、刊行文献、例えばフランス国特許第２５０
５８２０号明細ｉグから自体公知である、第２のウィチ
ブヒ反応の際には、所望のジエン１は約８５：１５のＥ
Ｚ　／　Ｅ　Ｅ比で生成しかつ自体公知方法で弔離しか
つ例えばカラムク［Ｊマドグラフィーにより精製するこ
とができる発明の効果 本発明による方法の利点は、簡単に実施できることにあ
る。従って、生成した中間体を費用のかかる精製工程を
介することなく後続工程のために使用することができる
。ウィチッヒ反応の際に形成されたホスフィンオキンド
は、反応工程の最後に初めて分離すればよい。

実施例 次に、実施例により本発明の詳細な説明する実施例１ トランス−２−ノネンアール■の製造 ７−アセドキシヘブタンアールＩ　７２ｙ（１。

０モル）及び（１，３−ジオキソラン−２−イル）−メ
チル−トリフェニルポスポニウムブロミド５１４ｇ（１
，２モル）を、ツメデルホルムアミド３Ｑ中で９０℃に
加熱しかつナトリウムメチラート６５ｇ（１２モル）を
分割して加える。９０℃で６時間撹拌しかつ冷却した後
に、水６Ｑを添加しかつメチル−ｔ−ブチルエーテルで
抽出するごとにより後処理する。洗浄及び乾燥後に、生
成物混合物２４３７が得られ、該混合物をテトラヒドロ
フラン３００ｚＱ中に同板しかつ１０％の塩酸３００ｇ
ジを加える。室温で３時間撹拌しかつ水５００ｍ１！を
添加した後に、メチル−Ｌ−ブチルエーテルで抽出しか
つイｊ−様相を洗浄しかつ乾燥させる。

ガスクロマトグラフィー分析によれば、９ヒドロキン−
２−ノネンアール４７％及び９アセトキノ−２−ノネン
アールＩ８％からなる生成物混合物１８７ｇが得られ、
これは７３％の全収率に相当する。該粗製生成物を後続
の反応、即らウィナ１ヒ反応及び遊ＭＯＨ−基のエステ
ル化に直接的に使用することができる。

実施例２ ９−アセトキシ−２−ノネンアールのＥ　７　／Ｅ９−
ドデカンジェニルアセテートへの転化プロピルトリフェ
ニルホスホニウムプロミド３８５ｙ（１，００モル）を
テトラヒドロフラン３Ｑ中に装入しかつカリウム−ｔ−
ブチラード＋＋２ｙ（１モル）を分割して加える。室温
で３０分間撹拌した後に、９−アセトキシ−２ノネンア
ール（７６％の粗製生成物）２１７ｇ（０，８３５モル
）を滴加しかつ室温で４５分間撹拌する。Ｈｙｏ　　５
００ｚＱを添加することにより、反応を停止させる。後
処理は、Ｎ　ａ　Ｃジ溶液を添加し、ジエチル−チルで
抽出しかつＮａ−８ｏ４１＝で乾燥させることにより行
い、引続き該粗製生成物を酢酸エステル／石油エーテル
（１：　Ｉ）中でシリカゲルを介して炉別する。ガスク
【Ｊマドグラフィー分析によれば、Ｅ７／Ｚ９−ドデカ
ンジエノール２４％並びにＥ７／Ｚ９−ドデカンジェニ
ルアセテート４４％からなる生成物２４２ｇが得られる
。

この混合物に、無水酢酸６０　ｘＱｃｏ　、６３モル）
及びピリジン６５ｚ１２（０，８０モル）を加えかつ還
流下で３時間加熱する。氷酢酸を添加し、塩化メチレン
で抽出し、（ｆ様相を１％の塩酸及び水で洗浄しかつＮ
　ａ　ｔ　Ｓ　Ｏａ上で乾燥させた後に、ガスクロマト
グラフィー分析によれば、Ｅ７／Ｚ９−ドデカンジェニ
ルアセテート６９．２％からなる生成物混合物２５９９
が得られ、これは９６％の全収率に相当する。

より以北の生成は、蒸留により行う。

代理人　　弁理士　　１）代　然　治

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 一般式 I ： ▲数式、化学式、表等があります▼ I ［式中、 Ｒ＾１はＣ＿１〜Ｃ＿８−アルキル基及び Ｒ＾２は水素原子又は塩基に安定なアルコール保護基を
   表す］で示されるＥ７／Ｚ９−アルカジエン−１−オー
   ルを製造する方法において、式II： ＯＨＣ−（ＣＨ＿２）＿６−ＯＲ＾２（II） ［式中、Ｒ＾２は前記のものを表す］で示される、場合
   によりＯＨ官能基で保護された７−ヒドロキシヘプタン
   −１−アールを一般式III： ▲数式、化学式、表等があります▼III ［式中、 Ｒ＾３、Ｒ＾４は低分子量のアルキル基を表すか又は相
   互に結合して場合によりＣ＿１〜Ｃ＿４−アルキル置換
   されたジオキサン又はジオキソラン系を形成しており、
   かつ Ｒ＾５はアルキル基、シクロアルキル基又は場合により
   置換されたフェニル基を表す］で示されるホスホルイリ
   ドとウィチッヒ反応に基づき一般式IV： ▲数式、化学式、表等があります▼IV ［式中、Ｒ＾２、Ｒ＾３及びＲ＾４は前記のものを表す
   ］で示される化合物に転化し、該化合物を酸を作用させ
   て式Ｖ： ▲数式、化学式、表等があります▼Ｖ ［Ｒ＾２は前記のものを表す］で示されるトランス−配
   置の２−ノネン−アールに転化し、該化合物を更に式V
   I： ▲数式、化学式、表等があります▼VI ［式中、Ｒ＾１及びＲ＾５は前記のものを表す］で示さ
   れるホスホルイリドとウィチッヒ反応させることにより
   、前記式 I の化合物に転化し、該化合物を常法で反応
   混合物から回収することを特徴とするＥ７／Ｚ９−アル
   カジエン−１−オール及びそのヒドロキシル基で保護さ
   れた誘導体の製法。