JPH02171088A - 固体撮像素子 - Google Patents
固体撮像素子Info
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- JPH02171088A JPH02171088A JP63326529A JP32652988A JPH02171088A JP H02171088 A JPH02171088 A JP H02171088A JP 63326529 A JP63326529 A JP 63326529A JP 32652988 A JP32652988 A JP 32652988A JP H02171088 A JPH02171088 A JP H02171088A
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Landscapes
- Solid State Image Pick-Up Elements (AREA)
- Transforming Light Signals Into Electric Signals (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は各画素がマトリクス状に配列される固体撮像素
子に関し、特に、各画素には受光素子。
子に関し、特に、各画素には受光素子。
増幅手段及びリセット手段が設けられ、光信号電荷が増
幅される内部増幅型の固体撮像素子に関する。
幅される内部増幅型の固体撮像素子に関する。
本発明は、マトリクス状に配列される各画素に受光累子
、増幅手段及びリセット手段が設けられる内部増幅型の
固体撮像素子において、そのリセット手段を行選択と列
i2f沢用の2つのスイッチを直列接続させて構成して
、各画素毎におけるリセットを可能とすることにより、
固定パターン雑音の除去や各種の制御が行なえるように
したものである。
、増幅手段及びリセット手段が設けられる内部増幅型の
固体撮像素子において、そのリセット手段を行選択と列
i2f沢用の2つのスイッチを直列接続させて構成して
、各画素毎におけるリセットを可能とすることにより、
固定パターン雑音の除去や各種の制御が行なえるように
したものである。
撮像素子の高解像度化に伴い、各画素毎に増幅Ja能を
有した内部増幅型の固体撮像素子の研究が行われており
、このような技術については、例えば「増幅型固体撮像
素子AM I (Amplified MO3Inte
lligent Imaler) 」+ “テレビジ
四ン学会誌”1075〜1082頁、 Vol 41.
No、11.1987年にその記載がある。
有した内部増幅型の固体撮像素子の研究が行われており
、このような技術については、例えば「増幅型固体撮像
素子AM I (Amplified MO3Inte
lligent Imaler) 」+ “テレビジ
四ン学会誌”1075〜1082頁、 Vol 41.
No、11.1987年にその記載がある。
ここで、簡単に増幅型固体撮像素子の一例(所謂AMI
)について説明すると、その素子の回路構成は、XYア
ドレス方式とされ、素子は第7図に一部省略して示ずよ
うにマトリクス状に配列された画素を有し、その各画素
は受光素子101、垂直スイッチングトランジスタ10
2、増幅用トランジスタ103及びリセット用のリセッ
トトランジスタ104より構成されている。このマトリ
クス状に配列された画素からなるイメージ部の周囲には
、垂直走査のための第1垂直走査回路105と、リセッ
ト用の第2垂直走査回路106と、水平走査のための水
平走査回路107が設けられている。水平走査回路10
7は水平スイッチングトランジスタ108のオン・オフ
を制御する回路であり、その水平スイッチングトランジ
スタ10日は、ビデオラインSと各垂直信号線の接続を
制御するように設けられている。第1垂直走査回路10
5、第2垂直走査回路106は、それぞれ各(テの垂直
スイッチングトランジスタ102、リセットトランジス
タ104を制御し、それぞれ各行の画素で共通の制御が
行われる。
)について説明すると、その素子の回路構成は、XYア
ドレス方式とされ、素子は第7図に一部省略して示ずよ
うにマトリクス状に配列された画素を有し、その各画素
は受光素子101、垂直スイッチングトランジスタ10
2、増幅用トランジスタ103及びリセット用のリセッ
トトランジスタ104より構成されている。このマトリ
クス状に配列された画素からなるイメージ部の周囲には
、垂直走査のための第1垂直走査回路105と、リセッ
ト用の第2垂直走査回路106と、水平走査のための水
平走査回路107が設けられている。水平走査回路10
7は水平スイッチングトランジスタ108のオン・オフ
を制御する回路であり、その水平スイッチングトランジ
スタ10日は、ビデオラインSと各垂直信号線の接続を
制御するように設けられている。第1垂直走査回路10
5、第2垂直走査回路106は、それぞれ各(テの垂直
スイッチングトランジスタ102、リセットトランジス
タ104を制御し、それぞれ各行の画素で共通の制御が
行われる。
第8図は、この素子の読み出しの際の波形図であり、第
1垂直走査回路105によって成る行が選択されている
ものとすると、水平走査回路107からの信号Φtlに
応じて、水平スイッチングトランジスタ10Bがオン・
オフし、順に信号ΦSが各ビデオラインSに現れる。
1垂直走査回路105によって成る行が選択されている
ものとすると、水平走査回路107からの信号Φtlに
応じて、水平スイッチングトランジスタ10Bがオン・
オフし、順に信号ΦSが各ビデオラインSに現れる。
ところが、上述の回路構成からなる内部増幅型の固体撮
像素子では、各画素毎の増幅素子のばらつきに起因する
固定パターン雑音(fixed paLLernnoi
se)が多く発生し、その解決が求められている。この
固定パターン雑音を除く方法として、外部メモリーによ
る補正も考えられるが、メモリーを付加する分だけコス
ト増となり、その消費電力も増加する。
像素子では、各画素毎の増幅素子のばらつきに起因する
固定パターン雑音(fixed paLLernnoi
se)が多く発生し、その解決が求められている。この
固定パターン雑音を除く方法として、外部メモリーによ
る補正も考えられるが、メモリーを付加する分だけコス
ト増となり、その消費電力も増加する。
また、上述の固体撮像素子では、各画素のりセット動作
が成る行にかかる全部の画素に対して行われる。このた
め、例えば高速の電子シャッターとして、ライン毎のリ
セット後に信号電荷のMMiを行う場合には、1水平ラ
インの初め側の画素と終わり側の画素とでは、その?R
積待時間異なってくる(例えば63μsec )ことに
なって問題となる。また、垂直方向に隣接する画素の信
号電荷を合わせるようなフィールド読み出し等の制御も
困難となる。
が成る行にかかる全部の画素に対して行われる。このた
め、例えば高速の電子シャッターとして、ライン毎のリ
セット後に信号電荷のMMiを行う場合には、1水平ラ
インの初め側の画素と終わり側の画素とでは、その?R
積待時間異なってくる(例えば63μsec )ことに
なって問題となる。また、垂直方向に隣接する画素の信
号電荷を合わせるようなフィールド読み出し等の制御も
困難となる。
そごで、本発明は、上述の技術的な5題に迄み、固定パ
ターン雑音を除き、各種の制御が行なえるような固体撮
像素子の提供を目的とする。
ターン雑音を除き、各種の制御が行なえるような固体撮
像素子の提供を目的とする。
上述の目的を達成するために、本発明の固体撮像素子は
、受光素子とその受光素子からの信号電荷を増幅する増
幅手段とその信号電荷をリセットするリセット手段を各
画素に有し、それら画素はマトリクス状に配列されるも
のであって、上記リセット手段は、直列接続される2つ
のスイッチを有し、一方のスイッチは行i!沢とされ、
且つ他方のスイッチは列選択とされて、各画素毎でのり
セットが行なえることを特徴とする。
、受光素子とその受光素子からの信号電荷を増幅する増
幅手段とその信号電荷をリセットするリセット手段を各
画素に有し、それら画素はマトリクス状に配列されるも
のであって、上記リセット手段は、直列接続される2つ
のスイッチを有し、一方のスイッチは行i!沢とされ、
且つ他方のスイッチは列選択とされて、各画素毎でのり
セットが行なえることを特徴とする。
なお、上記マトリクス状とは、行1列の数が1以上の整
数であり、従って、その配列から固体撮像素子は、リニ
ア若しくはエリア型となる。
数であり、従って、その配列から固体撮像素子は、リニ
ア若しくはエリア型となる。
リセット手段を直列接続される行選択のスイッチと列選
択のスイッチを用いて構成することで、各画素単独のリ
セットが可能となる。その結果、信号出力を行った後に
、同一画素をリセットさせ、そのリセット後のオフセッ
トレベルをもう一度出力させるような制御によって、ノ
イズを抑えることができる。また、各画素単独のリセッ
トによって、各種の走査に応じた柔軟なリセットも可能
となる。
択のスイッチを用いて構成することで、各画素単独のリ
セットが可能となる。その結果、信号出力を行った後に
、同一画素をリセットさせ、そのリセット後のオフセッ
トレベルをもう一度出力させるような制御によって、ノ
イズを抑えることができる。また、各画素単独のリセッ
トによって、各種の走査に応じた柔軟なリセットも可能
となる。
(実施例〕
本発明の好適な実施例を図面を参照しながら説明する。
第1の実施例
本実施例は、その画素の構造がフォトダイオードで発生
した光信号電荷をMOSFETのゲートに蓄積して電流
増幅を行うタイプの固体撮像素子の例であり、2つの直
列接続されたMOSトランジスタによって、各画素毎の
リセットが行なえる構造を有している。
した光信号電荷をMOSFETのゲートに蓄積して電流
増幅を行うタイプの固体撮像素子の例であり、2つの直
列接続されたMOSトランジスタによって、各画素毎の
リセットが行なえる構造を有している。
第1図は、本実施例の固体撮像素子の回路構成を示して
おり、各画素には、受光素子であるフォトダイオード1
1が設けられ、そのフォトダイオード11の一端子は増
幅機能を有したMOSl−ランジスク12のゲートに接
続されている。このためフォトダイオード11で発生し
た光信号電荷はMOS)ランジスタ12のゲートで蓄積
される。
おり、各画素には、受光素子であるフォトダイオード1
1が設けられ、そのフォトダイオード11の一端子は増
幅機能を有したMOSl−ランジスク12のゲートに接
続されている。このためフォトダイオード11で発生し
た光信号電荷はMOS)ランジスタ12のゲートで蓄積
される。
そのMOS )ランジスタ12には、接地電圧GNDと
の間で直列に垂直スイッチングトランジスタ13が接続
され、各垂直スイッチングトランジスタ13のゲートに
は、第1垂直走査回路14からの垂直ゲート線V G、
、、 V C,、、、、・・・が各行毎にそれぞれ接続
されている。従って、第1垂直走査回路14からの返I
J(信号に基づき成る行にかかる全画素が選択される。
の間で直列に垂直スイッチングトランジスタ13が接続
され、各垂直スイッチングトランジスタ13のゲートに
は、第1垂直走査回路14からの垂直ゲート線V G、
、、 V C,、、、、・・・が各行毎にそれぞれ接続
されている。従って、第1垂直走査回路14からの返I
J(信号に基づき成る行にかかる全画素が選択される。
上記MO5)ランジスク12のゲートには、さらにリセ
ット手段を構成するように直列接続された2つのMOS
)ランジスタl。
ット手段を構成するように直列接続された2つのMOS
)ランジスタl。
2がリセット電圧■8との間に設けられている。
MOSトランジスタ1は、列選択用のスイッチであり、
そのゲートは第2水平走査回路16からの列毎に設けら
れた列リセット線Hrl 11+ HI?いや+、It
R□2.・・・によってそれぞれ制御される。MOSト
ランジスタ2は、行選択用のスイッチであり、そのゲー
トは各行毎に第2垂直走査回路15からの行リセットl
!V R,、V R,1,、、・・・によってそれぞれ
制御される。従って、例えば0行m+1列の画素をリセ
ットしようする場合には、行リセット線■Rfiと列リ
セットtJA II R164rを同時に選択すること
で、0行m+1列の画素のMOSトランジスタ12のゲ
ートに蓄積された光信号電荷はリセットされることにな
る。 6各画素のMOSトラン
ジスタ12のドレイン側【よ、列毎に設けられた垂直信
号fIII S−、HS−、+。
そのゲートは第2水平走査回路16からの列毎に設けら
れた列リセット線Hrl 11+ HI?いや+、It
R□2.・・・によってそれぞれ制御される。MOSト
ランジスタ2は、行選択用のスイッチであり、そのゲー
トは各行毎に第2垂直走査回路15からの行リセットl
!V R,、V R,1,、、・・・によってそれぞれ
制御される。従って、例えば0行m+1列の画素をリセ
ットしようする場合には、行リセット線■Rfiと列リ
セットtJA II R164rを同時に選択すること
で、0行m+1列の画素のMOSトランジスタ12のゲ
ートに蓄積された光信号電荷はリセットされることにな
る。 6各画素のMOSトラン
ジスタ12のドレイン側【よ、列毎に設けられた垂直信
号fIII S−、HS−、+。
H3,、、、・・・に接続する。これら各垂直信号線H
3、、HS□In HSa*t+・・・は、水平スイッ
チングトランジスタ18を介して水平信号線VLに接続
する。
3、、HS□In HSa*t+・・・は、水平スイッ
チングトランジスタ18を介して水平信号線VLに接続
する。
これら水平スイッチングトランジスタ18のゲートは、
第1水平走査回路17からの信号が供給され、その信号
によって水平スイッチングトランジスタ18が択一的に
選択される。上記水平信号線VLの終端部には増幅器1
9が接続し、その増幅JH19から出力が取り出される
。なお、水平信号線VLは1線に限定されず、複数線か
らなるように構成しても良い。
第1水平走査回路17からの信号が供給され、その信号
によって水平スイッチングトランジスタ18が択一的に
選択される。上記水平信号線VLの終端部には増幅器1
9が接続し、その増幅JH19から出力が取り出される
。なお、水平信号線VLは1線に限定されず、複数線か
らなるように構成しても良い。
このような構成からなる固体撮像素子は、リセット手段
として、直列接続される2つのMOSトランジスタ1.
2を有しており、この2つのMOSトランジスタ1.2
の両方がオンになった時、リセットが行われる。このた
め、各画素単独のリセット動作が可能となり、高速な電
子シャック−動作やフィールド読み出し等の各種の走査
に対応したリセットを行うことができる。また、読み出
し動作は、通常のMO3I撮像素子と同様に走査するこ
とで行うことができるが、第2図に示すような制御を行
って、固定バクーン雑音を除去するようにすることもで
きる。
として、直列接続される2つのMOSトランジスタ1.
2を有しており、この2つのMOSトランジスタ1.2
の両方がオンになった時、リセットが行われる。このた
め、各画素単独のリセット動作が可能となり、高速な電
子シャック−動作やフィールド読み出し等の各種の走査
に対応したリセットを行うことができる。また、読み出
し動作は、通常のMO3I撮像素子と同様に走査するこ
とで行うことができるが、第2図に示すような制御を行
って、固定バクーン雑音を除去するようにすることもで
きる。
第2図は読み出し時の波形図であり、第n行にかかる画
素の信号を各列毎に読み出す走査を考える。ここで信号
ΦVGは、第1垂直走査回路14からの選択信号であり
、垂直ゲート線VG、のみが°“ト!゛°レベル(高レ
ベル)であり、他の垂直ゲート線は°“L”レベル(低
レベル)とされる、信号ΦH3は、水平スイッチングト
ランジスタ18を走査する信号であり、順に垂直信号線
HS 、、 I(s、、、、H3,、!、・・・と選択
されて行く、このように走査することで、第n行のWs
累の信号が列毎順に水平信号線VLに出力されて行(こ
とになる。
素の信号を各列毎に読み出す走査を考える。ここで信号
ΦVGは、第1垂直走査回路14からの選択信号であり
、垂直ゲート線VG、のみが°“ト!゛°レベル(高レ
ベル)であり、他の垂直ゲート線は°“L”レベル(低
レベル)とされる、信号ΦH3は、水平スイッチングト
ランジスタ18を走査する信号であり、順に垂直信号線
HS 、、 I(s、、、、H3,、!、・・・と選択
されて行く、このように走査することで、第n行のWs
累の信号が列毎順に水平信号線VLに出力されて行(こ
とになる。
そして、本実施例の固体撮像素子では、読み出し方法の
一例として、成る画素に関する読み出しの期間を3分割
し、最初の期間Taで光信号電荷Qに閾値電圧■い等の
ばらつきに起因するオフセット分ΔQが加えら・1.た
信号を出力し、次の期間Trでリセットをその画素に関
して行い、最後の期間Tbでオフセット分ΔQのみを出
力する。
一例として、成る画素に関する読み出しの期間を3分割
し、最初の期間Taで光信号電荷Qに閾値電圧■い等の
ばらつきに起因するオフセット分ΔQが加えら・1.た
信号を出力し、次の期間Trでリセットをその画素に関
して行い、最後の期間Tbでオフセット分ΔQのみを出
力する。
このような走査を行うためには、信号ΦVRを行リセッ
ト線VR,のみII’“レベルにし、他の行リセット線
を°°Lルベルにする。これで第1行にかかる画素のM
O3I−ランジスク2はオンとなる。成る画素に関する
信号ΦHSの立ち上がりから期間Ta経過するまでは、
水平信号線VLにQ+ΔQの信号が現れる。そして、期
間Trでは、信号ΦHSの走査に合わせた同一画素に関
する列リセット線HR、、HRll”ll HR、、、
、・・・の1つが選択され、MOSトランジスタ1を時
間Trだけオンにさせる。その結果、その画素に関して
MOSトランジスタl、2が共にオンになり、期間Tr
で単独の画素のリセットが行われる。そして、リセット
終了後、光信号電荷の蓄積の無い状態で、勇び信号が読
みだされ、水平信号線VLにオフセット分ΔQのみの1
3号が現れる。
ト線VR,のみII’“レベルにし、他の行リセット線
を°°Lルベルにする。これで第1行にかかる画素のM
O3I−ランジスク2はオンとなる。成る画素に関する
信号ΦHSの立ち上がりから期間Ta経過するまでは、
水平信号線VLにQ+ΔQの信号が現れる。そして、期
間Trでは、信号ΦHSの走査に合わせた同一画素に関
する列リセット線HR、、HRll”ll HR、、、
、・・・の1つが選択され、MOSトランジスタ1を時
間Trだけオンにさせる。その結果、その画素に関して
MOSトランジスタl、2が共にオンになり、期間Tr
で単独の画素のリセットが行われる。そして、リセット
終了後、光信号電荷の蓄積の無い状態で、勇び信号が読
みだされ、水平信号線VLにオフセット分ΔQのみの1
3号が現れる。
ごのようにリセット動作を途中に挟みながら、画素に関
する読み出しの期間を3分割して、Q 4−ΔQとΔQ
の2つの出力を行って、(Q+ΔQ)−ΔQの差信号を
得ることで、外部メモリーを不要としてオフセットの無
い光信号電荷Qの出力信号を得ることができる。また、
この方法によって、画素内の増幅器の低周波ノイズの低
減も差し引くことが可能となる。
する読み出しの期間を3分割して、Q 4−ΔQとΔQ
の2つの出力を行って、(Q+ΔQ)−ΔQの差信号を
得ることで、外部メモリーを不要としてオフセットの無
い光信号電荷Qの出力信号を得ることができる。また、
この方法によって、画素内の増幅器の低周波ノイズの低
減も差し引くことが可能となる。
第2の実施例
本実施例は第1の実施例と同じ内部増幅型の固体撮像素
子であるが、フォトダイオードからの電荷がフローティ
ングなウェル卸域に蓄積され、そのウェル領域に蓄積さ
れる電荷によってMOSFETのゲート直下の表面電荷
を変調させて、光信号電荷の増幅を行うタイプの画素を
有している。
子であるが、フォトダイオードからの電荷がフローティ
ングなウェル卸域に蓄積され、そのウェル領域に蓄積さ
れる電荷によってMOSFETのゲート直下の表面電荷
を変調させて、光信号電荷の増幅を行うタイプの画素を
有している。
そして、そのリセット手段としては、直列接続される2
つのMOSトランジスタを有し、画素単独でのリセット
が行なえるものである。
つのMOSトランジスタを有し、画素単独でのリセット
が行なえるものである。
まず、その回路構成は、第3図に示すような構成とされ
、各画素では、受光素子であるフォトダイオード31が
増幅機能を有したMOS )ランジスタ32のゲート下
部に形成され、そのフォトダイオード31に発生する光
信号電荷によって、MOS)ランジスク32の表面電荷
が変調され、その変調に応じた増幅が行われる。そのM
OS l−ランジスタ32のドレインには、電源電圧■
。。が供給され、MOS)ランジスタ32のゲートには
、行選択用に第1垂直走査回路34からの垂直デー1−
線V G、、 V C,、、、・・・が各行毎にそれぞ
れ接続されている。さらにMOSトランジスタ32のソ
ースは列毎に設けられた垂直信潟線HS 11+ n
S 、、、。
、各画素では、受光素子であるフォトダイオード31が
増幅機能を有したMOS )ランジスタ32のゲート下
部に形成され、そのフォトダイオード31に発生する光
信号電荷によって、MOS)ランジスク32の表面電荷
が変調され、その変調に応じた増幅が行われる。そのM
OS l−ランジスタ32のドレインには、電源電圧■
。。が供給され、MOS)ランジスタ32のゲートには
、行選択用に第1垂直走査回路34からの垂直デー1−
線V G、、 V C,、、、・・・が各行毎にそれぞ
れ接続されている。さらにMOSトランジスタ32のソ
ースは列毎に設けられた垂直信潟線HS 11+ n
S 、、、。
HS−−z、・・・に接続する。上記フォトダイオード
31の他部:には、接地電圧GNDとの間で容量33が
形成され、その容量33とダイオード31の間のノード
から、リセット手段を構成するように直列接続された2
つのMOS)ランジスタ21,22がリセット電圧■8
との間に設けられている。
31の他部:には、接地電圧GNDとの間で容量33が
形成され、その容量33とダイオード31の間のノード
から、リセット手段を構成するように直列接続された2
つのMOS)ランジスタ21,22がリセット電圧■8
との間に設けられている。
MOSトランジスタ21は、列iJ沢用のスイッチであ
り、そのゲートは第2水平走査回路36からの列毎に設
けられた列リセット線HR,、HR,、、。
り、そのゲートは第2水平走査回路36からの列毎に設
けられた列リセット線HR,、HR,、、。
HR−−!、・・・によってぞれぞれ制御される。MO
Sトランジスタ2zは、行i!沢用のスイッチであり、
そのゲートは各行毎に第2垂直走査回路35からの行リ
セット線V L、 V I?、、、、、・・・によって
それぞれ制御される。なお、MOSトランジスタ21゜
22の機能は、第1の実施例におけるMOSトランジス
タ1,2と同様であり、これら一対のMOS +−ラン
ジスタ21.22によって、画素単独でのリセットが可
能となる。
Sトランジスタ2zは、行i!沢用のスイッチであり、
そのゲートは各行毎に第2垂直走査回路35からの行リ
セット線V L、 V I?、、、、、・・・によって
それぞれ制御される。なお、MOSトランジスタ21゜
22の機能は、第1の実施例におけるMOSトランジス
タ1,2と同様であり、これら一対のMOS +−ラン
ジスタ21.22によって、画素単独でのリセットが可
能となる。
上記各垂直信号線11 S−、II S、、+、 HS
−t、・・・は、水平スイッチングトランジスタ38を
介して水平信号線VLに接続する。これら水平スイッチ
ングトランジスタ38のゲートは、第1水平走査回路3
7からの信号が供給され、その信号によつて水平スイッ
チングトランジスタ3日が択一的に選択される。上記水
平(δ分線VLの終端部には増幅器39が接続し、その
増幅器39から出力が取り出される。なお、水平信号線
VLは1線に限定されず、複数線からなるように構成し
ても良い。
−t、・・・は、水平スイッチングトランジスタ38を
介して水平信号線VLに接続する。これら水平スイッチ
ングトランジスタ38のゲートは、第1水平走査回路3
7からの信号が供給され、その信号によつて水平スイッ
チングトランジスタ3日が択一的に選択される。上記水
平(δ分線VLの終端部には増幅器39が接続し、その
増幅器39から出力が取り出される。なお、水平信号線
VLは1線に限定されず、複数線からなるように構成し
ても良い。
ここで、第4図〜第6図を参照しながら、各画素の構造
について説明する。第4図は素子の断面図であり、p型
のシリコン基板41上にn型のウェルfi18i42が
形成され、さらにそのn型のウェル領域42に囲まれて
p型のウェル領域43が形成される。このp型のウェル
領域43の表面には、n゛型の不純物拡散領域からなる
ソース領域44とドレイン領域45がIf、11間して
形成され、それらソース領域44とドレイン領域45の
間のp型のウェル61J!43上には、絶縁膜46を介
してゲート電極層47が形成されている。ソース領域4
4は開口されてアルミ配線rr!J48か形成され、こ
のアルミ配kfA層48が第3図の垂直信号線HS 、
、 HS 、、、、 HS 、、!、・・・とじて機能
する。ドレイン領域45には電源電圧v0が供給される
。また、ゲート電極層47は、第3図の垂直ゲートLf
AV G n、 VG 116 + +・・・として機
能する。なお、図示を省略するが、リセット手段はp型
のウェルjJl!43に接続するように形成される。
について説明する。第4図は素子の断面図であり、p型
のシリコン基板41上にn型のウェルfi18i42が
形成され、さらにそのn型のウェル領域42に囲まれて
p型のウェル領域43が形成される。このp型のウェル
領域43の表面には、n゛型の不純物拡散領域からなる
ソース領域44とドレイン領域45がIf、11間して
形成され、それらソース領域44とドレイン領域45の
間のp型のウェル61J!43上には、絶縁膜46を介
してゲート電極層47が形成されている。ソース領域4
4は開口されてアルミ配線rr!J48か形成され、こ
のアルミ配kfA層48が第3図の垂直信号線HS 、
、 HS 、、、、 HS 、、!、・・・とじて機能
する。ドレイン領域45には電源電圧v0が供給される
。また、ゲート電極層47は、第3図の垂直ゲートLf
AV G n、 VG 116 + +・・・として機
能する。なお、図示を省略するが、リセット手段はp型
のウェルjJl!43に接続するように形成される。
このような素子断面構造を有する本実施例の固体撮像素
子は、第5図に示すように、ゲート電極層47の下のポ
テンシャル・プロフィールは、ゲート電極層47が選択
されていない時に、すなわち°゛L、nL、nレベルに
、実線P+ のような分布となる。ポテンシャルの極小
点p0が形成される。従って、その極小点S0より浅い
範囲で発生したフォトホールがp型のウェル領域43に
蓄積される0次に、上記ゲート電極[47が選択されて
いる時すなわらゲートが“H”レベルである時は、破線
P2のようなポテンシャル分布となり、更に光信号電荷
の蓄積がある時は、−点鎖線P。
子は、第5図に示すように、ゲート電極層47の下のポ
テンシャル・プロフィールは、ゲート電極層47が選択
されていない時に、すなわち°゛L、nL、nレベルに
、実線P+ のような分布となる。ポテンシャルの極小
点p0が形成される。従って、その極小点S0より浅い
範囲で発生したフォトホールがp型のウェル領域43に
蓄積される0次に、上記ゲート電極[47が選択されて
いる時すなわらゲートが“H”レベルである時は、破線
P2のようなポテンシャル分布となり、更に光信号電荷
の蓄積がある時は、−点鎖線P。
のようなポテンシャル分布となる。この時表面のチャン
ネルにおける電荷Qe(電子)は極大点Sに蓄積される
ホールのミラー電荷であって、前記蓄積されたフォトホ
ールの世に依存してチャンネルのコンダクタンスが変化
することになる。
ネルにおける電荷Qe(電子)は極大点Sに蓄積される
ホールのミラー電荷であって、前記蓄積されたフォトホ
ールの世に依存してチャンネルのコンダクタンスが変化
することになる。
また、第6図に示すように、ゲートの直下でない断面に
おいても、実IP! P aに示すようなポテンシャル
・プロフィールがあり、図中極小値S!より浅い部分で
は、フォトホールが集められる。このためゲート直下の
領域以外でも、光感度が得られることになる。
おいても、実IP! P aに示すようなポテンシャル
・プロフィールがあり、図中極小値S!より浅い部分で
は、フォトホールが集められる。このためゲート直下の
領域以外でも、光感度が得られることになる。
このような画素の構jhを存してなる本実施例の固体撮
像素子は、第1の実施例の固体撮像素子と同様に、リセ
ット手段として、直列接続される2つのMOS)ランジ
スタ21,22を存しており、この2つのMOS)ラン
ジスタ21.22の両方がオンになった時、リセットが
行われる。このため、各画素単独のリセット動作が可能
となり、高速な電子シャッター動作やフィールド読み出
し等の各種の走査に対応したリセットを行うことができ
る。また、読み出し動作は、通常のMO3型撮像素子と
同様に走査することで行うことができ、更に第1の実施
例と同様に、第2図に示した制御を行って、固定パター
ン雑音を除去するようにすることもできる。
像素子は、第1の実施例の固体撮像素子と同様に、リセ
ット手段として、直列接続される2つのMOS)ランジ
スタ21,22を存しており、この2つのMOS)ラン
ジスタ21.22の両方がオンになった時、リセットが
行われる。このため、各画素単独のリセット動作が可能
となり、高速な電子シャッター動作やフィールド読み出
し等の各種の走査に対応したリセットを行うことができ
る。また、読み出し動作は、通常のMO3型撮像素子と
同様に走査することで行うことができ、更に第1の実施
例と同様に、第2図に示した制御を行って、固定パター
ン雑音を除去するようにすることもできる。
本発明の固体撮像素子は、上述のように、そのリセット
手段が直列接続される行及び列選択用の2つのスイッチ
よりなるため、画素毎のリセットが可能となる。このた
め、1つの画素の読み出し動作中にリセットを行って、
外部メモリーを必要としない信号のオフセット分の除去
や、素子の各種の走査に対応した柔軟なリセットを行わ
せることができる。
手段が直列接続される行及び列選択用の2つのスイッチ
よりなるため、画素毎のリセットが可能となる。このた
め、1つの画素の読み出し動作中にリセットを行って、
外部メモリーを必要としない信号のオフセット分の除去
や、素子の各種の走査に対応した柔軟なリセットを行わ
せることができる。
第1図は本発明の固体撮像素子の一例の回路構成を示す
回路図、第2図はその読み出し動作の一例を示す波形図
、第3図は本発明の固体撮像素子の他の一例の回路構成
を示す回路図、第4図はその他の一例の素子構造の要部
断面図、第5図は第4図の素子のv−V線断面に沿った
ポテンシャル分布図、第6図は第4図の素子の■−Vl
線断面に沿ったポテンシャル分布図、第7図は従来の固
体撮像素子の一例の回路図、第8図はその従来の固体撮
像素子の一例の読み出し動作を説明するための波形図で
ある。 1.2,21.22・・・MOS)ランジスタ1.31
・・・フォトダイオード 2.32・・・MOSトランジスタ 3・・・垂直スイッチングトランジスタ4.34・・・
第1垂直走査回路 5.35・・・第2垂直走査回路 6.36・・・第2水平走査回路 7.37・・・第1水平走査回路 8.38・・・水平スイッチングトランジスタL・・・
水平信号線 ′H′ ΦV0 ・じ のVR VG口 Rn 特許出願人 ソニー株式会社 代理人弁理士 小泡 晃(他2名) タイム斗ヤード 第2図
回路図、第2図はその読み出し動作の一例を示す波形図
、第3図は本発明の固体撮像素子の他の一例の回路構成
を示す回路図、第4図はその他の一例の素子構造の要部
断面図、第5図は第4図の素子のv−V線断面に沿った
ポテンシャル分布図、第6図は第4図の素子の■−Vl
線断面に沿ったポテンシャル分布図、第7図は従来の固
体撮像素子の一例の回路図、第8図はその従来の固体撮
像素子の一例の読み出し動作を説明するための波形図で
ある。 1.2,21.22・・・MOS)ランジスタ1.31
・・・フォトダイオード 2.32・・・MOSトランジスタ 3・・・垂直スイッチングトランジスタ4.34・・・
第1垂直走査回路 5.35・・・第2垂直走査回路 6.36・・・第2水平走査回路 7.37・・・第1水平走査回路 8.38・・・水平スイッチングトランジスタL・・・
水平信号線 ′H′ ΦV0 ・じ のVR VG口 Rn 特許出願人 ソニー株式会社 代理人弁理士 小泡 晃(他2名) タイム斗ヤード 第2図
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 受光素子とその受光素子からの信号電荷を増幅する増幅
手段とその信号電荷をリセットするリセット手段を各画
素に有し、それら画素はマトリクス状に配列される固体
撮像素子において、 上記リセット手段は、直列接続される2つのスイッチを
有し、一方のスイッチは行選択とされ、且つ他方のスイ
ッチは列選択とされて、各画素毎でのリセットが行なえ
ることを特徴とする固体撮像素子。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63326529A JPH02171088A (ja) | 1988-12-24 | 1988-12-24 | 固体撮像素子 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63326529A JPH02171088A (ja) | 1988-12-24 | 1988-12-24 | 固体撮像素子 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH02171088A true JPH02171088A (ja) | 1990-07-02 |
Family
ID=18188852
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP63326529A Pending JPH02171088A (ja) | 1988-12-24 | 1988-12-24 | 固体撮像素子 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH02171088A (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2001268443A (ja) * | 2000-03-02 | 2001-09-28 | Hynix Semiconductor Inc | Cmosイメージセンサーのアクティブピクセル回路 |
US6549234B1 (en) | 1998-06-09 | 2003-04-15 | Hyundai Electronics Industries Co., Ltd. | Pixel structure of active pixel sensor (APS) with electronic shutter function |
US7636118B2 (en) | 1997-08-15 | 2009-12-22 | Sony Corporation | Solid state image sensor with fixed pattern noise reduction |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6022879A (ja) * | 1983-07-19 | 1985-02-05 | Nippon Hoso Kyokai <Nhk> | 固体撮像装置感度制御方式 |
JPH01117485A (ja) * | 1987-10-30 | 1989-05-10 | Hitachi Ltd | 固体撮像装置 |
-
1988
- 1988-12-24 JP JP63326529A patent/JPH02171088A/ja active Pending
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6022879A (ja) * | 1983-07-19 | 1985-02-05 | Nippon Hoso Kyokai <Nhk> | 固体撮像装置感度制御方式 |
JPH01117485A (ja) * | 1987-10-30 | 1989-05-10 | Hitachi Ltd | 固体撮像装置 |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7636118B2 (en) | 1997-08-15 | 2009-12-22 | Sony Corporation | Solid state image sensor with fixed pattern noise reduction |
US7755690B2 (en) | 1997-08-15 | 2010-07-13 | Sony Corporation | Solid state image sensor with fixed pattern noise reduction |
US6549234B1 (en) | 1998-06-09 | 2003-04-15 | Hyundai Electronics Industries Co., Ltd. | Pixel structure of active pixel sensor (APS) with electronic shutter function |
JP2001268443A (ja) * | 2000-03-02 | 2001-09-28 | Hynix Semiconductor Inc | Cmosイメージセンサーのアクティブピクセル回路 |
JP4558216B2 (ja) * | 2000-03-02 | 2010-10-06 | クロステック・キャピタル,リミテッド・ライアビリティ・カンパニー | Cmosイメージセンサーのアクティブピクセル回路 |
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