JPH02164706A - セラミツク前駆体化合物からの細かく分割されたカーバイド及びナイトライドの製造方法 - Google Patents
セラミツク前駆体化合物からの細かく分割されたカーバイド及びナイトライドの製造方法Info
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- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 13
- 150000004767 nitrides Chemical class 0.000 claims abstract description 23
- 150000001247 metal acetylides Chemical class 0.000 claims abstract description 15
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 claims abstract description 12
- 230000000737 periodic effect Effects 0.000 claims abstract description 9
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims abstract description 7
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims abstract description 7
- 229910014033 C-OH Inorganic materials 0.000 claims abstract description 4
- 229910014570 C—OH Inorganic materials 0.000 claims abstract description 4
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 claims abstract 2
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 59
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 31
- 230000008569 process Effects 0.000 claims description 29
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims description 12
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 claims description 11
- 229910052720 vanadium Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims description 5
- CKFGINPQOCXMAZ-UHFFFAOYSA-N methanediol Chemical compound OCO CKFGINPQOCXMAZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229910002651 NO3 Inorganic materials 0.000 claims 1
- NHNBFGGVMKEFGY-UHFFFAOYSA-N Nitrate Chemical compound [O-][N+]([O-])=O NHNBFGGVMKEFGY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 239000000047 product Substances 0.000 abstract description 24
- 239000000203 mixture Substances 0.000 abstract description 20
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 abstract description 17
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 abstract description 17
- 239000007858 starting material Substances 0.000 abstract description 11
- -1 carbon nitrides Chemical class 0.000 abstract description 8
- 239000000126 substance Substances 0.000 abstract description 6
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 abstract description 3
- 150000004820 halides Chemical class 0.000 abstract description 3
- 238000005121 nitriding Methods 0.000 abstract 1
- JMANVNJQNLATNU-UHFFFAOYSA-N oxalonitrile Chemical compound N#CC#N JMANVNJQNLATNU-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 1
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 27
- XPFVYQJUAUNWIW-UHFFFAOYSA-N furfuryl alcohol Chemical compound OCC1=CC=CO1 XPFVYQJUAUNWIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 24
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 19
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical group [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 18
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 16
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 15
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 15
- 150000002430 hydrocarbons Chemical class 0.000 description 12
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 12
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 11
- 229910052752 metalloid Inorganic materials 0.000 description 10
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 10
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 150000002367 halogens Chemical group 0.000 description 9
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 9
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 8
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 8
- 238000000197 pyrolysis Methods 0.000 description 8
- 150000002738 metalloids Chemical class 0.000 description 7
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 description 6
- WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N Formaldehyde Chemical compound O=C WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N Glycerine Chemical compound OCC(O)CO PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 150000004703 alkoxides Chemical class 0.000 description 6
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 6
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 6
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 6
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 5
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 5
- 238000005886 esterification reaction Methods 0.000 description 5
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 5
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- VSCWAEJMTAWNJL-UHFFFAOYSA-K aluminium trichloride Chemical compound Cl[Al](Cl)Cl VSCWAEJMTAWNJL-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 4
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 4
- 238000004821 distillation Methods 0.000 description 4
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 description 4
- 239000000463 material Substances 0.000 description 4
- 150000002737 metalloid compounds Chemical class 0.000 description 4
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000012299 nitrogen atmosphere Substances 0.000 description 4
- 229910052755 nonmetal Inorganic materials 0.000 description 4
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N Ammonia Chemical compound N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 3
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 3
- 230000032050 esterification Effects 0.000 description 3
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 3
- 239000000499 gel Substances 0.000 description 3
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 description 3
- 150000002736 metal compounds Chemical class 0.000 description 3
- 238000006068 polycondensation reaction Methods 0.000 description 3
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 3
- 239000002841 Lewis acid Substances 0.000 description 2
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N Phenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1 ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 2
- 238000001354 calcination Methods 0.000 description 2
- 230000003197 catalytic effect Effects 0.000 description 2
- 229910010293 ceramic material Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000000571 coke Substances 0.000 description 2
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 2
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 2
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 2
- 229910052735 hafnium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000008240 homogeneous mixture Substances 0.000 description 2
- 229910000039 hydrogen halide Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000012433 hydrogen halide Substances 0.000 description 2
- 150000007517 lewis acids Chemical class 0.000 description 2
- 229910001507 metal halide Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000005309 metal halides Chemical class 0.000 description 2
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 2
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 2
- 229910052758 niobium Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000002894 organic compounds Chemical class 0.000 description 2
- 150000002989 phenols Chemical class 0.000 description 2
- 239000002685 polymerization catalyst Substances 0.000 description 2
- 239000000779 smoke Substances 0.000 description 2
- 230000002269 spontaneous effect Effects 0.000 description 2
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 2
- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000005979 thermal decomposition reaction Methods 0.000 description 2
- 238000009827 uniform distribution Methods 0.000 description 2
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052580 B4C Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910015844 BCl3 Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052582 BN Inorganic materials 0.000 description 1
- ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N Boron Chemical compound [B] ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PZNSFCLAULLKQX-UHFFFAOYSA-N Boron nitride Chemical compound N#B PZNSFCLAULLKQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CPELXLSAUQHCOX-UHFFFAOYSA-M Bromide Chemical compound [Br-] CPELXLSAUQHCOX-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N Carbon dioxide Chemical compound O=C=O CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M Chloride anion Chemical compound [Cl-] VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical group Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CZMRCDWAGMRECN-UGDNZRGBSA-N Sucrose Chemical compound O[C@H]1[C@H](O)[C@@H](CO)O[C@@]1(CO)O[C@@H]1[C@H](O)[C@@H](O)[C@H](O)[C@@H](CO)O1 CZMRCDWAGMRECN-UGDNZRGBSA-N 0.000 description 1
- 229930006000 Sucrose Natural products 0.000 description 1
- BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N Tetraethyl orthosilicate Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)OCC BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NRTOMJZYCJJWKI-UHFFFAOYSA-N Titanium nitride Chemical compound [Ti]#N NRTOMJZYCJJWKI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000002441 X-ray diffraction Methods 0.000 description 1
- 150000008065 acid anhydrides Chemical class 0.000 description 1
- 239000003377 acid catalyst Substances 0.000 description 1
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 1
- 238000006136 alcoholysis reaction Methods 0.000 description 1
- 229910021529 ammonia Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910003481 amorphous carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 1
- 150000001491 aromatic compounds Chemical class 0.000 description 1
- KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N boric acid Chemical compound OB(O)O KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004327 boric acid Substances 0.000 description 1
- 229910052796 boron Inorganic materials 0.000 description 1
- INAHAJYZKVIDIZ-UHFFFAOYSA-N boron carbide Chemical compound B12B3B4C32B41 INAHAJYZKVIDIZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910002091 carbon monoxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910002090 carbon oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001805 chlorine compounds Chemical class 0.000 description 1
- 238000004939 coking Methods 0.000 description 1
- 239000000084 colloidal system Substances 0.000 description 1
- 230000006835 compression Effects 0.000 description 1
- 238000007906 compression Methods 0.000 description 1
- 238000010411 cooking Methods 0.000 description 1
- 239000010431 corundum Substances 0.000 description 1
- 229910052593 corundum Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000018044 dehydration Effects 0.000 description 1
- 238000006297 dehydration reaction Methods 0.000 description 1
- 239000003085 diluting agent Substances 0.000 description 1
- 238000001493 electron microscopy Methods 0.000 description 1
- 239000012467 final product Substances 0.000 description 1
- 238000004108 freeze drying Methods 0.000 description 1
- 239000008246 gaseous mixture Substances 0.000 description 1
- 239000003349 gelling agent Substances 0.000 description 1
- 229910002804 graphite Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010439 graphite Substances 0.000 description 1
- 150000002366 halogen compounds Chemical class 0.000 description 1
- 150000002431 hydrogen Chemical group 0.000 description 1
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 1
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 229910001338 liquidmetal Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000012423 maintenance Methods 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- BFXIKLCIZHOAAZ-UHFFFAOYSA-N methyltrimethoxysilane Chemical compound CO[Si](C)(OC)OC BFXIKLCIZHOAAZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 description 1
- QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N nitrogen(.) Chemical compound [N] QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052756 noble gas Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002835 noble gases Chemical class 0.000 description 1
- 125000001190 organyl group Chemical group 0.000 description 1
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 description 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 1
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 1
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 1
- 238000010791 quenching Methods 0.000 description 1
- 230000000171 quenching effect Effects 0.000 description 1
- 239000000376 reactant Substances 0.000 description 1
- 230000009257 reactivity Effects 0.000 description 1
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 1
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 1
- 239000003870 refractory metal Substances 0.000 description 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 1
- 239000000741 silica gel Substances 0.000 description 1
- 229910002027 silica gel Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000005720 sucrose Substances 0.000 description 1
- 150000005846 sugar alcohols Polymers 0.000 description 1
- 239000000725 suspension Substances 0.000 description 1
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 1
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 1
- FAQYAMRNWDIXMY-UHFFFAOYSA-N trichloroborane Chemical compound ClB(Cl)Cl FAQYAMRNWDIXMY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01B—NON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
- C01B21/00—Nitrogen; Compounds thereof
- C01B21/082—Compounds containing nitrogen and non-metals and optionally metals
- C01B21/0821—Oxynitrides of metals, boron or silicon
- C01B21/0826—Silicon aluminium oxynitrides, i.e. sialons
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01B—NON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
- C01B21/00—Nitrogen; Compounds thereof
- C01B21/06—Binary compounds of nitrogen with metals, with silicon, or with boron, or with carbon, i.e. nitrides; Compounds of nitrogen with more than one metal, silicon or boron
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01B—NON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
- C01B21/00—Nitrogen; Compounds thereof
- C01B21/06—Binary compounds of nitrogen with metals, with silicon, or with boron, or with carbon, i.e. nitrides; Compounds of nitrogen with more than one metal, silicon or boron
- C01B21/072—Binary compounds of nitrogen with metals, with silicon, or with boron, or with carbon, i.e. nitrides; Compounds of nitrogen with more than one metal, silicon or boron with aluminium
- C01B21/0726—Preparation by carboreductive nitridation
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01B—NON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
- C01B21/00—Nitrogen; Compounds thereof
- C01B21/06—Binary compounds of nitrogen with metals, with silicon, or with boron, or with carbon, i.e. nitrides; Compounds of nitrogen with more than one metal, silicon or boron
- C01B21/076—Binary compounds of nitrogen with metals, with silicon, or with boron, or with carbon, i.e. nitrides; Compounds of nitrogen with more than one metal, silicon or boron with titanium or zirconium or hafnium
- C01B21/0763—Preparation from titanium, zirconium or hafnium halides
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01B—NON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
- C01B32/00—Carbon; Compounds thereof
- C01B32/90—Carbides
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01B—NON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
- C01B21/00—Nitrogen; Compounds thereof
- C01B21/06—Binary compounds of nitrogen with metals, with silicon, or with boron, or with carbon, i.e. nitrides; Compounds of nitrogen with more than one metal, silicon or boron
- C01B21/064—Binary compounds of nitrogen with metals, with silicon, or with boron, or with carbon, i.e. nitrides; Compounds of nitrogen with more than one metal, silicon or boron with boron
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01B—NON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
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- C01B21/072—Binary compounds of nitrogen with metals, with silicon, or with boron, or with carbon, i.e. nitrides; Compounds of nitrogen with more than one metal, silicon or boron with aluminium
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01P—INDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
- C01P2002/00—Crystal-structural characteristics
- C01P2002/02—Amorphous compounds
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01P—INDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
- C01P2004/00—Particle morphology
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
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Landscapes
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- Organic Chemistry (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Ceramic Products (AREA)
- Carbon And Carbon Compounds (AREA)
- Polyethers (AREA)
- Phenolic Resins Or Amino Resins (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、式MX、@またはR,MX、、[式中、
Xはハロゲンであり、そして
Rは水素まl;はアルキルまたはアリールを表し、そし
て nは、lから元素Mの最高原子価段階より1少ない値を
有してよい整数である] の化合物から、炭化水素を含む反応性化合物及び/また
は炭化水素を含む化合物の反応性混合物との反応によっ
て、そして生成する生成物を熱分解して対応するカーバ
イドをあるいは付随する窒化によって対応するナイトラ
イド及び/またはカーボナイトライドを生成する、元素
の周期系の主族III及びIVそして亜族Ill、IV
、■及び■の元素の金属及び/またはメタロイドの細か
く分割されたカーバイド及び/またはナイトライド及び
/またはカーボナイトライドの製造方法に関する。
て nは、lから元素Mの最高原子価段階より1少ない値を
有してよい整数である] の化合物から、炭化水素を含む反応性化合物及び/また
は炭化水素を含む化合物の反応性混合物との反応によっ
て、そして生成する生成物を熱分解して対応するカーバ
イドをあるいは付随する窒化によって対応するナイトラ
イド及び/またはカーボナイトライドを生成する、元素
の周期系の主族III及びIVそして亜族Ill、IV
、■及び■の元素の金属及び/またはメタロイドの細か
く分割されたカーバイド及び/またはナイトライド及び
/またはカーボナイトライドの製造方法に関する。
発明の背景
カーバイド、ナイトライドまたはカーボナイトライドを
金属またはメタロイドから製造する時には、細かく分割
された高品質の生成物を生成するために、遊離体(ed
ucts)を均一な分布で反応させる。
金属またはメタロイドから製造する時には、細かく分割
された高品質の生成物を生成するために、遊離体(ed
ucts)を均一な分布で反応させる。
ある種のカーポサーマル(carbothermal)
プロセスにおいては、対応する酸化物及び、熱によって
分解された時に高い炭素の残査を有しそしてそれ故金属
酸化物及び非金属の酸化物の還元のだめの細かく分割さ
れた炭素の源として利用できる有機炭化水素化合物(多
くの場合には液体として)の混合物から出発することに
よって均一な分布が達成される。
プロセスにおいては、対応する酸化物及び、熱によって
分解された時に高い炭素の残査を有しそしてそれ故金属
酸化物及び非金属の酸化物の還元のだめの細かく分割さ
れた炭素の源として利用できる有機炭化水素化合物(多
くの場合には液体として)の混合物から出発することに
よって均一な分布が達成される。
もし酸化性化合物をまた極端に細かく分割された形で使
用するならば、付加的な改良が得られる。
用するならば、付加的な改良が得られる。
かくしてセラミック プレタン(Bulletin)、
63巻、NO,8(1984)に従って、細かく分割さ
れたまたは液体の金属または非金属成分を、コロイド5
i02またはメチルトリメトキシシランとのプロセス中
に置く。しかしながら、コロイドSin、は高価で複雑
な火炎加水分解の方法によって製造されそしてアルコレ
ートはアルコール分解の方法によって製造されるが、こ
れはこの方法を不経済にする。もう一つの欠点は、有機
炭化水素化合物に加えて、水が溶媒またはゲル化剤とし
て使用され、この水を一50°Cでの凍結乾燥の長たら
しい方法によってゲルから取り出すことである。
63巻、NO,8(1984)に従って、細かく分割さ
れたまたは液体の金属または非金属成分を、コロイド5
i02またはメチルトリメトキシシランとのプロセス中
に置く。しかしながら、コロイドSin、は高価で複雑
な火炎加水分解の方法によって製造されそしてアルコレ
ートはアルコール分解の方法によって製造されるが、こ
れはこの方法を不経済にする。もう一つの欠点は、有機
炭化水素化合物に加えて、水が溶媒またはゲル化剤とし
て使用され、この水を一50°Cでの凍結乾燥の長たら
しい方法によってゲルから取り出すことである。
このゲルを引き続いて500〜800°Cの温度で5i
n2及びCに転換しそして1600°Cの温度で4〜1
6時間反応させてSiCを生成する。得られた生成物は
、この手の込んだ方法にも拘わらずなお未反応SiO□
によって汚染されている。
n2及びCに転換しそして1600°Cの温度で4〜1
6時間反応させてSiCを生成する。得られた生成物は
、この手の込んだ方法にも拘わらずなお未反応SiO□
によって汚染されている。
US−A 3085863によれば、SiC粉末の製造
のためにアルコキシドまたはコロイドSiO□の代わり
に出発材料としてSiC1gを使用する。しかしながら
、炭素の源として使用される蔗糖水溶液のために、時間
を消費する蒸留のプロセス(200〜300℃で24時
間)を、SiCへの転換を1800℃で実施できるよう
になる前に、シリカゲルを脱水するために引き続いて実
施しなければならない。加水分解反応はいずれにせよ激
しいので、S+CIaの導入は極めてゆっくりと実施し
なければならない。この方法は、SiC+、が導入され
る装置の部分において閉塞が起き易いという事実によっ
てさらに複雑になる。
のためにアルコキシドまたはコロイドSiO□の代わり
に出発材料としてSiC1gを使用する。しかしながら
、炭素の源として使用される蔗糖水溶液のために、時間
を消費する蒸留のプロセス(200〜300℃で24時
間)を、SiCへの転換を1800℃で実施できるよう
になる前に、シリカゲルを脱水するために引き続いて実
施しなければならない。加水分解反応はいずれにせよ激
しいので、S+CIaの導入は極めてゆっくりと実施し
なければならない。この方法は、SiC+、が導入され
る装置の部分において閉塞が起き易いという事実によっ
てさらに複雑になる。
アドバンスト セラミック マテリアルズ(Advan
ced Ceramic Materials) 2(
3AX1987)253−56によれば、アルコキシド
が再びSi、N、及びAINの製造のために使用される
がこれらのアルコキシドは加水分解のプロセスによって
油煙の上にゲルとして沈析する。使用されるコストのか
かる出発材料を別にしても、このプロセスが要求する低
い圧力での脱水が、このプロセスを工業的規模で経済的
に実施することができるかどうかを疑問あるものにする
。
ced Ceramic Materials) 2(
3AX1987)253−56によれば、アルコキシド
が再びSi、N、及びAINの製造のために使用される
がこれらのアルコキシドは加水分解のプロセスによって
油煙の上にゲルとして沈析する。使用されるコストのか
かる出発材料を別にしても、このプロセスが要求する低
い圧力での脱水が、このプロセスを工業的規模で経済的
に実施することができるかどうかを疑問あるものにする
。
さらにまた、1500°Cで製造された粉末は、Si、
N。
N。
に関して2%のOそしてAINに関して3.1%のOに
のぼる、受は入れられない高い酸素含量を有する。
のぼる、受は入れられない高い酸素含量を有する。
硼酸とグリセロールのポリマーのエステルの熱分解によ
るボロンナイトライド及びポロンカーバイドの製造方法
がケミストリー レターズ(Chemistry Le
ttersX1985)691−692中に述べられて
いる。
るボロンナイトライド及びポロンカーバイドの製造方法
がケミストリー レターズ(Chemistry Le
ttersX1985)691−692中に述べられて
いる。
これらのオルガノボレートエステルから製造されたホウ
素含有セラミック粉末の欠点は、最終生成物への乏しい
反応である。得られたポロンナイトライドは、ボロンカ
ーバイドでひどく汚染されている。
素含有セラミック粉末の欠点は、最終生成物への乏しい
反応である。得られたポロンナイトライドは、ボロンカ
ーバイドでひどく汚染されている。
特許出願EP−A O239301もまた、多価アルコ
ールのエステルの熱分解(1800°Cまで)によるナ
イトライド及びカーバイドの製造方法を述べている。
ールのエステルの熱分解(1800°Cまで)によるナ
イトライド及びカーバイドの製造方法を述べている。
上で述べた方法とは対照的に、エステル化に使用される
出発材料は、酸化物ではなくて、すべての特許実施例に
おいて述べられているように、コストのかかる金属アル
コキシドまたは非金属のアルコキシドである。
出発材料は、酸化物ではなくて、すべての特許実施例に
おいて述べられているように、コストのかかる金属アル
コキシドまたは非金属のアルコキシドである。
使用されるアルコール成分は、少なくとも二つあるいは
好ましくはそれによってポリマーへの僑かけ結合が起き
るように二つより多いヒドロキシル基を含む化合物であ
る。
好ましくはそれによってポリマーへの僑かけ結合が起き
るように二つより多いヒドロキシル基を含む化合物であ
る。
11iフルコール、エチレングリコール及ヒクリセロー
ルは、金属まt;は非金属のアルコキシドとのエステル
化を受はアルコールを遊離する。平衡を生成物の側に移
動するために、このアルコールは長いプロセスによって
留去しなければならない。
ルは、金属まt;は非金属のアルコキシドとのエステル
化を受はアルコールを遊離する。平衡を生成物の側に移
動するために、このアルコールは長いプロセスによって
留去しなければならない。
炭素含量を増すために、小量の有機化合物、例えばフル
フリルアルコールを必要に応じて添加する。
フリルアルコールを必要に応じて添加する。
それ故、この方法は、高価な出発材料(アルコレート)
及びコストがかかりかつ時間を消費するプロセスのステ
ップのために不経済である。
及びコストがかかりかつ時間を消費するプロセスのステ
ップのために不経済である。
本発明の目的は、高価でなくかつ非常に純粋な化学品を
出発材料として使用することができそして上で述べt;
諸方法の欠点を持たない、ナイトライド、カーバイド及
びカーボナイトライドの製造方法を提供することである
。さらにまた、出発材料は、コストのかかるかつ時間を
消費する上で述べたプロセスステップなしで、カーバイ
ド、ナイトライドまたはカーボナイトライドに転換する
ことができなければならない。
出発材料として使用することができそして上で述べt;
諸方法の欠点を持たない、ナイトライド、カーバイド及
びカーボナイトライドの製造方法を提供することである
。さらにまた、出発材料は、コストのかかるかつ時間を
消費する上で述べたプロセスステップなしで、カーバイ
ド、ナイトライドまたはカーボナイトライドに転換する
ことができなければならない。
これらの要件を満たす方法がここに驚くべきことに見い
出されI;。この方法においては、高価でないハロゲン
化物を、エステル化または加水分解の手の込んだ予備の
ステップなしで出発材料として直接使用することができ
る。
出されI;。この方法においては、高価でないハロゲン
化物を、エステル化または加水分解の手の込んだ予備の
ステップなしで出発材料として直接使用することができ
る。
発明の詳細な説明
元素の周期系の主族III及びIVそして亜族I[[、
IV、V及び■からの元素のカーバイド、ナイトライド
またはカーボナイトライドは、 i)式MX、またはRoMX、、−。
IV、V及び■からの元素のカーバイド、ナイトライド
またはカーボナイトライドは、 i)式MX、またはRoMX、、−。
c式中、
Mは、元素の周期系の主族IIIまたはIVあるいは亜
族III、IV、VまたはVIからの元素であり、Xは
ハロゲンであり、 Rは水素またはアルキルまたはアリールであり、mはM
の原子価段階に対応する整数であり、nは、lからMの
原子価段階より1少ない数までの整数である] の化合物を、重合可能でありそして一つのC−OH基を
有する反応性化合物を含む反応性炭化水素含有化合物ま
たは化合物の混合物と反応させること、そして 1i)i)から生成する生成物を熱的に分解して対応す
るカーバイドにあるいはさらに窒化して対応するナイト
ライドまたはカーボナイトライドにすること によって製造される。
族III、IV、VまたはVIからの元素であり、Xは
ハロゲンであり、 Rは水素またはアルキルまたはアリールであり、mはM
の原子価段階に対応する整数であり、nは、lからMの
原子価段階より1少ない数までの整数である] の化合物を、重合可能でありそして一つのC−OH基を
有する反応性化合物を含む反応性炭化水素含有化合物ま
たは化合物の混合物と反応させること、そして 1i)i)から生成する生成物を熱的に分解して対応す
るカーバイドにあるいはさらに窒化して対応するナイト
ライドまたはカーボナイトライドにすること によって製造される。
金属ハロゲン化物またはメタロイドハロゲン化物は、自
発的な、これまで解明されていない反応によってC−O
H官能基の重合可能な化合物またはこのような化合物の
混合物と反応してM−0−Cを含むセラミック予備生成
物への重合を受け、そしてこの予備生成物は簡単な熱処
理によって所望の非常に純粋な耐火金属化合物またはメ
タロイド化合物に転換することができる。
発的な、これまで解明されていない反応によってC−O
H官能基の重合可能な化合物またはこのような化合物の
混合物と反応してM−0−Cを含むセラミック予備生成
物への重合を受け、そしてこの予備生成物は簡単な熱処
理によって所望の非常に純粋な耐火金属化合物またはメ
タロイド化合物に転換することができる。
発明の詳細な説明
かくして本発明は、式MX、及び/またはR,MX□−
1 [式中、 Xはハロゲンであり、そして Rは水素、アルキルまたはアリールを表し、そして nは、■から元素Mの最高原子価段階より1少ない値を
有する整数を表す] の化合物から、炭化水素を含む反応性化合物及び/また
は炭化水素を含む化合物の反応性混合物との反応によっ
て、そして生成する生成物を熱分解して付随する窒化に
よって対応するナイトライド及び/またはカーボナイト
ライドを生成する、元素の周期系の主族III及びIV
そして亜族III、IV、V及びVIの元素の金属及び
/またはメタロイドの細かく分割されたカーバイド及び
/またはナイトライド及び/またはカーボナイトライド
の製造方法であって、炭化水素を含む反応性化合物及び
/または炭化水素を含む化合物の反応性混合物がCOH
基を含みそして重合可能であることを特徴とする方法に
関する。
1 [式中、 Xはハロゲンであり、そして Rは水素、アルキルまたはアリールを表し、そして nは、■から元素Mの最高原子価段階より1少ない値を
有する整数を表す] の化合物から、炭化水素を含む反応性化合物及び/また
は炭化水素を含む化合物の反応性混合物との反応によっ
て、そして生成する生成物を熱分解して付随する窒化に
よって対応するナイトライド及び/またはカーボナイト
ライドを生成する、元素の周期系の主族III及びIV
そして亜族III、IV、V及びVIの元素の金属及び
/またはメタロイドの細かく分割されたカーバイド及び
/またはナイトライド及び/またはカーボナイトライド
の製造方法であって、炭化水素を含む反応性化合物及び
/または炭化水素を含む化合物の反応性混合物がCOH
基を含みそして重合可能であることを特徴とする方法に
関する。
本発明による方法は、使用される金属またはメタロイド
化合物に依存して、黒い粉末としであるいは黒い脆い固
体としてのどちらかとして得られるポリマーの生成物を
与える。もしプロセスが適切に実施されれば、セラミッ
ク予備生成物中の化合物の分子的に分散された分布が得
られる。高い比表面積の細かく分割されたセラミック粉
末を引き続く熱分解から得ることができる。焼入れ(t
emperiB)の間の気体の雰囲気としての窒素の使
用及び、元素によって変わる特定の限界の温度の維持は
、結果としてナイトライドの生成をもたらし、一方もし
適切により高い温度を使用するかあるいはもし水素また
はCOのような不活性保護ガスまたはガス類を使用すれ
ばカーバイドを得ることができる。もし刀−バイト/ナ
イトライド混合相またはカーボナイトライドの生成が所
望であれば、これは、温度及び雰囲気の組成を変えるこ
とによって容易に達成することができる。
化合物に依存して、黒い粉末としであるいは黒い脆い固
体としてのどちらかとして得られるポリマーの生成物を
与える。もしプロセスが適切に実施されれば、セラミッ
ク予備生成物中の化合物の分子的に分散された分布が得
られる。高い比表面積の細かく分割されたセラミック粉
末を引き続く熱分解から得ることができる。焼入れ(t
emperiB)の間の気体の雰囲気としての窒素の使
用及び、元素によって変わる特定の限界の温度の維持は
、結果としてナイトライドの生成をもたらし、一方もし
適切により高い温度を使用するかあるいはもし水素また
はCOのような不活性保護ガスまたはガス類を使用すれ
ばカーバイドを得ることができる。もし刀−バイト/ナ
イトライド混合相またはカーボナイトライドの生成が所
望であれば、これは、温度及び雰囲気の組成を変えるこ
とによって容易に達成することができる。
本発明による方法は、結果として予備生成物中の上で述
べた化合物の分子的に分散された分布をもたらすので、
酸化物/炭素混合物が出発材料として使用されるカーポ
サーマルプロセスとは対照的に、か焼のために小過剰の
炭素しか必要としない。なお残るかもしれない未反応の
炭素は追加のプロセスステップによって除去することが
できる。
べた化合物の分子的に分散された分布をもたらすので、
酸化物/炭素混合物が出発材料として使用されるカーポ
サーマルプロセスとは対照的に、か焼のために小過剰の
炭素しか必要としない。なお残るかもしれない未反応の
炭素は追加のプロセスステップによって除去することが
できる。
炭化水素を含む化合物の反応性混合物は、例えば、ホル
ムアルデヒドを有するフェノールまたはフェノール誘導
体でよい。この例においては、重合は、酸で接触された
重縮合反応として進行する。
ムアルデヒドを有するフェノールまたはフェノール誘導
体でよい。この例においては、重合は、酸で接触された
重縮合反応として進行する。
使用される別の炭化水素含有化合物は、重合可能な一価
アルコールまたはその一価誘導体、好ましくはフルフリ
ルアルコールまたはその誘導体である。フルフリルアル
コールに酸を添加すると、酸の強さに依存して、このア
ルコールは、自発的に反応して重縮合あるいは煙りを発
生しながらの激しい分解を受ける。
アルコールまたはその一価誘導体、好ましくはフルフリ
ルアルコールまたはその誘導体である。フルフリルアル
コールに酸を添加すると、酸の強さに依存して、このア
ルコールは、自発的に反応して重縮合あるいは煙りを発
生しながらの激しい分解を受ける。
使用される炭化水素化合物の量を低く維持するために、
上で述べた化合物のような芳香族化合物またはそれらの
混合物を使用することを薦める。
上で述べた化合物のような芳香族化合物またはそれらの
混合物を使用することを薦める。
何故ならば重合の後で生成物を熱分解にかけるとこれら
はしばしば高いコークス(coking)残査を有する
からである。多くのその他の炭化水素化合物は、熱分解
の後で小量のコークス残査しか持たない。
はしばしば高いコークス(coking)残査を有する
からである。多くのその他の炭化水素化合物は、熱分解
の後で小量のコークス残査しか持たない。
式MX、[式中、Xはハロゲンイオン例えばクロリドま
たはプロミドである1の化合物の形で使用される金属及
び/またはメタロイドは、好ましくはT1、Hf、Zr
% V、Nb、Ta、Cr。
たはプロミドである1の化合物の形で使用される金属及
び/またはメタロイドは、好ましくはT1、Hf、Zr
% V、Nb、Ta、Cr。
Mo及び/またはWそして主族元素B、AI及び/また
はSlである。これらの化合物は非常に純粋な形で容易
に製造することができる。
はSlである。これらの化合物は非常に純粋な形で容易
に製造することができる。
経済的な理由のために、塩化物例えばT1ClいZ r
C1,、BCl3、A Ic 1.または5iC1+が
、カーバイド、ナイトライドまt;はカーボナイトライ
ドの製造のために好ましく使用される。
C1,、BCl3、A Ic 1.または5iC1+が
、カーバイド、ナイトライドまt;はカーボナイトライ
ドの製造のために好ましく使用される。
使用される金属オルガニル(organyl)化合物は
、好ましくは式R,MX、−,[式中、Rは水素及び/
またはアルキル及び/またはアリール基を表し、そして
nは、1から元素Mの原子価段階より1少ない数までの
整数の値を有する]の化合物または化合物の混合物であ
る。Rは、好ましくは水素をあるいは同一のまたは異な
るc、−CMの基、特にメチルまたはフェニル基を表す
。これらの化合物は、蒸留の方法によって高程度の純度
に容易に持っていくことができる。式R、M X ++
+−+の化合物は、原則的には式R、M X m−+の
その他の化合物とのあるいはまた弐MXffiの化合物
との混合物として使用することもできるが、このような
混合物を使用しても、生成物の品質あるいは方法を実施
する容易さへの正の影響は観察されないので、混合物の
使用は、それらが合成の結果として生成し、その場合に
は蒸留による分離のコストを省くことができる時だけに
、意義がある。
、好ましくは式R,MX、−,[式中、Rは水素及び/
またはアルキル及び/またはアリール基を表し、そして
nは、1から元素Mの原子価段階より1少ない数までの
整数の値を有する]の化合物または化合物の混合物であ
る。Rは、好ましくは水素をあるいは同一のまたは異な
るc、−CMの基、特にメチルまたはフェニル基を表す
。これらの化合物は、蒸留の方法によって高程度の純度
に容易に持っていくことができる。式R、M X ++
+−+の化合物は、原則的には式R、M X m−+の
その他の化合物とのあるいはまた弐MXffiの化合物
との混合物として使用することもできるが、このような
混合物を使用しても、生成物の品質あるいは方法を実施
する容易さへの正の影響は観察されないので、混合物の
使用は、それらが合成の結果として生成し、その場合に
は蒸留による分離のコストを省くことができる時だけに
、意義がある。
化ft物R、M X ff1−、においては、クロリド
官能基が、その低いコストのために官能基Xとして好ま
しく、例えば化合物CHs S i Cl 3、(CH
3)2 S iC1□、(CH1)zHS iCI及び
CHsHS iC12である。ハロゲン化物を使用する
別の利点は、それらが強いルイス酸でありそしてそれ故
多くの反応性混合物においてそれらの触媒活性によって
自発的な重合をもたらすことである。もし金属化合物ま
たはメタロイド化合物が強いルイス酸ではないかあるい
はもし反応性有機化合物が酸触媒の助けによって重合す
ることができなければ、本化合物のポリマーの生成物へ
の転換は、触媒量の酸の添加によっであるいは化合物に
対する別の重合触媒の添加によって本発明に従ってもた
らされる。
官能基が、その低いコストのために官能基Xとして好ま
しく、例えば化合物CHs S i Cl 3、(CH
3)2 S iC1□、(CH1)zHS iCI及び
CHsHS iC12である。ハロゲン化物を使用する
別の利点は、それらが強いルイス酸でありそしてそれ故
多くの反応性混合物においてそれらの触媒活性によって
自発的な重合をもたらすことである。もし金属化合物ま
たはメタロイド化合物が強いルイス酸ではないかあるい
はもし反応性有機化合物が酸触媒の助けによって重合す
ることができなければ、本化合物のポリマーの生成物へ
の転換は、触媒量の酸の添加によっであるいは化合物に
対する別の重合触媒の添加によって本発明に従ってもた
らされる。
本化合物の所望のポリマーの生成物への転換は、好都合
には溶媒中で行われる。何故ならばこれは、プロセスを
簡単化するからである。この反応は原則的には溶媒なし
で実施することもできるが、これは、出発成分の均一な
混合物の製造におけるあるいは反応の熱の除去における
困難をもたらすかもしれない。溶媒例えばトルエン、ア
セトンまたは塩化メチレンは、撹拌による反応物の均一
な混合物の製造を簡単にするばかりでなくまた揮発する
溶媒によって反応の熱の除去を容易にする。
には溶媒中で行われる。何故ならばこれは、プロセスを
簡単化するからである。この反応は原則的には溶媒なし
で実施することもできるが、これは、出発成分の均一な
混合物の製造におけるあるいは反応の熱の除去における
困難をもたらすかもしれない。溶媒例えばトルエン、ア
セトンまたは塩化メチレンは、撹拌による反応物の均一
な混合物の製造を簡単にするばかりでなくまた揮発する
溶媒によって反応の熱の除去を容易にする。
反応の速度は、出発化合物の濃度、それらの反応性及び
温度に依存する。AlCl3及びフルフリルアルコール
と共に、例えば塩化メチレンを溶媒として使用する時に
は、重縮合を含む反応は、使用される希釈剤に拘わらず
、室温で成分が混合されると直ちに完結する。
温度に依存する。AlCl3及びフルフリルアルコール
と共に、例えば塩化メチレンを溶媒として使用する時に
は、重縮合を含む反応は、使用される希釈剤に拘わらず
、室温で成分が混合されると直ちに完結する。
上で述べた当該技術の現状に対する本発明による方法の
利点の一つは、高分子量の予備生成物の製造を、多官能
アルコール例えばグリセロールと酸まt;は酸誘導体例
えばテトラエトキシシランまたは酸無水物例えばB、0
3との長たらしいエステル化反応によって実施しないこ
とである。このエステル化反応が上で述べたすべての欠
点を有する。
利点の一つは、高分子量の予備生成物の製造を、多官能
アルコール例えばグリセロールと酸まt;は酸誘導体例
えばテトラエトキシシランまたは酸無水物例えばB、0
3との長たらしいエステル化反応によって実施しないこ
とである。このエステル化反応が上で述べたすべての欠
点を有する。
急速な酸で接触された重合は、結果として、高いコーク
ス残査を有しそして溶媒の除去の後で茶色がかった黒い
粉末または脆い固体としてしばしば得られる、高度に僑
かけされたポリマーを与える。
ス残査を有しそして溶媒の除去の後で茶色がかった黒い
粉末または脆い固体としてしばしば得られる、高度に僑
かけされたポリマーを与える。
それらは可融性ではなくそしてそれ故困難なく熱分解す
ることができる。
ることができる。
金属及び/またはメタロイドを含むポリマー生成物は、
真空あるいはN2、N2、COまたはArまたはこれら
の混合物の不活性または還元性雰囲気中で実施される第
一熱処理段階において1ooo00の温度tこ加熱して
よい。分解は一般に数段階で進行し、本当のククッキン
グプロセスは、ガスの発生を伴って300°Cの温度で
始まる。その温度に達する前に、使用される出発化合物
に依存して、HC1%H,Oまたはアルコールが発生す
るかもしれない。ガスの発生は70Q’Cまでの温度で
実質的に完結するが、個々のケースにおいては1000
°Cまでのより高い温度が必要かもしれない。
真空あるいはN2、N2、COまたはArまたはこれら
の混合物の不活性または還元性雰囲気中で実施される第
一熱処理段階において1ooo00の温度tこ加熱して
よい。分解は一般に数段階で進行し、本当のククッキン
グプロセスは、ガスの発生を伴って300°Cの温度で
始まる。その温度に達する前に、使用される出発化合物
に依存して、HC1%H,Oまたはアルコールが発生す
るかもしれない。ガスの発生は70Q’Cまでの温度で
実質的に完結するが、個々のケースにおいては1000
°Cまでのより高い温度が必要かもしれない。
本発明による方法の好ましい実施態様によれば、もし熱
処理の第一段階の間のガス雰囲気が10〜100010
0Oの分圧でスチームを含むならば、ハロゲン化水素を
完全に除去することができるであろう。
処理の第一段階の間のガス雰囲気が10〜100010
0Oの分圧でスチームを含むならば、ハロゲン化水素を
完全に除去することができるであろう。
スチームと炭素との反応を避けるために、スチームを導
入する時には850°0の温度を越えてはならない。も
し後続する高温段階の間のハロゲンのまたはハロゲン化
水素の発生を避けたいのであれば、ハロゲンの完全な除
去を薦める。ハロゲン化合物は、それらの腐食性のため
に、高温処理のために使用される炉及びるつぼのための
材料の選択を制限するであろう。
入する時には850°0の温度を越えてはならない。も
し後続する高温段階の間のハロゲンのまたはハロゲン化
水素の発生を避けたいのであれば、ハロゲンの完全な除
去を薦める。ハロゲン化合物は、それらの腐食性のため
に、高温処理のために使用される炉及びるつぼのための
材料の選択を制限するであろう。
熱分解の第一段階において製造される生成物は、放射線
学的に無定形ないし部分的に結晶性の構造及び高い比表
面積を有する黒い粉状または粒状固体である。それらは
、金属またはメタロイド元素、酸素及び炭素から成り、
そしてまたもし上で述べたスチームによる処理を実施し
なければ小量のハロゲンをも含む。
学的に無定形ないし部分的に結晶性の構造及び高い比表
面積を有する黒い粉状または粒状固体である。それらは
、金属またはメタロイド元素、酸素及び炭素から成り、
そしてまたもし上で述べたスチームによる処理を実施し
なければ小量のハロゲンをも含む。
金属またはメタロイドからのカーバイドの製造のために
は、熱的に前処理された生成物を、不活性または還元雰
囲気中で1000℃〜1800°Cの温度で第二熱処理
によってアニールする。希ガス、−酸化炭素、水素また
はこれらのガスの混合物がこの目的のl;めに適当であ
る。
は、熱的に前処理された生成物を、不活性または還元雰
囲気中で1000℃〜1800°Cの温度で第二熱処理
によってアニールする。希ガス、−酸化炭素、水素また
はこれらのガスの混合物がこの目的のl;めに適当であ
る。
本発明による方法は、例えば、カーポサーマルプロセス
におけるよりもかなり低い温度、より短いか焼時間及び
より小量の炭素を使用するという利点を有する。この原
因は、本発明による方法において形成されるポリマーの
予備生成物のまだ解明されていない構造にあるに違いな
い。
におけるよりもかなり低い温度、より短いか焼時間及び
より小量の炭素を使用するという利点を有する。この原
因は、本発明による方法において形成されるポリマーの
予備生成物のまだ解明されていない構造にあるに違いな
い。
金属またはメタロイドからのナイトライドまたはカーボ
ナイトライドの製造のためには、熱的に前処理された生
成物を、ガス状窒素またはアンモニアガスまたはアンモ
ニアと窒素のガス状混合物のガス雰囲気中で100(1
〜1800℃の温度で第二熱処理にかける。カーバイド
の生成に関するのと同様にこの窒化も他の方法における
よりも低い温度及び短い滞留時間で達成される。加えて
、この細かく分割されたナイトライドまたはカーボナイ
トライド粉末は一般にかなり比較的低い酸素含量を有す
る。
ナイトライドの製造のためには、熱的に前処理された生
成物を、ガス状窒素またはアンモニアガスまたはアンモ
ニアと窒素のガス状混合物のガス雰囲気中で100(1
〜1800℃の温度で第二熱処理にかける。カーバイド
の生成に関するのと同様にこの窒化も他の方法における
よりも低い温度及び短い滞留時間で達成される。加えて
、この細かく分割されたナイトライドまたはカーボナイ
トライド粉末は一般にかなり比較的低い酸素含量を有す
る。
空間/時間収率を増しそしてプロセスをより経済的にす
るために、生成物を第二熱処理の前に圧縮するのが好ま
しい。圧縮は、例えば、ローラーコンプレッサー、真空
ローラーコンプレッサーまたはエツジランナーミキサー
中で実施してよい。
るために、生成物を第二熱処理の前に圧縮するのが好ま
しい。圧縮は、例えば、ローラーコンプレッサー、真空
ローラーコンプレッサーまたはエツジランナーミキサー
中で実施してよい。
金属またはメタロイド化合物から製造されたカーバイド
、ナイトライド及びカーボナイトライドは、過剰の炭素
の残査を除去するために、800°Cまでの温度で酸素
含有雰囲気中で熱後処理にかけてよい。
、ナイトライド及びカーボナイトライドは、過剰の炭素
の残査を除去するために、800°Cまでの温度で酸素
含有雰囲気中で熱後処理にかけてよい。
本発明による方法は、高い比表面積を有する細かく分割
された焼結物の活性な粉末を与える。あるプロセス条件
下で得られるゆるい集塊は、それらを短時間粉砕するこ
とによって破壊することができる。得られる粉末は、化
学的に純粋でありそして、金属ハロゲン化物またはメタ
ロイドハロゲン化物の使用にも拘わらず、たとえ重合の
後でスチーム処理によって残留ハロゲンを除去しなくて
も、予想外に低いハロゲン含量を有することが驚くべき
ことに見い出される。
された焼結物の活性な粉末を与える。あるプロセス条件
下で得られるゆるい集塊は、それらを短時間粉砕するこ
とによって破壊することができる。得られる粉末は、化
学的に純粋でありそして、金属ハロゲン化物またはメタ
ロイドハロゲン化物の使用にも拘わらず、たとえ重合の
後でスチーム処理によって残留ハロゲンを除去しなくて
も、予想外に低いハロゲン含量を有することが驚くべき
ことに見い出される。
以下に本発明を実施例の助けによってさらに詳細に説明
するが、これらの実施例は本発明を限定するものとはみ
なされない。
するが、これらの実施例は本発明を限定するものとはみ
なされない。
実施例1
700m lの塩化メチレン中の130.0gのフルフ
リルアルコールの溶液を、800+nlの塩化メチレン
中の266.7gの塩化アルミニウムの懸濁液に撹拌及
び還流冷却しながら30分以内に滴加した。蒸留による
塩化メチレンの除去の後で、372gの茶色がかった黒
い粉状の固体が後に残った。
リルアルコールの溶液を、800+nlの塩化メチレン
中の266.7gの塩化アルミニウムの懸濁液に撹拌及
び還流冷却しながら30分以内に滴加した。蒸留による
塩化メチレンの除去の後で、372gの茶色がかった黒
い粉状の固体が後に残った。
この粉末を、窒素雰囲気中で第−熱処理において6時間
以内に600°Cに加熱しそしてそれをこの温度で6時
間保持した後でゆっくりと冷却した。
以内に600°Cに加熱しそしてそれをこの温度で6時
間保持した後でゆっくりと冷却した。
以下の化学組成を有する、192gの黒い細かく分割さ
れた放射線学的に無定形な粉末が得られた:Al・26
.9%;0=23%;C=36%;CI=4%。これは
、l:1.45:3のAl:O:Cの比に対応する。比
表面積は62m2g−’である。
れた放射線学的に無定形な粉末が得られた:Al・26
.9%;0=23%;C=36%;CI=4%。これは
、l:1.45:3のAl:O:Cの比に対応する。比
表面積は62m2g−’である。
第一熱処理からの15.79gの物質を窒素雰囲気下で
グラファイトるつぼ中で1650℃で5時間加熱した。
グラファイトるつぼ中で1650℃で5時間加熱した。
冷却の後で9.04g(=57%)が細かく分割された
黒い固体として残った。この生成物は、結晶性AIN(
X線回折分析)及び放射線学的に無定形な炭素から成っ
ていた。化学分析によると28%の炭素含量及び0.3
9%の酸素含量であった。
黒い固体として残った。この生成物は、結晶性AIN(
X線回折分析)及び放射線学的に無定形な炭素から成っ
ていた。化学分析によると28%の炭素含量及び0.3
9%の酸素含量であった。
第二熱処理からの7.93gの物質をコランダムるつぼ
中で空気中で700°Cで5時間焼入れして過剰の炭素
を除去した。
中で空気中で700°Cで5時間焼入れして過剰の炭素
を除去した。
0.18%ノ炭素含量、0.90%ノ酸素含量及び0.
005%の01含量を有する、細かく分割された薄い灰
色のAIN粉末(5,70g・72%残査)を製造する
ことができた。
005%の01含量を有する、細かく分割された薄い灰
色のAIN粉末(5,70g・72%残査)を製造する
ことができた。
比表面積は3.1m2g””であることがわかった。ラ
スター電子顕微鏡(REV)写真から測定した一次(p
r imary)粒径は0.3μm以下であった。プロ
セスに投入されたAlCl、の量を基にした、AINの
収率は96%であった。
スター電子顕微鏡(REV)写真から測定した一次(p
r imary)粒径は0.3μm以下であった。プロ
セスに投入されたAlCl、の量を基にした、AINの
収率は96%であった。
実施例2
3100gのAlC1,を10す7トルの塩化メチレン
及び1.5リツトルのアセトン中に溶かし、そして5リ
ツトルの塩化メチレン中の1250gのフルフリルアル
コールの溶液を実施例1におけるように添加した。
及び1.5リツトルのアセトン中に溶かし、そして5リ
ツトルの塩化メチレン中の1250gのフルフリルアル
コールの溶液を実施例1におけるように添加した。
溶媒を留去した。次に粉状の反応生成物を石英球(bu
lb)中でN2下で200°Cで2時間、400°Cで
さらに2時間そして次に900°Cで6時間加熱した。
lb)中でN2下で200°Cで2時間、400°Cで
さらに2時間そして次に900°Cで6時間加熱した。
以下の化学組成を有する、1950gの粉状の部分的に
結晶性の固体(α−A12Ch)が得られた: C=4
4%;0=30%;C1=0゜20%;BET=468
m2g−’ (Nzによる一点測定)。
結晶性の固体(α−A12Ch)が得られた: C=4
4%;0=30%;C1=0゜20%;BET=468
m2g−’ (Nzによる一点測定)。
この粉末の一部(500g)を、1550°Cで10時
間までで実施された第二熱処理によって結晶性AIN(
34の炭素含量及び1.4:2%の酸素含量を存するT
iN粉末0g)に転換した。
間までで実施された第二熱処理によって結晶性AIN(
34の炭素含量及び1.4:2%の酸素含量を存するT
iN粉末0g)に転換した。
この粉末(10,2g)からの炭素の除去は実施例1に
おけるように実施した。以下の化学組成を有するAIN
粉末(6,6g)が得られた二N・33%:C・0.0
88%:0・0.93%;C1<0.005X;BET
=5.1m2*g−’ ;−次粒u (REV写真によ
る)<0.3μm0 実施例3 700m lの塩化メチレン中の44gのフルフリルア
ルコールを、実施例1におけるように2.5時間以内に
Iooomlの塩化メチレン中の95gのT1Cl+の
溶液に添加した。次に黒い溶液を1時間撹拌しそして最
後に溶媒を留去した。
おけるように実施した。以下の化学組成を有するAIN
粉末(6,6g)が得られた二N・33%:C・0.0
88%:0・0.93%;C1<0.005X;BET
=5.1m2*g−’ ;−次粒u (REV写真によ
る)<0.3μm0 実施例3 700m lの塩化メチレン中の44gのフルフリルア
ルコールを、実施例1におけるように2.5時間以内に
Iooomlの塩化メチレン中の95gのT1Cl+の
溶液に添加した。次に黒い溶液を1時間撹拌しそして最
後に溶媒を留去した。
茶色がかった黒い粉末の第一熱処理は、500°Cで窒
素雰囲気下で10時間実施したが、この時間の終わりに
は71gの放射線学的に無定形な粉末が後に残った。
素雰囲気下で10時間実施したが、この時間の終わりに
は71gの放射線学的に無定形な粉末が後に残った。
第二熱処理においては、20gのこの粉末を、窒素雰囲
気下で1400℃に15時間加熱することによってチタ
ンナイトライド(log残査)に転換した。23%が得
られt;。
気下で1400℃に15時間加熱することによってチタ
ンナイトライド(log残査)に転換した。23%が得
られt;。
本発明の主なる特徴及び態様は以下の通りである。
l)元素の周期系の主族III及びIVそして亜族■、
■、■及び■からの元素の細かく分割されたカーバイド
、ナイトライドまたはカーボナイトライドの製造方法で
あって、 i)式MX、またはR,MX−。
■、■及び■からの元素の細かく分割されたカーバイド
、ナイトライドまたはカーボナイトライドの製造方法で
あって、 i)式MX、またはR,MX−。
[式中、
Mは、元素の周期系の主族IIIまたはIVあるいは亜
族m、rv、vまたは■からの元素であり、Xはハロゲ
ンであり、 Rは水素またはアルキルまたはアリールであり、mはM
の原子価段階に対応する整数であり、nは、1からMの
原子価段階より1少ない数までの整数である] の化合物を、重合可能でありそして一つのC−OH基を
有する反応性化合物を含む反応性炭化水素含有化合物ま
たは化合物の混合物と反応させること、そして 1i)i)から生成する生成物を熱的に分解して対応す
るカーバイドにあるいはさらに窒化して対応するナイト
ライドまたはカーボナイトライドにすること を有して成る方法。
族m、rv、vまたは■からの元素であり、Xはハロゲ
ンであり、 Rは水素またはアルキルまたはアリールであり、mはM
の原子価段階に対応する整数であり、nは、1からMの
原子価段階より1少ない数までの整数である] の化合物を、重合可能でありそして一つのC−OH基を
有する反応性化合物を含む反応性炭化水素含有化合物ま
たは化合物の混合物と反応させること、そして 1i)i)から生成する生成物を熱的に分解して対応す
るカーバイドにあるいはさらに窒化して対応するナイト
ライドまたはカーボナイトライドにすること を有して成る方法。
2)該重合可能な化合物の混合物がC−OH基含有炭化
水素含有化合物またはそれらの混合物及びホルムアルデ
ヒドから成る、上記lに記載の方法。
水素含有化合物またはそれらの混合物及びホルムアルデ
ヒドから成る、上記lに記載の方法。
3)−COHを含む化合物がフェノールまたはフェノー
ル誘導体である、上記2に記載の方法。
ル誘導体である、上記2に記載の方法。
4)反応性の重合可能な化合物がアルコールである、上
記lに記載の方法。
記lに記載の方法。
5)該アルコールがフルフリルアルコールまたはその誘
導体である、上記4に記載の方法。
導体である、上記4に記載の方法。
6)元素Mが、Ti%Hf、Zr、V%Nb。
Ta、Cr、Mo及びWから成る群から選ばれたーまた
はそれ以上の金属である、上記lに記載の方法。
はそれ以上の金属である、上記lに記載の方法。
7)Mが元素B、AIまたはSlの−またはそれ以上で
ある、上記lに記載の方法。
ある、上記lに記載の方法。
8)反応性の重合可能な化合物が、R、M X m−a
[式中、Rはメチルまたはフェニルを表す]と反応させ
られるアルコールである、上記lに記載の方法。
[式中、Rはメチルまたはフェニルを表す]と反応させ
られるアルコールである、上記lに記載の方法。
9)反応i)が溶媒中で実施される、上記lに記載の方
法。
法。
lO)反応i)が重合触媒の存在下で実施される、上記
lに記載の方法。
lに記載の方法。
11)熱分解i)が、i)からの生成物を、不活性また
は還元性雰囲気中であるいは真空下で1000℃までの
温度への第一熱処理段階にかけることを有して成る、上
記lに記載の方法。
は還元性雰囲気中であるいは真空下で1000℃までの
温度への第一熱処理段階にかけることを有して成る、上
記lに記載の方法。
12)もし雰囲気中であれば該第−熱処理段階が、生成
物によるハロゲン化水素の完全な除去のI;めに充分な
lO〜looombarの分圧でスチームを含む、上記
10に記載の方法。
物によるハロゲン化水素の完全な除去のI;めに充分な
lO〜looombarの分圧でスチームを含む、上記
10に記載の方法。
13)熱分解■)が、不活性ガス雰囲気または還元性雰
囲気中の1000°C−1800°Cの温度での付加的
な第二熱処理を有して成る、上記10に記載の方法。
囲気中の1000°C−1800°Cの温度での付加的
な第二熱処理を有して成る、上記10に記載の方法。
14)処理される材料を第二熱処理の前に圧縮する、上
記13に記載の方法。
記13に記載の方法。
15)熱分解Li)の後で、得られたカーバイド、ナイ
トライドまたはカーボナイトライドを、過剰の炭素の除
去のために酸素を含む雰囲気中で800°Cまでの温度
での熱後処理にかける、上記lに記載の方法。
トライドまたはカーボナイトライドを、過剰の炭素の除
去のために酸素を含む雰囲気中で800°Cまでの温度
での熱後処理にかける、上記lに記載の方法。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 周期律表の主族III及びIVそして亜族III、IV、V及びV
Iからの元素の細かく分割されたカーバイド、ナイトラ
イドまたはカーボナイトライドの製造方法であって、 i)式MX_mまたはR_nMX_m_−_a[式中、 Mは、周期律表の主族IIIまたはIVあるいは亜族III、I
V、VまたはVIからの元素であり、 Xはハロゲンであり、 Rは水素またはアルキルまたはアリールであり、mはM
の原子価段階に対応する整数であり、nは、1からMの
原子価段階より1少ない数までの整数である] の化合物を、重合可能でありそして一つのC−OH基を
有する反応性化合物を含む反応性炭化水素含有化合物ま
たはそれらの化合物の混合物と反応させ、そして ii)i)から生成する生成物を熱的に分解して対応す
るカーバイドにするかあるいはさらに窒化して対応する
ナイトライドまたはカーボナイトライドにする ことを特徴とする方法。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE3833382.1 | 1988-10-01 | ||
DE3833382A DE3833382A1 (de) | 1988-10-01 | 1988-10-01 | Verfahren zur herstellung feinteiliger carbide und nitride aus keramischen vorlaeuferverbindungen |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH02164706A true JPH02164706A (ja) | 1990-06-25 |
JPH0577603B2 JPH0577603B2 (ja) | 1993-10-27 |
Family
ID=6364147
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1250825A Granted JPH02164706A (ja) | 1988-10-01 | 1989-09-28 | セラミツク前駆体化合物からの細かく分割されたカーバイド及びナイトライドの製造方法 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4948762A (ja) |
EP (1) | EP0362605B1 (ja) |
JP (1) | JPH02164706A (ja) |
DE (2) | DE3833382A1 (ja) |
NO (1) | NO301415B1 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006027941A (ja) * | 2004-07-14 | 2006-02-02 | Univ Kanagawa | 窒化物薄膜の製造方法 |
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WO1992014684A1 (en) * | 1991-02-25 | 1992-09-03 | Akzo N.V. | Metal carbide production from carboxylate precursors |
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DE4337336C1 (de) * | 1993-11-02 | 1994-12-15 | Starck H C Gmbh Co Kg | Feinteilige Metall-, Legierungs- und Metallverbindungspulver |
WO1996020127A1 (en) * | 1994-12-23 | 1996-07-04 | The Dow Chemical Company | Aluminum nitride powders having high green density, and process for making same |
EP0744390B1 (en) * | 1995-05-22 | 1999-04-07 | Nippon Carbon Co., Ltd. | Process for producing silicon carbide fibers |
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DE2243527A1 (de) * | 1972-09-05 | 1974-04-18 | Bayer Ag | Formkoerper aus homogenen mischungen von siliciumcarbid und siliciumnitrid und verfahren zu ihrer herstellung |
JPS589764B2 (ja) * | 1980-04-18 | 1983-02-22 | 宇部興産株式会社 | 金属炭窒化物の製法 |
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1988
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1989
- 1989-09-14 NO NO893679A patent/NO301415B1/no unknown
- 1989-09-16 DE DE8989117179T patent/DE58903029D1/de not_active Expired - Fee Related
- 1989-09-16 EP EP89117179A patent/EP0362605B1/de not_active Expired - Lifetime
- 1989-09-18 US US07/408,926 patent/US4948762A/en not_active Expired - Fee Related
- 1989-09-28 JP JP1250825A patent/JPH02164706A/ja active Granted
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006027941A (ja) * | 2004-07-14 | 2006-02-02 | Univ Kanagawa | 窒化物薄膜の製造方法 |
JP4501110B2 (ja) * | 2004-07-14 | 2010-07-14 | 学校法人神奈川大学 | 窒化物薄膜の製造方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
DE58903029D1 (de) | 1993-01-28 |
EP0362605B1 (de) | 1992-12-16 |
EP0362605A2 (de) | 1990-04-11 |
US4948762A (en) | 1990-08-14 |
NO301415B1 (no) | 1997-10-27 |
NO893679L (no) | 1990-04-02 |
NO893679D0 (no) | 1989-09-14 |
JPH0577603B2 (ja) | 1993-10-27 |
DE3833382A1 (de) | 1990-04-05 |
EP0362605A3 (de) | 1991-09-04 |
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