JPH02163119A - ポリ（アリールエーテル／チオエーテル）セグメントブロックコポリマーの製造 - Google Patents
ポリ（アリールエーテル／チオエーテル）セグメントブロックコポリマーの製造Info
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- JPH02163119A JPH02163119A JP1237425A JP23742589A JPH02163119A JP H02163119 A JPH02163119 A JP H02163119A JP 1237425 A JP1237425 A JP 1237425A JP 23742589 A JP23742589 A JP 23742589A JP H02163119 A JPH02163119 A JP H02163119A
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F16/00—Homopolymers and copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by an alcohol, ether, aldehydo, ketonic, acetal or ketal radical
- C08F16/12—Homopolymers and copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by an alcohol, ether, aldehydo, ketonic, acetal or ketal radical by an ether radical
- C08F16/14—Monomers containing only one unsaturated aliphatic radical
- C08F16/16—Monomers containing no hetero atoms other than the ether oxygen
- C08F16/18—Acyclic compounds
- C08F16/20—Monomers containing three or more carbon atoms in the unsaturated aliphatic radical
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G81/00—Macromolecular compounds obtained by interreacting polymers in the absence of monomers, e.g. block polymers
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
本発明はポリエーテルコポリマーに関する。さらに特に
、本発明はポリ（アリールエーテル／チオエーテル）セ
グメントブロックコポリマーおよびそのようなセグメン
トブロックコポリマーの製造に関する。
、本発明はポリ（アリールエーテル／チオエーテル）セ
グメントブロックコポリマーおよびそのようなセグメン
トブロックコポリマーの製造に関する。
ポリ（アリールエーテル／チオエーテル）は多くの産業
用途がある公知の樹脂状物質である。これは良好な熱お
よび機械特性を有し、広範囲の他の物理特性を示す。ポ
リ（アリールエーテル／チオエーテル）は非晶質または
結晶質と分類される。
用途がある公知の樹脂状物質である。これは良好な熱お
よび機械特性を有し、広範囲の他の物理特性を示す。ポ
リ（アリールエーテル／チオエーテル）は非晶質または
結晶質と分類される。
結晶質ポリマーは非常に化学的に耐性であり、高価であ
り、通常有機溶媒に不溶であり、ガラス転移温度が低く
その使用温度を制限する。対照的に、市販入手可能な非
晶質ポリ（アリールエーテル／チオエーテル）は通常ガ
ラス転移温度が高く、それほど高価ではないが、有機溶
媒に対し耐性が低い。
り、通常有機溶媒に不溶であり、ガラス転移温度が低く
その使用温度を制限する。対照的に、市販入手可能な非
晶質ポリ（アリールエーテル／チオエーテル）は通常ガ
ラス転移温度が高く、それほど高価ではないが、有機溶
媒に対し耐性が低い。
他の高分子物質と混合することによるポリ（アリールエ
ーテル／チオエーテル）樹脂の特性を改質する試みは、
他の樹脂状物質とのポリ（アリールエーテル／チオエー
テル）の不相溶性のため全く不十分である。この問題を
克服するため、ポリ（アリールエーテル／チオエーテル
）セグメントブロックコポリマーを製造するため１種の
ポリ（アリールエーテル／チオエーテル）を他のポリ（
アリールエーテル／チオエーテル）と重合することが提
写された。例えば、ポリ（了り−ルエーテルケトン）お
よびポリ（了り−ルエーテルスルホン）の所望の特性、
例えば溶剤耐性および高ガラス転移温度（Ｔｇ）は両方
の化学基を含むポリ（アリールエーテル）セグメントブ
ロックポリマーを製造することにより達成される。
ーテル／チオエーテル）樹脂の特性を改質する試みは、
他の樹脂状物質とのポリ（アリールエーテル／チオエー
テル）の不相溶性のため全く不十分である。この問題を
克服するため、ポリ（アリールエーテル／チオエーテル
）セグメントブロックコポリマーを製造するため１種の
ポリ（アリールエーテル／チオエーテル）を他のポリ（
アリールエーテル／チオエーテル）と重合することが提
写された。例えば、ポリ（了り−ルエーテルケトン）お
よびポリ（了り−ルエーテルスルホン）の所望の特性、
例えば溶剤耐性および高ガラス転移温度（Ｔｇ）は両方
の化学基を含むポリ（アリールエーテル）セグメントブ
ロックポリマーを製造することにより達成される。
ランダムポリ（アリールエーテル）コポリマーの製造方
法は公知である。ポリ（エーテルエーテルケトン）およ
びポリ（エーテルスルホン）は「ポリアリールエーテル
ケトンの合成および特性」、Ｔ、Ｂ、Ａｔｔｗｏｏｄら
、ポリマー、２２ 、１０９６（１９８１）に開示され
ているように、ジアリールスルホン溶媒を用いて置換反
応により共重合された。しかし、ブロックコポリマーを
製造する試みは不成功であった。「ポリ （アリーレン
エーテルケトンスルホン）の合成および特性Ｊ 、Ｓ、
Ｄ、Ｗｕら、Ｊ、＾（Ｃｈｅｍ、Ｓｏｃ。
法は公知である。ポリ（エーテルエーテルケトン）およ
びポリ（エーテルスルホン）は「ポリアリールエーテル
ケトンの合成および特性」、Ｔ、Ｂ、Ａｔｔｗｏｏｄら
、ポリマー、２２ 、１０９６（１９８１）に開示され
ているように、ジアリールスルホン溶媒を用いて置換反
応により共重合された。しかし、ブロックコポリマーを
製造する試みは不成功であった。「ポリ （アリーレン
エーテルケトンスルホン）の合成および特性Ｊ 、Ｓ、
Ｄ、Ｗｕら、Ｊ、＾（Ｃｈｅｍ、Ｓｏｃ。
Ｐｏｌｙｍｅｒ Ｐｒｅｐ、 ２２７． （２６）２（
１９８５）において、２つの方法が開示された。第１は
Ｎ−メチル−２−ビロリジドン溶媒中ポリ（了り−ルス
ルホン）オリゴマーをジフルオロベンゾフェノンモノマ
ーと混合し、ポリ（アリールエーテルケトンスルホン）
交互コポリマーを製造した。この文献はこの方法を簡単
な「鎖延長」と記載している。ポリ（了り−ルスルホン
）オリゴマーをエーテル交換シ、コポリマーのランダム
化をした。第２の方法はジフェニルスルホン溶媒中で反
応させジフルオロベンゾフェノンおよびクロロフェニル
スルホンモノマーから交互コポリマーを製造した。同様
に、エーテル交換はコポリマーのランダム化を促進した
。
１９８５）において、２つの方法が開示された。第１は
Ｎ−メチル−２−ビロリジドン溶媒中ポリ（了り−ルス
ルホン）オリゴマーをジフルオロベンゾフェノンモノマ
ーと混合し、ポリ（アリールエーテルケトンスルホン）
交互コポリマーを製造した。この文献はこの方法を簡単
な「鎖延長」と記載している。ポリ（了り−ルスルホン
）オリゴマーをエーテル交換シ、コポリマーのランダム
化をした。第２の方法はジフェニルスルホン溶媒中で反
応させジフルオロベンゾフェノンおよびクロロフェニル
スルホンモノマーから交互コポリマーを製造した。同様
に、エーテル交換はコポリマーのランダム化を促進した
。
本発明は、新規ポリ（アリールエーテル／チオエーテル
）セグメントブロックコポリマー、およびその製造に関
する０本発明のポリ（アリールエーテル／チオエーテル
）セグメントブロックコポリマーは驚くべきことに、下
式 （上式中、Ａはそのエーテル／チオエーテル結合基に対
しオルトもしくはパラ位に位置する少なくとも１種の電
子吸引基を有する活性化芳香族基であり、０′は酸素ま
たはチオエーテルの場合硫黄であり、ｎは繰り返し活性
化アリールエーテル／チオエーテルユニットの数を表わ
し、好ましくは２０〜２００、より好ましくは４０〜１
００である）に相当する少なくとも１種の活性化ポリ（
アリールエーテル／チオエーテル）ポリマーを下式、（
上式中、ＢはＡｉとは異なる、そのエーテル／チオエー
テル結合凸に対しオルトもしくはパラ位に位置する少な
くとも１種の電子吸引基を有する活性化芳香族基であり
、０′は酸素またはチオエーテルの場合硫黄であり、ｍ
は繰り返し活性化アリールエーテル／チオエーテルユニ
ットの数を表わし、好ましくは２０〜２００、より好ま
しくは４０〜１００である） に相当する少なくとも１種の活性化ポリ（アリールエー
テル／チオエーテル）ポリマーと、下式、（上式中、Ａ
、Ｂ、および０′は前記規定のものであり、ＸはＡ基を
含む繰り返し活性化アリールエーテル／チオエーテルユ
ニットの数を表わし、ｙはＢ基を含む繰り返し活性化ア
リールエーテル／チオエーテルユニットの数を表わし、
ｋは全体の重合度を表わす） に相当するポリ（アリールエーテル／チオエーテル）セ
グメントブロックコポリマーを製造するに十分な時間お
よび高温において有効量の少なくとも１種の交換触媒の
存在下接触させることにより製造される。
）セグメントブロックコポリマー、およびその製造に関
する０本発明のポリ（アリールエーテル／チオエーテル
）セグメントブロックコポリマーは驚くべきことに、下
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しオルトもしくはパラ位に位置する少なくとも１種の電
子吸引基を有する活性化芳香族基であり、０′は酸素ま
たはチオエーテルの場合硫黄であり、ｎは繰り返し活性
化アリールエーテル／チオエーテルユニットの数を表わ
し、好ましくは２０〜２００、より好ましくは４０〜１
００である）に相当する少なくとも１種の活性化ポリ（
アリールエーテル／チオエーテル）ポリマーを下式、（
上式中、ＢはＡｉとは異なる、そのエーテル／チオエー
テル結合凸に対しオルトもしくはパラ位に位置する少な
くとも１種の電子吸引基を有する活性化芳香族基であり
、０′は酸素またはチオエーテルの場合硫黄であり、ｍ
は繰り返し活性化アリールエーテル／チオエーテルユニ
ットの数を表わし、好ましくは２０〜２００、より好ま
しくは４０〜１００である） に相当する少なくとも１種の活性化ポリ（アリールエー
テル／チオエーテル）ポリマーと、下式、（上式中、Ａ
、Ｂ、および０′は前記規定のものであり、ＸはＡ基を
含む繰り返し活性化アリールエーテル／チオエーテルユ
ニットの数を表わし、ｙはＢ基を含む繰り返し活性化ア
リールエーテル／チオエーテルユニットの数を表わし、
ｋは全体の重合度を表わす） に相当するポリ（アリールエーテル／チオエーテル）セ
グメントブロックコポリマーを製造するに十分な時間お
よび高温において有効量の少なくとも１種の交換触媒の
存在下接触させることにより製造される。
繰り返し活性アリールエーテル／チオエーテルユニット
の数を表わすＸおよびｙは各り独立に３０〜２００の範
囲内にあることが都合がよい。しかし、ポリ（アリール
エーテル／チオエーテル）セクメントプロックコボリマ
ーが製造される交換反応はＸおよびｙが各々独立に２〜
１０，０００．好ましくは２〜２００、最も好ましくは
３０〜２００の範囲内にあるブロックコポリマーを製造
するために用いてよい。
の数を表わすＸおよびｙは各り独立に３０〜２００の範
囲内にあることが都合がよい。しかし、ポリ（アリール
エーテル／チオエーテル）セクメントプロックコボリマ
ーが製造される交換反応はＸおよびｙが各々独立に２〜
１０，０００．好ましくは２〜２００、最も好ましくは
３０〜２００の範囲内にあるブロックコポリマーを製造
するために用いてよい。
上記のように、本発明のポリ（アリールエーテル／チオ
エーテル）セグメントブロックコポリマーは、ポリ（ア
リールエーテル）ホモポリマーまたはポリ（アリールチ
オエーテル）ホモポリマーまたは各々の混合物のいずれ
かを用いて製造される。千オニーチルは硫黄原子が通常
存在するエーテル酸素原子と置換したエーテル化合物を
意味する。
エーテル）セグメントブロックコポリマーは、ポリ（ア
リールエーテル）ホモポリマーまたはポリ（アリールチ
オエーテル）ホモポリマーまたは各々の混合物のいずれ
かを用いて製造される。千オニーチルは硫黄原子が通常
存在するエーテル酸素原子と置換したエーテル化合物を
意味する。
ＡおよびＢは望ましくはＣ６〜Ｃ３０芳香族基であり、
所望により１種以上の置換−価Ｃ１〜Ｃ２゜脂肪族基、
八日基、アルコキシ基、アリールオキシ基、チオアルコ
キシ基もしくはチオアリールオキシ基、または二価Ｃ１
〜Ｃ２゜脂肪族基、アルコキシ基、アリールオキシ基、
チオアルコキシ基もしくはチオアリールオキシ基を含ん
でよい。ＡおよびＢは異なる基である。異なるとはあら
ゆる意味、例えば構造的、化学的または立体的に異なる
ことを意味する。
所望により１種以上の置換−価Ｃ１〜Ｃ２゜脂肪族基、
八日基、アルコキシ基、アリールオキシ基、チオアルコ
キシ基もしくはチオアリールオキシ基、または二価Ｃ１
〜Ｃ２゜脂肪族基、アルコキシ基、アリールオキシ基、
チオアルコキシ基もしくはチオアリールオキシ基を含ん
でよい。ＡおよびＢは異なる基である。異なるとはあら
ゆる意味、例えば構造的、化学的または立体的に異なる
ことを意味する。
本発明に従い製造されるポリ（アリールエーテル／チオ
エーテル）セグメントブロックコポリマーは、高温寸法
安定性およびすぐれた熱可塑性工業的性質、並びに結晶
形で製造した場合すぐれた溶剤耐性を示し、成形プラス
チック成分の製造用に特に好適にする。
エーテル）セグメントブロックコポリマーは、高温寸法
安定性およびすぐれた熱可塑性工業的性質、並びに結晶
形で製造した場合すぐれた溶剤耐性を示し、成形プラス
チック成分の製造用に特に好適にする。
本発明に従い、ポリ（アリールエーテル／チオエーテル
）セグメントブロックコポリマーは「活性化Ｊポリ（ア
リールエーテル／チオエーテル）ポリマーを反応させる
ことにより製造され、下式、（上式中、Ａ、Ｂ、０’
、ｘ、ｙ、およびｋは前記規定のものである） で表わされる。
）セグメントブロックコポリマーは「活性化Ｊポリ（ア
リールエーテル／チオエーテル）ポリマーを反応させる
ことにより製造され、下式、（上式中、Ａ、Ｂ、０’
、ｘ、ｙ、およびｋは前記規定のものである） で表わされる。
活性化とは、特定のアリール化合物がそのエーテル／チ
オエーテル結合基に対しオルトもしくはパラ位において
少なくとも１種の電子吸引置換基を含むことを意味する
。
オエーテル結合基に対しオルトもしくはパラ位において
少なくとも１種の電子吸引置換基を含むことを意味する
。
好適にはそのエーテル／チオエーテル結合基に対しオル
トもしくはパラ位（好ましくはパラ位）において少なく
とも１種の電子吸引置換基を含む限り、本発明において
あらゆる活性化ポリ（アリールエーテル／チオエーテル
）ボリマーヲ用いてよい。本発明のポリ（アリールエー
テル／チオエーテル）ホモポリマーは三弗化硼素−弗化
硼素触媒の存在下芳香族酸の重縮合により製造される。
トもしくはパラ位（好ましくはパラ位）において少なく
とも１種の電子吸引置換基を含む限り、本発明において
あらゆる活性化ポリ（アリールエーテル／チオエーテル
）ボリマーヲ用いてよい。本発明のポリ（アリールエー
テル／チオエーテル）ホモポリマーは三弗化硼素−弗化
硼素触媒の存在下芳香族酸の重縮合により製造される。
米国特許第３，４４２．８５７号参照。
この他に、ポリ（アリールエーテル／チオエーテル）ホ
モポリマーは、Ａ ｔ ｔｗｏｏｄらのポリマー、２２
巻、１０９６頁（１９８１）に開示されているように、
ジフェニルスルホン溶媒の存在下弗化アリールの無水ア
ルカリ金属塩の重縮合により製造される。
モポリマーは、Ａ ｔ ｔｗｏｏｄらのポリマー、２２
巻、１０９６頁（１９８１）に開示されているように、
ジフェニルスルホン溶媒の存在下弗化アリールの無水ア
ルカリ金属塩の重縮合により製造される。
ポリ（アリールエーテル／チオエーテル）を製造する他
の方法は、英国特許筒９７１，２２７号、１．１７７．
１８３号および１，３８７．３０３号、並びに米国特許
第４，１７５，１７５号に開示されている。
の方法は、英国特許筒９７１，２２７号、１．１７７．
１８３号および１，３８７．３０３号、並びに米国特許
第４，１７５，１７５号に開示されている。
ポリ（アリールエーテル／チオエーテル）セグメントブ
ロックコポリマーは、正しく配置された電子吸引基を含
むマーユニッ１−１例えばＸ＝Ｎ−Ｒ，Ｓ、０ Ｘ二Ｎ−Ｒ，Ｓ、０ より製造される。
ロックコポリマーは、正しく配置された電子吸引基を含
むマーユニッ１−１例えばＸ＝Ｎ−Ｒ，Ｓ、０ Ｘ二Ｎ−Ｒ，Ｓ、０ より製造される。
好適な電子吸引基は、パラ位においてこ価基、例えば−
ＣＯ−、−ＣＯＮＩ＋−、−ＳＯ−、−３Ｏ□−”ＮＲ
ｚ 、 ”ＰＲｌ 、 ”ＳＲ、Ｐ（
０）Ｒ−Ｃ（Ｃｈ）＊ 、 Ｃ１ｌ工Ｃ１１−、
−ＮＮ −、−ＣＨＮＮＣＨ−イミダゾールニル、オキ
サゾールニル、ピラゾールニル、イソキサゾールニル、
オキシピラゾールニル、ベンゾキノンニル、ベンゾキサ
ゾールニルおよびベンゾチアゾールニルであり、または
オルト位において一価基、例えば−ＣＮ 、 ＮＯｘ
、 ＣＩＣｌｌ０５ＣＯ，Ｃ０ＪＨｚ、 Ｐ（０
）（ＯＲ）ｚ、Ｐ（０）Ｒ，ＣＦ３゜”Ｐｌｈ 、
”ＮＲｓおよび−”５Ｒ１（Ｒは独立にＣ３〜Ｃ１！ア
ルキル基である）である。
ＣＯ−、−ＣＯＮＩ＋−、−ＳＯ−、−３Ｏ□−”ＮＲ
ｚ 、 ”ＰＲｌ 、 ”ＳＲ、Ｐ（
０）Ｒ−Ｃ（Ｃｈ）＊ 、 Ｃ１ｌ工Ｃ１１−、
−ＮＮ −、−ＣＨＮＮＣＨ−イミダゾールニル、オキ
サゾールニル、ピラゾールニル、イソキサゾールニル、
オキシピラゾールニル、ベンゾキノンニル、ベンゾキサ
ゾールニルおよびベンゾチアゾールニルであり、または
オルト位において一価基、例えば−ＣＮ 、 ＮＯｘ
、 ＣＩＣｌｌ０５ＣＯ，Ｃ０ＪＨｚ、 Ｐ（０
）（ＯＲ）ｚ、Ｐ（０）Ｒ，ＣＦ３゜”Ｐｌｈ 、
”ＮＲｓおよび−”５Ｒ１（Ｒは独立にＣ３〜Ｃ１！ア
ルキル基である）である。
好ましい活性化ポリ （アリールエーテル／チオエーテ
ル）ホモポリマーは、ポリ（エーテルスルホン）および
ポリ（エーテルケトン）である。
ル）ホモポリマーは、ポリ（エーテルスルホン）および
ポリ（エーテルケトン）である。
本発明における使用に好適な交換触媒は、下式、ｐＺｑ
（上式中、Ｍは一価もしくは多価金属イオンであり、Ｚ
はハロ、カーボネート、ビカーボネート、フェノキシト
、ビスフェノキシド、アルコキシド、シアニド、ニトレ
ート、ニドリット、ヒドロキシド、ホスフェート、また
はアリールもしくはアルキルカルボキシレート基であり
、ｐおよびｑは必要な化学価を満足する１〜６の範囲内
の数である）で表わされる。本発明により、触媒の有効
量はポリ（アリールエーテル／チオエーテル）セグメン
トブロックポリマーを製造するためポリ（アリールエー
テル／チオエーテル）ポリマーの間の反応を触媒する量
である。好ましい触媒は弗化セシウム、セシウムカーボ
ネート、およびセシウムフェノキシドである。最も好ま
しい触媒はセシウムフェノキシドである。
はハロ、カーボネート、ビカーボネート、フェノキシト
、ビスフェノキシド、アルコキシド、シアニド、ニトレ
ート、ニドリット、ヒドロキシド、ホスフェート、また
はアリールもしくはアルキルカルボキシレート基であり
、ｐおよびｑは必要な化学価を満足する１〜６の範囲内
の数である）で表わされる。本発明により、触媒の有効
量はポリ（アリールエーテル／チオエーテル）セグメン
トブロックポリマーを製造するためポリ（アリールエー
テル／チオエーテル）ポリマーの間の反応を触媒する量
である。好ましい触媒は弗化セシウム、セシウムカーボ
ネート、およびセシウムフェノキシドである。最も好ま
しい触媒はセシウムフェノキシドである。
本発明のセグメントブロック共重合は、少なくともオリ
ゴマーのガラス転移温度と同じ温度において、交換触媒
の存在下、および所望により溶媒の存在下、ポリ（アリ
ールエーテル／チオエーテル）ホモポリマーを混合する
ことにより行なわれる。高沸点溶媒、例えばジフェニル
スルホンまたはベンゾフェノンが好ましい。共重合は所
望のブロックセグメント長さまで進行可能であり、それ
は実験により測定され、その点で反応は終了する。
ゴマーのガラス転移温度と同じ温度において、交換触媒
の存在下、および所望により溶媒の存在下、ポリ（アリ
ールエーテル／チオエーテル）ホモポリマーを混合する
ことにより行なわれる。高沸点溶媒、例えばジフェニル
スルホンまたはベンゾフェノンが好ましい。共重合は所
望のブロックセグメント長さまで進行可能であり、それ
は実験により測定され、その点で反応は終了する。
この反応は典型的には１５０〜４００℃の範囲内の温度
で行なわれ、オリゴマーのガラス転移温度によって異な
り、好ましくは２５０〜３５０ ’Ｃであり、最も好ま
しくは有効な温度範囲は２８０〜３２０℃である。反応
時間は好ましくは１分〜１００時間、より好ましくは１
０分〜５時間、最も好ましくは３０分〜２時間である。
で行なわれ、オリゴマーのガラス転移温度によって異な
り、好ましくは２５０〜３５０ ’Ｃであり、最も好ま
しくは有効な温度範囲は２８０〜３２０℃である。反応
時間は好ましくは１分〜１００時間、より好ましくは１
０分〜５時間、最も好ましくは３０分〜２時間である。
触媒は好ましくは０．００１〜１０．０重量パーセント
、より好ましくは０．ＯＩ〜２．０重量パーセント、最
も好ましくは０６１〜０．５重量パーセントである。
、より好ましくは０．ＯＩ〜２．０重量パーセント、最
も好ましくは０６１〜０．５重量パーセントである。
本発明のセグメントブロックコポリマーは、ポリ（アリ
ールエーテル／チオエーテル）セグメントブロックコポ
リマー形成条件下で種々の量の活性化ポリ（アリールエ
ーテル／チオエーテル）ポリマーを接触させることによ
り製造される（Ｂで表わされる芳香族基を有するポリマ
ーに対するＡで表わされる芳香族基を有するポリマーの
比は９９：ｌ〜１：９９の範囲内である）。
ールエーテル／チオエーテル）セグメントブロックコポ
リマー形成条件下で種々の量の活性化ポリ（アリールエ
ーテル／チオエーテル）ポリマーを接触させることによ
り製造される（Ｂで表わされる芳香族基を有するポリマ
ーに対するＡで表わされる芳香族基を有するポリマーの
比は９９：ｌ〜１：９９の範囲内である）。
本発明の共重合反応に関し、特定の理論により拘束する
つもりはないが、そのメカニズムは２つの異なる工程を
含んでなると考えられる。
つもりはないが、そのメカニズムは２つの異なる工程を
含んでなると考えられる。
最初の工程は、ポリ（アリールエーテル／チオエーテル
）ポリマー分子の１つにおける１つの酸素／硫黄−炭素
結合での交１負触媒塩の求核性陰イオンによる鎖開裂を
含む。
）ポリマー分子の１つにおける１つの酸素／硫黄−炭素
結合での交１負触媒塩の求核性陰イオンによる鎖開裂を
含む。
オニ−チル）ポリマー分子を攻撃する。
これは２種のポリマーフラグメント、すなわち触媒塩イ
オン末端を有する類比中性ポリ（アリールエーテル／チ
オエーテル）ポリマー分子および陰イオン性フェネート
末端ポリ（アリールエーテル／チオエーテル）ポリマー
分子を形成する。
オン末端を有する類比中性ポリ（アリールエーテル／チ
オエーテル）ポリマー分子および陰イオン性フェネート
末端ポリ（アリールエーテル／チオエーテル）ポリマー
分子を形成する。
第２の工程において、第１の工程で形成された陰イオン
性フラグメントはエーテル／チオエーテル結合において
他のポリ（了り−ルエーテル／チこの工程において、中
性分子並びに陰イオン性分子が形成される。中性ポリマ
ー分子はセグメントブロックコポリマーである。得られ
る陰イオン性ポリマー分子は他のポリマー分子を攻撃で
き新しいポリマーおよび新しい陰イオン性分子を形成す
る。
性フラグメントはエーテル／チオエーテル結合において
他のポリ（了り−ルエーテル／チこの工程において、中
性分子並びに陰イオン性分子が形成される。中性ポリマ
ー分子はセグメントブロックコポリマーである。得られ
る陰イオン性ポリマー分子は他のポリマー分子を攻撃で
き新しいポリマーおよび新しい陰イオン性分子を形成す
る。
反応の進行により、ホモポリマーの濃度は低下し、セグ
メントブロックコポリマーの濃度は増加する。また、コ
ポリマーブロックセグメントの長さは時間と共に減少す
る。ポリ（アリールエーテル／チオエーテル）ブロック
セグメントの相対的長さはそのそれぞれの出発ホモポリ
マーの割合に比例する。
メントブロックコポリマーの濃度は増加する。また、コ
ポリマーブロックセグメントの長さは時間と共に減少す
る。ポリ（アリールエーテル／チオエーテル）ブロック
セグメントの相対的長さはそのそれぞれの出発ホモポリ
マーの割合に比例する。
本発明のポリ（アリールエーテル／チオエーテル）セグ
メントブロックコポリマーの製造には従来技術より多く
の利点がある。本発明の方法は、比較的安価な混合装置
を用いて実施される。従って新しいエンジニアリングサ
ーモプラスチックを商品化するに必要な巨大資本投資は
回避される。
メントブロックコポリマーの製造には従来技術より多く
の利点がある。本発明の方法は、比較的安価な混合装置
を用いて実施される。従って新しいエンジニアリングサ
ーモプラスチックを商品化するに必要な巨大資本投資は
回避される。
従来のポリ（アリールエーテル／チオエーテル）コポリ
マーの製造方法において、最終反応で結合する前に各ブ
ロックを別々に製造することが必要である。本発明は反
応条件によって種々のブロックセグメント長さを有する
セグメントブロックコポリマーの製造を可能とする。こ
れは、コポリマーの特性がブロックセグメント長さに強
く依存するので重要な利点である。本発明は高分子量結
晶質ブロックコポリマーの製造を可能にする。
マーの製造方法において、最終反応で結合する前に各ブ
ロックを別々に製造することが必要である。本発明は反
応条件によって種々のブロックセグメント長さを有する
セグメントブロックコポリマーの製造を可能とする。こ
れは、コポリマーの特性がブロックセグメント長さに強
く依存するので重要な利点である。本発明は高分子量結
晶質ブロックコポリマーの製造を可能にする。
本発明の反応混合工程の間、ポリ（アリールエーテル／
チオエーテル）セグメントブロックコポリマーの量は増
し、ブロックセグメントの長さは減少する。得られるセ
グメントブロックコポリマー生成物の特性は反応条件、
例えばポリマーを反応させる時間の長さ、ポリ（アリー
ルエーテル／チオエーテル）ホモポリマーの性質、また
は反応温度を改良することにより変わる。コポリマーが
単一相挙動を示すに必要な最小のコポリマーブロックセ
グメント長さはコポリマー中のブロックの溶解性に強く
依存している。ポリ（アリールエーテル／チオエーテル
）ポリマーはポリ（アリールエーテル／チオエーテル）
セグメントブロックコポリマーを形成するためほんの１
パーセントのホモポリマーを混合する反応条件下で接触
させる。
チオエーテル）セグメントブロックコポリマーの量は増
し、ブロックセグメントの長さは減少する。得られるセ
グメントブロックコポリマー生成物の特性は反応条件、
例えばポリマーを反応させる時間の長さ、ポリ（アリー
ルエーテル／チオエーテル）ホモポリマーの性質、また
は反応温度を改良することにより変わる。コポリマーが
単一相挙動を示すに必要な最小のコポリマーブロックセ
グメント長さはコポリマー中のブロックの溶解性に強く
依存している。ポリ（アリールエーテル／チオエーテル
）ポリマーはポリ（アリールエーテル／チオエーテル）
セグメントブロックコポリマーを形成するためほんの１
パーセントのホモポリマーを混合する反応条件下で接触
させる。
本発明の均質ポリ（アリールエーテル／チオエーテル）
セグメントブロックコポリマーは未反応ポリ（アリール
エーテル／チオエーテル）ホモポリマーの相応する不相
溶性ブレンドより容易に最終生酸物に形成される。不相
溶性多相ポリマーブレンドから最終生成物を成形する場
合、成形片の形態はその構造結合性を決定する。同様に
、不相溶性ブレンドの熱変形温度は、ポリマーの最も低
いガラス転移温度により決定される。本発明により得ら
れる単一相ボリ（アリールエーテル／チオエーテル）セ
グメントブロックコポリマーは前記の加工の欠点を克服
し、最初のホモポリマーブレンドと比較して中程度のガ
ラス転移温度を有する等方性の成形品が得られる。
セグメントブロックコポリマーは未反応ポリ（アリール
エーテル／チオエーテル）ホモポリマーの相応する不相
溶性ブレンドより容易に最終生酸物に形成される。不相
溶性多相ポリマーブレンドから最終生成物を成形する場
合、成形片の形態はその構造結合性を決定する。同様に
、不相溶性ブレンドの熱変形温度は、ポリマーの最も低
いガラス転移温度により決定される。本発明により得ら
れる単一相ボリ（アリールエーテル／チオエーテル）セ
グメントブロックコポリマーは前記の加工の欠点を克服
し、最初のホモポリマーブレンドと比較して中程度のガ
ラス転移温度を有する等方性の成形品が得られる。
工業使用用のポリマーを混合する工程は通常、１種のポ
リマーの特性を他のポリマーを加えることにより改良す
るため実施される。本発明において、均質単一相セグメ
ントブロックコボリマーの特性は通常出発ホモポリマー
材料の間の中間である。この方法において、最小のコス
トで改質成形組成物が得られる。
リマーの特性を他のポリマーを加えることにより改良す
るため実施される。本発明において、均質単一相セグメ
ントブロックコボリマーの特性は通常出発ホモポリマー
材料の間の中間である。この方法において、最小のコス
トで改質成形組成物が得られる。
相溶性であり、従って均質ブレンドを形成するポリマー
の組み合せはまれである。通常、ポリマーブレンドは互
いに接着性が乏しい不相溶性の分離したドメインからな
り、延性および耐衝撃性が乏しい最終成形生成物となっ
てしまう。本発明は有利には不相溶性ポリ（アリールエ
ーテル／チオエーテル）ホモポリマーブレンドを均質ブ
ロックコポリマーに変えるためまたは反応混合工程の初
期段階において相溶化量のセグメントブロックコポリマ
ーおよびホモポリマーを残りの量含んでなる組成物に変
えるため用いられる。ブロックコポリマーはその構成ホ
モポリマー用のすぐれた相溶化剤であることは公知であ
る。にｉｒｋ−ＯｔｍｅｒのｒＥｎｃｙｃｌｏｐｅｄｉ
ａ ｏｆ Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ」
３版、１８巻、４３３頁（１９Ｂ２）参照。
の組み合せはまれである。通常、ポリマーブレンドは互
いに接着性が乏しい不相溶性の分離したドメインからな
り、延性および耐衝撃性が乏しい最終成形生成物となっ
てしまう。本発明は有利には不相溶性ポリ（アリールエ
ーテル／チオエーテル）ホモポリマーブレンドを均質ブ
ロックコポリマーに変えるためまたは反応混合工程の初
期段階において相溶化量のセグメントブロックコポリマ
ーおよびホモポリマーを残りの量含んでなる組成物に変
えるため用いられる。ブロックコポリマーはその構成ホ
モポリマー用のすぐれた相溶化剤であることは公知であ
る。にｉｒｋ−ＯｔｍｅｒのｒＥｎｃｙｃｌｏｐｅｄｉ
ａ ｏｆ Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ」
３版、１８巻、４３３頁（１９Ｂ２）参照。
本発明の例である以下の実施態様を参考にして本発明は
より容易に理解されるであろう。
より容易に理解されるであろう。
ポリ（エーテルスルホン）（Ｉｍｐｅｒｉａｌ Ｃｈｅ
ｍｉｃａｌＩｎｄｕｓｔｒｉｅｓより商品名ＰＥｓ ３
６００Ｇとして販売されている、パラ位に電子吸引基を
有するポリ（アリールエーテル））１５．０ｇ、ポリ（
エーテルエーテルケトン）（Ｉｍｐｅｒｉａｌ Ｃｈｅ
ｍｉｃａｌ Ｉｎｄｕｓｔｒｉｅｓより商品名ＶＩＣＴ
ＲＥＸ ３８０Ｐとして販売されている、パラ位に電子
吸引基を有するポリ（アリールエーテル））１５．０ｇ
、およびジフェニルスルホン１５．０ｇの混合物を３０
０ｍのガラス重合がまに入れた。このケトルを１５０℃
で１時間排気することによりこの混合物を乾燥した。触
媒（セシウムフェノキシト２５７．８ｍｇ）を加えた。
ｍｉｃａｌＩｎｄｕｓｔｒｉｅｓより商品名ＰＥｓ ３
６００Ｇとして販売されている、パラ位に電子吸引基を
有するポリ（アリールエーテル））１５．０ｇ、ポリ（
エーテルエーテルケトン）（Ｉｍｐｅｒｉａｌ Ｃｈｅ
ｍｉｃａｌ Ｉｎｄｕｓｔｒｉｅｓより商品名ＶＩＣＴ
ＲＥＸ ３８０Ｐとして販売されている、パラ位に電子
吸引基を有するポリ（アリールエーテル））１５．０ｇ
、およびジフェニルスルホン１５．０ｇの混合物を３０
０ｍのガラス重合がまに入れた。このケトルを１５０℃
で１時間排気することによりこの混合物を乾燥した。触
媒（セシウムフェノキシト２５７．８ｍｇ）を加えた。
窒素を加えることによりこのシステムから酸素を除き、
この重合がまを塩浴に浸した。
この重合がまを塩浴に浸した。
撹拌した反応混合物の温度は１５分間で２３４℃〜３３
５℃に上昇し、さらに１９６分間この高温を保った。
５℃に上昇し、さらに１９６分間この高温を保った。
得られた固化混合物を小片に（だき、ソックスレー抽出
器に入れ、２４時間塩化メチレン還流した。
器に入れ、２４時間塩化メチレン還流した。
この混合物から塩化メチレンを蒸発させ、２００’Ｃ。
０．２ｍｍＨｇにおけるバルブ−バルブ蒸留を用いてジ
フェニルスルホンを除去した。未蒸留残留物は１．９８
ｇであり、ポリ（エーテルスルホン）が塩化メチレン不
溶性ポリ （エーテルスルホン）−ポリ （エーテルエ
ーテルケトン）コポリマーに混入していることを示す。
フェニルスルホンを除去した。未蒸留残留物は１．９８
ｇであり、ポリ（エーテルスルホン）が塩化メチレン不
溶性ポリ （エーテルスルホン）−ポリ （エーテルエ
ーテルケトン）コポリマーに混入していることを示す。
ソックスレー抽出器からの塩化メチレン不溶性部分を１
４０’Ｃに保った真空オーブン内で一晩乾燥し、２５℃
で！１□ＳＯ４中０．７４ｄｌ／ ｇの内部粘度を有す
るセグメントブロックコポリマーが２８．０４ ｇ得ら
れた。示差走査熱量計は１６０℃および２２５℃での２
つの’ｒｇ並びに３３８℃での溶融吸熱を示した。この
データはコポリマーがホモポリマーと同じ熱的挙動を示
すに十分なブロックセグメントの長さであることを示し
ている。
４０’Ｃに保った真空オーブン内で一晩乾燥し、２５℃
で！１□ＳＯ４中０．７４ｄｌ／ ｇの内部粘度を有す
るセグメントブロックコポリマーが２８．０４ ｇ得ら
れた。示差走査熱量計は１６０℃および２２５℃での２
つの’ｒｇ並びに３３８℃での溶融吸熱を示した。この
データはコポリマーがホモポリマーと同じ熱的挙動を示
すに十分なブロックセグメントの長さであることを示し
ている。
厨Ｉ
ランダム形状にほぼ等しいコポリマーを製造するため多
量の触媒を用い、反応時間を延ばすことを除いて例１の
交換反応を繰り返した。ポリ（エーテルスルホン）１０
．０ｇ、ポリ（エーテルエーテルケトン）１０．０ｇ、
ジフェニルスルホン１０．０ ｇ 。
量の触媒を用い、反応時間を延ばすことを除いて例１の
交換反応を繰り返した。ポリ（エーテルスルホン）１０
．０ｇ、ポリ（エーテルエーテルケトン）１０．０ｇ、
ジフェニルスルホン１０．０ ｇ 。
およびセシウムフェノキシト５１８．７ｍｇの混合物を
用いた。交換反応は３３０’Ｃで２５５分間行った。コ
ポリマーの収量は１７．６１ ｇであり、２５℃でＨ，
Ｓｏ。
用いた。交換反応は３３０’Ｃで２５５分間行った。コ
ポリマーの収量は１７．６１ ｇであり、２５℃でＨ，
Ｓｏ。
中０．５９ｄ／ｇの内部粘度を示した。示差走査熱量計
は１ｇ２℃での１つのＴｇを示し、結晶化吸熱は示さな
かった。
は１ｇ２℃での１つのＴｇを示し、結晶化吸熱は示さな
かった。
且較エ
ポリ（エーテルスルホン）およびポリ（エーテルエーテ
ルケトン）からの５０１５０ブレンドの製造例１および
例２で製造されたポリマーがコポリマーであり、ブレン
ドでないことを示すため、触媒を用いないことを除いて
例１の方法を繰り返した。ポリ （エーテルスルホン）
１５．０ｇ、ポリ（エーテルエーテルケトン）１０．０
ｇおよびジフェニルスルホン２０．０ ｇの混合物を製
造した。撹拌した混合物を１０分かけて３００℃〜３３
０℃に加熱し、この高温に１７０分間保った。例１のよ
うにして仕上げた後、塩化メチレンにより１５．６１
ｇを抽出し、ポリ（エーテルエーテルケトン）が９．０
３ｇ未溶解のままであった。ポリ（エーテルスルホン）
はポリ（エーテルエーテルケトン）に共有結合していな
いので塩化メチレンにより抽出可能であった。
ルケトン）からの５０１５０ブレンドの製造例１および
例２で製造されたポリマーがコポリマーであり、ブレン
ドでないことを示すため、触媒を用いないことを除いて
例１の方法を繰り返した。ポリ （エーテルスルホン）
１５．０ｇ、ポリ（エーテルエーテルケトン）１０．０
ｇおよびジフェニルスルホン２０．０ ｇの混合物を製
造した。撹拌した混合物を１０分かけて３００℃〜３３
０℃に加熱し、この高温に１７０分間保った。例１のよ
うにして仕上げた後、塩化メチレンにより１５．６１
ｇを抽出し、ポリ（エーテルエーテルケトン）が９．０
３ｇ未溶解のままであった。ポリ（エーテルスルホン）
はポリ（エーテルエーテルケトン）に共有結合していな
いので塩化メチレンにより抽出可能であった。
貫主
ポリ （エーテルイミド）（Ｇｅｎｅｒａｌ Ｅｌｅｃ
ｔｒｉｃより商品名ＵＬＴＥＭ １０００として販売さ
れている、パラ位に電子吸引基を有するポリ（アリール
エーテル））１５．０ ｇ 、ポリ（エーテルエーテル
ケトン）（ＩｍｐｅｒｉａｌＣｈｅｍｉｃａｌ Ｉｎｄ
ｕｓｔｒｉｅｓより商品名ＶＩＣＴＩｌｌＩ２Ｘ ３８
０１’として販売）１５．０ｇ、およびジフェニルスル
ホン１５．０ｇの混合物を３００−のガラス重合がまに
入れた。
ｔｒｉｃより商品名ＵＬＴＥＭ １０００として販売さ
れている、パラ位に電子吸引基を有するポリ（アリール
エーテル））１５．０ ｇ 、ポリ（エーテルエーテル
ケトン）（ＩｍｐｅｒｉａｌＣｈｅｍｉｃａｌ Ｉｎｄ
ｕｓｔｒｉｅｓより商品名ＶＩＣＴＩｌｌＩ２Ｘ ３８
０１’として販売）１５．０ｇ、およびジフェニルスル
ホン１５．０ｇの混合物を３００−のガラス重合がまに
入れた。
この重合がまを１５０℃で１．５時間排気することによ
りこの混合物を乾燥した。触媒（セシウムフェノキシト
７２．１■）を加えた。窒素を加えることによりこのシ
ステムから酸素を除き、重合がまを塩浴に浸した。撹拌
した反応混合物の温度は１５分間で３１６℃〜３３５℃
に上昇し、この高温をさらに２．５時間保った。得られ
た固化混合物を小片にくだき、ソックスレー抽出器に入
れ、塩化メチレンを２４時間還流した。この混合物から
塩化メチレンを蒸発させ、２００℃、０，２柵Ｈｇにお
いてバルブバルブ蒸留を用いてジフェニルスルホンを除
去シた。未蒸留残留物は１．４０ ｇであり、ポリ（エ
ーテルイミド）が塩化メチレン不溶性ポリ （エーテル
イミド）−ポリ（エーテルエーテルケトン）コポｌマー
に混入していることを示している。ソックスレー抽出器
からの塩化メチレン不溶性部分を１４０℃に保った真空
オーブン内で一晩乾燥し、セグメントブロックコポリマ
ー３１．０４ ｇが得られた。
りこの混合物を乾燥した。触媒（セシウムフェノキシト
７２．１■）を加えた。窒素を加えることによりこのシ
ステムから酸素を除き、重合がまを塩浴に浸した。撹拌
した反応混合物の温度は１５分間で３１６℃〜３３５℃
に上昇し、この高温をさらに２．５時間保った。得られ
た固化混合物を小片にくだき、ソックスレー抽出器に入
れ、塩化メチレンを２４時間還流した。この混合物から
塩化メチレンを蒸発させ、２００℃、０，２柵Ｈｇにお
いてバルブバルブ蒸留を用いてジフェニルスルホンを除
去シた。未蒸留残留物は１．４０ ｇであり、ポリ（エ
ーテルイミド）が塩化メチレン不溶性ポリ （エーテル
イミド）−ポリ（エーテルエーテルケトン）コポｌマー
に混入していることを示している。ソックスレー抽出器
からの塩化メチレン不溶性部分を１４０℃に保った真空
オーブン内で一晩乾燥し、セグメントブロックコポリマ
ー３１．０４ ｇが得られた。
拠↓
ポリ （エーテルイミド）（Ｇｅｎｅｒａｌ Ｅｌｅｃ
ｔｒｉｃより商品名ＵＬＴＥ門１００として販売）１０
．０ｇ、ポリ（エーテルエーテルケトン）（Ｉｍｐｅｒ
ｉａｌ Ｃｈｅｍｉｃａｌ １ｎｄｕｓｔｒｉｅｓより
商品名ＶＩＣＴＲ［ＥＸ ３８０Ｐとして販売） １５
．０ｇ、およびジフェニルスルホン１０．０ ｇの混合
物を３００ｍｊ！のガラス重合がまに入れた。この混合
物を１００℃で１時間重合がまを排気することにより乾
燥した。触媒（セシウムフェノキシド１７４．１ｍｇ）
を加えた。窒素を加えることによりこのシステムから酸
素を除き、重合がまを塩浴に浸した。撹拌した反応混合
物の温度は６０分間で１７０℃〜３４０℃に上昇し、こ
の高温にさらに１５分間保った。得られた固化混合物を
小片にくだき、ソックスレー抽出器に入れ、塩化メチレ
ンを２４時間還流した。塩化メチレンを混合物から蒸発
させ、２００℃，０，２ｍｍＨｇにおいてバルブ−バル
ブ蒸留を用いてジフェニルスルホンを除去した。ソック
スレー抽出器からの塩化メチレン不溶性部を１４０“Ｃ
に保った真空オーブン内で一晩乾燥し、セグメントブロ
ンクコポリマー２０．４８ｇが得られた。
ｔｒｉｃより商品名ＵＬＴＥ門１００として販売）１０
．０ｇ、ポリ（エーテルエーテルケトン）（Ｉｍｐｅｒ
ｉａｌ Ｃｈｅｍｉｃａｌ １ｎｄｕｓｔｒｉｅｓより
商品名ＶＩＣＴＲ［ＥＸ ３８０Ｐとして販売） １５
．０ｇ、およびジフェニルスルホン１０．０ ｇの混合
物を３００ｍｊ！のガラス重合がまに入れた。この混合
物を１００℃で１時間重合がまを排気することにより乾
燥した。触媒（セシウムフェノキシド１７４．１ｍｇ）
を加えた。窒素を加えることによりこのシステムから酸
素を除き、重合がまを塩浴に浸した。撹拌した反応混合
物の温度は６０分間で１７０℃〜３４０℃に上昇し、こ
の高温にさらに１５分間保った。得られた固化混合物を
小片にくだき、ソックスレー抽出器に入れ、塩化メチレ
ンを２４時間還流した。塩化メチレンを混合物から蒸発
させ、２００℃，０，２ｍｍＨｇにおいてバルブ−バル
ブ蒸留を用いてジフェニルスルホンを除去した。ソック
スレー抽出器からの塩化メチレン不溶性部を１４０“Ｃ
に保った真空オーブン内で一晩乾燥し、セグメントブロ
ンクコポリマー２０．４８ｇが得られた。
ル較Ｉ
ポリ （エーテルイミド）およびポリ（エーテルエーテ
ルケトン）からの５０１５０ブレンドの製造例４および
５で製造されたポリマーがコポリマーでありブレンドで
ないことを示すため、触媒を用いないことを除いて例４
の方法を繰り返した。
ルケトン）からの５０１５０ブレンドの製造例４および
５で製造されたポリマーがコポリマーでありブレンドで
ないことを示すため、触媒を用いないことを除いて例４
の方法を繰り返した。
ポリ（エーテルイミド）１５．０ｇ、ポリ（エーテルエ
ーテルケトン）５．ＯＯｇ、およびジフェニルスルホン
２０．０ｇの混合物を製造した。撹拌した混合物を２８
分かけて２５０”Ｃ〜３２８℃に加熱し、約３２０℃に
１時間保った。例４のようにして仕上げた後、ポリ（エ
ーテルイミド）の９９％を塩化メチレンにより抽出した
。
ーテルケトン）５．ＯＯｇ、およびジフェニルスルホン
２０．０ｇの混合物を製造した。撹拌した混合物を２８
分かけて２５０”Ｃ〜３２８℃に加熱し、約３２０℃に
１時間保った。例４のようにして仕上げた後、ポリ（エ
ーテルイミド）の９９％を塩化メチレンにより抽出した
。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、ポリ（アリールエーテル／チオエーテル）セグメン
トブロックコポリマーの製造方法であって、下式、 ▲数式、化学式、表等があります▼ （上式中、Ａはそのエーテル／チオエーテル結合基に対
しオルトもしくはパラ位に位置する少なくとも１種の電
子吸引基を有する活性化芳香族基であり、Ｏ′は酸素ま
たはチオエーテルの場合硫黄であり、ｎは繰り返し活性
化アリールエーテル／チオエーテルユニットの数を表わ
す） に相当する少なくとも１種の活性化ポリ（アリールエー
テル／チオエーテル）ポリマーを下式、▲数式、化学式
、表等があります▼ （上式中、ＢはＡ基とは異なる、そのエーテル／チオエ
ーテル結合基に対しオルトもしくはパラ位に位置する少
なくとも１種の電子吸引基を有する活性化芳香族基であ
り、Ｏ′は酸素またはチオエーテルの場合硫黄であり、
ｍは繰り返し活性化アリールエーテル／チオエーテルユ
ニットの数を表わす） に相当する少なくとも１種の活性化ポリ（アリールエー
テル／チオエーテル）ポリマーと、下式、▲数式、化学
式、表等があります▼ （上式中、Ａ、Ｂ、およびＯ′は前記規定のものであり
、ＸはＡ基を含む繰り返し活性化アリールエーテル／チ
オエーテルユニットの数を表わし、ｙはＢ基を含む繰り
返し活性化アリールエーテル／チオエーテルユニットの
数を表わし、ｋは全体の重合度を表わす） に相当するポリ（アリールエーテル／チオエーテル）セ
グメントブロックコポリマーを製造するための少なくと
も１種の交換触媒の存在下接触させることを含んでなる
方法。 ２、触媒が下式、 ＭｐＺｑ （上式中、Ｍは一価もしくは多価金属イオンであり、Ｚ
はハロ、カーボネート、ビカーボネート、フェノキシド
、ビスフェノキシド、アルコキシド、シアニド、ニトレ
ート、ニトリット、ヒドロキシド、ホスフェート、また
はアリールもしくはアルキルカルボキシレートイオンで
あり、ｐおよびｑは必要な化学価を満足する１〜６の範
囲内の数である） に相当する、請求項１記載の方法。 ３、触媒が弗化セシウム、セシウムカーボネート、およ
びセシウムフェノキシドからなる群より選ばれる、請求
項２記載の方法。 ４、ＡおよびＢが二価Ｃ＿６〜Ｃ＿３＿０芳香族基であ
る、請求項１記載の方法。 ５、電子吸引基が独立に−ＣＯ−、−ＣＯＮＨ−、−Ｓ
Ｏ−、−ＳＯ＿２−、−＾＋ＮＲ＿２−、−＾＋ＰＲ＿
２−、−＾＋ＳＲ−、−Ｐ（Ｏ）Ｒ−、−（ＣＦ＿３）
＿２−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＮＮ−、−ＣＨＮＮＣＨ−
、イミダゾールニル、オキサゾールニル、ビラゾールニ
ル、イソキサゾールニル、オキソピラゾールニル、ベン
ツキノンニル、ベンゾキサゾールニル、ベンゾチアゾー
ルニルより選ばれるパラ位における二価基または−ＣＮ
、−ＮＯ＿２、−ＣＨＯ、−ＣＯ＿２Ｒ、−ＣＯ＿２Ｎ
Ｈ＿２、−Ｐ（Ｏ）（ＯＲ）＿２、−Ｐ（Ｏ）Ｒ、−Ｃ
Ｆ＿３、−＾＋ＰＲ＿３、−＾＋ＮＲ＿３、および−＾
＋ＳＲ＿２（ＲはＣ＿１〜Ｃ＿１＿２アルキル基である
）より選ばれるオルト位における一価基である、請求項
１記載の方法。 ６、ポリ（アリールエーテル／チオエーテル）ホモポリ
マーがポリ（エーテルスルホン）およびポリ（エーテル
エーテルケトン）である、請求項１記載の方法。 ７、接触をジフェニルスルホンおよびベンゾフェノンか
らなる群より選ばれる溶媒の存在下行なう、請求項１記
載の方法。 ８、触媒がポリマーの総重量に対し０．００１〜１０．
０重量パーセントの量で存在する、請求項３記載の方法
。 ９、接触の間の温度が１５０℃〜４００℃である、請求
項１記載の方法。 １０、ｘおよびｙが各々独立に２〜１０，０００である
、請求項１記載の方法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US24808088A | 1988-09-23 | 1988-09-23 | |
| US248080 | 1988-09-23 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02163119A true JPH02163119A (ja) | 1990-06-22 |
Family
ID=22937596
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1237425A Pending JPH02163119A (ja) | 1988-09-23 | 1989-09-14 | ポリ（アリールエーテル／チオエーテル）セグメントブロックコポリマーの製造 |
Country Status (7)
| Country | Link |
|---|---|
| EP (1) | EP0361262B1 (ja) |
| JP (1) | JPH02163119A (ja) |
| KR (1) | KR900004780A (ja) |
| AT (1) | ATE90708T1 (ja) |
| AU (1) | AU623431B2 (ja) |
| DE (1) | DE68907162T2 (ja) |
| ES (1) | ES2040958T3 (ja) |
Family Cites Families (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4175175A (en) * | 1963-07-16 | 1979-11-20 | Union Carbide Corporation | Polyarylene polyethers |
| DE3785421T2 (de) * | 1986-11-20 | 1993-10-14 | Dainippon Ink & Chemicals | Harz auf der Basis eines Polyphenylensulfid-Polyphenylensulfonblockkopolymerisats, Verfahren zur Herstellung des Kopolymers und geformter Gegenstand. |
| ES2054936T3 (es) * | 1988-07-08 | 1994-08-16 | Dow Chemical Co | Preparacion de copolimeros de bloques de poli(eter/tioeter arilico)-poli(carbonato de arilo). |
| ES2059675T3 (es) * | 1988-11-03 | 1994-11-16 | Dow Chemical Co | Preparacion de copolimeros de bloque de poli(aril-eter/tioeter)-poliester. |
| AU630632B2 (en) * | 1988-11-08 | 1992-11-05 | Ge Plastics Japan Limited | Polyphenylene sulfide resin composition |
-
1989
- 1989-09-14 JP JP1237425A patent/JPH02163119A/ja active Pending
- 1989-09-18 DE DE89117228T patent/DE68907162T2/de not_active Expired - Fee Related
- 1989-09-18 AT AT89117228T patent/ATE90708T1/de not_active IP Right Cessation
- 1989-09-18 ES ES198989117228T patent/ES2040958T3/es not_active Expired - Lifetime
- 1989-09-18 EP EP89117228A patent/EP0361262B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1989-09-21 KR KR1019890013559A patent/KR900004780A/ko not_active Application Discontinuation
- 1989-09-22 AU AU41695/89A patent/AU623431B2/en not_active Ceased
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| DE68907162T2 (de) | 1993-12-16 |
| AU4169589A (en) | 1990-03-29 |
| EP0361262B1 (en) | 1993-06-16 |
| ES2040958T3 (es) | 1993-11-01 |
| DE68907162D1 (de) | 1993-07-22 |
| ATE90708T1 (de) | 1993-07-15 |
| AU623431B2 (en) | 1992-05-14 |
| EP0361262A1 (en) | 1990-04-04 |
| KR900004780A (ko) | 1990-04-13 |
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