JPH02156442A - 光ディスク原盤露光装置 - Google Patents
光ディスク原盤露光装置Info
- Publication number
- JPH02156442A JPH02156442A JP63310374A JP31037488A JPH02156442A JP H02156442 A JPH02156442 A JP H02156442A JP 63310374 A JP63310374 A JP 63310374A JP 31037488 A JP31037488 A JP 31037488A JP H02156442 A JPH02156442 A JP H02156442A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- exposure
- signal
- optical system
- optical
- exposure amount
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 title claims abstract description 70
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 19
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 claims abstract description 18
- 238000001514 detection method Methods 0.000 claims description 17
- 238000012544 monitoring process Methods 0.000 abstract description 5
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 230000010355 oscillation Effects 0.000 description 1
- 238000005070 sampling Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)
- Optical Head (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、光ディスク原盤露光装置に関する。
従来の光ディスク原盤露光装置は、露光ビームのパワー
を制御するには、固定光学系上でビームをサンプリング
し、これをモニタして光変調器を制御することが二般的
であった。
を制御するには、固定光学系上でビームをサンプリング
し、これをモニタして光変調器を制御することが二般的
であった。
詳しくは、第２図により以下説明していく。
回転するフォトレジスト基板１の回転中心軸と移動光学
系上のヘッドレンズ９の中心軸との距離を検出するヘッ
ド位置検出部１２と、ヘッド位置検出信号ａに対する露
光ビーム強度があかじめ設定された露光量設定部４と、
レーザ発振器２から出射されたレーザビーム３の強度を
調整する光変調器６と、この光変調器６の出射するビー
ムを固定光学系上にてビームサンプラ１３でサンプルし
得られたモニタ用ビーム１５を検出する固定光学系上光
センサ部１４と、前記露光量設定信号すと、固定光学系
上の光センサ出力信号ｅとが一致するように光変調器駆
動信号ｄを調整し、光変調器６を駆動する光変調器駆動
部５を含んで構成される。
系上のヘッドレンズ９の中心軸との距離を検出するヘッ
ド位置検出部１２と、ヘッド位置検出信号ａに対する露
光ビーム強度があかじめ設定された露光量設定部４と、
レーザ発振器２から出射されたレーザビーム３の強度を
調整する光変調器６と、この光変調器６の出射するビー
ムを固定光学系上にてビームサンプラ１３でサンプルし
得られたモニタ用ビーム１５を検出する固定光学系上光
センサ部１４と、前記露光量設定信号すと、固定光学系
上の光センサ出力信号ｅとが一致するように光変調器駆
動信号ｄを調整し、光変調器６を駆動する光変調器駆動
部５を含んで構成される。
露光時に、回転中のフォトレジスト基板１０回転中心軸
とヘッドレンズ９の中心軸との距離をヘッド位置検出部
１２は検出する。
とヘッドレンズ９の中心軸との距離をヘッド位置検出部
１２は検出する。
露光量設定部４は、ヘッド位置検出信号ａに対する露光
量設定信号すを出力する。
量設定信号すを出力する。
レーザ発振器２から出射さｈたレーザビーム３は、光変
調器６により強度が調整され、固定光学系上の光センサ
部１４は、光変調器６の出射するビームを固定光学系上
にて、ビームサンプラ１３にてサンプルされたモニタ用
ビーム１５を検出する。
調器６により強度が調整され、固定光学系上の光センサ
部１４は、光変調器６の出射するビームを固定光学系上
にて、ビームサンプラ１３にてサンプルされたモニタ用
ビーム１５を検出する。
光変調器駆動部５は、露光量設定信号すと、固定光学系
上の光センサ出力信号ｅとが一致するように、光変調器
駆動信号ｄを調整して出力し、光変調器６を駆動し、レ
ーザビーム３の強度を調整する。
上の光センサ出力信号ｅとが一致するように、光変調器
駆動信号ｄを調整して出力し、光変調器６を駆動し、レ
ーザビーム３の強度を調整する。
光変調器６により強度が調整された露光ビーム７は、移
動光学系上のビームスプリ、り８にて曲げられ、ヘッド
レンズ９を透過し、フォトレジスト基板１に照射され、
露光がなされる。
動光学系上のビームスプリ、り８にて曲げられ、ヘッド
レンズ９を透過し、フォトレジスト基板１に照射され、
露光がなされる。
しかしながら、このような上述した従来の光ディスク原
盤露光装置は、光変調器の出射ビームを固定光学系上に
てモニタし、露光ビームの強度を調整するため、固定光
学系と移動光学系との７ライメントのズレによって、ビ
ームサンプラ以降の光学系の各光学素子への入射にズレ
が生じたり、あるいは、各光学素子の状態変化などによ
って、実際にフォトレジスト基板上に照射される露光ビ
ームの強度が変動し、所望の露光ビームの強度による露
光ができないという欠点がある。
盤露光装置は、光変調器の出射ビームを固定光学系上に
てモニタし、露光ビームの強度を調整するため、固定光
学系と移動光学系との７ライメントのズレによって、ビ
ームサンプラ以降の光学系の各光学素子への入射にズレ
が生じたり、あるいは、各光学素子の状態変化などによ
って、実際にフォトレジスト基板上に照射される露光ビ
ームの強度が変動し、所望の露光ビームの強度による露
光ができないという欠点がある。
本発明の光ディスク原盤露光装置は、少なくともフォト
レジスト基板上に露光用レーザビームを合焦集光するヘ
ッドを含む光学系を移動光学系として構成する光ディス
ク原盤露光装置において、フォトレジスト基板で反射さ
れた露光ビームを前記移動光学系上で検出する露光量検
出部とヘッドの位置に対応してあらかじめ設定された露
光量設定部と、前記露光量設定部から得られる露光量設
定信号と前記露光量検出部から得られる露光量検出信号
とが一致するように光変調器を制御する変調器駆動部と
を有して構成される。
レジスト基板上に露光用レーザビームを合焦集光するヘ
ッドを含む光学系を移動光学系として構成する光ディス
ク原盤露光装置において、フォトレジスト基板で反射さ
れた露光ビームを前記移動光学系上で検出する露光量検
出部とヘッドの位置に対応してあらかじめ設定された露
光量設定部と、前記露光量設定部から得られる露光量設
定信号と前記露光量検出部から得られる露光量検出信号
とが一致するように光変調器を制御する変調器駆動部と
を有して構成される。
次に、本発明の実施例について、図面を参照して説明す
る。
る。
第１図は本発明の一実施例を示すブロック図である。
第１図に示す光ディスク原盤露光装置は、回転するフォ
トレジスト基板１０回転中心軸とヘッドレンズ９の中心
軸との距離をヘッド位置検出信号ａとして検出するヘッ
ド位置検出部１２と、へ。
トレジスト基板１０回転中心軸とヘッドレンズ９の中心
軸との距離をヘッド位置検出信号ａとして検出するヘッ
ド位置検出部１２と、へ。
ド位置検出信号ａに対する露光ビームの強度が露光量設
定信号すとしてあらかじめ設定された露光量設定部４と
、レーザ発振器２から出射されたレーザビーム３の強度
を調整する光変調器６と、この光変調器６の出射する露
光ビーム７がビームスプリッタ８により曲げられヘッド
レンズ９を透過し、フォトレジスト基板ｌで反射された
モニタ用ビーム１０を移動光学系上にて検出する光セン
サ部１１と、露光量設定信号すと、前記移動光学系上か
らの光センサ出力信号Ｃとが一致するように光変調器駆
動信号ｄを調整し、光変調器６を駆動する光変調器駆動
部５とを含んで構成される。
定信号すとしてあらかじめ設定された露光量設定部４と
、レーザ発振器２から出射されたレーザビーム３の強度
を調整する光変調器６と、この光変調器６の出射する露
光ビーム７がビームスプリッタ８により曲げられヘッド
レンズ９を透過し、フォトレジスト基板ｌで反射された
モニタ用ビーム１０を移動光学系上にて検出する光セン
サ部１１と、露光量設定信号すと、前記移動光学系上か
らの光センサ出力信号Ｃとが一致するように光変調器駆
動信号ｄを調整し、光変調器６を駆動する光変調器駆動
部５とを含んで構成される。
露光時に、回転中のフォトレジスト基板１の回転中心軸
とヘッドレンズ９の中心軸との距離をヘッド位置検出部
１２は検出する。
とヘッドレンズ９の中心軸との距離をヘッド位置検出部
１２は検出する。
露光量設定部４は、ヘッド位置検出信号ａに対する露光
量設定信号すを出力する。
量設定信号すを出力する。
レーザ発振器２から出射されたレーザビーム３は光変調
器６により強度が調整され露光ビーム７となり移動光学
系上のビームスプリッタ８により曲げられ、ヘッドレン
ズ９を透過し、フォトレジスト基板ｌに照射される。
器６により強度が調整され露光ビーム７となり移動光学
系上のビームスプリッタ８により曲げられ、ヘッドレン
ズ９を透過し、フォトレジスト基板ｌに照射される。
移動光学系上の光センサ部１１は、露光ビーム７がフォ
トレジスト基板ｌで反射されたモニタ用ビーム１０を受
光する。
トレジスト基板ｌで反射されたモニタ用ビーム１０を受
光する。
光変調器駆動部５は、露光量設定信号すと光センサ出力
信号Ｃとを一致させるように、光変調器駆動信号ｄを調
整して出力し、光変調器６を駆動してレーザビーム３の
強度を調整する。
信号Ｃとを一致させるように、光変調器駆動信号ｄを調
整して出力し、光変調器６を駆動してレーザビーム３の
強度を調整する。
このビーム強度調整により光ディスク原盤上の露光量は
一定に保持され、均一な原盤の作成が可能となる。
一定に保持され、均一な原盤の作成が可能となる。
本発明の光ディスク原盤露光装置は、露光時、フォトレ
ジスト基板から反射してくる露光ビームを移動光学系上
に設けた光センサ部にて検出し、ヘッドレンズから出射
の露光量をモニタし、制御することによって、アライメ
ントのズレや光学素子の状態変化によるフォトレジスト
基板上での露光ビームの強度の変動をなくすことができ
るので所望の露光ビーム強度による露光ができるという
効果がある。
ジスト基板から反射してくる露光ビームを移動光学系上
に設けた光センサ部にて検出し、ヘッドレンズから出射
の露光量をモニタし、制御することによって、アライメ
ントのズレや光学素子の状態変化によるフォトレジスト
基板上での露光ビームの強度の変動をなくすことができ
るので所望の露光ビーム強度による露光ができるという
効果がある。
器、３・・・・・・レーザビーム、４・・・・・・露光
量設定部、５・・・・・・光変調器駆動部、６・・・・
・・光変調器、７・・・・・・露光ビーム、８・・・・
・・ビームスプリッタ、９・・・・・・ヘッドレンズ、
１０・・・・・・モニタ用ビーム、１１゜１４・・・・
・・光センサ部、１２・・・・・・ヘッド位置検出Ｌ１
３・・・・・・ビームサンプラ、１５・・・・・・モニ
タ用ビーム、 ａ・・・・・・ヘッド位置検出信号、ｂ・・・・・・露
光量設定信号、ｃ、ｅ・・・・・・光センサ出力信号、
ｄ・・・・・・光変調器駆動信号。
量設定部、５・・・・・・光変調器駆動部、６・・・・
・・光変調器、７・・・・・・露光ビーム、８・・・・
・・ビームスプリッタ、９・・・・・・ヘッドレンズ、
１０・・・・・・モニタ用ビーム、１１゜１４・・・・
・・光センサ部、１２・・・・・・ヘッド位置検出Ｌ１
３・・・・・・ビームサンプラ、１５・・・・・・モニ
タ用ビーム、 ａ・・・・・・ヘッド位置検出信号、ｂ・・・・・・露
光量設定信号、ｃ、ｅ・・・・・・光センサ出力信号、
ｄ・・・・・・光変調器駆動信号。
代理人 弁理士 内 原 晋
第１図は本発明の一実施例を示すブロック図、第２図は
従来の一例を示すブロック図である。 １・・・・・・フォトレジスト基板、２・・・・・・レ
ーザ発振第 １ 図 ３５２ 凹 ／フォｔ−ｔ／； ｙ、 １４↓（
従来の一例を示すブロック図である。 １・・・・・・フォトレジスト基板、２・・・・・・レ
ーザ発振第 １ 図 ３５２ 凹 ／フォｔ−ｔ／； ｙ、 １４↓（
Claims (1)
- 少なくともフォトレジスト基板上に露光用レーザビー
ムを合焦集光するヘッドを含む光学系を移動光学系とし
て構成する光ディスク原盤露光装置において、フォトレ
ジスト基板で反射された露光ビームを前記移動光学系上
で検出する露光量検出部とヘッドの位置に対応してあら
かじめ設定された露光量設定部と、前記露光量設定部か
ら得られる露光量設定信号と前記露光量検出部から得ら
れる露光量検出信号とが一致するように光変調器を制御
する変調器駆動部とを含むことを特徴とする光ディスク
原盤露光装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63310374A JPH02156442A (ja) | 1988-12-07 | 1988-12-07 | 光ディスク原盤露光装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63310374A JPH02156442A (ja) | 1988-12-07 | 1988-12-07 | 光ディスク原盤露光装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02156442A true JPH02156442A (ja) | 1990-06-15 |
Family
ID=18004482
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63310374A Pending JPH02156442A (ja) | 1988-12-07 | 1988-12-07 | 光ディスク原盤露光装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH02156442A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH05325269A (ja) * | 1992-05-20 | 1993-12-10 | Nec Corp | 露光装置 |
-
1988
- 1988-12-07 JP JP63310374A patent/JPH02156442A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH05325269A (ja) * | 1992-05-20 | 1993-12-10 | Nec Corp | 露光装置 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| KR19980081657A (ko) | 레이저 노광 유닛 | |
| US4725855A (en) | Multi-beam laser printer with beam spacing detection during blanking time | |
| US4812861A (en) | Optical laser beam control device for printer | |
| US6191844B1 (en) | Scanning exposure apparatus in which light exposure is a function of the speed of the mask or substrate stage | |
| JPH02156442A (ja) | 光ディスク原盤露光装置 | |
| US6052216A (en) | Laser and beam intensity modulation system for imagesetting device | |
| EP0967600B1 (en) | Recorder | |
| JP2504188B2 (ja) | 光ディスク原盤露光装置 | |
| US5078463A (en) | Laser beam scanning device | |
| JPH0673754B2 (ja) | レ−ザ加工装置 | |
| JP2957234B2 (ja) | 露光装置 | |
| JPH04335669A (ja) | 画像露光装置 | |
| USRE36841E (en) | Multi-beam laser printer with beam spacing detection during blanking time | |
| JPS63101813A (ja) | レ−ザ−ビ−ムプリンタ | |
| JP3675121B2 (ja) | 画像記録装置 | |
| JPS623280A (ja) | 回折格子露光装置 | |
| JPS60162218A (ja) | 露光装置 | |
| JPS62220922A (ja) | レ−ザ加工装置 | |
| JPS62128277A (ja) | 熱転写式レ−ザビ−ムプリンタ | |
| JPS59117859A (ja) | レ−ザプリンタのパワ−検出方式 | |
| JPS6327690B2 (ja) | ||
| JP2778571B2 (ja) | 光ディスク原盤の露光装置 | |
| JPH0917008A (ja) | 光ディスク原盤露光装置 | |
| JPH0430348A (ja) | 露光光学装置 | |
| JPH07199481A (ja) | 露光装置 |